JPH07124419A

JPH07124419A - 真空濾過装置

Info

Publication number: JPH07124419A
Application number: JP5277028A
Authority: JP
Inventors: Toshiro Ishii; 俊郎石井; Nobuo Shimokawa; 信雄下川; Kazuo Kitamura; 和夫北村; Kazunori Miura; 和則三浦
Original assignee: SEKISUI ENVIRONMENT KK; YANAGAWA GIKEN KK
Current assignee: SEKISUI ENVIRONMENT KK; YANAGAWA GIKEN KK
Priority date: 1993-11-05
Filing date: 1993-11-05
Publication date: 1995-05-16

Abstract

(57)【要約】【目的】濾布を間欠的に走行させて、濾布上にケーキ
層を多層形成するよう構成された真空濾過装置におい
て、濾布が静止中に効果的な濾布洗浄が可能な機構を提
案すること。【構成】濾布洗浄装置９においては、洗浄水タンクか
らの洗浄水が電磁弁9Aとフレキシブルホース9Bを介して
２列の洗浄ノズル9Cに供給されている。濾布洗浄装置９
は、シリンダー9Dによって、濾布１の走行方向に沿って
所定の回数、例えば一回往復駆動される。洗浄ノズル9C
を２列にしたので、濾布洗浄装置９の往復距離は、濾布
１の一回当りの走行距離Ｌ１の約半分でよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業状の利用分野】本発明は、化学工業、鉱工業、食
品工場などにおいて、スラリー状の被処理物を濾過・脱
水する真空濾過装置に関するものであり、特には、濾布
を間欠的に走行させて、濾布上にケーキ層を多層形成す
るよう構成された真空濾過装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】濾布を間欠的に走行させて、濾布上にケ
ーキ層を多層形成する脱水方式としては、特公平５−６
９５６４号公報に開示された濾過方法と装置がある。こ
の公報には、間欠的に一方向に走行する濾布上にスラリ
ー等の被処理物を供給して真空吸引によりケーキを形成
して脱水・濾過を行う水平式真空濾過方法であって、前
記被処理物を濾布上に供給するに際し、該濾布上に、そ
の長さ方向に順次繰り返して前記被処理物を供給して、
前記濾布上に被処理物の複数の層を形成するという濾過
方法が開示されており、また、駆動装置によって間欠的
に走行する無端濾布の上方に、被処理物を供給するため
の被処理物供給手段を設け、この被処理物供給手段の供
給口を前記無端濾布の長さ方向に移動自在に設けるとい
う構成を備えた濾過装置が開示されている。このよう
な、無端濾布を用いた真空濾過装置においては、被処理
物によって濾布が目詰まりするので、ケーキが剥離した
後に、濾布に洗浄水を吹き付ける等して、濾布を洗浄す
る必要がある。そのための、濾布洗浄装置としては、濾
布の表面もしくは裏面に近接して、濾布の幅一杯に複数
の洗浄ノズルを一列に並べて固定的に配設し、濾布が走
行している間に、前記洗浄ノズルから洗浄水を噴出し
て、濾布を洗浄するように構成されていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、固定的に配設
された一列の洗浄ノズルでは、濾布が走行している間し
か洗浄できないので、充分な洗浄時間を確保することは
できなかった。なぜなら、濾布の走行中には真空ボック
スの真空を解除して、濾過の機能が働いていない時間で
あるので、装置の処理能力を向上させるには、可能な限
り短時間で走行完了するように、制御されるからであ
る。このような時間的な制限によって、充分な洗浄効果
が得られず、濾布の目詰まり時間を延ばすことができな
かった。よって、濾過装置の稼働率が低下するととも
に、メンテナンスの手間がかかるという問題が生じるの
である。当然ながら、濾布の静止中に前記濾布洗浄装置
を作動させても、濾布の同一部分を洗浄するのみであっ
て無駄である。

