JPH07115121A - 排気装置 - Google Patents
排気装置Info
- Publication number
- JPH07115121A JPH07115121A JP28178493A JP28178493A JPH07115121A JP H07115121 A JPH07115121 A JP H07115121A JP 28178493 A JP28178493 A JP 28178493A JP 28178493 A JP28178493 A JP 28178493A JP H07115121 A JPH07115121 A JP H07115121A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust
- container
- valve
- vacuum chamber
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 移動式真空チャンバの移動と排気とを効率良
く行うことができるように改良された排気装置を提供す
る。 【構成】 所定の経路に沿って移動する容器中の気体
を、前記容器に設けられた排気口から排出するための排
気装置の構成を、前記容器の前記排気口に嵌合する接続
口および開閉弁を備え、前記容器の移動経路に沿う所定
位置に配置される複数の接続管と、該複数の接続管が分
岐された共通配管と、該共通配管に接続された排気ポン
プと、当該排気装置を制御するための制御手段とを有す
るものとする。
く行うことができるように改良された排気装置を提供す
る。 【構成】 所定の経路に沿って移動する容器中の気体
を、前記容器に設けられた排気口から排出するための排
気装置の構成を、前記容器の前記排気口に嵌合する接続
口および開閉弁を備え、前記容器の移動経路に沿う所定
位置に配置される複数の接続管と、該複数の接続管が分
岐された共通配管と、該共通配管に接続された排気ポン
プと、当該排気装置を制御するための制御手段とを有す
るものとする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体の製造プ
ロセスに於て、ウエハ等を積載して処理装置間を移動す
る真空チャンバの排気に用いられる排気装置に関するも
のである。
ロセスに於て、ウエハ等を積載して処理装置間を移動す
る真空チャンバの排気に用いられる排気装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造過程に於ては、移動式真空
チャンバを用い、各種工程間を移動しつつ真空状態での
処理が行われている。従来、移動式真空チャンバの排気
を行う場合には、ベローズ等の可撓性を有する排気吸引
用チューブを介して真空ポンプと接続することにより、
真空チャンバの排気を行っていた。
チャンバを用い、各種工程間を移動しつつ真空状態での
処理が行われている。従来、移動式真空チャンバの排気
を行う場合には、ベローズ等の可撓性を有する排気吸引
用チューブを介して真空ポンプと接続することにより、
真空チャンバの排気を行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な従来の排気装置では、製造上の理由から排気吸引用チ
ューブの長さに限度があり、排気吸引用チューブを真空
チャンバに接続したままの状態で、長距離を移動するこ
とができないという問題があった。
な従来の排気装置では、製造上の理由から排気吸引用チ
ューブの長さに限度があり、排気吸引用チューブを真空
チャンバに接続したままの状態で、長距離を移動するこ
とができないという問題があった。
【0004】本発明は、このような従来技術の不都合を
解消するべく案出されたものであり、その主な目的は、
移動式真空チャンバの移動と排気とを効率良く行うこと
ができるように改良された排気装置を提供することにあ
る。
解消するべく案出されたものであり、その主な目的は、
移動式真空チャンバの移動と排気とを効率良く行うこと
ができるように改良された排気装置を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】このような目的は、本発
