JPH07111232A - フォトレジスト用オーブン - Google Patents
フォトレジスト用オーブンInfo
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- JPH07111232A JPH07111232A JP5280142A JP28014293A JPH07111232A JP H07111232 A JPH07111232 A JP H07111232A JP 5280142 A JP5280142 A JP 5280142A JP 28014293 A JP28014293 A JP 28014293A JP H07111232 A JPH07111232 A JP H07111232A
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- JP
- Japan
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- photoresist
- substrate
- heating
- concentration
- temperature
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- Granted
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板外周部と基板中央部との温度上昇差を解
消し、フォトレジストのパターン形状の乱れを防止す
る。 【構成】 フォトレジスト２１が塗布された基板２０は
ベーキングチャンバ１８内に載置され、加熱プレート１
ａ〜１ｃによって加熱される。加熱プレート１ａ〜１ｃ
は夫々対応する加熱調節器２ａ〜２ｃからなる加熱器２
によって夫々独立に加熱制御され、基板２０の外周部及
び中央部各々の温度上昇が個別に制御される。温度検出
器４は温度センサ３で検出した加熱プレート１ａ〜１ｃ
各々の温度を検出信号として加熱フィードバック機構５
に出力する。加熱フィードバック機構５は内蔵する加熱
プログラムと温度検出器４からの検出信号との偏差を算
出し、その偏差に加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的結合
関係を補正する演算を施して加熱器２に送出し、加熱プ
レート１ａ〜１ｉ各々の加熱制御を行う。
消し、フォトレジストのパターン形状の乱れを防止す
る。 【構成】 フォトレジスト２１が塗布された基板２０は
ベーキングチャンバ１８内に載置され、加熱プレート１
ａ〜１ｃによって加熱される。加熱プレート１ａ〜１ｃ
は夫々対応する加熱調節器２ａ〜２ｃからなる加熱器２
によって夫々独立に加熱制御され、基板２０の外周部及
び中央部各々の温度上昇が個別に制御される。温度検出
器４は温度センサ３で検出した加熱プレート１ａ〜１ｃ
各々の温度を検出信号として加熱フィードバック機構５
に出力する。加熱フィードバック機構５は内蔵する加熱
プログラムと温度検出器４からの検出信号との偏差を算
出し、その偏差に加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的結合
関係を補正する演算を施して加熱器２に送出し、加熱プ
レート１ａ〜１ｉ各々の加熱制御を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフォトレジスト用オーブ
ンに関し、特に液状フォトレジストを使用して大膜厚の
微細パターンを形成するためのオーブンに関する。
ンに関し、特に液状フォトレジストを使用して大膜厚の
微細パターンを形成するためのオーブンに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、フォトレジストのベーキング用オ
ーブンにおける加熱方法としては、熱風循環式と、ホッ
トプレート式と、ベルト炉式と、多段ホットプレート式
とがある。
ーブンにおける加熱方法としては、熱風循環式と、ホッ
トプレート式と、ベルト炉式と、多段ホットプレート式
とがある。
【０００３】熱風循環式とは、基板を出し入れする扉が
付いた箱型のチャンバと熱風発生機構との間で恒温ガス
を循環させ、この恒温ガスでチャンバ内の基板をベーキ
ングする方法である。
付いた箱型のチャンバと熱風発生機構との間で恒温ガス
を循環させ、この恒温ガスでチャンバ内の基板をベーキ
ングする方法である。
【０００４】ホットプレート式とは、恒温に加熱された
加熱板（ホットプレート）上に基板を置き、加熱板の熱
を基板に伝導することで基板をベーキングする方法であ
る。
加熱板（ホットプレート）上に基板を置き、加熱板の熱
を基板に伝導することで基板をベーキングする方法であ
