JPH0712707B2 - 静電潜像形成装置の製造方法 - Google Patents
静電潜像形成装置の製造方法Info
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- JPH0712707B2 JPH0712707B2 JP10658487A JP10658487A JPH0712707B2 JP H0712707 B2 JPH0712707 B2 JP H0712707B2 JP 10658487 A JP10658487 A JP 10658487A JP 10658487 A JP10658487 A JP 10658487A JP H0712707 B2 JPH0712707 B2 JP H0712707B2
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- Japan
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- electrode
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- electrostatic latent
- dielectric
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/385—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective supply of electric current or selective application of magnetism to a printing or impression-transfer material
- B41J2/39—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective supply of electric current or selective application of magnetism to a printing or impression-transfer material using multi-stylus heads
- B41J2/395—Structure of multi-stylus heads
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はイオン流を変調し誘電体上に静電潜像を形成す
る静電潜像形成装置の製造方法に関する。
る静電潜像形成装置の製造方法に関する。
一般に、イオン流を用いた静電記録の原理を第５図によ
り説明すると、静電記録ヘッド11において発生したイオ
ンは、回転ドラム12面の記録媒体上に静電潜像13を形成
し、該静電潜像13には現像器14によりトナー等の現像剤
を付着させてトナー像15を形成し、転写部16においてト
ナー像15が記録用紙17に転写されることにより静電記録
が行われる。そして、記録媒体は除電部18において除電
された後、残った現像剤をトナー除去部19で除去し、次
回の記録に備えている。
り説明すると、静電記録ヘッド11において発生したイオ
ンは、回転ドラム12面の記録媒体上に静電潜像13を形成
し、該静電潜像13には現像器14によりトナー等の現像剤
を付着させてトナー像15を形成し、転写部16においてト
ナー像15が記録用紙17に転写されることにより静電記録
が行われる。そして、記録媒体は除電部18において除電
された後、残った現像剤をトナー除去部19で除去し、次
回の記録に備えている。
従来、上記静電潜像形成装置におけるイオン流発生方式
としては、ピン状電極を一列に並べ誘電体と接触させ、
誘電体との間で直接放電を起こさせる直接静電記録方式
が知られているが、電極と誘電体間のギャップを高精度
に維持しなければならず、また、放電を安定させること
ができないとか、電極が磨耗するとかの欠点があった。
としては、ピン状電極を一列に並べ誘電体と接触させ、
誘電体との間で直接放電を起こさせる直接静電記録方式
が知られているが、電極と誘電体間のギャップを高精度
に維持しなければならず、また、放電を安定させること
ができないとか、電極が磨耗するとかの欠点があった。
上記欠点を除去するために、種々の間接静電記録方式が
知られている。例えば、第６図は、米国特許第4,160,25
7号に提案されている方式であり、誘電体30を挟んで駆
動電極31と制御電極32が形成され、さらに、絶縁層33を
介して共通電極34が形成されている。該駆動電極31と制
御電極32は互いに方向が異なるようにマトリックス状に
配設され、絶縁層33および共通電極34には、該マトリッ
クスに対応して複数の開口35および36が形成されてい
る。そして、複数の駆動電極31と制御電極32間に選択的
に交流電圧を印加することにより、マトリックスの選択
された部分に対応する制御電極32近傍に正、負のイオン
が発生し、制御電極32と共通電極34間のバイアス電圧の
極性に応じた正または負のイオンが、開口35および36よ
