JPH07126839A - 金属蒸気発生装置 - Google Patents
金属蒸気発生装置Info
- Publication number
- JPH07126839A JPH07126839A JP5270289A JP27028993A JPH07126839A JP H07126839 A JPH07126839 A JP H07126839A JP 5270289 A JP5270289 A JP 5270289A JP 27028993 A JP27028993 A JP 27028993A JP H07126839 A JPH07126839 A JP H07126839A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- crucible
- raw material
- molten
- metal vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液位レベルの変動を防止し金属蒸気を安定し
て発生させる金属蒸気発生装置の提供を目的とする。 【構成】 蒸発用るつぼ３内端部に配置した溶融池１
０、又は、るつぼ３に接続して配置した補助るつぼ１２
内に補助電子銃７又は電気ヒータを使用して、原料金属
の融点を上まわる温度レベルで安定な溶融部を形成し、
当該部の液レベルを原料供給装置６より、ペレット状又
はワイヤ状の金属原料５を供給することにより、一定に
維持するとともに、この溶融金属を電子ビームを照射す
る金属蒸気発生装置の溶融部（電子ビーム照射部）に導
くものである。
て発生させる金属蒸気発生装置の提供を目的とする。 【構成】 蒸発用るつぼ３内端部に配置した溶融池１
０、又は、るつぼ３に接続して配置した補助るつぼ１２
内に補助電子銃７又は電気ヒータを使用して、原料金属
の融点を上まわる温度レベルで安定な溶融部を形成し、
当該部の液レベルを原料供給装置６より、ペレット状又
はワイヤ状の金属原料５を供給することにより、一定に
維持するとともに、この溶融金属を電子ビームを照射す
る金属蒸気発生装置の溶融部（電子ビーム照射部）に導
くものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、長時間連続運転される
金属蒸気発生装置に係り、特に金属原料を大量かつ連続
的に蒸発させる金属蒸気発生装置に関する。
金属蒸気発生装置に係り、特に金属原料を大量かつ連続
的に蒸発させる金属蒸気発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子銃からの電子ビームを照射して金属
を加熱・蒸発させる金属蒸気発生装置においては、比較
的大量に金属原料を蒸発させることが必要となる場合が
ある。この場合、従来の技術としては、 一定量の金属原料を装荷したるつぼを定期的に交換で
きるよう、真空容器内部に予備のるつぼを複数個設置す
る方法、 真空容器内に配置した原料供給装置から、ペレット状
又はワイヤ状の金属原料を定量的又は連続的に電子ビー
ム照射部や電子ビーム又は反射電子ビーム軌道内に供給
する方法、 などが採られている。
を加熱・蒸発させる金属蒸気発生装置においては、比較
的大量に金属原料を蒸発させることが必要となる場合が
ある。この場合、従来の技術としては、 一定量の金属原料を装荷したるつぼを定期的に交換で
きるよう、真空容器内部に予備のるつぼを複数個設置す
る方法、 真空容器内に配置した原料供給装置から、ペレット状
又はワイヤ状の金属原料を定量的又は連続的に電子ビー
ム照射部や電子ビーム又は反射電子ビーム軌道内に供給
する方法、 などが採られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の金属蒸気発生装
置においては、電子銃から出射される電子ビームによっ
て蒸発用るつぼ内に収容された金属材料を大量かつ連続
して加熱・溶融できるが、蒸発効率向上の見地から、電
子銃の出力を上昇して金属蒸気発生装置を高出力のもの
にすると、溶融金属の表面が必ずしも一様でなく不均一
な変動が生ずることがあり、かつ、電子ビームの照射さ
れる表面は高輝度となって波長的にも広範囲な発光を生
じるため、液レベルの監視、金属原料の供給タイミング
の制御等が困難であることが生じている。殊に、電子ビ
ームを照射する溶融金属表面の液位変動は、金属蒸気発
生装置の特性変動に直結するものであり、このため、蒸
着等を行う場合の品質のバラツキを生じるという問題と
して表われている。
置においては、電子銃から出射される電子ビームによっ
て蒸発用るつぼ内に収容された金属材料を大量かつ連続