明によれば、所定の経路に沿って移動する容器中の気体
を、前記容器に設けられた排気口から排出するための排
気装置の構成を、前記容器の前記排気口に嵌合する接続
口および開閉弁を備え、前記容器の移動経路に沿う所定
位置に配置される複数の接続管と、該複数の接続管が分
岐された共通配管と、該共通配管に接続された排気ポン
プと、当該排気装置を制御するための制御手段とを有す
るものとすることによって達成される。
明によれば、所定の経路に沿って移動する容器中の気体
を、前記容器に設けられた排気口から排出するための排
気装置の構成を、前記容器の前記排気口に嵌合する接続
口および開閉弁を備え、前記容器の移動経路に沿う所定
位置に配置される複数の接続管と、該複数の接続管が分
岐された共通配管と、該共通配管に接続された排気ポン
プと、当該排気装置を制御するための制御手段とを有す
るものとすることによって達成される。
【0006】
【作用】このような構成をとることにより、真空チャン
バを移動して排気を行う場合には、その真空チャンバを
所定の位置に停止させ、その停止位置に最も近い接続管
の接続口にその真空チャンバの排気口を接続した上でそ
の接続管の開閉バルブを開放する。すると真空チャンバ
内の気体は、接続管が連通した共通配管を介して排気ポ
ンプによって外部に排出される。移動経路に沿って共通
配管を延設し、この共通配管から複数の接続管を分岐さ
せておくことにより、従来のような可撓性を有する排気
吸引用チューブを用いることなく、移動式真空チャンバ
の排気を複数の場所で効率良く実施することができる。
バを移動して排気を行う場合には、その真空チャンバを
所定の位置に停止させ、その停止位置に最も近い接続管
の接続口にその真空チャンバの排気口を接続した上でそ
の接続管の開閉バルブを開放する。すると真空チャンバ
内の気体は、接続管が連通した共通配管を介して排気ポ
ンプによって外部に排出される。移動経路に沿って共通
配管を延設し、この共通配管から複数の接続管を分岐さ
せておくことにより、従来のような可撓性を有する排気
吸引用チューブを用いることなく、移動式真空チャンバ
の排気を複数の場所で効率良く実施することができる。
【0007】
【実施例】以下に本発明に基づいて構成された排気装置
の具体的な一実施例について添付の図面を参照して詳細
に説明する。
の具体的な一実施例について添付の図面を参照して詳細
に説明する。
【0008】図1は、本発明による排気装置の概略レイ
アウト図である。図1に於て、複数の処理工程に関わる
半導体処理装置(図示せず)には、ロードチャンバ1a
・1bがそれぞれ設けられている。これらのロードチャ
ンバ1a・1bは、ウエハWを格納したウエハキャリア
2をその内部に収容することができると共に、搬送装置
3上のウエハ収納容器4に接続することができるように
なっており、ウエハキャリア2の出し入れを行う開口を
開閉するゲート弁5a・5bを備えている。またこれら
のロードチャンバ1a・1bには、その内部を減圧する
ための真空ポンプ6に連結された排気弁7a・7bと、
その内部を真空破壊するための窒素ガスなどを貯容した
不活性ガスボンベ8に連結されたベント弁9a・9bと
がそれぞれ接続されている。
アウト図である。図1に於て、複数の処理工程に関わる
半導体処理装置(図示せず)には、ロードチャンバ1a
・1bがそれぞれ設けられている。これらのロードチャ
ンバ1a・1bは、ウエハWを格納したウエハキャリア
2をその内部に収容することができると共に、搬送装置
3上のウエハ収納容器4に接続することができるように
なっており、ウエハキャリア2の出し入れを行う開口を
開閉するゲート弁5a・5bを備えている。またこれら
のロードチャンバ1a・1bには、その内部を減圧する
ための真空ポンプ6に連結された排気弁7a・7bと、
その内部を真空破壊するための窒素ガスなどを貯容した
不活性ガスボンベ8に連結されたベント弁9a・9bと
がそれぞれ接続されている。
【0009】搬送装置3は、ウエハ収納容器4を搭載し
て複数のロードチャンバ1a・1b間を移動するもので
あり、ウエハ収納容器4に接続される各種制御弁(排気