【０００４】そこで、本発明は、濾布が静止中であって
も、効果的な濾布洗浄が可能な機構を提案し、優れた性
能の真空濾過装置を提供することを目的としてなされた
ものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明にかかる真空濾過
装置においては、固定的に配設された真空ボックスの上
部に、駆動装置によって間欠的に走行する無端濾布を設
けるとともに、前記無端濾布の上方に、被処理物を供給
するための供給手段を設けた真空濾過装置において、前
記無端濾布の少なくとも一方の面を洗浄する濾布洗浄装
置を、前記無端濾布に沿って移動可能に配設するという
手段を講じた。

【０００６】

【作用】本発明によれば、固定的に配設された真空ボッ
クスの上部に、駆動装置によって間欠的に走行する無端
濾布を設けるとともに、前記無端濾布の上方に、被処理
物を供給するための供給手段を設けた真空濾過装置にお
いて、前記無端濾布の少なくとも一方の面を洗浄する濾
布洗浄装置を、前記無端濾布に沿って移動可能に配設し
たので、前記無端濾布が静止している状態であっても、
無端濾布の所定の範囲、即ち、濾布洗浄装置の幅と移動
距離の範囲は洗浄される。よって、濾布の一回当たりの
走行距離と、前記濾布洗浄装置の幅もしくは移動距離と
を合わせることによって、濾布を洗浄することができる
のである。

【０００７】一般的な真空濾過装置においては、濾布の
静止時間は、濾布の移動時間より充分に長い。例えば、
静止時間は30〜60秒間で、移動時間は５〜10秒程度であ
る。よって、濾布が静止している間であれば、移動時間
の間よりも充分長い濾布洗浄時間を確保できるのであ
る。

【０００８】

【実施例】以下に本発明にかかる真空濾過装置の一つの
実施例を、図１，図２，図３，図４，図５に基づいて説
明する。図中、符号１は、濾布であり、この濾布１は、
駆動ドラム２と、複数個（第１図においては５個）の従
動ロール3A,3B,3C,3D,3Eとに巻き掛けられた無端状のも
のであり、前記駆動ドラム２によって間欠的に走行する
ように駆動される。前記濾布１の水平部分1Aの上方に
は、供給部４とケーキ洗浄部５と加圧脱水部６が形成さ
れ、下方には、真空ボックス7A,7B,7C,7D,7Eからなる真
空脱水部が形成されている。これらの真空ボックスの幅
は、間欠的に走行する前記濾布１の一回当りの走行距離
Ｌ１と同じに構成されている。

【０００９】なお、前記一回当りの走行距離Ｌ１は、当
該濾布１の幅Ｌ２より短く設定されている。即ち、図４
に示したように、前記各真空ボックス7A,7B,7C,7D,7E
は、濾布１の幅方向に長い長方形状に形成されている。
前記駆動ドラム２の近傍には、濾布１上のケーキを掻き
落とすためのスクレーパ８が設けられている。

【００１０】そして、前記駆動ドラム２と従動ロール３
Ａとの間には、濾布１を洗浄するための濾布洗浄装置９
が、前記濾布１に近接して設けられている。この濾布洗
浄装置９においては、洗浄水タンクからの洗浄水が電磁
弁9Aとフレキシブルホース9Bを介して２列の洗浄ノズル
9Cに供給されている。前記濾布洗浄装置９は、洗浄水の
散乱を防ぐために濾布１を覆う箱状になっている。そし
て、濾布の静止中において、前記濾布洗浄装置９は、シ
リンダー9Dによって、所定の回数、例えば一回往復駆動
される。前記洗浄ノズル9Cが１列の場合には、濾布洗浄
装置９の往復距離は濾布１の一回当りの走行距離Ｌ１と
ほぼ同じ幅とするが、この実施例においては、洗浄ノズ
ル9Cを、前記走行距離Ｌ１の約半分の距離だけ離して２
列設けたので、濾布洗浄装置９の往復距離は前記走行距
離Ｌ１の半分でよい。よって、普通のストロークのシリ
ンダーが使える。なお、前記シリンダー9Dは、リミット
スイッチ9E,9F と制御装置15によって制御される。即
ち、濾布１が静止すると、制御装置15からの信号によっ
て電磁弁9Aが開き、洗浄ノズル9Cに洗浄水が供給され
る。同時に、制御装置15からの信号によってシリンダー
9Dが伸び、リミットスイッチ9Eが作動するまで、濾布洗
浄装置９を移動させる。制御装置15がリミットスイッチ
9Eの作動を検知すると、制御装置15からの信号によって
シリンダー9Dが縮み、リミットスイッチ9Fが作動するま
で、濾布洗浄装置９を移動させる。制御装置15がリミッ
トスイッチ9Fの作動を検知すると、制御装置15からの信
号によって、シリンダー9Dが停止するとともに、電磁弁
9Aが閉じて、濾布の洗浄が完了する。濾布を洗浄した洗
浄水は集水ピット11に集められる。前記両リミットスイ
ッチ9E,9F の間隔は、濾布１の一回当りの走行距離Ｌ１
の約半分の幅とする。なお、濾布洗浄装置９の往復回数
は、濾布１の汚れの状況で所望の回数に設定することが
できる。また、濾布１の汚れが少ない場合には、往復せ
ずに、片道だけ移動するように制御することもできる。

