JPH07109662B2 - 光記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光ビームにより再生のみまたは記録・再生・
消去を行うことが可能な光記録媒体に関する。

［従来の技術］ 光記録媒体は、例えば特開昭57-78652号公報等に開示さ
れているが、案内溝やプリフォーマット信号が形成され
た基板上に、記録層、該記録層をサンドイッチ状に挟む
無機誘電体保護層、および光記録媒体の表面保護層（以
下、保護層と略記する）が形成されてなるものである。
この保護層としては、従来SiO₂等の無機化合物の層が用
いられてきた。しかし、表面の保護層の為には保護層を
厚く、例えば数μｍの厚さに形成する必要があり、また
SiO₂等の無機化合物層は脆く、自然に亀裂が生じ易いと
いう問題点があった。

そこで、光重合性有機化合物、例えば特開昭61-123593
号公報，特開昭61-133067号公報等に開示されているよ
うなアクリレート系樹脂組成物を用いた樹脂保護層が提
案されている。

しかしながら、従来の樹脂保護層を用いた場合、上記の
様な構成の光記録媒体は無機誘電体保護層の応力が大き
いため、初期の反りやスキューが大きく、さらに環境耐
久試験（例えば、80℃、90RH、2000hr放置）により反り
やスキューが大きくなり、評価装置にかからなくなった
り、また記録・再生・消去ができなくなることもあっ
た。即ち、積層膜は圧縮応力を有し、光記録媒体は積層
膜が付いている側を上にして凸状に変形してしまう。

また、記録層及び無機誘電体保護層の成膜時の基板の温
度上昇を抑え積層膜の応力を小さくした場合、反り及び
スキューは減少するが、積層膜の膜質の劣化、例えば無
機誘電体薄膜の膜割れや膜の剥離が生じ易く、記録層の
腐食等が発生し耐久性に劣るという問題点があった。

一方、積層膜の応力を打ち消す様な高い応力を有する樹
脂硬化膜は脆く、可撓性に欠けるため光記録媒体の保護
層としては用いることができなかった。

但し、ここで反りとは第２図に示す様に光記録媒体の径
方向の変形を意味し、スキューは光記録媒体の円周方向
の変形を意味する。

更に、光記録媒体の記録層として光磁気記録層、例えば
GdTb,TbFe,GdTbFe等の非晶質磁気記録層を用いて、その
上にSi₃N₄等の無機誘電体保護層を形成し、更にその上
に従来の放射線硬化型化合物を用いたオーバーコート層
を形成した場合、架橋密度が低く、ゲル分率が低いため
該放射線硬化型化合物中に残存するアクリル酸，アクリ
ル酸エステル類，及び環境耐久試験の高湿度雰囲気下で
のアクリレート基の加水分解により発生する有機酸等に
より、該記録層の孔食、即ち希土類−遷移金属合金の劣
化として、遷移金属もイオン化することによる全成分の
溶解が発生し、環境耐久試験後の光記録媒体のビットエ
ラーレート（B.E.R）の増加およびC/N値の劣化という問
題点もあった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、反り及びスキューの減少した光記録媒
体を提供するものである。

又、本発明の目的は、ビットエラーレート（B.E.R）が
減少した、C/N値の劣化しない長期信頼性を維持する光
記録媒体を提供するものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明の光記録媒体は、基板上に記録層と無機誘電体保
護層の積層膜及び樹脂保護層を有する光記録媒体に於
て、前記樹脂保護層が官能基を５つ以上有する多官能ア
クリレート化合物（Ａ）を60重量％以上及びウレタンア
クリレート化合物（Ｂ）を10重量％以下含有することを
特徴とするものである。

即ち、本発明によれば、樹脂保護層は多官能アクリレー
ト化合物を60重量％以上含有するため光や電子線の照射
による重合により、架橋密度が高く緻密な膜が得られる
ため、高い引っ張り応力を有し、且つ吸湿性や透湿性が
小さくなり、又ウレタンアクリレート化合物を10重量％
以下含有させることにより、可撓性を付与できるためス
キューや反りが減少し、且つB.E.Rの減少したC/N値の劣
化しない長期信頼性を維持する光記録媒体を得たもので
ある。