弁10、スロー排気弁11、ベント弁12、及びスロー
ベント弁13)が配設されている。これらの内、ベント
弁12及びスローベント弁13は、フィルタ14を介し
てウエハ収納容器4に接続されている。更に、ウエハキ
ャリア2の出し入れを行うべくウエハ収納容器4に設け
られた開口を開閉するゲート弁15用の排気弁16とベ
ント弁17とが、ゲート弁15の外側に接続されてい
る。これらの弁は、全て共通の連通管18から分岐して
いる。
て複数のロードチャンバ1a・1b間を移動するもので
あり、ウエハ収納容器4に接続される各種制御弁(排気
弁10、スロー排気弁11、ベント弁12、及びスロー
ベント弁13)が配設されている。これらの内、ベント
弁12及びスローベント弁13は、フィルタ14を介し
てウエハ収納容器4に接続されている。更に、ウエハキ
ャリア2の出し入れを行うべくウエハ収納容器4に設け
られた開口を開閉するゲート弁15用の排気弁16とベ
ント弁17とが、ゲート弁15の外側に接続されてい
る。これらの弁は、全て共通の連通管18から分岐して
いる。
【0010】排気弁10は、ウエハ収納容器4内の排気
を行う際に使用する弁である。そしてスロー排気弁11
は、小コンダクタンスの弁であり、ウエハ収納容器4内
の排気を低速で行う際に使用するものである。これによ
りウエハ収納容器4内に乱流を起こさずに排気が行え
る。また排気弁16は、ロードチャンバ1a・1bとウ
エハ収納容器4との各ゲート弁5a・5b・15同士間
を排気する際に使用する弁である。
を行う際に使用する弁である。そしてスロー排気弁11
は、小コンダクタンスの弁であり、ウエハ収納容器4内
の排気を低速で行う際に使用するものである。これによ
りウエハ収納容器4内に乱流を起こさずに排気が行え
る。また排気弁16は、ロードチャンバ1a・1bとウ
エハ収納容器4との各ゲート弁5a・5b・15同士間
を排気する際に使用する弁である。
【0011】ベント弁12は、ウエハ収納容器4内を真
空破壊する際に使用する弁である。そしてスローベント
弁13は、小コンダクタンスの弁であり、ウエハ収納容
器4内の真空破壊を低速で行う際に使用するものであ
る。またベント弁17は、ロードチャンバ1a・1bと
ウエハ収納容器4との各ゲート弁5a・5b・15同士
間を真空破壊する際に使用する弁である。
空破壊する際に使用する弁である。そしてスローベント
弁13は、小コンダクタンスの弁であり、ウエハ収納容
器4内の真空破壊を低速で行う際に使用するものであ
る。またベント弁17は、ロードチャンバ1a・1bと
ウエハ収納容器4との各ゲート弁5a・5b・15同士
間を真空破壊する際に使用する弁である。
【0012】搬送装置3の移動経路に沿って2本の共通
配管19・20が互いに平行に延設されている。これら
の内の一方の共通配管19は、ロードチャンバ1a・1
bの設置位置に対応する位置に主排気弁21a・21b
がそれぞれ設けられると共に、常時作動する真空ポンプ
22に接続されている。そして他方の共通配管20は、
ロードチャンバ1a・1bの設置位置に対応する位置に
主ベント弁23a・23bがそれぞれ設けられると共
に、窒素ガス等が貯容された不活性ガスボンベ24に接
続されている。
配管19・20が互いに平行に延設されている。これら
の内の一方の共通配管19は、ロードチャンバ1a・1
bの設置位置に対応する位置に主排気弁21a・21b
がそれぞれ設けられると共に、常時作動する真空ポンプ
22に接続されている。そして他方の共通配管20は、
ロードチャンバ1a・1bの設置位置に対応する位置に
主ベント弁23a・23bがそれぞれ設けられると共
に、窒素ガス等が貯容された不活性ガスボンベ24に接
続されている。
【0013】これらの共通配管19・20の各弁の下流
端には、対応するロードチャンバ1a・1bの設置位置
毎に、前記した搬送装置3に設けられた連通管18のコ
ネクタ25と接続し得るコネクタ26a・26bが設け
られている。
端には、対応するロードチャンバ1a・1bの設置位置
毎に、前記した搬送装置3に設けられた連通管18のコ
ネクタ25と接続し得るコネクタ26a・26bが設け