【００１１】前記従動ロール3Bには、前記濾布１の張力
を調整するための張力緊張装置10が設けられている。ま
た、前記供給部４は、濾布１の走行方向に直角に配設さ
れたレール4Aに沿って、濾布１の走行方向に直角に往復
移動可能な供給ボックス4Bと、この供給ボックス4Bを往
復駆動するシリンダ装置4Cとを備えている。この供給ボ
ックス4Bの移動速度は、濾布１の静止時間以内に所定回
数往復できるように設定されている。前記供給ボックス
4Bは、フレキシブルホース4Dを介して原液スラリーの供
給管に接続されるとともに、供給された原液スラリーが
濾布１の走行方向に均一に広がるように攪拌する攪拌機
構4Eと、走行方向に均一に広げられたスラリーを濾布１
上に落とすシュート4Fとを備えている。

【００１２】前記真空ボックス7A,7B,7C,7D,7Eは、それ
ぞれ三方弁71A,71B,71C,71D,71E を介して真空タンクに
接続されている。吸引された空気と濾液は前記真空タン
クにおいて気液分離される。前記真空タンクの空気は排
気ブロアによって吸引され、濾液は排液ポンプによって
排出される。これによって、真空タンク内は常時減圧さ
れた状態で保たれている。前記三方弁71A,71B,71C,71D,
71E はそれぞれ異なるタイミングで個別に操作可能であ
るとともに、各真空ボックスを異なる真空度に減圧でき
るように構成されている。

【００１３】前記ケーキ洗浄部５は、濾布１上のケーキ
を洗浄するための洗浄ノズルを備えており、濾布１を透
過した水を集めた集水ピット11の水をケーキ上に散布す
ることによって、ケーキの有効成分を洗い出して、前記
真空タンクに回収するとともに、脱水効率を向上させ
る。

【００１４】前記加圧脱水部６は、濾布１が静止してい
る状態で、ケーキを加圧脱水するものであり、濾布１の
上方には、空気圧もしくは油圧による駆動機構6Aと該駆
動機構6Aによって昇降駆動されるプレス部材6Bと、ゴム
ベルト6Cとが配設され、下方には、補強されたパンチン
グメタルと真空ボックス7Eとが配設されている。

【００１５】以上の構成の真空濾過装置の概略の動作
は、図４に示したように、濾布１の静止中の所定時間Ｔ
（例えば30秒間）は、スラリーの供給と真空脱水と加圧
脱水と濾布の洗浄が行われ、濾布１の走行中の時間ｔ
は、スラリーは供給され続けるが、真空は解除され、加
圧脱水部のプレスは上昇し、濾布の洗浄も休止し、脱水
されたケーキは濾布１から掻き落とされるという動作で
ある。当然、稼働率を上げるために、濾布１の走行速度
はできるだけ速く（例えば２ｍ／分〜１０ｍ／分）設定
されている。