して加熱・溶融できるが、蒸発効率向上の見地から、電
子銃の出力を上昇して金属蒸気発生装置を高出力のもの
にすると、溶融金属の表面が必ずしも一様でなく不均一
な変動が生ずることがあり、かつ、電子ビームの照射さ
れる表面は高輝度となって波長的にも広範囲な発光を生
じるため、液レベルの監視、金属原料の供給タイミング
の制御等が困難であることが生じている。殊に、電子ビ
ームを照射する溶融金属表面の液位変動は、金属蒸気発
生装置の特性変動に直結するものであり、このため、蒸
着等を行う場合の品質のバラツキを生じるという問題と
して表われている。
【０００４】本発明は、上述した事情を考慮してなされ
たもので、電子ビームを照射するるつぼの溶融池に金属
原料を連続的に供給することにより、液レベルの変動を
小さくできる金属蒸気発生装置を提供することを目的と
する。また本発明の他の目的は、溶融金属の蒸発量の変
動を有効に防止し、金属蒸気を安定して発生することが
できる金属蒸気発生装置を提供するにある。
たもので、電子ビームを照射するるつぼの溶融池に金属
原料を連続的に供給することにより、液レベルの変動を
小さくできる金属蒸気発生装置を提供することを目的と
する。また本発明の他の目的は、溶融金属の蒸発量の変
動を有効に防止し、金属蒸気を安定して発生することが
できる金属蒸気発生装置を提供するにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成する本
発明は、金属原料を収容する蒸発用るつぼと、上記金属
原料を加熱・蒸発させる電子ビームを出射させる電子ビ
ーム発生装置と、を真空容器内に収容した金属蒸気発生
装置において、上記蒸発用るつぼの端に溶融金属を連続
的に供給する溶融池を備え、この溶融池に固体金属を供
給するための原料供給装置を備え、更に、上記溶融池に
供給された上記固体金属を溶融するための加熱装置を備
え、たことを特徴とする。
発明は、金属原料を収容する蒸発用るつぼと、上記金属
原料を加熱・蒸発させる電子ビームを出射させる電子ビ
ーム発生装置と、を真空容器内に収容した金属蒸気発生
装置において、上記蒸発用るつぼの端に溶融金属を連続
的に供給する溶融池を備え、この溶融池に固体金属を供
給するための原料供給装置を備え、更に、上記溶融池に
供給された上記固体金属を溶融するための加熱装置を備
え、たことを特徴とする。
【０００６】
【作用】蒸発用るつぼに対して溶融池を設けてこの溶融
池に原料金属をその融点を上まわる温度レベルにて安定
に溶融させ、この溶融池の液レベルを原料供給装置から
のペレット状又はワイヤ状の金属原料の供給にて一定に
維持することにより、この溶融池に連通する蒸発用るつ
ぼ内の溶融金属レベル変動を無くすようにしたものであ
る。
池に原料金属をその融点を上まわる温度レベルにて安定
に溶融させ、この溶融池の液レベルを原料供給装置から
のペレット状又はワイヤ状の金属原料の供給にて一定に
維持することにより、この溶融池に連通する蒸発用るつ
ぼ内の溶融金属レベル変動を無くすようにしたものであ
る。
【０００７】
【実施例】ここで、図１〜図８を参照して本発明の実施
例を説明する。 （第１実施例）図１〜図３にて第１実施例を説明する。
この金属蒸気発生装置は、図２に示す真空容器１内に蒸
発用るつぼ３と、この蒸発用るつぼ３内に収容された金
属原料２を加熱・溶融・蒸発させる電子ビーム発生装置
としての電子銃４とを有し、更に、図１に示すワイヤ状
の金属原料５を供給する原料供給装置６と、供給された
金属原料５を溶融するための図３に示す補助電子銃７を
備えている。蒸発用るつぼ３では、金属原料２は電子銃
４の電子ビームにより加熱されて溶融金属９を生じ、金
属蒸気８を発生する。
例を説明する。 （第１実施例）図１〜図３にて第１実施例を説明する。
この金属蒸気発生装置は、図２に示す真空容器１内に蒸
発用るつぼ３と、この蒸発用るつぼ３内に収容された金
属原料２を加熱・溶融・蒸発させる電子ビーム発生装置
としての電子銃４とを有し、更に、図１に示すワイヤ状
の金属原料５を供給する原料供給装置６と、供給された
金属原料５を溶融するための図３に示す補助電子銃７を
備えている。蒸発用るつぼ３では、金属原料２は電子銃
４の電子ビームにより加熱されて溶融金属９を生じ、金
属蒸気８を発生する。
【０００８】蒸発用るつぼ３の端には、金属原料５が供
給され補助電子銃７による電子ビームにてこの金属原料
５を加熱溶融する溶融池１０が形成される。この溶融池
１０は、蒸発用るつぼ３本来の金属蒸気を発生させる主
要部分の端に形成されて、溶融金属をこの主要部分に連