次に、本発明を図面を用いて詳細に説明する。

第１図は本発明の光記録媒体の一実施態様を示す模式的
断面図である。同第１図において、１は樹脂基板、２及
び４は無機誘電体保護層、３は記録層、５は樹脂保護層
で、６は記録層３及び無機誘電体保護層2,4を含む積層
膜を表す。

本発明において、樹脂保護層５は５官能以上の多官能ア
クリレート化合物（Ａ）を60重量％以上、特に75重量％
以上、更には85重量％以上含有することが好ましい。ま
た、ウレタンアクリレート化合物（Ｂ）を10重量％以
下、特に２〜８重量％含有することが望ましい。

即ち、前記多官能アクリレート化合物（Ａ）を60重量％
以上用いることにより、多官能アクリレート化合物
（Ａ）を60重量％未満含有するものと比較して、架橋密
度が高いために応力が大きく、積層膜６の応力とバラン
スさせることができる。又、膜が緻密で透湿性も抑える
ことができ、硬度が高いため表面の傷付きを防止でき
る。

更に、本発明の樹脂硬化膜はゲル分率が高く、未反応モ
ノマーが少ないため記録層の孔食等の発生が抑えられ
る。

又、ウレタンアクリレート化合物（Ｂ）を10重量％以下
配合することで、多官能アクリレート化合物（Ａ）の配
合率を高めたことによって低下する樹脂保護膜の可撓性
を維持することができる。特に、ウレタンアクリレート
化合物は他の可撓性を付与する化合物、例えばエポキシ
アクリレート，ポリエステルアクリレート，ポリエーテ
ルアクリレート等に比べ硬化時のアクリル酸の残留がな
く、且つ吸湿性が小さく耐熱性が大きいため本発明の樹
脂保護層に非常に好適に用いられる。

本発明の用いられる５官能以上の多官能アクリレート化
合物（Ａ）としては、例えばジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート，ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート，ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレ
ート，ジペンタエリスリトールヘキサ（ω−アクリロイ
ロキシ−ε−カプロエート），ジペンタエリスリトール
ヘキサ（ω−メタアクリロイロキシ−ε−カプロエー
ト）等が挙げられ、これらを単独又は混合して用いるこ
とができる。これらのうち、特に応力を高くでき、又架
橋密度を高くできるという点でジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレートが好ましい。

次に、本発明に用いられるウレタンアクリレート化合物
（Ｂ）は、例えばカーボネートジオール（平均分子量50
0〜5000）とエプシロンカプロラクトンとの反応によっ
て得られる付加縮合物（Ｉ）と有機ポリイソシアネート
（II）をウレタン化し、次いでヒドロキシアクリレート
化合物（III）でアクリレート化することによって製造
することができる。

本発明におけるウレタンアクリレート化合物の原料であ
るカーボネートジオールは、例えば次のようにして製造
することができる。即ち、カーボネート誘導体、例えば
ジフェニルカーボネート，ビスクロロフェニルカーボネ
ート，ジナフチルカーボネート，フェニル−トルイル−
カーボネート，フェニル−クロロフェニル−カーボネー
ト,2−トリル−４−トリル−カーボネート，ジメチルカ
ーボネート，ジエチルカーボネート等のジアリールカー
ボネート又はジアルキルカーボネートとジオール類、例
えば1,6−ヘキサンジオール，ネオペンチルグリコール,
1,4−ブタンジオール,1,8−オクタンジオール,1,4−ビ
ス−（ヒドロキシメチル）−シクロヘキサン,2−メチル
プロパンジオール，ジプロピレングリコール，ジブチレ
ングリコール又は上記のジオール化合物とシュウ酸，マ
ロン酸，コハク酸，アジピン酸，アゼライン酸，ヘキサ
ヒドロフタル酸等のジカルボン酸の反応生成物であるポ
リエステルジオール等とのエステル交換反応によって得
ることができる。このようにして得られるカーボネート
ジオールは分子中にカーボネート構造を一つ持つモノカ
ーボネートジオール又は分子中にカーボネート構造を二
つ以上持つポリカーボネートジオールであり、市場より
容易に入手することができる。例えば、デスモフェン20
20E（住友バイエル（株）製）、DN-980（日本ポリウレ
タン（株）製）、DN-981（日本ポリウレタン（株）
製）、DN-982（日本ポリウレタン（株）製）、DN-983
（日本ポリウレタン（株）製）等が挙げられる。