り導出されて静電記録が行われる。
知られている。例えば、第６図は、米国特許第4,160,25
7号に提案されている方式であり、誘電体30を挟んで駆
動電極31と制御電極32が形成され、さらに、絶縁層33を
介して共通電極34が形成されている。該駆動電極31と制
御電極32は互いに方向が異なるようにマトリックス状に
配設され、絶縁層33および共通電極34には、該マトリッ
クスに対応して複数の開口35および36が形成されてい
る。そして、複数の駆動電極31と制御電極32間に選択的
に交流電圧を印加することにより、マトリックスの選択
された部分に対応する制御電極32近傍に正、負のイオン
が発生し、制御電極32と共通電極34間のバイアス電圧の
極性に応じた正または負のイオンが、開口35および36よ
り導出されて静電記録が行われる。
上記静電潜像形成装置において、誘電体30上への電極形
成方法として、従来、電極のみを形成し誘電体上に貼り
合わせる方法、誘電体上に電極を印刷する方法、或い
は、誘電体上に導電層を設けエッチングにより電極を形
成する方法等により行われ、このように形成した電極付
誘電体30に、開口35を有する絶縁層33、開口36を有する
共通電極34の順に貼り合わせていた。
成方法として、従来、電極のみを形成し誘電体上に貼り
合わせる方法、誘電体上に電極を印刷する方法、或い
は、誘電体上に導電層を設けエッチングにより電極を形
成する方法等により行われ、このように形成した電極付
誘電体30に、開口35を有する絶縁層33、開口36を有する
共通電極34の順に貼り合わせていた。
しかしながら、上記誘電体への電極形成方法の内、電極
のみを形成し誘電体上に貼り合わせる方法においては、
通常ジョイントを有する電極アレーを作成し、誘電体上
に貼り合わせた後にジョイントを切断しているが、電極
幅が狭い場合には電極が切れ易くなり、ジョイントで保
持出来なくなるため、微細な形状の電極が形成できず、
また、複雑な電極を作成する場合には、貼り合わせた後
のジョイント切断箇所も多数にわたり、かつ複雑な導電
パターンとなるため、切断工程が繁雑となり製造コスト
の上昇を招くという問題を有している。
のみを形成し誘電体上に貼り合わせる方法においては、
通常ジョイントを有する電極アレーを作成し、誘電体上
に貼り合わせた後にジョイントを切断しているが、電極
幅が狭い場合には電極が切れ易くなり、ジョイントで保
持出来なくなるため、微細な形状の電極が形成できず、
また、複雑な電極を作成する場合には、貼り合わせた後
のジョイント切断箇所も多数にわたり、かつ複雑な導電
パターンとなるため、切断工程が繁雑となり製造コスト
の上昇を招くという問題を有している。
また、誘電体上に電極を印刷する方法においては、印刷
工程中の焼成工程により誘電体が変形、変質する恐れが
あると共に、硬質の薄い材料の場合には印刷時に割れて
しまうという問題を生じている。
工程中の焼成工程により誘電体が変形、変質する恐れが
あると共に、硬質の薄い材料の場合には印刷時に割れて
しまうという問題を生じている。
また、誘電体上に導電層を設けエッチングにより電極を
形成する方法においては、エッチング液により誘電体が
変形、変質してしまう場合があるという問題を有してい
る。
形成する方法においては、エッチング液により誘電体が
変形、変質してしまう場合があるという問題を有してい
る。
本発明は上記問題を解決するものであって、誘電体を変
形、変質させることなく、微細、複雑な電極を誘電体上
に形成することができる静電潜像形成装置の製造方法を
提供することを目的とする。
形、変質させることなく、微細、複雑な電極を誘電体上
に形成することができる静電潜像形成装置の製造方法を
提供することを目的とする。
そのために本発明の静電潜像形成装置の製造方法は、誘
電体を挟んで第１の電極と第２の電極が配置され、該第
２の電極と絶縁体を挟んで第３の電極が配置された静電
潜像形成装置において、貫通口を有する絶縁体上の両面
に電極を形成した第１の構造体と、別工程により基体上
に電極を形成した第２の構造体とを、前記誘電体を挟み
込んで静電潜像形成装置を形成することを特徴とする。
電体を挟んで第１の電極と第２の電極が配置され、該第
２の電極と絶縁体を挟んで第３の電極が配置された静電
潜像形成装置において、貫通口を有する絶縁体上の両面
に電極を形成した第１の構造体と、別工程により基体上
に電極を形成した第２の構造体とを、前記誘電体を挟み
込んで静電潜像形成装置を形成することを特徴とする。
本発明においては、例えば、第２図に示すように、貫通
口3aを有する支持体３の両側に第２の電極４と、開口部
5aを有する第３の電極５とを形成した第１の構造体Ａ
と、基体１上に第１の電極２を形成した第２の構造体Ｂ
とを薄い誘電体６で挟み込んで、第１図および第２図で
示した静電潜像形成装置を作成する。本方法において
は、各電極は基体１或いは支持体３上に一体的に保持さ
れているため、従来用いられているジョイントは不要で
ある。また、誘電体６は単に挟み込むだけであるため、
誘電体を焼成雰囲気やエッチング液中に曝す必要がな
く、誘電体を傷めることもない。