続的に補充するものである。金属原料の動きをみるに、
原料供給装置６からフィードローラ１１を介して、溶融
池１０にワイヤ状金属原料５を供給する。ついで、供給
されたワイヤ状金属原料５は、補助電子銃７により加熱
・溶融され、溶融池１０にて液状金属となる。この状態
で電子銃４を運転し、連続的に金属蒸気８を発生させる
場合、溶融金属９の液レベルが次第に低下するが、溶融
池１０から連通流路１８を通り、溶融金属が連続して補
充されるため、蒸発用るつぼ３の主要部分での溶融金属
９の液レベル変動を小さく抑えることができ、安定した
金属蒸気９の発生が可能となる。本発明では、原料供給
装置６、補助電子銃７を蒸発用るつぼ３の一方の端（図
１の右側の端）に設けているが、このるつぼ３の両端に
設けた場合も同様の効果が生じさせ得る。
給され補助電子銃７による電子ビームにてこの金属原料
５を加熱溶融する溶融池１０が形成される。この溶融池
１０は、蒸発用るつぼ３本来の金属蒸気を発生させる主
要部分の端に形成されて、溶融金属をこの主要部分に連
続的に補充するものである。金属原料の動きをみるに、
原料供給装置６からフィードローラ１１を介して、溶融
池１０にワイヤ状金属原料５を供給する。ついで、供給
されたワイヤ状金属原料５は、補助電子銃７により加熱
・溶融され、溶融池１０にて液状金属となる。この状態
で電子銃４を運転し、連続的に金属蒸気８を発生させる
場合、溶融金属９の液レベルが次第に低下するが、溶融
池１０から連通流路１８を通り、溶融金属が連続して補
充されるため、蒸発用るつぼ３の主要部分での溶融金属
９の液レベル変動を小さく抑えることができ、安定した
金属蒸気９の発生が可能となる。本発明では、原料供給
装置６、補助電子銃７を蒸発用るつぼ３の一方の端（図
１の右側の端）に設けているが、このるつぼ３の両端に
設けた場合も同様の効果が生じさせ得る。
【０００９】（第２実施例）図４〜図７にて第２実施例
を説明する。この図において、真空容器１、蒸発用るつ
ぼ３の金属蒸気発生部分（主要部分）、電子銃４、原料
供給装置６、補助電子銃７は、第１実施例と同じであ
る。
を説明する。この図において、真空容器１、蒸発用るつ
ぼ３の金属蒸気発生部分（主要部分）、電子銃４、原料
供給装置６、補助電子銃７は、第１実施例と同じであ
る。
【００１０】図４において、蒸発用るつぼ３には、その
一端に図６にも示す連通部１３を介して図７にも示す補
助るつぼ１２が別に備えられている。そして、この蒸発
用るつぼ３と補助るつぼ１２とをつなぐ連通部１３に
は、金属原料２を溶融し保持するためのヒータ１４が備
えられている。補助るつぼ１２では、原料供給装置６か
らフィードローラ１１を介してワイヤ状金属原料５が供
給されると共に、補助電子銃７によってこの金属原料５
が加熱・溶解されて溶融金属１５となる。また、連通部
１３では、溶融金属１５がヒータ１４により加熱されて
溶融され溶融金属１６を生ずる。したがって、蒸発用る
つぼ３内の溶融金属９は、連通部１３内の溶融金属１６
とつながることになり、この溶融金属９は電子銃４によ
り更に加熱・溶融されて金属蒸気８を発生する。
一端に図６にも示す連通部１３を介して図７にも示す補
助るつぼ１２が別に備えられている。そして、この蒸発
用るつぼ３と補助るつぼ１２とをつなぐ連通部１３に
は、金属原料２を溶融し保持するためのヒータ１４が備
えられている。補助るつぼ１２では、原料供給装置６か
らフィードローラ１１を介してワイヤ状金属原料５が供
給されると共に、補助電子銃７によってこの金属原料５
が加熱・溶解されて溶融金属１５となる。また、連通部
１３では、溶融金属１５がヒータ１４により加熱されて
溶融され溶融金属１６を生ずる。したがって、蒸発用る
つぼ３内の溶融金属９は、連通部１３内の溶融金属１６
とつながることになり、この溶融金属９は電子銃４によ
り更に加熱・溶融されて金属蒸気８を発生する。
【００１１】この状態で電子銃４を運転し、連続的に金
属蒸気８を発生させる場合、溶融金属９の液レベルが次
第に低下するが、溶融金属１５，１６は補助るつぼ１２
から、連続補充されるため溶融金属９の液レベル変動を
小さく抑えることができ安定した金属蒸気８の発生が可
能となる。本発明でも、原料供給装置６、補助るつぼ１
２及び補助電子銃７を蒸発用るつぼ３の一方の端に設け
ているが、このるつぼ３の両端に設けてもよい。
属蒸気８を発生させる場合、溶融金属９の液レベルが次
第に低下するが、溶融金属１５，１６は補助るつぼ１２
から、連続補充されるため溶融金属９の液レベル変動を
小さく抑えることができ安定した金属蒸気８の発生が可
能となる。本発明でも、原料供給装置６、補助るつぼ１