カーボネートジオールとエプシロンカプロラクトンとの
反応は、例えば次のようにして行なわれる。カーボネー
トジオールとエプシロンカプロラクトンとの反応におい
て、好ましくは触媒的有効量の触媒を使用する。その使
用量は、エプシロンカプロラクトンの重量を基準にし
て、好ましくは0.001〜1.0重量％、特に好ましくは0.01
〜0.02重量％である。それら有用な触媒例としては、テ
トライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート
等の有機チタン化合物、テトラフェニルすず、テトラオ
クチルすず等のすず化合物などを挙げることができる。
カーボネートジオールとエプシロンカプロラクトンの反
応は110〜200℃の温度において仕込み、反応時間は反応
が完結するのに十分な時間行なう。また、反応に仕込む
エプシロンカプロラクトンの量は、カーボネートジオー
ル１モル当り、好ましくは１〜５モルである。酸化副反
応を最小限にするために、反応は窒素等の不活性ガス雰
囲気下において行うことが好ましい。反応によって得ら
れるカーボネートジオールとエプシロンカプロラクトン
との付加縮合物の混合物からなる生成物をそのまま次の
反応に利用できる。

本発明に用いるウレタンアクリレート化合物において、
エプシロンカプロラクトンの平均付加量は１〜５モルで
あるのが好ましい。

次に、本発明において用いられる有機ポリイソシアネー
ト（II）の例としては、イソホロンジイソシアネート，
ヘキサメチレンジイソシアネート，トリレンジイソシア
ネート，キシリレンジイソシアネート，ジフェニルメタ
ン−4,4′−ジイソシアネート，リジンジイソシアネー
ト，ダイアー酸ジイソシアネート等が挙げられる。前記
付加縮合物（Ｉ）と有機ポリイリシアネート（II）をウ
レタン化する反応において、反応温度は50〜80℃が好ま
しい。

また、ヒドロキシアクリレート化合物（III）の例とし
ては、ヒドロキシエチルアクリレート，ヒドロキシプロ
ピルアクリレート等が挙げられる。アクリレート化反応
においては、ヒドロキシアクリレート化合物（III）を
前記ウレタン化反応で得られた末端イソシアネート基を
アクリレート化するのに必要な量、又はそのわずかに過
剰量を使用することができる。この反応は、イソシアネ
ート基と水酸基との反応を促進させるために、第３級ア
ミン，ジブチルスズジラウレート，ジオクチルスズジラ
ウレート等の公知の触媒の存在下において行うことがで
きる。又、反応中のラジカル重合によるゲル化を防ぐた
めに、反応前に50〜2000ppmのハイドロキノン，ハイド
ロキノンモノメチルエーテル，メチルハイドロキノン,p
−ベンゾキノン，フェノチアジン等の重合禁止剤を添加
しておくことが好ましい。反応温度は60〜90℃が好まし
い。

また、本発明の樹脂保護層には、多官能アクリレート化
合物（Ａ）、ウレタンアクリレート化合物（Ｂ）以外に
光重合開始剤を含有するのが好ましい。

光重合開始剤としては、紫外光を吸収し、ラジカルを発
生するタイプの化合物ならば特に制限はなく広範囲のも
のを使用することができる。代表的なものとしては、ｐ
−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン,2,2′−ジエ
トキシアセトフェノン,2−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン類；
ベンゾフェノン，ミヒラーケトン,2−クロロチオキサン
トン,2−イソプロピンチオキサントン等のケトン類：ベ
ンゾインならびにベンゾインイソプロピルエーテル等の
ベンゾインエーテル類：ベンジルならびにベンジルジメ
チルケタール，ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン等のベンジルケタール類等が挙げられる。

