JPH07108230A - 転がり軸受の洗浄装置 - Google Patents

転がり軸受の洗浄装置

Info

Publication number
JPH07108230A
JPH07108230A JP25275693A JP25275693A JPH07108230A JP H07108230 A JPH07108230 A JP H07108230A JP 25275693 A JP25275693 A JP 25275693A JP 25275693 A JP25275693 A JP 25275693A JP H07108230 A JPH07108230 A JP H07108230A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
bearing
liquid
inner ring
outer ring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP25275693A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Yoshida
和男 吉田
Takashi Hirano
隆 平野
Takeshi Douku
健 道工
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Zosen Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP25275693A priority Critical patent/JPH07108230A/ja
Publication of JPH07108230A publication Critical patent/JPH07108230A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 軸受の転動体と内外輪の隙間に付着している
ゴミや油分を完全に取り除き、しかも錆の発生を防止す
るように軸受を洗浄する。 【構成】 軸受1の外輪11を、ロアケース31とアッパケ
ース32とで挟み付けて固定状に保持する。内輪12を回転
伝導体43により回転させるとともに、アッパケース32の
頂壁34の噴射口71,72 から洗浄用液体、すすぎ用液体お
よび乾燥用気体を順次噴射させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、軸受製造工場におい
て、転がり軸受を洗浄する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の装置としては、複数の軸受を入
れる洗浄籠と称される容器と、フロン・トリクロロエタ
ン等の有機溶剤を貯留した洗浄槽と、容器を洗浄槽に浸
漬させる浸漬手段と、洗浄槽に浸漬された容器を揺動さ
せるか、超音波を印加させる手段とよりなるものが知ら
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】フロン・トリクロロエ
タン等の有機溶剤の規制にともない、洗浄用液体とし
て、有機溶剤を用いることができなくなってきている。
【0004】有機溶剤に代わり、純水または水系洗剤を
洗浄用液体として用いることが考慮されているが、純水
または水系洗剤は、有機溶剤と比較すると、溶解力に劣
るため、軸受の転動体と内外輪の隙間に付着しているゴ
ミや油分を完全に取り除くことができなかった。また、
純水または水系洗剤を洗浄用液体として用いると、洗浄
後に、転動面や軌道面に錆が発生する恐れがあった。
【0005】この発明の目的は、軸受の転動体と内外輪
の隙間に付着しているゴミや油分を完全に取り除くこと
ができ、しかも錆の発生を防止することができる転がり
軸受の洗浄装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明による転がり軸
受の洗浄装置は、外輪および内輪のいずれか一方を固定
状に保持する保持手段と、同他方を回転させる回転手段
と、洗浄用液体、すすぎ用液体および乾燥用気体のう
ち、少なくとも洗浄用液体および乾燥用気体を、順次、
外輪と内輪の間に噴射させる噴射手段とを備えているも
のである。
【0007】上記において、超音波による洗浄を行う予