られている。
【0014】主排気弁21a・21bは、上記した排気
弁10、スロー排気弁11、及び排気弁16と協働し
て、ロードチャンバ1a・1bとウエハ収納容器4との
各ゲート弁5a・5b・15同士間、またはウエハ収納
容器4内を排気する際に使用する弁である。例えば、両
ゲート弁5a・15間を排気する場合は、両ゲート弁5
a・15を閉めた状態でロードチャンバ1aにウエハ収
納容器4を接続した後、主排気弁21a及び排気弁16
を開くことにより、両ゲート弁5a・15間がロードチ
ャンバ1a内と同じ減圧状態になる。更に、ウエハ収納
容器4内を減圧する場合は、ウエハ収納容器4内の圧力
が大気圧付近かそれを下回るようであれば、スロー排気
弁11を開いて比較的緩慢な排気を行い、大気圧以上の
圧力であれば、スロー排気弁11と排気弁10とを同時
に開いて急速に排気を行う。
弁10、スロー排気弁11、及び排気弁16と協働し
て、ロードチャンバ1a・1bとウエハ収納容器4との
各ゲート弁5a・5b・15同士間、またはウエハ収納
容器4内を排気する際に使用する弁である。例えば、両
ゲート弁5a・15間を排気する場合は、両ゲート弁5
a・15を閉めた状態でロードチャンバ1aにウエハ収
納容器4を接続した後、主排気弁21a及び排気弁16
を開くことにより、両ゲート弁5a・15間がロードチ
ャンバ1a内と同じ減圧状態になる。更に、ウエハ収納
容器4内を減圧する場合は、ウエハ収納容器4内の圧力
が大気圧付近かそれを下回るようであれば、スロー排気
弁11を開いて比較的緩慢な排気を行い、大気圧以上の
圧力であれば、スロー排気弁11と排気弁10とを同時
に開いて急速に排気を行う。
【0015】主ベント弁23a・23bは、上記したベ
ント弁12、スローベント弁13、及びベント弁17と
協働して、ロードチャンバ1a・1bとウエハ収納容器
4との各ゲート弁5a・5b・15同士間、またはウエ
ハ収納容器4内を真空破壊する際に使用する弁である。
例えば、両ゲート弁5a・15間を真空破壊する場合
は、ロードチャンバ1aにウエハ収納容器4を接続した
状態で両ゲート弁5a・15を閉じた後、主ベント弁2
3a及びベント弁17を開くことにより、両ゲート弁5
a・15間が真空破壊される。更に、ウエハ収納容器4
内を真空破壊する場合は、先ずベント弁12を開いて真
空破壊を行い、大気圧(所望の圧力でも良い)に近づい
たならば、スローベント弁13に切り替えて真空破壊を
緩慢に行う。これにより、ウエハ収納容器4内に乱流を
起こさずに真空破壊が行える。
ント弁12、スローベント弁13、及びベント弁17と
協働して、ロードチャンバ1a・1bとウエハ収納容器
4との各ゲート弁5a・5b・15同士間、またはウエ
ハ収納容器4内を真空破壊する際に使用する弁である。
例えば、両ゲート弁5a・15間を真空破壊する場合
は、ロードチャンバ1aにウエハ収納容器4を接続した
状態で両ゲート弁5a・15を閉じた後、主ベント弁2
3a及びベント弁17を開くことにより、両ゲート弁5
a・15間が真空破壊される。更に、ウエハ収納容器4
内を真空破壊する場合は、先ずベント弁12を開いて真
空破壊を行い、大気圧(所望の圧力でも良い)に近づい
たならば、スローベント弁13に切り替えて真空破壊を
緩慢に行う。これにより、ウエハ収納容器4内に乱流を
起こさずに真空破壊が行える。
【0016】上記した各弁の開閉制御、搬送装置3の駆
動制御並びに位置制御、コネクタ25・26a・26b
の着脱制御、及び真空ポンプ6・22の駆動制御は、制
御ユニット27にて一括制御される。
動制御並びに位置制御、コネクタ25・26a・26b
の着脱制御、及び真空ポンプ6・22の駆動制御は、制
御ユニット27にて一括制御される。
【0017】図2及び図3に示すように、ロードチャン
バ1a(1b)並びにウエハ収納容器4内には、ロード
チャンバ1a(1b)とウエハ収納容器4間で処理する
べきウエハWを、ウエハキャリア2と共にやりとりする
ための移送機構28が設けられている。この移送機構2
8は、ロードチャンバ1a(1b)とウエハ収納容器4
とのいずれか一方に設けられていれば良く、例えば、ウ
エハ収納容器4側から移送機構28を除去すれば、ロー