【００１６】更に、この真空濾過装置の動作を詳細に説
明する。先ず、供給部４に供給された原液スラリーは、
攪拌機構4Eによってシュート4Fの幅に分散するよう拡げ
られ、シュート4Fに沿って濾布１上に供給される。そし
て、供給ボックス4Bが濾布１の走行方向に直角の方向に
一回移動した後に、前記三方弁71A を吸引側に切り換え
ると、前記真空ボックス7A内は減圧され、濾布１上のス
ラリーを真空脱水する。よって、濾布１上には、薄いケ
ーキの層が形成される。なお、供給ボックス4Bが一回移
動し終わる前に、前記三方弁71A を吸引側に切り換える
場合もある。このように形成されたケーキ層の上に、往
復動する供給ボックス4Bから順次スラリーが供給されつ
つ脱水されるので、複数の薄いケーキ層が積層形成され
る。なお、供給ボックス4Bは濾布１の中央部分から左右
に往復動するようにしてもよい。このときは、スラリー
が濾布１からこぼれにくい。

【００１７】そして、所定の静止時間Ｔの後、例えば、
２往復し終わった後、もしくはその直前に、濾布１を所
定の走行距離Ｌ１だけ走行させる。濾布１の走行中は、
各三方弁71A,71B,71C,71D,71E を開放側に切り換えて、
各真空ボックスの真空を解除し、所定距離Ｌ１走行して
静止した後に、直ちに供給部４の三方弁71A 以外の各三
方弁71B,71C,71D,71E を吸引側に切り換えて、各真空ボ
ックスを減圧し始める。供給部４の三方弁71A は前述し
たように若干遅らせる。

【００１８】真空ボックス7Bの位置に移動してきた４層
のケーキ層は、前記真空ボックス7Aより高い真空度の真
空ボックス7Bによって、更に真空脱水される。このと
き、供給部４においては、前述したように、濾布１の上
には新たな薄いケーキ層が積層形成されている。そし
て、再び、所定の静止時間Ｔが経過した後に、濾布１は
所定の走行距離Ｌ１だけ走行する。次に、ケーキ洗浄部
５に移動してきたケーキ層は、洗浄水によって有効成分
等が洗い出され、下方の真空ボックス7C内に落下し、真
空タンクへ吸引される。更に、所定の静止時間Ｔの経過
後に、濾布１が走行すると、洗浄後のケーキ層は、更に
高い真空度の真空ボックス7Dによって充分に真空脱水さ
れる。このようにして、充分に真空脱水された状態のケ
ーキは、加圧脱水部６へ移動する。

【００１９】加圧脱水部６においては、真空脱水部にて
脱水できなかった水分を、更に脱水し、ケーキの含水率
を更に低下させる。

【００２０】このようにして、真空脱水と加圧脱水によ
って、充分低い含水率となったケーキは、駆動ドラム２
の部分において、スクレーパ８によって濾布１から掻き
落とされ、コンベア（図示せず。）等によって移送され
る。

【００２１】前記濾布洗浄装置９は、濾布１が静止して
いる間に、シリンダー9Dによって濾布１の走行方向に沿
って、所望の回数往復動しながら洗浄するので、充分な
洗浄効果が得られ、濾布１の目詰まり時間を延ばすこと
ができ、真空濾過装置の稼働率が向上するとともに、メ
ンテンナンスの手間が軽減される。従来の固定的に設け
られた洗浄装置では、濾布の移動時間、例えば10秒間以
内しか、濾布洗浄時間を確保できなかったが、濾布洗浄
装置９を往復動させることにより、濾布１の静止中に濾
布を洗浄することが可能になったので、充分に長い時
間、最長で濾布の静止時間の30秒間をを濾布洗浄時間と
して確保できるのである。ここで、下記の表に、本発明
方式（移動可能な洗浄装置）の場合と従来方式（固定的
な洗浄装置）の場合とを対比させた、データを示す。こ
の表において、従来方式では濾布洗浄時間を最大でも10
秒間しか確保できないので、240 時間で濾布が目詰まり
したが、本発明方式によれば、20秒間の濾布洗浄時間を
確保できたので、1000時間まで目詰まりが発生しなかっ
た。即ち、濾布目詰まり時間を４倍以上に延ばすことが
できたのである。なお、濾布洗浄装置９は、濾布１の幅
方向に往復動させてもよい。