備洗浄手段が備えられることがある。
【0008】洗浄用液体として、水系洗剤、純水、逆浸
透膜透過水等が挙げられる。
【0009】洗浄用液体として、純水または逆浸透膜透
過水を用いる場合、すすぎ用液体を用いる必要がない。
【0010】乾燥用気体としては、空気または窒素等の
不活性ガスが挙げられる。
【0011】
【作用】この発明による転がり軸受の洗浄装置では、外
輪および内輪のいずれか一方を固定状に保持した状態で
内輪を回転させながら、外輪と内輪の間に、洗浄用液
体、すすぎ用液体および乾燥用気体が順次噴射される
と、洗浄用液体によって軸受の転動体と内外輪の隙間に
付着している切粉やほこり等のゴミや油分がむらなく取
り除かれ、すすぎ用液体によって軸受に付着している洗
浄用液体が洗い落とされ、乾燥用気体によって軸受に付
着しているすすぎ用液体が乾燥される。
【0012】超音波による洗浄を行う予備洗浄手段が備
えられているものでは、予備洗浄により油分が除去さ
れ、洗浄用液体が噴射されると、切粉やほこり等のゴミ
が容易に洗い流される。
【0013】洗浄用液体として、純水または逆浸透膜透
過水を用いる場合、洗浄用液体による洗浄の後、洗浄用
液体がすすぎ用液体で洗い落とされることなく、乾燥用
気体によって軸受に付着している洗浄用液体が乾燥され
る。
【0014】
【実施例】この発明の実施例を、図面を参照してつぎに
説明する。
【0015】図1を参照すると、転がり軸受1およびこ
れを洗浄するための洗浄装置2の第1実施例が示されて
いる。
【0016】転がり軸受1は、外輪11、内輪12および転
動体13よりなる。
【0017】洗浄装置2は、転がり軸受1を水平にした
状態でその外輪11を固定状に保持する保持手段21と、内
輪12を回転させる回転手段22と、外輪11と内輪12の間に
洗浄用液体、すすぎ用液体および乾燥用気体のいずれか
を噴射する噴射手段23と、搬送装置24とを備えている。
【0018】保持手段21は、断面略U字状ロアケース31
と、断面略逆U字状アッパケース32とよりなる。ロアケ
ース31の内面上端部には大径部33が設けられており、こ
れに、外輪11がその上部をロアケース31から上方に突出
させるようにはめ込まれている。アッパケース32は、ク
レーン51により上下させられるもので、ロアケース31の
外径より若干小さい外径を有する平坦な円形状頂壁34お
よび垂下周壁35よりなる。ロアケース31底壁の中央部に
は、流体流出口36が設けられている。
【0019】回転手段22は、クレーン51によりアッパケ
ース32と共に上下させられるモータ41と、アッパケース
32の頂壁34の中央部を貫通し下方にのびるモータシャフ
ト42と、モータシャフト42下端に取り付けられ垂直軸回
りに回転する回転伝導体43とよりなる。回転伝導体43
は、下面の径が内輪の内径より小さくかつ上面の径が内
輪の内径より大きい円錐台である。
【0020】アッパケース32下降時には、垂下周壁35の
下端部が外輪11の上面に当接して、内輪11および転動体
13が回転可能な状態で外輪11が固定状に保持されるると
ともに、回転伝導体43の側面が内輪12の上端内側部分に
押し付けられる。
【0021】噴射手段23は、アッパケース32の頂壁34を
貫通して設けられた内外噴射口71,72と、内外噴射口7
1,72に連通する流体供給管73と、流体供給管73の開閉
弁74とよりなる。図2を参照すると、内外噴射口71,72
はアッパケース32の頂壁34の中心と同心の2つの円周上
に4つずつ等間隔で設けられているもので、内外円周の
直径は外輪11および内輪12の軌道面の直径とそれぞれ一
致させられている。また、内外噴射口71,72の位置は内
外で45度ずつずれている。
【0022】図3は、図1に示す洗浄装置2を3基連続
して配置することにより、洗浄、すすぎおよび乾燥工程
を連続して行うことができるようにした場合の連続洗浄
装置を側面より見たもので、洗浄装置2は、右から順に
洗浄用2A、すすぎ用2Bおよび乾燥用2Cに使用される。各
装置2A,2B,2Cの構成はすべて同じであり、工程に応じ
て、流体供給管73には、洗浄用液体、すすぎ用液体およ
び乾燥用気体のうちのいずれかが供給される。
【0023】この実施例では、アッパケース32、回転伝
導体43およびクレーン51は、各工程ごとに固定して設け
