JPH07120619B2 - 電子線描画方法 - Google Patents
電子線描画方法Info
- Publication number
- JPH07120619B2 JPH07120619B2 JP61239942A JP23994286A JPH07120619B2 JP H07120619 B2 JPH07120619 B2 JP H07120619B2 JP 61239942 A JP61239942 A JP 61239942A JP 23994286 A JP23994286 A JP 23994286A JP H07120619 B2 JPH07120619 B2 JP H07120619B2
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- Japan
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- diaphragm
- corner
- electron beam
- stored
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子線描画方法、特に上位絞り、および下位絞
りを備え、かつそれらの回転手段をも具備する電子線描
画方法に関する。
りを備え、かつそれらの回転手段をも具備する電子線描
画方法に関する。
〔従来の技術〕 この種の電子線描画装置は、上位絞りと下位絞りとの重
ね合わせ領域に、電子ビームを通過させ、この通過後の
電子ビームによつてその断面形状が所望の形状になるよ
うにするものである。
ね合わせ領域に、電子ビームを通過させ、この通過後の
電子ビームによつてその断面形状が所望の形状になるよ
うにするものである。
そして、前記各絞りには回転手段が具備されており、た
とえば最終的に得ようとする電子ビームにおいてその断
面で完全なる矩形状であることを欲するような場合、前
記回転手段の調整によつて、上位絞りおよび下位絞りに
おける回動変位を完全に０にする必要がある（特開昭53
−57761号公報）。
とえば最終的に得ようとする電子ビームにおいてその断
面で完全なる矩形状であることを欲するような場合、前
記回転手段の調整によつて、上位絞りおよび下位絞りに
おける回動変位を完全に０にする必要がある（特開昭53
−57761号公報）。
しかし、従来にあつては、各絞りの回転を具体的に検出
する手段がないものであつた。そのため長方形状の成形
ビームを形成し、この成形ビームを標準マーク上に走査
させ、反射電子信号から走査像をブラウン管上に得、オ
ペレータが、これを見ながら、絞りの回転を行なうとい
うものであつた。
する手段がないものであつた。そのため長方形状の成形
ビームを形成し、この成形ビームを標準マーク上に走査
させ、反射電子信号から走査像をブラウン管上に得、オ
ペレータが、これを見ながら、絞りの回転を行なうとい
うものであつた。
本発明の目的は、上位および下位の絞りの回転調整を自
動的にかつ信頼性よく行なうことのできる電子線描画方
法を提供するにある。
動的にかつ信頼性よく行なうことのできる電子線描画方
法を提供するにある。
上記目的を達成するために本発明は、上位絞り（４）お
よび下位絞り（８）と、それらの回転手段（19）、（2
0）を具備し、前記上位絞りおよび下位絞りにより成形
されるビーム（２）で標準マーク（18）上を走査させて
エッジ信号を検出することにより、前記ビームを調整す
る電子線描画方法において、前記上記絞りのコーナ
（イ）と、前記下位絞りのコーナ（ロ）とを重ね合わ
せ、これにより成形されるビームを前記標準マーク上に
走査させて得られる２つのエッジ信号の値（a1、a2）
を、予め設定したコンパレータレベル（h0、h1）により
同時に計測して記憶し、次に、前記上位絞りの前記コー
ナ（イ）に隣接するコーナ（ニ）と、該コーナ（ニ）と
同一方向である前記下位絞りのコーナ（ハ）とを重ね合
わせ、これにより成形されるビームを前記標準マーク上
に走査させて得られる２つのエッジ信号の値（a3、a4）
を、同様に前記コンパレータレベル（h0、h1）により同
時に計測して記憶し、次いで、これらのエッジ信号の値
（a1、a2、a3、a4）のうち対応するエッジ信号値（a1と
a3、a2とa4）を、それぞれ等しくするように、前記上位
絞りおよび前記下位絞りの回転手段を、それぞれ同時に
制御することにより、２回のビーム走査で上下成形絞り
の回転調整を行うことを特徴とするものである。
よび下位絞り（８）と、それらの回転手段（19）、（2
0）を具備し、前記上位絞りおよび下位絞りにより成形
されるビーム（２）で標準マーク（18）上を走査させて
エッジ信号を検出することにより、前記ビームを調整す
る電子線描画方法において、前記上記絞りのコーナ
（イ）と、前記下位絞りのコーナ（ロ）とを重ね合わ