これらの光重合開始剤は単独又は２種以上を混合して用
いることができる。また、光重合開始剤の添加量は0.1
〜10重量％、特に１〜５重量％の範囲が好ましい。

更に、本発明の樹脂保護層には、上記の光重合開始剤に
加えて性能改良の為に、本来の特性を変えない範囲で、
シランカップリング剤，重合禁止剤，レベリング剤等を
添加することができる。これらの使用量は各々、樹脂保
護層の０〜５重量％の範囲が好ましい。

又、他の４官能以下の重合性モノマー（例えば、TMPTA,
MANDA）も添加することができるが、その添加量は積層
膜の腐食防止のため０〜30重量％、特に０〜15重量％が
好ましい。

本発明の光記録媒体の樹脂保護層の厚さとしては２〜20
μｍ以下、特に５〜15μｍが好ましい。即ち20μｍをこ
えると樹脂保護層の硬化収縮により剥離を生じ、又２μ
ｍ未満では外部からの傷に対する積層膜６の保護機能が
十分でない為である。

又、本発明の樹脂保護層の形成は、例えばスピンコータ
ー，ロールコーター，バーコーター等により塗布して紫
外線を照射して硬化させることによって得ることができ
る。又、樹脂保護層の硬化は紫外線照射の代りに電子線
の照射で行なうこともできる。

更に、本発明の樹脂保護層は媒体の反りを防止するた
め、2.5〜5.5kg/mm²、特に３〜5kg/mm²の引っ張り応力
を有することが好ましい。

次に、本発明において、記録層に用いられる材料として
は、無機材料が好ましく、例えばTbCo,GdTeCo,GdFeCo,G
dTbFeCo等の非晶質磁気記録材料やBi,Al、更にSe,Te等
のカルコゲン系化合物やこれらの合金等が挙げられ、又
これらを積層してもよい。記録層の膜厚は200〜1000
Å、特に500〜900Åが好ましい。又、本発明に於て、記
録層は情報を書き込まず、予め記録された情報を再生す
るための読出し光の反射層であってもよい。

また、無機誘電体保護層2,4はSi₃N₄,SiO_x,ZnS,SiC等が
用いられる。この無機誘電体保護層は少なくとも記録層
の片面に設けられるが、記録層を十分に保護するために
記録層の両面に設けるのが特に好ましい。

又、この無機電体保護層の厚さとしては400〜1000Å、
特に450〜750Åが好ましい。又これらの積層膜６は真空
堆積法（例えば、蒸着やスパッタ等）で形成するのが膜
の均一性の点で好ましい。

本発明において、記録層３および無機誘電体保護層2,4
からなる積層膜６の応力は、積層膜の割れや剥離及び媒
体の変形を防止するために15〜55kg/mm²、特に20〜50kg
/mm²の範囲にあるように形成するのが好ましい。

又、これらの積層膜はスパッタリング，蒸着等によって
形成され、積層膜６の応力は、例えばスパッタ圧や投入
パワー、ターゲット基板の配置方法等によって制御する
ことができる。

次に、本発明における樹脂基板１としてはアクリル樹
脂，ポリカーボネート樹脂，ポリスチレン樹脂，ポリオ
レフィン樹脂等が用いられる。

樹脂基板の厚さとしては、樹脂基板表面に付着したゴミ
が情報の記録及び／又は再生に支障のない厚さとするの
が好ましく、例えば0.3〜5mm、特に0.8〜1.5mm程度が好
ましい。

［実施例］ 以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明する。

実施例１ 第１図に示すように、案内溝およびプリフォーマット信
号を有する厚さ1.2mmのポリカーボネート樹脂基板１上
にスパッタリング（スパッタ圧0.2pa、投入パワー500
W）により層厚500ÅのSi₃N₄層２を成膜し、その上に層
厚400Åの非晶質GdTb層、層厚400Åの非晶質TbFe層をス
パッタ圧0.3paでスパッタリングして積層して磁気記録
層３を設け、さらに層厚700ÅのSiN層４をスパッタ圧0.
2pa、投入パワー500Wで成膜した。次に、以下の組成の
ウレタンアクリレート系の紫外線硬化樹脂をスピンコー
ト（4000r.p.m.、７秒間）し、層厚７μｍの樹脂層を作
成した後、UVランプ７（照射面上233mW/cm、波長365n
m）を７秒間照射して樹脂を硬化させ、樹脂保護層５を
形成し、光学的記録媒体を得た。