【００２２】

【００２３】このように、上記実施例の真空濾過装置に
よれば、以上の効果に加えて、濾布１の一回当りの走行
距離Ｌ１が、濾布１の幅Ｌ２より短い真空濾過装置にお
いて、供給ボックス4Bを濾布１の幅方向に往復動させな
がらスラリーを供給することによって、供給されたスラ
リーが均一に分散して拡げられ、均一なケーキ層を形成
しやすいので、ケーキの薄い部分が発生しにくく、充分
に高い真空度が得られる。よって、真空脱水の効果が向
上し、より低い含水率のケーキが得られるのである。ま
た、供給ボックス4Bは、当該真空濾過装置の濾布の幅に
関わらず同じ大きさのものでよいので、装置の規模の大
小に関わらず部品の共通化がはかれ、製造や部品の管
理、またメンテンナスが効率よくできるという効果も得
られる。加えて、ケーキ洗浄部５においても、濾布１上
のケーキが均一化されているので、散布された洗浄水
は、ケーキ層中に容易に浸透して、ケーキを一様に洗浄
し、有効成分を充分に洗い出して回収できるのである。

【００２４】また、各真空ボックスの減圧のタイミング
は同時でなく、供給部４の真空ボックス7Aのみは、供給
ボックス4Bが１回移動した後、即ち、ケーキ層が１層形
成された後に、減圧するので、真空の漏れが少なく、高
い真空度が得られる。また、単一の真空タンクを用い
て、各真空ボックスを、それぞれ所定のタイミングと所
定の真空度で減圧するので、真空ボックス毎の真空タン
クや吸引ブロアが不要であり、装置の大きさを小さくす
るとともに、コストを低減できる。

【００２５】なお、上記実施例においては、供給ボック
ス4Bを濾布１の幅方向に往復動させたが、供給ボックス
4Bを設けず、供給管の先を往復動させてもよい。また、
濾布洗浄装置９および供給ボックス4Bの駆動源として
は、空気圧や油圧によるシリンダ装置4Cでも、正転／逆
転するモータを備えたラックとピニオンによる駆動機構
でも、往復駆動することができればよいのである。更
に、濾布が間欠的に走行する真空濾過装置であれば、ス
ラリーの供給部の構造はどのようなものでもよい。

【００２６】

【発明の効果】本発明にかかる真空濾過装置によれば、
固定的に配設された真空ボックスの上部に、駆動装置に
よって間欠的に走行する無端濾布を設けるとともに、前
記無端濾布の上方に、被処理物を供給するための供給手
段を設けた真空濾過装置において、前記無端濾布の少な
くとも一方の面を洗浄する濾布洗浄装置を、前記無端濾
布に沿って移動可能に配設したので、前記無端濾布が静
止している間に、充分に長い濾布洗浄時間を確保でき、
濾布の目詰まり時間を従来に比較して数倍に延ばすこと
ができるのである。よって、真空濾過装置の稼働率が向
上するとともに、メンテナンスの手間が低減できるとい
う効果が得られるのである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる真空濾過装置の一実施例の全体
構成図である。

【図２】同真空濾過装置の要部の側面図である。

【図３】同真空濾過装置の要部の斜視図である。

【図４】同真空濾過装置の動作を説明するタイミングチ
ャート図である。

【図５】本発明の濾布洗浄装置の構成を示す構成図であ
る。

【符号の説明】

１濾布（無端濾布）２駆動ドラム（駆動装置） 4B 供給ボックス（供給手段の供給口） 7A,7B,7C,7D,7E 真空ボックス９濾布洗浄装置 9D シリンダー 9C 洗浄ノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者三浦和則埼玉県飯能市岩沢239−３

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】固定的に配設された真空ボックスの上部
に、駆動装置によって間欠的に走行する無端濾布を設け
るとともに、前記無端濾布の上方に、被処理物を供給す
るための供給手段を設けた真空濾過装置において、前記無端濾布の少なくとも一方の面を洗浄する濾布洗浄
装置を、前記無端濾布に沿って移動可能に配設したこと
を特徴とする真空濾過装置。