る。
【０００５】ベルト炉式とは角型をした筒状の管路内に
基板搬送用のベルトを通して回転させ、さらに管路の複
数箇所を外側から加熱して管路内を意図した温度状態と
し、その後にベルトに基板を乗せて管路内を移動させな
がら基板をベーキングする方法である。
基板搬送用のベルトを通して回転させ、さらに管路の複
数箇所を外側から加熱して管路内を意図した温度状態と
し、その後にベルトに基板を乗せて管路内を移動させな
がら基板をベーキングする方法である。
【０００６】多段ホットプレート式とは、恒温に加熱さ
れた加熱板（ホットプレート）を複数台並べ、加熱板各
々の間を搬送機によって連結し、基板が加熱板各々の間
を搬送機で既定時間毎に移動するようにして基板をベー
キングする方法である。この方法の場合、加熱板各々は
通常異なる温度に設定される。
れた加熱板（ホットプレート）を複数台並べ、加熱板各
々の間を搬送機によって連結し、基板が加熱板各々の間
を搬送機で既定時間毎に移動するようにして基板をベー
キングする方法である。この方法の場合、加熱板各々は
通常異なる温度に設定される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のフォト
レジストのベーキング用オーブンにおける加熱方法で
は、一様に均一な温度に保たれた雰囲気または加熱板で
基板の加熱を行っているため、基板外周部での昇温が早
く、基板外周部と基板中央部との温度上昇差が避けられ
ない。
レジストのベーキング用オーブンにおける加熱方法で
は、一様に均一な温度に保たれた雰囲気または加熱板で
基板の加熱を行っているため、基板外周部での昇温が早
く、基板外周部と基板中央部との温度上昇差が避けられ
ない。
【０００８】また、フォトレジストを形成する基板の材
質あるいは寸法のバラツキによって個々の基板でベーキ
ング状態が一定しない。これらの理由によって、フォト
レジストのベーキング状態にムラができ、パターン形状
が乱れてしまう。
質あるいは寸法のバラツキによって個々の基板でベーキ
ング状態が一定しない。これらの理由によって、フォト
レジストのベーキング状態にムラができ、パターン形状
が乱れてしまう。
【０００９】さらに、フォトレジスト表面における溶剤
の蒸発がフォトレジスト内部に比べて早いので、フォト
レジスト内部に溶剤が残留し、フォトレジストの現像速
度に差が生じ、パターン断面の形状が悪くなる。
の蒸発がフォトレジスト内部に比べて早いので、フォト
レジスト内部に溶剤が残留し、フォトレジストの現像速
度に差が生じ、パターン断面の形状が悪くなる。
【００１０】そこで、本発明の目的は上記の問題点を解
消し、基板外周部と基板中央部との温度上昇差を解消す
ることができ、フォトレジストのパターン形状の乱れを
防止することができるフォトレジスト用オーブンを提供
することにある。
消し、基板外周部と基板中央部との温度上昇差を解消す
ることができ、フォトレジストのパターン形状の乱れを
防止することができるフォトレジスト用オーブンを提供
することにある。
【００１１】また、本発明の他の目的は、基板間のベー
キング状態のムラを解消することができ、パターン形状
の乱れを防止することができるフォトレジスト用オーブ
ンを提供することにある。
キング状態のムラを解消することができ、パターン形状
の乱れを防止することができるフォトレジスト用オーブ
ンを提供することにある。
【００１２】さらに、本発明の別の目的は、フォトレジ
スト内部の溶剤の残留量を所定濃度以下に抑えることが
でき、パターン断面の形状の悪化を防止することができ
るフォトレジスト用オーブンを提供することにある。
スト内部の溶剤の残留量を所定濃度以下に抑えることが
でき、パターン断面の形状の悪化を防止することができ
るフォトレジスト用オーブンを提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明によるフォトレジ
スト用オーブンは、基板製造におけるフォトリソグラフ
ィ工程で用いられるフォトレジスト用オーブンであっ
て、前記基板を少なくとも外周部と中央部とに２分割し
て加熱するための複数の加熱プレートと、前記複数の加
熱プレート各々を独立に温度制御する加熱手段とを備え
ている。
スト用オーブンは、基板製造におけるフォトリソグラフ
ィ工程で用いられるフォトレジスト用オーブンであっ
て、前記基板を少なくとも外周部と中央部とに２分割し
て加熱するための複数の加熱プレートと、前記複数の加
熱プレート各々を独立に温度制御する加熱手段とを備え
ている。
【００１４】本発明による他のフォトレジスト用オーブ
ンは、前記複数の加熱プレート各々の温度を検出する温
度検出手段と、前記温度検出手段の検出結果を基に前記
複数の加熱プレート各々の間の熱的結合関係を補正する