ドチャンバ1a・1b間を移動する機能のみを搬送装置
3に設ければ良くなるので、搬送装置3を簡略化し得る
し、またウエハ収納容器4側にのみ移送機構28を設け
るものとすれば、移送機構28が1台で済むので設備費
用を節約し得る。
バ1a(1b)並びにウエハ収納容器4内には、ロード
チャンバ1a(1b)とウエハ収納容器4間で処理する
べきウエハWを、ウエハキャリア2と共にやりとりする
ための移送機構28が設けられている。この移送機構2
8は、ロードチャンバ1a(1b)とウエハ収納容器4
とのいずれか一方に設けられていれば良く、例えば、ウ
エハ収納容器4側から移送機構28を除去すれば、ロー
ドチャンバ1a・1b間を移動する機能のみを搬送装置
3に設ければ良くなるので、搬送装置3を簡略化し得る
し、またウエハ収納容器4側にのみ移送機構28を設け
るものとすれば、移送機構28が1台で済むので設備費
用を節約し得る。
【0018】次に本発明装置の作動要領について図4及
び図5の制御フロー図を参照して説明する。
び図5の制御フロー図を参照して説明する。
【0019】先ず、本制御フローの初期状態に於ては、
ある処理工程の半導体処理装置によって処理されたウエ
ハWは、ウエハキャリア2に格納された状態で一方のロ
ードチャンバ(仮に1a側とする)内に収容されてい
る。この状態で、ロードチャンバ1aの内圧は所定の真
空度になっており、ゲート弁5a、排気弁7a、及びベ
ント弁9aは、全て閉じられている。
ある処理工程の半導体処理装置によって処理されたウエ
ハWは、ウエハキャリア2に格納された状態で一方のロ
ードチャンバ(仮に1a側とする)内に収容されてい
る。この状態で、ロードチャンバ1aの内圧は所定の真
空度になっており、ゲート弁5a、排気弁7a、及びベ
ント弁9aは、全て閉じられている。
【0020】この状態から搬送装置3を駆動制御し、上
記ロードチャンバ1aに整合する位置にウエハ収納容器
4を移動させる(ステップ1)。ここでウエハ収納容器
4がロードチャンバ1aと整合したか否かを判断しつつ
搬送装置3を移動させ(ステップ2)、ロードチャンバ
1aの位置にウエハ収納容器4が整合したことが判別さ
れたならば、ロードチャンバ1aのゲート弁5aとウエ
ハ収納容器4のゲート弁15とを互いに気密に接続する
(両ゲート弁は閉じた状態)(ステップ3)。そして両
ゲート弁5a・15間が接続されたならば、コネクタ2
5・26a同士を相互接続する(ステップ4)。
記ロードチャンバ1aに整合する位置にウエハ収納容器
4を移動させる(ステップ1)。ここでウエハ収納容器
4がロードチャンバ1aと整合したか否かを判断しつつ
搬送装置3を移動させ(ステップ2)、ロードチャンバ
1aの位置にウエハ収納容器4が整合したことが判別さ
れたならば、ロードチャンバ1aのゲート弁5aとウエ
ハ収納容器4のゲート弁15とを互いに気密に接続する
(両ゲート弁は閉じた状態)(ステップ3)。そして両
ゲート弁5a・15間が接続されたならば、コネクタ2
5・26a同士を相互接続する(ステップ4)。
【0021】コネクタ25・26a同士の接続が完了し
たならば、主排気弁21aを開弁制御する(ステップ
5)。次いで排気弁16を開弁制御して両ゲート弁5a
・15間の排気を行う(ステップ6)。ここでロードチ
ャンバ1a内の真空度と比較しつつ排気し、両ゲート弁
5a・15間がロードチャンバ1a内と同じ真空状態に
なるように制御する(ステップ7)。そして両ゲート弁
5a・15間がロードチャンバ1aと同じ真空状態に達
したならば、排気弁16を閉弁制御し(ステップ8)、
次いでロードチャンバ1a側のゲート弁5aを開く(ス
テップ9)。
たならば、主排気弁21aを開弁制御する(ステップ
5)。次いで排気弁16を開弁制御して両ゲート弁5a
・15間の排気を行う(ステップ6)。ここでロードチ
ャンバ1a内の真空度と比較しつつ排気し、両ゲート弁
5a・15間がロードチャンバ1a内と同じ真空状態に
なるように制御する(ステップ7)。そして両ゲート弁
5a・15間がロードチャンバ1aと同じ真空状態に達
したならば、排気弁16を閉弁制御し(ステップ8)、