られている。搬送装置24は、レール61と、レール61上を
間欠駆動されて進行する6台の台車62とよりなる。ロア
ケース31は、各台車62上にそれぞれ固定されている。レ
ール61は上下両面に搬送部63,64 が設けられてエンドレ
スとなされている。台車62が上面搬送部63を搬送される
間に、軸受1のセット、洗浄、すすぎ、乾燥および取出
しが行われ、軸受1が取り出された後の台車62は、下面
搬送部64を逆向きに搬送されて軸受1のセット位置に戻
される。
【0024】ロアケース31にセットされた軸受1は、搬
送装置24によりまず洗浄用装置2Aに送られる。ここでク
レーン51によりアッパケース32が下降させられ、回転伝
導体43が軸受2の内輪12に押し付けられ、適当な力にな
ったところで下降が停止させられる。次にモータ41によ
り回転伝導体43が回転させられ、内輪12が回転し始め
る。ここで内外噴射口71,72 より洗浄用液体が外輪11と
内輪12の隙間に噴射される。内輪12が回転させられ、さ
らに洗浄用液体が転動体13と衝突してこれを転動させる
ことにより、外輪11および内輪12の軌道面と、転動体13
の転動面との接触面が順次移動し、同軌道面および転動
面の洗浄が効果的に行われる。洗浄後の洗浄用液体は流
体流出口36よりロアケース31外に排出される。軸受1に
付着している油分の性質を考慮して決定された洗浄時間
が経過すると、洗浄用液体の噴射が終り、クレーン51に
よりアッパケース32が上昇させられ、軸受1は搬送装置
24により次のすすぎ用装置2Bに送られる。ここで、洗浄
工程と同様の方法により、すすぎ用液体が噴射された
後、軸受1は乾燥用装置2Cに送られる。ここでも、洗浄
工程と同様の方法により、乾燥用気体が噴射される。こ
れで一連の洗浄プロセスが終了し、軸受1は洗浄装置か
ら取り除かれる。軸受1が取り除かれたロアケース31は
洗浄装置2のレール61の上面搬送部63の終端部でひっく
り返り、レール61の下面搬送部64を搬送され、下面搬送
部64の終端部でもう一度ひっくり返って、上面搬送部63
の軸受1 セット位置に戻る。
【0025】洗浄、すすぎおよび乾燥の一連の作業は、
上記のように連続して行われるため、軸受1 に錆の発生
する心配は無い。
【0026】図4から図6までに、洗浄装置の第2実施
例が示されている。この実施例の洗浄装置3は、転がり
軸受1を水平にした状態でその内輪12を固定状に保持す
る保持手段25と、外輪11を回転させる回転手段26と、外
輪11と内輪12の間に洗浄用液体、すすぎ用液体および乾
燥用気体のいずれかを噴射する噴射手段27と、搬送装置
28とを備えている。
【0027】保持手段25は、内輪12の下面を支持する円
盤状の支持台81と、支持台81上面に内輪12の中心軸に対
して対称にかつ径方向移動自在に設けられた一対の内輪
固定腕82とよりなる。内輪固定腕82は、内輪12内周面
(反軌道面)に当接させられる垂直部83と、垂直部83上
端より内方にのびて内輪12の上面に接する水平部84とよ
りなる。
【0028】回転手段26は、外輪11の外側に配置され垂
直軸回りに回転させられる回転伝導体91と、径方向に移
動自在な回転伝導体支持体92とを備えており、回転伝導
体支持体92が径方向内方に移動させられて回転伝導体91
が外輪11の外周面に圧接された後、回転伝導体91が回転
させられることにより、外輪11が回転させられる。
【0029】噴射手段27は、クレーン51により上下させ
られるアッパケース101 と、アッパケース101 の頂壁10
2 を貫通して設けられた内外噴射口71,72と、内外噴射
口71,72に連通する流体供給管73と、流体供給管73の開
閉弁74とよりなる。図5を参照すると、内外噴射口71,
72はアッパケース101 の頂壁102 の中心と同心の2つの
円周上に4つずつ等間隔で設けられているもので、内外
円周の直径は外輪11および内輪12の軌道面の直径とそれ
ぞれ一致させられている。また、内外噴射口71,72の位
置は内外で45度ずつずれている。
【0030】図6は、図4に示す洗浄装置3を3基連続
して配置することにより、洗浄、すすぎおよび乾燥工程
を連続して行うことができるようにした場合の連続洗浄
装置を側面より見たもので、右から順に洗浄用3A、すす
ぎ用3Bおよび乾燥用3Cに使用される。各装置3A,3B,3Cの