ための補正値を算出して前記加熱手段に出力する手段と
を具備している。
ンは、前記複数の加熱プレート各々の温度を検出する温
度検出手段と、前記温度検出手段の検出結果を基に前記
複数の加熱プレート各々の間の熱的結合関係を補正する
ための補正値を算出して前記加熱手段に出力する手段と
を具備している。
【００１５】本発明による別のフォトレジスト用オーブ
ンは、基板製造におけるフォトリソグラフィ工程で用い
られるフォトレジスト用オーブンであって、前記基板の
雰囲気中のフォトレジスト含有溶剤の濃度を調整する調
整手段を備えている。
ンは、基板製造におけるフォトリソグラフィ工程で用い
られるフォトレジスト用オーブンであって、前記基板の
雰囲気中のフォトレジスト含有溶剤の濃度を調整する調
整手段を備えている。
【００１６】
【実施例】次に、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１７】図１は本発明の一実施例を示す構成図であ
る。図において、フォトレジスト２１が塗布された基板
２０は基板出し入れ用の扉１９付きのベーキングチャン
バ１８内に載置されている。
る。図において、フォトレジスト２１が塗布された基板
２０は基板出し入れ用の扉１９付きのベーキングチャン
バ１８内に載置されている。
【００１８】このベーキングチャンバ１８には熱風循環
ダクト１６が接続されており、ベーキングチャンバ１８
内の雰囲気が熱風循環ダクト１６を循環路として循環フ
ァン１７によって循環されるようになっている。
ダクト１６が接続されており、ベーキングチャンバ１８
内の雰囲気が熱風循環ダクト１６を循環路として循環フ
ァン１７によって循環されるようになっている。
【００１９】また、ベーキングチャンバ１８内には９つ
の加熱プレート１ａ〜１ｉ（加熱プレート１ｄ〜１ｉは
図示せず）が配設されており、基板２０は加熱プレート
１ａ〜１ｉ上に温度センサ３を介してセッティングされ
る。
の加熱プレート１ａ〜１ｉ（加熱プレート１ｄ〜１ｉは
図示せず）が配設されており、基板２０は加熱プレート
１ａ〜１ｉ上に温度センサ３を介してセッティングされ
る。
【００２０】加熱プレート１ａ〜１ｉは夫々対応する加
熱調節器２ａ〜２ｉ（加熱調整器２ｄ〜２ｉは図示せ
ず）からなる加熱器２によって加熱制御される。この加
熱器２によって既定の時系列加熱プログラムが実行さ
れ、基板２０の外周部及び中央部各々の温度上昇が個別
に制御される。
熱調節器２ａ〜２ｉ（加熱調整器２ｄ〜２ｉは図示せ
ず）からなる加熱器２によって加熱制御される。この加
熱器２によって既定の時系列加熱プログラムが実行さ
れ、基板２０の外周部及び中央部各々の温度上昇が個別
に制御される。
【００２１】すなわち、加熱調節器２ａ〜２ｉによる加
熱プレート１ａ〜１ｉの加熱制御を夫々独立に行い、基
板２０の外周部の温度上昇が中央部の温度上昇よりも遅
くなるよう制御することで、基板２０の外周部と中央部
との温度上昇差を解消することができる。ここで、加熱
器２において実行される加熱プログラムは外部信号によ
って設定することも可能である。
熱プレート１ａ〜１ｉの加熱制御を夫々独立に行い、基
板２０の外周部の温度上昇が中央部の温度上昇よりも遅
くなるよう制御することで、基板２０の外周部と中央部
との温度上昇差を解消することができる。ここで、加熱
器２において実行される加熱プログラムは外部信号によ
って設定することも可能である。
【００２２】温度センサ３は加熱プレート１ａ〜１ｉ各
々に対応して配設されており、加熱プレート１ａ〜１ｉ
各々で検出した温度を温度検出器４に送出する。温度検
出器４は信号出力用の変換器及び表示部を有しており、
検出信号を加熱フィードバック機構５に出力する。
々に対応して配設されており、加熱プレート１ａ〜１ｉ
各々で検出した温度を温度検出器４に送出する。温度検
出器４は信号出力用の変換器及び表示部を有しており、
検出信号を加熱フィードバック機構５に出力する。
【００２３】加熱フィードバック機構５は内蔵する加熱
プログラムと温度検出器４からの検出信号との偏差を算
出し、その偏差に加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的結合
関係を補正する演算を施す。
プログラムと温度検出器４からの検出信号との偏差を算
出し、その偏差に加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的結合
関係を補正する演算を施す。
【００２４】ここで、加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的
結合関係とは加熱プレート１ａ〜１ｉのうちの一つが加