次いでロードチャンバ1a側のゲート弁5aを開く(ス
テップ9)。
【0022】次にウエハ収納容器4内圧が大気圧付近の
所定値以下であるか否かを判別し(ステップ10)、所
定値以上であれば排気弁10とスロー排気弁11とを同
時に開弁制御してウエハ収納容器4内を急速排気する
(ステップ11)。そしてウエハ収納容器4内が所定値
以下になったならば、排気弁10を閉じてスロー排気弁
11のみを開いて緩慢に排気を行う(ステップ12)。
そしてウエハ収納容器4内圧とロードチャンバ1a内圧
とを比較して(ステップ13)両者の真空度が同等に達
したならば、スロー排気弁11を閉弁制御して排気を停
止した上で(ステップ14)、ウエハ収納容器4側のゲ
ート弁15を開弁制御してロードチャンバ1aとウエハ
収納容器4とを相互連通させる(ステップ15)。
所定値以下であるか否かを判別し(ステップ10)、所
定値以上であれば排気弁10とスロー排気弁11とを同
時に開弁制御してウエハ収納容器4内を急速排気する
(ステップ11)。そしてウエハ収納容器4内が所定値
以下になったならば、排気弁10を閉じてスロー排気弁
11のみを開いて緩慢に排気を行う(ステップ12)。
そしてウエハ収納容器4内圧とロードチャンバ1a内圧
とを比較して(ステップ13)両者の真空度が同等に達
したならば、スロー排気弁11を閉弁制御して排気を停
止した上で(ステップ14)、ウエハ収納容器4側のゲ
ート弁15を開弁制御してロードチャンバ1aとウエハ
収納容器4とを相互連通させる(ステップ15)。
【0023】ロードチャンバ1aとウエハ収納容器4と
が相互連通したならば、ロードチャンバ1a内若しくは
ウエハ収納容器4内に配置された移送機構28により、
ロードチャンバ1a内のウエハキャリア2をウエハ収納
容器4内に移送する(ステップ16)。そしてウエハキ
ャリア2がウエハ収納容器4内に搬送されたことを確認
し(ステップ17)、移送が完了したならば、両ゲート
弁5a・15を閉弁制御する(ステップ18)。
が相互連通したならば、ロードチャンバ1a内若しくは
ウエハ収納容器4内に配置された移送機構28により、
ロードチャンバ1a内のウエハキャリア2をウエハ収納
容器4内に移送する(ステップ16)。そしてウエハキ
ャリア2がウエハ収納容器4内に搬送されたことを確認
し(ステップ17)、移送が完了したならば、両ゲート
弁5a・15を閉弁制御する(ステップ18)。
【0024】この後、主排気弁21aを閉弁制御し(ス
テップ19)、次いで主ベント弁23aを開弁制御する
(ステップ20)と共にベント弁17を開弁制御して
(ステップ21)両ゲート弁5a・15間を真空破壊
し、同部分を大気圧状態に戻す。両ゲート弁5a・15
間が大気圧であることが判別されたならば(ステップ2
2)、ベント弁17を閉弁制御する(ステップ23)と
共に主ベント弁23aを閉弁制御し(ステップ24)、
かつコネクタ25・26aを分離制御し(ステップ2
5)、ロードチャンバ1aからウエハ収納容器4を離脱
させて1サイクルを終了する。
テップ19)、次いで主ベント弁23aを開弁制御する
(ステップ20)と共にベント弁17を開弁制御して
(ステップ21)両ゲート弁5a・15間を真空破壊
し、同部分を大気圧状態に戻す。両ゲート弁5a・15
間が大気圧であることが判別されたならば(ステップ2
2)、ベント弁17を閉弁制御する(ステップ23)と
共に主ベント弁23aを閉弁制御し(ステップ24)、
かつコネクタ25・26aを分離制御し(ステップ2
5)、ロードチャンバ1aからウエハ収納容器4を離脱
させて1サイクルを終了する。
【0025】以上の動作により、ある工程が終了したロ
ードチャンバ1a内のウエハキャリア2を、搬送装置3
上のウエハ収納容器4内に移送し、かつ次の工程のロー
ドチャンバ1bへと搬送することができる。
ードチャンバ1a内のウエハキャリア2を、搬送装置3
上のウエハ収納容器4内に移送し、かつ次の工程のロー
ドチャンバ1bへと搬送することができる。
【0026】このようにして、ロードチャンバ1a(1
b)とウエハ収納容器4とを共に減圧状態を維持したま
までウエハWのやりとりを行えるので、真空ポンプの仕