せ、これにより成形されるビームを前記標準マーク上に
走査させて得られる２つのエッジ信号の値（a1、a2）
を、予め設定したコンパレータレベル（h0、h1）により
同時に計測して記憶し、次に、前記上位絞りの前記コー
ナ（イ）に隣接するコーナ（ニ）と、該コーナ（ニ）と
同一方向である前記下位絞りのコーナ（ハ）とを重ね合
わせ、これにより成形されるビームを前記標準マーク上
に走査させて得られる２つのエッジ信号の値（a3、a4）
を、同様に前記コンパレータレベル（h0、h1）により同
時に計測して記憶し、次いで、これらのエッジ信号の値
（a1、a2、a3、a4）のうち対応するエッジ信号値（a1と
a3、a2とa4）を、それぞれ等しくするように、前記上位
絞りおよび前記下位絞りの回転手段を、それぞれ同時に
制御することにより、２回のビーム走査で上下成形絞り
の回転調整を行うことを特徴とするものである。
このようにすれば、上下の成形絞りの相対位置を、コン
パレータレベルの交点により１走査波形で検出している
ので、相対する成形絞りコーナで、連続して２回のビー
ム走査をすることにより、上下成形絞りの回転ずれを計
測することができる。そのため、上下成形絞りの回転を
同時に高速にできる。すなわち、仮に一方の絞りが角度
変位されている場合、一方の記憶手段に記憶されている
エツジ信号の値と、他方の記憶手段に記憶されているエ
ツジ信号の値とが異なることにより、この異なつた値
は、絞りの角度変位に対応することになる。このため、
この値を０にするように、各絞りの回転手段を調整する
ようにすれば、前記絞りの角度変位を解消することがで
きる。そしてこのような手段は、電子回路によつて設け
ることができることから、自動的かつ信頼性よく調整す
ることができるようになる。
パレータレベルの交点により１走査波形で検出している
ので、相対する成形絞りコーナで、連続して２回のビー
ム走査をすることにより、上下成形絞りの回転ずれを計
測することができる。そのため、上下成形絞りの回転を
同時に高速にできる。すなわち、仮に一方の絞りが角度
変位されている場合、一方の記憶手段に記憶されている
エツジ信号の値と、他方の記憶手段に記憶されているエ
ツジ信号の値とが異なることにより、この異なつた値
は、絞りの角度変位に対応することになる。このため、
この値を０にするように、各絞りの回転手段を調整する
ようにすれば、前記絞りの角度変位を解消することがで
きる。そしてこのような手段は、電子回路によつて設け
ることができることから、自動的かつ信頼性よく調整す
ることができるようになる。
以下、本発明による電子線描画装置の実施例について説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図である。同図に
おいて、電子銃１から放出される電子ビーム２は、成形
絞り４を照射し、この成形絞り４の像を電子レンズ5,7
介して成形絞り８上に結像するようになつている。な
お、前記電子ビーム２の形状は前記電子レンズ5,7間に
配置されている偏向器６によつて制御されるようになつ
ている。そしてこのように所望の形状に成形された電子
ビーム２は縮小レンズ11および対物レンズ14によつて試
料17上に照射されるようになつている。前記対物レンズ
14の内部には、前記電子ビームの照射位置を制御するた
めの電磁偏向器15および静電偏向器13、さらに補正用の
ダイナミツクフオーカスコイル16とが装着されている。
おいて、電子銃１から放出される電子ビーム２は、成形
絞り４を照射し、この成形絞り４の像を電子レンズ5,7
介して成形絞り８上に結像するようになつている。な
お、前記電子ビーム２の形状は前記電子レンズ5,7間に
配置されている偏向器６によつて制御されるようになつ
ている。そしてこのように所望の形状に成形された電子
ビーム２は縮小レンズ11および対物レンズ14によつて試
料17上に照射されるようになつている。前記対物レンズ
14の内部には、前記電子ビームの照射位置を制御するた
めの電磁偏向器15および静電偏向器13、さらに補正用の
ダイナミツクフオーカスコイル16とが装着されている。
また、同時には、電子ビーム２の軸調整を行なうための
アライナコイル９と絞り12、矩形ビームの回転を調整す
るための回転レンズ10が備えられている。
アライナコイル９と絞り12、矩形ビームの回転を調整す
るための回転レンズ10が備えられている。
このような構成からなる電子線描画装置において、第２
図（ａ）に示すように、上記成形絞り４の像が、下位成
形絞り８の像の上に形成された状態になり、その重なつ
た部分（図中、斜線で示す）が電子ビームの実際の光源
域となつている。第２図（ａ）においては、上記絞り４
の右下のコーナ（イ）と下位絞り８の左上のコーナ
（ロ）とが向い合い、かつ重り合うことにより、前記光