熱されたときに、その熱が隣合う加熱プレート１ａ〜１
ｉに伝わってそれらの加熱プレート１ａ〜１ｉの加熱制
御に影響を及ぼす関係を示している。
結合関係とは加熱プレート１ａ〜１ｉのうちの一つが加
熱されたときに、その熱が隣合う加熱プレート１ａ〜１
ｉに伝わってそれらの加熱プレート１ａ〜１ｉの加熱制
御に影響を及ぼす関係を示している。
【００２５】したがって、加熱プレート１ａ〜１ｉのう
ちの一つが加熱されたときに、隣合う加熱プレート１ａ
〜１ｉにおける温度上昇の曲線を予め実験等で算出して
おき、この曲線を基に加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的
結合関係の補正が行われる。
ちの一つが加熱されたときに、隣合う加熱プレート１ａ
〜１ｉにおける温度上昇の曲線を予め実験等で算出して
おき、この曲線を基に加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的
結合関係の補正が行われる。
【００２６】加熱フィードバック機構５は演算の結果を
加熱器２内の加熱調整器２ａ〜２ｉ各々に送出し、加熱
プレート１ａ〜１ｉ各々の加熱制御を行う。
加熱器２内の加熱調整器２ａ〜２ｉ各々に送出し、加熱
プレート１ａ〜１ｉ各々の加熱制御を行う。
【００２７】濃度センサ６ａ〜６ｃは夫々循環雰囲気に
おけるフォトレジスト２１の溶剤濃度をベーキングチャ
ンバ１８の循環吸引側とベーキングチャンバ１８内とベ
ーキングチャンバ１８の吐出側とにおいて検出し、検出
濃度を濃度検出器７に送出する。
おけるフォトレジスト２１の溶剤濃度をベーキングチャ
ンバ１８の循環吸引側とベーキングチャンバ１８内とベ
ーキングチャンバ１８の吐出側とにおいて検出し、検出
濃度を濃度検出器７に送出する。
【００２８】濃度検出器７は信号出力用の変換器及び表
示部を有しており、ベーキングチャンバ１８の循環吸引
側とベーキングチャンバ１８内とベーキングチャンバ１
８の吐出側とにおいて夫々検出されたフォトレジスト２
１の溶剤濃度を検出信号として給排気調節フィードバッ
ク機構８及び溶剤供給フィードバック機構９に出力す
る。
示部を有しており、ベーキングチャンバ１８の循環吸引
側とベーキングチャンバ１８内とベーキングチャンバ１
８の吐出側とにおいて夫々検出されたフォトレジスト２
１の溶剤濃度を検出信号として給排気調節フィードバッ
ク機構８及び溶剤供給フィードバック機構９に出力す
る。
【００２９】給排気調節器１０は内部に排気部１１と循
環差圧発生部１２とフレッシュガス供給部１３と調整部
１４とを備えており、循環雰囲気中のフォトレジスト２
１から蒸発した溶剤の濃度の減少機能を実現する。
環差圧発生部１２とフレッシュガス供給部１３と調整部
１４とを備えており、循環雰囲気中のフォトレジスト２
１から蒸発した溶剤の濃度の減少機能を実現する。
【００３０】循環差圧発生部１２は調整部１４の制御に
より駆動され、循環雰囲気中に空気または不活性気体を
吸気する側と循環雰囲気を排気する側とを仕切るように
動作する。フレッシュガス供給部１３は外部から空気ま
たは不活性気体を取込み、熱風循環ダクト１６を循環す
る雰囲気中に空気または不活性気体を供給する。
より駆動され、循環雰囲気中に空気または不活性気体を
吸気する側と循環雰囲気を排気する側とを仕切るように
動作する。フレッシュガス供給部１３は外部から空気ま
たは不活性気体を取込み、熱風循環ダクト１６を循環す
る雰囲気中に空気または不活性気体を供給する。
【００３１】この給排気調節器１０によって既定の時系
列濃度プログラムが実行されると、循環雰囲気中のフォ
トレジスト２１の溶剤濃度が減少する。すなわち、循環
差圧発生部１２が空気または不活性気体を吸気する側と
循環雰囲気を排気する側とに仕切り、排気部１１が循環
雰囲気を排気するとともに、フレッシュガス供給部１３
が循環雰囲気中に空気または不活性気体を供給すること
で、循環雰囲気中のフォトレジスト２１の溶剤濃度が減
少する。ここで、給排気調節器１０において実行される
濃度プログラムは外部信号によって設定することも可能
である。
列濃度プログラムが実行されると、循環雰囲気中のフォ
トレジスト２１の溶剤濃度が減少する。すなわち、循環
差圧発生部１２が空気または不活性気体を吸気する側と
循環雰囲気を排気する側とに仕切り、排気部１１が循環
雰囲気を排気するとともに、フレッシュガス供給部１３
が循環雰囲気中に空気または不活性気体を供給すること
で、循環雰囲気中のフォトレジスト２１の溶剤濃度が減
少する。ここで、給排気調節器１０において実行される
濃度プログラムは外部信号によって設定することも可能
である。
【００３２】給排気調節フィードバック機構８は内蔵す
る濃度プログラムと濃度検出器７からの検出信号との偏