組成 （Ａ）カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（６官能） 85重量％ （商品名 KAYARAD DPCA-30、日本化薬（株）製） （Ｂ）ウレタンアクリレート 10重量％ （商品名 アロニックスM-1100、東亜合成化学（株）
製） （Ｃ）光重合開始剤 ５重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） 実施例２〜５ 樹脂保護層として、下記の組成のものを用いた他は実施
例１と同様にして光記録媒体を作成した。

実施例２の組成 （Ａ）ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタア
クリレート（５官能） 90重量％ （商品名 SR-399、サートマー社製） （Ｂ）ウレタンアクリレート ５重量％ （商品名 アロニックスM-1100、東亜合成化学（株）
製） （Ｃ）光重合開始剤 ５重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） 実施例３の組成 （Ａ）アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート（５官能） 94重量％ （商品名 KAYARAD D-310、日本化薬（株）製） （Ｂ）ウレタンアクリレート ４重量％ （商品名 アートレジンUN-9000、根上工業（株）製） （Ｃ）光重合開始剤 ２重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） 実施例４の組成 （Ａ）アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート 62重量％ （商品名 D-310、日本化薬（株）製） （Ｂ）ウレタンアクリレート ４重量％ （商品名 アロニックスM-1100、東亜合成化学（株）
製） （Ｃ）光重合開始剤 ５重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） TMPTA 15重量％ （商品名 KAYARAD-TMPTA、日本化薬（株）製） MANDA 14重量％ （商品名 KAYARAD-MANDA、日本化薬（株）製） 実施例５の組成 （Ａ）ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタア
クリレート 75重量％ （商品名 SR-399、サートマー社製） （Ｂ）ウレタンアクリレート ６重量％ （商品名 アートレジンUN-9000、根上工業（株）製） （Ｃ）光重合開始剤 ５重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） MANDA 14重量％ （商品名 KAYARAD-MANDA、日本化薬（株）製） 比較例１ 樹脂保護層として以下の組成のものを用いた他は実施例
１と同様にして光記録媒体を作成した。

組成 ・ネオペンチルグリールジアクリレート（２官能）40重
量％ （商品名 KAYARAD-NPGDA、日本化薬（株）製） ・TMPTA（３官能） 40重量％ （商品名 KAYARAD-TMPTA、日本化薬（株）製） ・ジシクロペンテニルアクリレート 10重量％ （商品名 FA-57A、日立化成（株）製） ・光重合開始剤 10重量％ （商品名 カヤキュアBP、日本化薬（株）製） 比較例２〜５ 樹脂保護層として以下の組成のものを用いた他は実施例
１と同様にして光記録媒体を作成した。

比較例２の組成 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官
能） 50重量％ （商品名 DPCA-60、日本化薬（株）製） ・ジシクロペンテニルアクリレート（１官能）40重量％ ・ウレタンアクリレート ５重量％ （商品名 アロニックスM-1100、東亜合成化学（株）
製） ・光重合開始剤 ５重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） 比較例３の組成 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官
能） 90重量％ （商品名 DPCA-30、日本化薬（株）製） ・TMPTA（３官能） ５重量％ （商品名 KAYARAD-TMPTA、日本化薬（株）製） ・光重合開始剤 ５重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） 比較例４の組成 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官
能） 40重量％ （商品名 DPCA-60、日本化薬（株）製） ・ウレタンアクリレート 20重量％ （商品名 アロニックスM-1100、東亜合成化学（株）
製） ・TMPTA 35重量％ （商品名 KAYARAD-TMPTA、日本化薬（株）製） ・光重合開始剤 ５重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） 比較例５の組成 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート85重量％ （商品名 DPCA-30、日本化薬（株）製） ・ビスフェノールＡジグリシジルエーテル 10重量％ （商品名 エピコート828、油化シェル（株）製） ・光重合開始剤 ５重量％ （商品名 IRG-184、日本チバガイギー社製） 上記実施例１〜５、比較例１〜５で作成した光記録媒体
について、初期及び環境耐久試験（70℃,90％R.H.,2000
時間）後のC/N値及びB.E.R（ビットエラーレート）を測
定した。