２及び補助電子銃７を蒸発用るつぼ３の一方の端に設け
ているが、このるつぼ３の両端に設けてもよい。
【００１２】第２実施例では、連通部１３の上方空間に
ヒータ１４を設置しているが、連通部１３からの放熱が
大きかったり、上方空間へのヒータ１４の設置に制約が
ある場合には、図８の如く金属原料２と連通部１３との
間にヒータ１７を設置してもよい。
ヒータ１４を設置しているが、連通部１３からの放熱が
大きかったり、上方空間へのヒータ１４の設置に制約が
ある場合には、図８の如く金属原料２と連通部１３との
間にヒータ１７を設置してもよい。
【００１３】上述の第１，第２実施例では、溶融池１０
の形成及び補助るつぼ１２での加熱を補助電子銃７にて
行なっていたのであるが、加熱用ヒータを設置してもよ
く金属材料５を溶解・溶融するため加熱できれば多くの
加熱手段が考えられる。また、溶融池１０や補助るつぼ
１２の液位レベルは、蒸発用るつぼ３の液位レベルより
常に高く調節するよう制御され、制御に当っては、溶融
池１０や補助るつぼ１２での蒸気発生が生じないので、
液位レベルの検出等は容易となる。
の形成及び補助るつぼ１２での加熱を補助電子銃７にて
行なっていたのであるが、加熱用ヒータを設置してもよ
く金属材料５を溶解・溶融するため加熱できれば多くの
加熱手段が考えられる。また、溶融池１０や補助るつぼ
１２の液位レベルは、蒸発用るつぼ３の液位レベルより
常に高く調節するよう制御され、制御に当っては、溶融
池１０や補助るつぼ１２での蒸気発生が生じないので、
液位レベルの検出等は容易となる。
【００１４】
【発明の効果】上記説明したように本発明によれば、蒸
発用るつぼ内の電子ビーム照射部に連続的に液体原料を
供給することができるため、液レベルを確実に制御する
ことが可能となる。このため、電子ビーム照射中の液レ
ベルの変動を小さくできるようになり、蒸発量の変動が
抑止され、金属蒸気を安定的に発生させることが可能と
なる。また、蒸着等を行う場合には、経時的に均一な厚
さの膜の生成が可能となる。
発用るつぼ内の電子ビーム照射部に連続的に液体原料を
供給することができるため、液レベルを確実に制御する
ことが可能となる。このため、電子ビーム照射中の液レ
ベルの変動を小さくできるようになり、蒸発量の変動が
抑止され、金属蒸気を安定的に発生させることが可能と
なる。また、蒸着等を行う場合には、経時的に均一な厚
さの膜の生成が可能となる。
【図１】第１実施例の説明図。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図。
【図３】図１のＢ−Ｂ断面図。
【図４】第２実施例の説明図。
【図５】図４のＣ−Ｃ断面図。
【図６】図４のＤ−Ｄ断面図。
【図７】図４のＥ−Ｅ断面図。
【図８】図６の変形例の断面図。
１ 真空容器 ２ 金属原料 ３ 蒸発用るつぼ ４ 電子銃 ５ ワイヤ状の金属原料 ６ 原料供給装置 ７ 補助電子銃 ８ 金属蒸気 ９，１５，１６ 溶融金属 １０ 溶融池 １１ フィードローラ １２ 補助るつぼ １３ 連通部 １４，１７ ヒータ １８ 連通流路
Claims (2)
- 【請求項１】 金属原料を収容する蒸発用るつぼと、上
記金属原料を加熱・蒸発させる電子ビームを出射させる
電子ビーム発生装置と、を真空容器内に収容した金属蒸
気発生装置において、 上記蒸発用るつぼの端に溶融金属を連続的に供給する溶
融池を備え、 この溶融池に固体金属を供給するための原料供給装置を
備え、 更に、上記溶融池に供給された上記固体金属を溶融する
ための加熱装置を備え、 たことを特徴とする金属蒸気発生装置。 - 【請求項２】 蒸発用るつぼとは別体の補助るつぼを上
記蒸発用るつぼの端に配置し、この補助るつぼにより溶
融池を形成したことを特徴とする金属蒸気発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5270289A JPH07126839A (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 金属蒸気発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5270289A JPH07126839A (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 金属蒸気発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07126839A true JPH07126839A (ja) | 1995-05-16 |
Family