差を補正するための補正信号を算出し、その補正信号を
給排気調節器１０に送出して循環雰囲気中のフォトレジ
スト２１の溶剤濃度を制御する。
る濃度プログラムと濃度検出器７からの検出信号との偏
差を補正するための補正信号を算出し、その補正信号を
給排気調節器１０に送出して循環雰囲気中のフォトレジ
スト２１の溶剤濃度を制御する。
【００３３】溶剤供給器１５はフォトレジスト含有溶剤
の主要成分の蒸気発生部１５ａと、蒸気発生部１５ａに
おける蒸気発生量を制御する調整部１５ｂとを備えてお
り、循環雰囲気中のフォトレジスト２１から蒸発した溶
剤の濃度の増加機能を実現する。
の主要成分の蒸気発生部１５ａと、蒸気発生部１５ａに
おける蒸気発生量を制御する調整部１５ｂとを備えてお
り、循環雰囲気中のフォトレジスト２１から蒸発した溶
剤の濃度の増加機能を実現する。
【００３４】この溶剤供給器１５によって既定の時系列
濃度プログラムが実行されると、循環雰囲気中のフォト
レジスト２１の溶剤濃度が増加する。すなわち、調整部
１５ｂの制御によって蒸気発生部１５ａが駆動され、蒸
気発生部１５ａで発生したフォトレジスト含有溶剤の主
要成分の蒸気が循環雰囲気に供給されて循環雰囲気中の
フォトレジスト２１の溶剤濃度が増加する。ここで、溶
剤供給器１５において実行される濃度プログラムは外部
信号によって設定することも可能である。
濃度プログラムが実行されると、循環雰囲気中のフォト
レジスト２１の溶剤濃度が増加する。すなわち、調整部
１５ｂの制御によって蒸気発生部１５ａが駆動され、蒸
気発生部１５ａで発生したフォトレジスト含有溶剤の主
要成分の蒸気が循環雰囲気に供給されて循環雰囲気中の
フォトレジスト２１の溶剤濃度が増加する。ここで、溶
剤供給器１５において実行される濃度プログラムは外部
信号によって設定することも可能である。
【００３５】溶剤供給フィードバック機構９は内蔵する
濃度プログラムと濃度検出器７からの検出信号との偏差
を補正するための補正信号を算出し、その補正信号を溶
剤供給器１５に送出して循環雰囲気中のフォトレジスト
２１の溶剤濃度を制御する。
濃度プログラムと濃度検出器７からの検出信号との偏差
を補正するための補正信号を算出し、その補正信号を溶
剤供給器１５に送出して循環雰囲気中のフォトレジスト
２１の溶剤濃度を制御する。
【００３６】上記のフォトレジスト用オーブンのアイド
ル状態では、ベーキングチャンバ１８内の雰囲気の循環
が行われている。
ル状態では、ベーキングチャンバ１８内の雰囲気の循環
が行われている。
【００３７】このベーキングチャンバ１８内に基板２０
をセッティングし、加熱フィードバック機構５と給排気
調節フィードバック機構８と溶剤供給フィードバック機
構９とに夫々プログラム開始を指示すると、まず溶剤供
給器１５が溶剤蒸気を発生し、循環雰囲気中のフォトレ
ジスト２１の溶剤濃度を所定濃度まで高める。
をセッティングし、加熱フィードバック機構５と給排気
調節フィードバック機構８と溶剤供給フィードバック機
構９とに夫々プログラム開始を指示すると、まず溶剤供
給器１５が溶剤蒸気を発生し、循環雰囲気中のフォトレ
ジスト２１の溶剤濃度を所定濃度まで高める。
【００３８】これによって、基板２０上のフォトレジス
ト２１からの溶剤蒸発を抑制する。この間、濃度検出器
７からの検出信号を基にした溶剤供給フィードバック機
構９の働きによって循環雰囲気中のフォトレジスト２１
の溶剤濃度が所定濃度に保たれる。
ト２１からの溶剤蒸発を抑制する。この間、濃度検出器
７からの検出信号を基にした溶剤供給フィードバック機
構９の働きによって循環雰囲気中のフォトレジスト２１
の溶剤濃度が所定濃度に保たれる。
【００３９】次に、加熱調節器２ａ〜２ｉによる加熱制
御で加熱プレート１ａ〜１ｉが動作し、基板２０が加熱
される。このとき、基板２０の外周部に位置する加熱プ
レートの温度上昇が基板２０の中央部に位置する加熱プ
レートの温度上昇に比べて遅くなるようにする。
御で加熱プレート１ａ〜１ｉが動作し、基板２０が加熱
される。このとき、基板２０の外周部に位置する加熱プ
レートの温度上昇が基板２０の中央部に位置する加熱プ
レートの温度上昇に比べて遅くなるようにする。
【００４０】さらに、温度検出器４からの検出信号を基
にした加熱フィードバック機構５の働きによって加熱プ
レート１ａ〜１ｉの温度上昇が個別に調整制御される。
にした加熱フィードバック機構５の働きによって加熱プ
レート１ａ〜１ｉの温度上昇が個別に調整制御される。
【００４１】この後に、溶剤供給器１５による溶剤蒸気
の発生が停止され、ついで給排気調節器１０が動作して
循環雰囲気中の溶剤濃度が所定の濃度プログラムにした
がって減少される。
の発生が停止され、ついで給排気調節器１０が動作して
循環雰囲気中の溶剤濃度が所定の濃度プログラムにした