事量並びに不活性ガスの消費量を最低限に抑制すること
ができ、ウエハの連続処理を経済的に行うことができ
る。
b)とウエハ収納容器4とを共に減圧状態を維持したま
までウエハWのやりとりを行えるので、真空ポンプの仕
事量並びに不活性ガスの消費量を最低限に抑制すること
ができ、ウエハの連続処理を経済的に行うことができ
る。
【0027】なお、真空状態にあるウエハ収納容器4内
を真空破壊する場合は、先ず主ベント弁23aを開くと
共にベント弁12を開いて真空破壊を行い、所定の圧力
(大気圧付近)に達したならば、ベント弁12を閉じて
スローベント弁13を開くようにすると良い。
を真空破壊する場合は、先ず主ベント弁23aを開くと
共にベント弁12を開いて真空破壊を行い、所定の圧力
(大気圧付近)に達したならば、ベント弁12を閉じて
スローベント弁13を開くようにすると良い。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、従来の排気装置で
は、真空チャンバの移動に必要な最大の長さの排気吸引
用チューブを使用していたため、このチューブの製造上
可能な長さ以上の距離を移動できないという問題があっ
たが、本発明の排気装置によれば、移動する真空チャン
バに対して所定の位置で排気用配管を着脱することがで
きるので、移動式真空チャンバの排気を、従来のような
排気吸引用チューブを用いることなく複数の場所で効率
よく実行することができる。
は、真空チャンバの移動に必要な最大の長さの排気吸引
用チューブを使用していたため、このチューブの製造上
可能な長さ以上の距離を移動できないという問題があっ
たが、本発明の排気装置によれば、移動する真空チャン
バに対して所定の位置で排気用配管を着脱することがで
きるので、移動式真空チャンバの排気を、従来のような
排気吸引用チューブを用いることなく複数の場所で効率
よく実行することができる。
【図1】本発明装置の概略平面配置図。
【図2】本発明装置の要部拡大断面図。
【図3】本発明装置の作動要領を説明するための要部斜
視図。
視図。
【図4】本発明装置の動作フロー図。
【図5】本発明装置の動作フロー図。
1a・1b ロードチャンバ 2 ウエハキャリア 3 搬送装置 4 ウエハ収納容器 5a・5b・15 ゲート弁 6・22 真空ポンプ 7a・7b・10・16 排気弁 8・24 不活性ガスボンベ 9a・9b・12・17 ベント弁 10 排気弁 11 スロー排気弁 13 スローベント弁 14 フィルタ 18 連通管 19・20 共通配管 21a・21b 主排気弁 22 真空ポンプ 23a・23b 主ベント弁 25・26a・26b コネクタ 27 制御ユニット 28 移送機構
Claims (2)
- 【請求項1】 所定の経路に沿って移動する容器中の気
体を、前記容器に設けられた排気口から排出するための
排気装置に於て、 前記容器の前記排気口に嵌合する接続口および開閉弁を
備え、前記容器の移動経路に沿う所定位置に配置される
複数の接続管と、 該複数の接続管が分岐された共通配管と、 該共通配管に接続された排気ポンプと、 当該排気装置を制御するための制御手段とを有すること
を特徴とする排気装置。 - 【請求項2】 前記制御手段は、 前記容器の搬送を行う搬送制御手段と、 前記容器の前記排気口と前記接続管の前記接続口との位
置合わせを行う位置合わせ制御手段と、 前記排気口と前記接続口との着脱を行う着脱制御手段
と、 前記開閉弁の開閉を行う開閉制御手段と、 前記容器内の圧力調整を行う圧力調整制御手段と、 前記排気ポンプの駆動を行う駆動制御手段と、を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の排気装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28178493A JPH07115121A (ja) | 1993-10-14 | 1993-10-14 | 排気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28178493A JPH07115121A (ja) | 1993-10-14 | 1993-10-14 | 排気装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07115121A true JPH07115121A (ja) | 1995-05-02 |