ID=17484193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5270289A Withdrawn JPH07126839A (ja) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | 金属蒸気発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07126839A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009030528A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Japan Carlit Co Ltd:The | リチウム蒸気放出装置 |
| CN115652285A (zh) * | 2022-11-14 | 2023-01-31 | 西安全谱红外技术有限公司 | 化学气相沉积反应中金属熔体自动给料装置及方法 |
-
1993
- 1993-10-28 JP JP5270289A patent/JPH07126839A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009030528A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Japan Carlit Co Ltd:The | リチウム蒸気放出装置 |
| CN115652285A (zh) * | 2022-11-14 | 2023-01-31 | 西安全谱红外技术有限公司 | 化学气相沉积反应中金属熔体自动给料装置及方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2423729A (en) | Vaporization of substances in a vacuum | |
| US20090176036A1 (en) | Method of organic material vacuum evaporation and apparatus thereof | |
| US3329524A (en) | Centrifugal-type vapor source | |
| US3590777A (en) | Ingot feed drive | |
| JP2009542900A (ja) | 電子ビーム蒸発装置 | |
| JPH07126839A (ja) | 金属蒸気発生装置 | |
| US20210230738A1 (en) | Vapour deposition evaporator device | |
| JPH0827568A (ja) | 蒸気発生方法及びその装置 | |
| JP2020508398A (ja) | 電子ビーム蒸発器、コーティング装置及びコーティング方法 | |
| JP2013112894A (ja) | 真空蒸着装置、電子銃及び真空蒸着方法 | |
| JPH0715839B2 (ja) | 高速原子線放射装置 | |
| JPH09324261A (ja) | 真空蒸着装置とその膜厚制御方法 | |
| JPH0733570B2 (ja) | 蒸着装置 | |
| US4171462A (en) | Linear electron beam gun evaporator having uniform electron emission | |
| JPH08134634A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH047022A (ja) | 金属蒸気発生装置 | |
| JPH03123626A (ja) | 金属蒸気発生装置の運転方法 | |
| US20210230737A1 (en) | Vapour deposition evaporator device | |
| JPH051376A (ja) | 電子銃を用いた蒸着装置 | |
| JPH11222669A (ja) | ガスデポジション方法及び装置 | |
| JPH0379756A (ja) | 蒸着装置 | |
| JPS5838905B2 (ja) | 金属イオン源 | |
| JP2000282223A (ja) | 成膜装置及び方法 | |
| KR100271126B1 (ko) | 진공증착기 | |
| JPS6046367A (ja) | 蒸着装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010130 |