源域を有する矩形ビームが形成されていることになる。
図（ａ）に示すように、上記成形絞り４の像が、下位成
形絞り８の像の上に形成された状態になり、その重なつ
た部分（図中、斜線で示す）が電子ビームの実際の光源
域となつている。第２図（ａ）においては、上記絞り４
の右下のコーナ（イ）と下位絞り８の左上のコーナ
（ロ）とが向い合い、かつ重り合うことにより、前記光
源域を有する矩形ビームが形成されていることになる。
この矩形ビームを用いて、第２図（ｂ）に示すように、
標準マーク18上を走査し、これによつて得られる信号を
第２図（ｃ）に示す。なお、前記標準マーク18は、たと
えば試料17上に形成されるAu等からなる貴金属のエツジ
から構成され、前記信号は、第１図に示す反射電子検出
器21により検出されるようになつている。
標準マーク18上を走査し、これによつて得られる信号を
第２図（ｃ）に示す。なお、前記標準マーク18は、たと
えば試料17上に形成されるAu等からなる貴金属のエツジ
から構成され、前記信号は、第１図に示す反射電子検出
器21により検出されるようになつている。
第２図（ｃ）における座標a1,a2はマーク信号量となる
コンパレータレベルh0,h1を設定することにより第１図
に示すマーク検出回路22により認識されるようになつて
おり、その値はコンピユータ23に記憶されるようになつ
ている。
コンパレータレベルh0,h1を設定することにより第１図
に示すマーク検出回路22により認識されるようになつて
おり、その値はコンピユータ23に記憶されるようになつ
ている。
この場合、上述の説明から明らかなように、第２図
（ｃ）のa1,a2の値は、それぞれ第２図（ａ）のA1,A2の
値に対応することが判る。
（ｃ）のa1,a2の値は、それぞれ第２図（ａ）のA1,A2の
値に対応することが判る。
次に、第３図（ａ）に示すように、上位成形絞り４の像
を図中下方向に移動させ、その右上コーナを、下位成形
絞り８の像の左下コーナに向い合わせ、かつ重なり合う
ようにする。これにより第３図（ａ）の斜線に示す光源
域を有する矩形ビームを用い、第３図（ｂ）に示すよう
に、前回用いた同じ標準マーク18上を走査し、これによ
つて得られる信号を第３図（ｃ）に示す。第３図（ｃ）
に示す座標a3,a4は前回と同様にマーク検出回路22によ
つて認識されるようになつており、その値はコンピユー
タ23に記憶されるようになつている。
を図中下方向に移動させ、その右上コーナを、下位成形
絞り８の像の左下コーナに向い合わせ、かつ重なり合う
ようにする。これにより第３図（ａ）の斜線に示す光源
域を有する矩形ビームを用い、第３図（ｂ）に示すよう
に、前回用いた同じ標準マーク18上を走査し、これによ
つて得られる信号を第３図（ｃ）に示す。第３図（ｃ）
に示す座標a3,a4は前回と同様にマーク検出回路22によ
つて認識されるようになつており、その値はコンピユー
タ23に記憶されるようになつている。
この場合においても、第３図（ｃ）のa3,a4の値は、そ
れぞれ、第３図（ａ）のA3,A4の値に対応することが判
る。
れぞれ、第３図（ａ）のA3,A4の値に対応することが判
る。
次に、前記コンピュータ23に記憶されている値のうち、
a1とa3とを比較し、これらの値が a1−a3＝０ となるように、第１図に示す成形絞り回転制御回路24、
回転機構20を制御するとともに、a2とa4とを比較し、こ
れらの値が、 a2−a4＝０ となるように、第１図に示す成形絞り回転制御回路25、
回転機構19を制御するようになつている。
a1とa3とを比較し、これらの値が a1−a3＝０ となるように、第１図に示す成形絞り回転制御回路24、
回転機構20を制御するとともに、a2とa4とを比較し、こ
れらの値が、 a2−a4＝０ となるように、第１図に示す成形絞り回転制御回路25、
回転機構19を制御するようになつている。
このようにすれば、第２図（ａ）および第３図（ａ）に
示すA1とA3の値が等しく、かつA2とA4の値が等しくな
る。このことは、上位、および下位のそれぞれの成形絞
り4,8のそれぞれの像が互いに平行に配置されることと
なり、角度変位が解消されることを意味する。
示すA1とA3の値が等しく、かつA2とA4の値が等しくな
る。このことは、上位、および下位のそれぞれの成形絞
り4,8のそれぞれの像が互いに平行に配置されることと
なり、角度変位が解消されることを意味する。
以上説明したことから明らかなように、本発明による電
子線描画方法によれば、精度よく、かつ自動的に成形絞
りの回転を調整することができるようになる。
子線描画方法によれば、精度よく、かつ自動的に成形絞
りの回転を調整することができるようになる。
第１図は本発明による電子線描画装置の一実施例を示す
構成図、第２図（ａ），（ｂ），（ｃ）および第３図