Family
ID=17643931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28178493A Withdrawn JPH07115121A (ja) | 1993-10-14 | 1993-10-14 | 排気装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07115121A (ja) |
-
1993
- 1993-10-14 JP JP28178493A patent/JPH07115121A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101220790B1 (ko) | 진공 처리 장치, 진공 처리 장치의 운전 방법 및 기억 매체 | |
JP4493955B2 (ja) | 基板処理装置及び搬送ケース | |
KR101350872B1 (ko) | 반도체 피처리 기판의 진공처리시스템 및 반도체 피처리 기판의 진공처리방법 | |
KR101238768B1 (ko) | 진공처리장치 | |
JPH02283017A (ja) | ウェーハ加工装置 | |
JPH10303279A (ja) | 真空処理装置 | |
US20070051314A1 (en) | Movable transfer chamber and substrate-treating apparatus including the same | |
US9748124B2 (en) | Vacuum processing apparatus and operating method thereof | |
KR20180111592A (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2000150613A (ja) | 被処理体の搬送装置 | |
JP4695936B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP7307240B1 (ja) | 真空ウエーハ搬送システム | |
JPH07115121A (ja) | 排気装置 | |
KR20130016359A (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 시스템 | |
CN112614799B (zh) | 一种晶圆传输装置及传输方法 | |
JP3983133B2 (ja) | クリーンボックスおよび当該ボックスに対する基板のローディング方法 | |
US20040020600A1 (en) | Semiconductor device manufacturing equipment having gate providing multiple seals between adjacent chambers | |
JP5892828B2 (ja) | 真空処理装置 | |
KR20140118718A (ko) | 진공 처리 장치 및 진공 처리 장치의 운전 방법 | |
KR20070075935A (ko) | 기판처리장치의 진공펌핑 시스템 및 이를 이용한이송챔버의 진공펌핑 방법 | |
CN213635920U (zh) | 一种抽真空及大气回填的给排气装置 | |
JP7307241B1 (ja) | 基板自動搬送装置 | |
JPH11186355A (ja) | ロードロック機構、基板処理装置および基板処理方法 | |
KR20230073981A (ko) | 게이트 밸브 및 구동 방법 | |
JP2002270663A (ja) | ロードロック装置とその運転方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001226 |