口3aを有する支持体３の両側に第２の電極４と、開口部
5aを有する第３の電極５とを形成した第１の構造体Ａ
と、基体１上に第１の電極２を形成した第２の構造体Ｂ
とを薄い誘電体６で挟み込んで、第１図および第２図で
示した静電潜像形成装置を作成する。本方法において
は、各電極は基体１或いは支持体３上に一体的に保持さ
れているため、従来用いられているジョイントは不要で
ある。また、誘電体６は単に挟み込むだけであるため、
誘電体を焼成雰囲気やエッチング液中に曝す必要がな
く、誘電体を傷めることもない。
以下本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。第１
図は本発明が適用される静電潜像形成装置の１実施例を
示す断面図、第２図は本発明の静電潜像形成装置の製造
方法の１実施例を説明するための図、第３図は第２図に
おける第１の構造体の製造方法の１実施例を説明するた
めの図、第４図は第２図における第２の構造体の製造方
法の１実施例を説明するための図である。
図は本発明が適用される静電潜像形成装置の１実施例を
示す断面図、第２図は本発明の静電潜像形成装置の製造
方法の１実施例を説明するための図、第３図は第２図に
おける第１の構造体の製造方法の１実施例を説明するた
めの図、第４図は第２図における第２の構造体の製造方
法の１実施例を説明するための図である。
図中、１は基体、２は第１の電極、３は支持体（絶縁
層）、４は第２の電極、５は第３の電極、3aは貫通口、
4a、5aは開口部、６は誘電体、７は静電潜像坦持体、８
は静電潜像、Ａは第１の構造体、Ｂ…第２の構造体を示
す。
層）、４は第２の電極、５は第３の電極、3aは貫通口、
4a、5aは開口部、６は誘電体、７は静電潜像坦持体、８
は静電潜像、Ａは第１の構造体、Ｂ…第２の構造体を示
す。
第１図において、本発明が適用される静電潜像形成装置
は、基体１に形成された第１の電極２と、絶縁材からな
る支持体３に形成された第２および第３の電極４、５
と、前記第１および第２の電極２、４に挟持された誘電
体６とから構成されると共に、該第１の電極２と第２の
電極４は（ｂ）図に示すように、互いに方向が異なるよ
うにマトリックス状に配設されると共に、第２の電極４
には開口部4aが形成され、絶縁層３および第３の電極５
には、上記マトリックスに対応して貫通口3aおよび開口
部5aが形成されている。
は、基体１に形成された第１の電極２と、絶縁材からな
る支持体３に形成された第２および第３の電極４、５
と、前記第１および第２の電極２、４に挟持された誘電
体６とから構成されると共に、該第１の電極２と第２の
電極４は（ｂ）図に示すように、互いに方向が異なるよ
うにマトリックス状に配設されると共に、第２の電極４
には開口部4aが形成され、絶縁層３および第３の電極５
には、上記マトリックスに対応して貫通口3aおよび開口
部5aが形成されている。
そして、第１の電極２と第２の電極４間に選択的に交流
電圧を印加することにより、マトリックスの選択された
部分に対応する第２の電極４近傍に正、負のイオンが発
生し、該生成イオンは第２の電極４と第３の電極５間に
印加される電圧により、画信号に応じて貫通口3a、開口
部5aより導出され、導出されたイオンは第３の電極５と
静電潜像担持体７間に形成される電界によって加速さ
れ、静電潜像担持体７上に到達して静電潜像８を形成す
る。
電圧を印加することにより、マトリックスの選択された
部分に対応する第２の電極４近傍に正、負のイオンが発
生し、該生成イオンは第２の電極４と第３の電極５間に
印加される電圧により、画信号に応じて貫通口3a、開口
部5aより導出され、導出されたイオンは第３の電極５と
静電潜像担持体７間に形成される電界によって加速さ
れ、静電潜像担持体７上に到達して静電潜像８を形成す
る。
次に、上記静電潜像形成装置の製造方法を第２図により
説明すると、貫通口3aを有する支持体３の両側に第２の
電極４と、開口部5aを有する第３の電極５とを形成した
第１の構造体Ａと、基体１上に第１の電極２を形成した
第２の構造体Ｂとを薄い誘電体６で挟み込んで、第１図
で示した静電潜像形成装置を作成する。本方法において
は、各電極は基体１或いは支持体３上に一体的に保持さ
れているため、従来用いられているジョイントは不要で
ある。また、誘電体５は単に挟み込むだけであるため、
誘電体を焼成雰囲気やエッチング液中に曝す必要がな
く、誘電体を傷めることもない。なお、これら密着固定
する方法としては、接着剤による接着、熱融着等、様々
な方法を用いることによって達成される。
説明すると、貫通口3aを有する支持体３の両側に第２の
電極４と、開口部5aを有する第３の電極５とを形成した
第１の構造体Ａと、基体１上に第１の電極２を形成した
第２の構造体Ｂとを薄い誘電体６で挟み込んで、第１図
で示した静電潜像形成装置を作成する。本方法において
は、各電極は基体１或いは支持体３上に一体的に保持さ
れているため、従来用いられているジョイントは不要で
ある。また、誘電体５は単に挟み込むだけであるため、
誘電体を焼成雰囲気やエッチング液中に曝す必要がな
く、誘電体を傷めることもない。なお、これら密着固定