がって減少される。
【００４２】このとき、濃度検出器７からの検出信号を
基にした給排気調節フィードバック機構８の働きによっ
て循環雰囲気中のフォトレジスト２１の溶剤濃度が所定
の濃度プログラムにしたがって減少される。
基にした給排気調節フィードバック機構８の働きによっ
て循環雰囲気中のフォトレジスト２１の溶剤濃度が所定
の濃度プログラムにしたがって減少される。
【００４３】このように、９分割して組合せた加熱プレ
ート１ａ〜１ｉと、加熱プレート１ａ〜１ｉ各々を独立
に温度制御可能な加熱器２とを備えているので、少なく
とも基板２０の外周部及び中央部各々の温度上昇を個別
に制御することが可能となる。よって、基板２０の外周
部及び中央部各々の温度上昇差を解消することができる
ので、フォトレジスト２１のパターン形成の乱れを防止
することができる。
ート１ａ〜１ｉと、加熱プレート１ａ〜１ｉ各々を独立
に温度制御可能な加熱器２とを備えているので、少なく
とも基板２０の外周部及び中央部各々の温度上昇を個別
に制御することが可能となる。よって、基板２０の外周
部及び中央部各々の温度上昇差を解消することができる
ので、フォトレジスト２１のパターン形成の乱れを防止
することができる。
【００４４】また、加熱プレート１ａ〜１ｉ各々の温度
を検出するための温度センサ３及び温度検出器４と、温
度検出器４からの検出信号と加熱プログラムとの偏差を
算出してその偏差に加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的結
合関係を補正する演算を施し、その演算結果を加熱器２
に与えてフィードバック制御する加熱フィードバック制
御機構５とを備えているので、個々の基板２０の状態に
追従した加熱が可能となる。
を検出するための温度センサ３及び温度検出器４と、温
度検出器４からの検出信号と加熱プログラムとの偏差を
算出してその偏差に加熱プレート１ａ〜１ｉ間の熱的結
合関係を補正する演算を施し、その演算結果を加熱器２
に与えてフィードバック制御する加熱フィードバック制
御機構５とを備えているので、個々の基板２０の状態に
追従した加熱が可能となる。
【００４５】よって、既定の加熱プログラムからのズレ
を減少させ、基板２０間のベーキング状態のムラを解消
することができるので、フォトレジスト２１のパターン
形成の乱れを防止することができる。
を減少させ、基板２０間のベーキング状態のムラを解消
することができるので、フォトレジスト２１のパターン
形成の乱れを防止することができる。
【００４６】さらに、ベーキングチャンバ１８の循環吸
引側とベーキングチャンバ１８内とベーキングチャンバ
１８の吐出側とにおけるフォトレジスト２１の溶剤濃度
を検出するための濃度センサ６ａ〜６ｃ及び濃度検出器
７と、濃度検出器７からの検出信号と濃度プログラムと
の偏差を補正するための補正信号を算出して給排気調節
器１０に送出し、循環雰囲気中のフォトレジスト２１の
溶剤濃度を制御するための給排気調節フィードバック機
構８と、濃度検出器７からの検出信号と濃度プログラム
との偏差を補正するための補正信号を算出して溶剤供給
器１５に送出し、循環雰囲気中のフォトレジスト２１の
溶剤濃度を制御するための溶剤供給フィードバック機構
９とを備えているので、ベーキングチャンバ１８内の雰
囲気中のフォトレジスト２１の溶剤濃度を制御し、フォ
トレジスト２１表面の溶剤蒸発速度を抑えることができ
る。
引側とベーキングチャンバ１８内とベーキングチャンバ
１８の吐出側とにおけるフォトレジスト２１の溶剤濃度
を検出するための濃度センサ６ａ〜６ｃ及び濃度検出器
７と、濃度検出器７からの検出信号と濃度プログラムと
の偏差を補正するための補正信号を算出して給排気調節
器１０に送出し、循環雰囲気中のフォトレジスト２１の
溶剤濃度を制御するための給排気調節フィードバック機
構８と、濃度検出器７からの検出信号と濃度プログラム
との偏差を補正するための補正信号を算出して溶剤供給
器１５に送出し、循環雰囲気中のフォトレジスト２１の
溶剤濃度を制御するための溶剤供給フィードバック機構
９とを備えているので、ベーキングチャンバ１８内の雰
囲気中のフォトレジスト２１の溶剤濃度を制御し、フォ
トレジスト２１表面の溶剤蒸発速度を抑えることができ
る。
【００４７】これによって、フォトレジスト２１内部の
溶剤の蒸発時間を確保し、フォトレジスト２１内部の溶
剤の残留量を所定の濃度以下にすることができる。よっ
て、フォトレジスト２１の現像速度の差を許容範囲内と
し、フォトレジスト２１のパターン断面の形状の悪化を
防止することができる。
溶剤の蒸発時間を確保し、フォトレジスト２１内部の溶
剤の残留量を所定の濃度以下にすることができる。よっ