（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明による電子線描画装置
の作用を示す説明図である。 １……電子銃、２……電子ビーム、4,8……成形絞り、
5,7,10,11,14……電子レンズ、6,13,15……偏向器、18
……標準マーク、22……マーク検出回路、23……コンピ
ユータ、24,25……成形絞り回転制御回路、19,20……成
形絞り回転機構。
構成図、第２図（ａ），（ｂ），（ｃ）および第３図
（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明による電子線描画装置
の作用を示す説明図である。 １……電子銃、２……電子ビーム、4,8……成形絞り、
5,7,10,11,14……電子レンズ、6,13,15……偏向器、18
……標準マーク、22……マーク検出回路、23……コンピ
ユータ、24,25……成形絞り回転制御回路、19,20……成
形絞り回転機構。
Claims (1)
- 【請求項１】上位絞り（４）および下位絞り（８）と、
それらの回転手段（19）、（20）を具備し、前記上位絞
りおよび下位絞りにより成形されるビーム（２）で、標
準マーク（18）上を走査させてエッジ信号を検出するこ
とにより、前記ビームを調整する電子線描画方法におい
て、 前記上位絞りのコーナ（イ）と、前記下位絞りのコーナ
（ロ）とを重ね合わせ、これにより成形されるビームを
前記標準マーク上に走査させて得られる２つのエッジ信
号の値（a1、a2）を、予め設定したコンパレータレベル
（h0、h1）により同時に計測して記憶し、 次に、前記上位絞りの前記コーナ（イ）に隣接するコー
ナ（ニ）と、該コーナ（ニ）と同一方法である前記下位
絞りコーナ（ハ）とを重ね合わせ、これにより成形され
るビームを前記標準マーク上に走査させて得られる２つ
のエッジ信号の値（a3、a4）を、同様に前記コンパレー
タレベル（h0、h1）により同時に計測して記憶し、 次いで、これらのエッジ信号の値（a1、a2、a3、a4）の
うち対応するエッジ信号値（a1とa3、a2とa4）を、それ
ぞれ等しくするように、前記上位絞りおよび前記下位絞
りの回転手段を、それぞれ同時に制御することにより、
２回のビーム走査で上下成形絞りの回転調整を行うこと
を特徴とする電子線描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61239942A JPH07120619B2 (ja) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | 電子線描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61239942A JPH07120619B2 (ja) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | 電子線描画方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6394626A JPS6394626A (ja) | 1988-04-25 |
| JPH07120619B2 true JPH07120619B2 (ja) | 1995-12-20 |
Family
ID=17052110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61239942A Expired - Lifetime JPH07120619B2 (ja) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | 電子線描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07120619B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2541278B2 (ja) * | 1988-04-07 | 1996-10-09 | 富士通株式会社 | 電子ビ―ム露光装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6341025A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-22 | Jeol Ltd | 電子線描画装置の描画方法 |
-
1986
- 1986-10-08 JP JP61239942A patent/JPH07120619B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6394626A (ja) | 1988-04-25 |
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