する方法としては、接着剤による接着、熱融着等、様々
な方法を用いることによって達成される。
第３図は第２図における第１の構造体Ａの製造方法の１
例を示している。先ず、（ａ）図に示すように、ポジ型
の感光性樹脂からなる絶縁層（支持体）３の両面に電極
材を形成する。これは例えば、ステンレス、銅、金、ニ
ッケル等の金属箔、金属シート類の導電材料を絶縁層上
に接着、貼付けを行なうとか、ペースト状の導電材を塗
布するとかの方法で形成する。次に、電極材上にレジス
ト材を塗材し（ｂ）、所望のパターンのフォトマスクに
より露光し（ｃ）た後、露光部分のレジスト層を除去す
る（ｄ）。この例においてはポジ型の例を示している
が、ネガ型であってもよい。
例を示している。先ず、（ａ）図に示すように、ポジ型
の感光性樹脂からなる絶縁層（支持体）３の両面に電極
材を形成する。これは例えば、ステンレス、銅、金、ニ
ッケル等の金属箔、金属シート類の導電材料を絶縁層上
に接着、貼付けを行なうとか、ペースト状の導電材を塗
布するとかの方法で形成する。次に、電極材上にレジス
ト材を塗材し（ｂ）、所望のパターンのフォトマスクに
より露光し（ｃ）た後、露光部分のレジスト層を除去す
る（ｄ）。この例においてはポジ型の例を示している
が、ネガ型であってもよい。
しかる後にエッチングを行い、開口部4aを有する第２の
電極４と開口部5aを有する第３の電極５を形成する
（ｅ）。なお、（ｃ）〜（ｅ）の工程においては、両面
電極の形成を同時に行っているが、片側づつ交互に形成
するようにしてもよい。この場合、交互に電極材をエッ
チング後、最終工程で同時または交互にレジスト材を除
去することになる。
電極４と開口部5aを有する第３の電極５を形成する
（ｅ）。なお、（ｃ）〜（ｅ）の工程においては、両面
電極の形成を同時に行っているが、片側づつ交互に形成
するようにしてもよい。この場合、交互に電極材をエッ
チング後、最終工程で同時または交互にレジスト材を除
去することになる。
次に、開口部5a側から露光を行う（ｆ）と、第３の電極
５がマスクとなってポジ型の感光性樹脂である絶縁材３
は、開口部5a下の領域では現像液に対して可溶性とな
り、それ以外の部分即ち電極５の下側においては、現像
液に対しては不可溶性のままとなる。従って、現像によ
るエッチングを行うことにより、開口部5aと同径の貫通
口3aと絶縁部が形成される（ｇ）。無論、該方法はあく
までも１実施例であって、例えばレーザ光を利用して始
めに開口部4aを形成し、次に開口部5aと貫通口3aを形成
する方法等も用いることができる。
５がマスクとなってポジ型の感光性樹脂である絶縁材３
は、開口部5a下の領域では現像液に対して可溶性とな
り、それ以外の部分即ち電極５の下側においては、現像
液に対しては不可溶性のままとなる。従って、現像によ
るエッチングを行うことにより、開口部5aと同径の貫通
口3aと絶縁部が形成される（ｇ）。無論、該方法はあく
までも１実施例であって、例えばレーザ光を利用して始
めに開口部4aを形成し、次に開口部5aと貫通口3aを形成
する方法等も用いることができる。
第４図は第２図における第２の構造体Ｂの製造方法の１
例を示している。すなわち、基体１上に電極層を蒸着、
塗布或いは貼り合わせ等の方法により形成した後、レジ
スト材を塗布する（ａ）。次に、マスクにより露光を行
い（ｂ）、不要なレジスト材を除去する（ｃ）。しかる
後、エッチング工程を行って第１の電極２を形成する
（ｄ）。本実施例においては、エッチングにより電極を
形成しているが、始めからスクリーン印刷等のプロセス
により電極を基体上に形成することも無論可能である。
なお、基体１の材質は絶縁性の材質であればどのような
ものでもよく、また電極材も導電性の材質であればどの
ようなものでもよい。
例を示している。すなわち、基体１上に電極層を蒸着、
塗布或いは貼り合わせ等の方法により形成した後、レジ
スト材を塗布する（ａ）。次に、マスクにより露光を行
い（ｂ）、不要なレジスト材を除去する（ｃ）。しかる
後、エッチング工程を行って第１の電極２を形成する
（ｄ）。本実施例においては、エッチングにより電極を
形成しているが、始めからスクリーン印刷等のプロセス
により電極を基体上に形成することも無論可能である。
なお、基体１の材質は絶縁性の材質であればどのような
ものでもよく、また電極材も導電性の材質であればどの
ようなものでもよい。
以上説明したように本発明によれば、貫通口を有する絶
縁体上の両面に電極を形成した第１の構造体と、別工程
により基体上に電極を形成した第２の構造体とを、前記
誘電体を挟み込んで静電潜像形成装置を形成するため、
下記のような効果が奏されるものである。
縁体上の両面に電極を形成した第１の構造体と、別工程
により基体上に電極を形成した第２の構造体とを、前記
誘電体を挟み込んで静電潜像形成装置を形成するため、
下記のような効果が奏されるものである。
微細で複雑な形状の電極を簡易に誘電体上に形成する
ことができる。
ことができる。
印刷やエッチングに不向きな誘電体材料であっても、
材料を傷めることなく、いかなる誘電体材料であっても