て、フォトレジスト２１の現像速度の差を許容範囲内と
し、フォトレジスト２１のパターン断面の形状の悪化を
防止することができる。
【００４８】
【発明の効果】以上説明したように本発明のフォトレジ
スト用オーブンによれば、複数の加熱プレート各々を独
立に温度制御し、基板を少なくとも外周部と中央部とに
２分割して加熱することによって、基板外周部と基板中
央部との温度上昇差を解消することができ、フォトレジ
ストのパターン形状の乱れを防止することができるとい
う効果がある。
スト用オーブンによれば、複数の加熱プレート各々を独
立に温度制御し、基板を少なくとも外周部と中央部とに
２分割して加熱することによって、基板外周部と基板中
央部との温度上昇差を解消することができ、フォトレジ
ストのパターン形状の乱れを防止することができるとい
う効果がある。
【００４９】また、本発明の他のフォトレジスト用オー
ブンによれば、複数の加熱プレート各々から検出した温
度を基に複数の加熱プレート各々の間の熱的結合関係を
補正するための補正値を算出し、その補正にしたがって
複数の加熱プレート各々の温度制御行うことによって、
基板間のベーキング状態のムラを解消することができ、
パターン形状の乱れを防止することができるという効果
がある。
ブンによれば、複数の加熱プレート各々から検出した温
度を基に複数の加熱プレート各々の間の熱的結合関係を
補正するための補正値を算出し、その補正にしたがって
複数の加熱プレート各々の温度制御行うことによって、
基板間のベーキング状態のムラを解消することができ、
パターン形状の乱れを防止することができるという効果
がある。
【００５０】さらに、本発明の別のフォトレジスト用オ
ーブンによれば、基板の雰囲気中のフォトレジスト含有
溶剤の濃度を調整することによって、フォトレジスト内
部の溶剤の残留量を所定濃度以下に抑えることができ、
パターン断面の形状の悪化を防止することができるとい
う効果がある。
ーブンによれば、基板の雰囲気中のフォトレジスト含有
溶剤の濃度を調整することによって、フォトレジスト内
部の溶剤の残留量を所定濃度以下に抑えることができ、
パターン断面の形状の悪化を防止することができるとい
う効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す構成図である。
１ａ〜１ｃ 加熱プレート ２ 加熱器 ２ａ〜２ｃ 加熱調整器 ３ 温度センサ ４ 温度検出器 ５ 加熱フィードバック機構 ６ａ〜６ｃ 濃度センサ ７ 濃度検出器 ８ 給排気調節フィードバック機構 ９ 溶剤供給フィードバック機構 １０ 給排気調節器 １５ 溶剤供給器 １６ 熱風循環ダクト １８ ベーキングチャンバ ２０ 基板 ２１ フォトレジスト
Claims (8)
- 【請求項１】 基板製造におけるフォトリソグラフィ工
程で用いられるフォトレジスト用オーブンであって、前
記基板を少なくとも外周部と中央部とに２分割して加熱
するための複数の加熱プレートと、前記複数の加熱プレ
ート各々を独立に温度制御する加熱手段とを有すること
を特徴とするフォトレジスト用オーブン。 - 【請求項２】 前記複数の加熱プレート各々の温度を検
出する温度検出手段と、前記温度検出手段の検出結果を
基に前記複数の加熱プレート各々の間の熱的結合関係を
補正するための補正値を算出して前記加熱手段に出力す
る手段とを含むことを特徴とする請求項１記載のフォト
レジスト用オーブン。 - 【請求項３】 基板製造におけるフォトリソグラフィ工
程で用いられるフォトレジスト用オーブンであって、前
記基板の雰囲気中のフォトレジスト含有溶剤の濃度を調
整する調整手段を有することを特徴とするフォトレジス
ト用オーブン。 - 【請求項４】 前記調整手段は、前記基板の雰囲気中へ
の給排気を行う手段から構成されたことを特徴とする請
求項３記載のフォトレジスト用オーブン。 - 【請求項５】 前記基板の雰囲気中のフォトレジスト含
有溶剤の濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出
手段の検出結果を基に前記基板の雰囲気中への給排気量
を補正するための補正値を算出して前記調整手段に出力
する手段とを含むことを特徴とする請求項４記載のフォ
トレジスト用オーブン。 - 【請求項６】 前記調整手段は、前記基板の雰囲気中へ
前記フォトレジスト含有溶剤の蒸気を供給する手段から
構成されたことを特徴とする請求項３から請求項５のい
ずれか記載のフォトレジスト用オーブン。 - 【請求項７】 前記基板の雰囲気中のフォトレジスト含
有溶剤の濃度を基に前記フォトレジスト含有溶剤の蒸気
の供給量を補正するための補正値を算出して前記調整手
段に出力する手段を含むことを特徴とする請求項６記載