但し、測定には光磁気記録再生測定評価機（商品名OS-2
000,ナカミチ（株）製）を用いて、回転数1800rpmで5MH
z信号を記録再生し、再生レーザーパワー5mWで行なっ
た。

更に、各々の光記録媒体の反り、スキュー及び樹脂保護
層と積層膜の応力について測定した。以上の結果を表‐
１に示す。

表‐１に示すように、実施例１〜５では光記録媒体の反
り及びスキューが初期においても改善され、又耐久試験
後もほとんど反り及びスキューの増加はみられなかっ
た。更に、耐久試験後の光記録媒体の積層膜には孔食は
発生せず、C/N値はほとんど低下がみられず、またB.E.R
も増加しなかった。

一方、比較例1,2及び４では光記録媒体の反り、スキュ
ーは初期から大きく、耐久後はそれがより増大し、記録
・再生も困難であった。又、残留モノマー成分等による
記録膜の腐食、孔食により、C/N値、B.E.R共に劣化を示
した。更に、比較例3,5では光記録媒体の反り及びスキ
ューは改善されたが、樹脂保護層の膜割れが生じ、積層
膜に腐食が発生してC/N値及びB.E.Rが劣化した。

なお、本発明において、樹脂保護層の応力は以下の方法
により測定した。即ち、シリコンディスク基板上に樹脂
保護層の樹脂硬化膜を所定の厚さ（５〜８μｍ）に形成
し、このとき第３図に示した反り量ｄより、下式（１）
に従って応力の値を得た。なお、測定装置としてストレ
スゲージ（アイオニックシステムズ社製）を用いた。

Es:シリコン基板のヤング率 υ：シリコン基板のポアッソン比 Ts:シリコン基板の厚さ Tf:樹脂硬化膜の厚さ γ：シリコン基板の半径 σ：樹脂硬化膜の応力 また、積層膜６の応力は以下の方法により測定した。即
ち、積層膜６の応力（σ′）は下式（２）で求められ
る。

σ′＝Eb²/6（1-ν）γｄ ‥‥（２） E :基板のヤング率 ν：基板のポアッソン比 γ：基板の曲率半径 d :膜厚 b :基板の厚さ いま、積層膜６を形成した樹脂基板の変形、即ちニュー
トンリングの本数を、第４図に示すザイゴの干渉計で測
定した時のニュートンリングの本数をｍとすれば、基板
の曲率半径γは次式（３）で求められる。

γ＝a²/mλ ‥‥（３） a :基板の半径 λ：ザイゴ干渉計使用光源の波長 そこで、γの値を（２）式に代入して積層膜６の応力
σ′が得られる。

また、反り及びスキューの測定にはフラットネステスタ
ー（商品名 KS-916、安立電気（株）製）を用いた。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、樹脂保護層の残
留モノマー等による積層膜の孔食の発生がなく、又C/N
値も劣化せず、更に反りやスキューの減少した長期間信
頼性を維持することができる光記録媒体を得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体の一実施態様を示す模式的
断面図、第２図は光記録媒体の反りの状態を示す説明
図、第３図は樹脂保護層の応力の測定方法を示す説明図
および第４図は積層膜の応力の測定方法を示す説明図で
ある。 １……樹脂基板 2,4……無機誘電体保護膜 ３……記録層 ５……樹脂保護層 ６……積層膜 ７……UVランプ ８……光記録媒体 ９……樹脂硬化膜 10……シリコン基板 11……ストレスゲージ 12……光源 13……レンズ 14……フィルター 15……カメラ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に記録層と無機誘電体保護層の積層
   膜及び樹脂保護層を有する光記録媒体に於て、前記樹脂
   保護層が官能基を５つ以上有する多官能アクリレート化
   合物（Ａ）を60重量％以上及びウレタンアクリレート化
   合物（Ｂ）を10重量％以下含有することを特徴とする光
   記録媒体。