微細で複雑な形状の電極を形成することができる。
材料を傷めることなく、いかなる誘電体材料であっても
微細で複雑な形状の電極を形成することができる。
低価格化が図れる。
絶縁材の貫通口は、第３の電極の開口部をマスクとし
て作成するため、極めて高精度に開口位置を合わせるこ
とができる。
て作成するため、極めて高精度に開口位置を合わせるこ
とができる。
第１図は本発明が適用される静電潜像形成装置の１実施
例を示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図、第２図は
本発明の静電潜像形成装置の製造方法の１実施例を説明
するための図、第３図は第２図における第１の構造体の
製造方法の１実施例を説明するための図、第４図は第２
図における第２の構造体の製造方法の１実施例を説明す
るための図、第５図は静電潜像形成装置の原理を説明す
るための図、第６図は従来の静電潜像形成装置を説明す
るための図である。 １……基体、２……第１の電極、３……支持体（絶縁
層）、４……第２の電極、５……第３の電極、3a……貫
通口、4a、5a……開口部、６……誘電体、７……静電潜
像坦持体、８……静電潜像、Ａ……第１の構造体、Ｂ…
…第２の構造体。
例を示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図、第２図は
本発明の静電潜像形成装置の製造方法の１実施例を説明
するための図、第３図は第２図における第１の構造体の
製造方法の１実施例を説明するための図、第４図は第２
図における第２の構造体の製造方法の１実施例を説明す
るための図、第５図は静電潜像形成装置の原理を説明す
るための図、第６図は従来の静電潜像形成装置を説明す
るための図である。 １……基体、２……第１の電極、３……支持体（絶縁
層）、４……第２の電極、５……第３の電極、3a……貫
通口、4a、5a……開口部、６……誘電体、７……静電潜
像坦持体、８……静電潜像、Ａ……第１の構造体、Ｂ…
…第２の構造体。
Claims (2)
- 【請求項１】誘電体を挟んで第１の電極と第２の電極が
配置され、該第２の電極と絶縁体を挟んで第３の電極が
配置された静電潜像形成装置において、貫通口を有する
絶縁体上の両面に電極を形成した第１の構造体と、別工
程により基体上に電極を形成した第２の構造体とを、前
記誘電体を挟み込んで静電潜像形成装置を形成すること
を特徴とする静電潜像形成装置の製造方法。 - 【請求項２】上記第１の構造体は、絶縁体として感光性
絶縁体を用い、少なくとも片側の電極層をマスクとして
露光した後、該露光部を除去することにより貫通口を形
成してなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の静電潜像形成装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10658487A JPH0712707B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 静電潜像形成装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10658487A JPH0712707B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 静電潜像形成装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63270158A JPS63270158A (ja) | 1988-11-08 |
| JPH0712707B2 true JPH0712707B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=14437254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10658487A Expired - Lifetime JPH0712707B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 静電潜像形成装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0712707B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2815609B2 (ja) * | 1989-05-02 | 1998-10-27 | 日本電信電話株式会社 | イオン流制御板とその製造方法 |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP10658487A patent/JPH0712707B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63270158A (ja) | 1988-11-08 |
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