のフォトレジスト用オーブン。 - 【請求項８】 基板製造におけるフォトリソグラフィ工
程で用いられるフォトレジスト用オーブンであって、前
記基板を少なくとも外周部と中央部とに２分割して加熱
するための複数の加熱プレートと、前記複数の加熱プレ
ート各々を独立に温度制御する加熱手段と、前記基板の
雰囲気中のフォトレジスト含有溶剤の濃度を調整する調
整手段とを有することを特徴とするフォトレジスト用オ
ーブン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5280142A JP2590709B2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | フォトレジスト用オーブン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5280142A JP2590709B2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | フォトレジスト用オーブン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07111232A true JPH07111232A (ja) | 1995-04-25 |
| JP2590709B2 JP2590709B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=17620921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5280142A Expired - Fee Related JP2590709B2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | フォトレジスト用オーブン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2590709B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000323375A (ja) * | 1999-05-07 | 2000-11-24 | Mtc:Kk | 基板加熱装置及び基板加熱方法 |
| JP2000349018A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-15 | Nec Corp | フォトレジスト用ベーク炉 |
| US7353623B2 (en) | 2004-12-24 | 2008-04-08 | Seiko Epson Corporation | Solvent removal apparatus and method |
| JP2009162978A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Toppan Printing Co Ltd | 感光硬化型樹脂組成物の硬化パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法 |
| KR101536414B1 (ko) * | 2013-09-25 | 2015-07-13 | 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 감광막 패턴 형성방법 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63184330A (ja) * | 1987-01-26 | 1988-07-29 | Nec Corp | フオトレジストのベ−ク装置 |
| JPH02125610A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | Nec Corp | ホットプレート |
| JPH02260415A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-23 | Fujitsu Ltd | 搬送装置 |
| JPH03163819A (ja) * | 1989-11-22 | 1991-07-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
1993
- 1993-10-13 JP JP5280142A patent/JP2590709B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2590709B2 (ja) | 1997-03-12 |
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