構成はすべて同じであり、流体供給管73からは、工程に
応じて、洗浄用液体、すすぎ用液体および乾燥用気体の
うちのいずれかが供給される。
【0031】この実施例では、アッパケース101 、回転
伝導体91およびクレーン51は、各工程ごとに固定して設
けられている。搬送装置28は、レール61と、レール61上
を間欠駆動されて進行する6台の台車62とよりなる。支
持台81は、各台車62上にそれぞれ固定されている。レー
ル61は上下両面に搬送部63,64 が設けられてエンドレス
となされている。台車62が上面搬送部63を搬送される間
に、軸受1のセット、洗浄、すすぎ、乾燥および取出し
が行われ、軸受1が取り出された後の台車62は、下面搬
送部64を逆向きに搬送されて軸受1のセット位置に戻さ
れる。
【0032】支持台81にセットされた軸受1は、搬送装
置28によりまず洗浄装置3Aに送られる。ここでクレーン
51によりアッパケース101 が下降させられ、軸受1すれ
すれのところで下降が停止させられる。次に回転伝導体
支持体92が径方向内方に移動させられて回転伝導体91が
外輪11の外周面に圧接される。次いで回転伝導体91が回
転させられて外輪11が回転させられる。ここで内外噴射
口71,72 より洗浄用液体が外輪11と内輪12の隙間に噴射
される。外輪11が回転させられ、さらに洗浄用液体が転
動体13と衝突してこれを転動させることにより、外輪11
および内輪12の軌道面と、転動体13の転動面との接触面
が順次移動し、同軌道面および転動面の洗浄が効果的に
行われる。軸受1に付着している油分の性質を考慮して
決定された洗浄時間が経過すると、洗浄用液体の噴射が
終り、クレーン51によりアッパケース101 が上昇させら
れ、軸受1は搬送装置28により次のすすぎ装置3Bに送ら
れる。ここで、洗浄工程と同様の方法により、すすぎ用
液体が噴射された後、軸受1は最終工程の乾燥工程に送
られる。ここでも、洗浄工程と同様の方法により、乾燥
用気体が噴射される。これで一連の洗浄プロセスが終了
し、軸受1は洗浄装置から取り除かれる。軸受1が取り
除かれた支持台81はレール61の上面搬送部63の終端部で
ひっくり返り、レール61の下面搬送部64を搬送され、下
面搬送部64の終端部でもう一度ひっくり返って、上面搬
送部63の軸受1 セット位置に戻る。
【0033】洗浄、すすぎおよび乾燥の一連の作業は、
上記のように連続して行われるため、錆の発生する心配
は無い。
【0034】上記実施例において、アッパケース32,10
1、ロウアケース31および支持台81の数は、洗浄装置の
処理能力により決定される。また、連続的に洗浄する場
合の搬送装置24,28 の構成については、上記のものに限
られるものではない。
【0035】次に純水を使用する連続洗浄の1実施例を
示す。
【0036】図7に示す連続洗浄装置は、噴射洗浄を行
う洗浄装置2Aの前流に予備洗浄を行う装置が設けられて
いる点と、すすぎを行う洗浄装置2Bが取り除かれている
点とが、図3に示す連続洗浄装置と異なっている。図3
と同じものには同一の符号を付して説明を省略する。
【0037】予備洗浄装置111 は、純水槽112 および純
水槽112 内底部に配置された超音波発信機113 とよりな
り、超音波による予備洗浄を行う。
【0038】ロアケース31にセットされた軸受1は、搬
送装置29によりまず超音波洗浄工程に送られる。軸受1
が純水槽112 内の所定位置までくると、超音波発信機11
3 が作動し、軸受1が純水槽112 内に所定時間滞留する
間に、超音波洗浄が行われる。超音波洗浄後、軸受1は
搬送装置29によりただちに噴射洗浄を行う洗浄装置2Aに
送られる。ここでクレーン51によりアッパケース32が下
降させられ、内外噴射口71,72 より洗浄用純水が外輪11
と内輪12の隙間に噴射される。所定時間純水が噴射され
ると、軸受1は搬送装置29によりただちに乾燥を行う洗
浄装置2Cに送られる。ここで、噴射洗浄と同様の方法に
より、乾燥用気体が噴射される。これで一連の洗浄プロ
セスが終了し、軸受1は連続洗浄装置から取り除かれ
る。
【0039】上記のようにして、超音波洗浄、純水噴射
洗浄および乾燥の一連の作業は連続して行われ、錆の発
生する心配は無い。この実施例では、不純物が含まれて
いない純水を使用しているので、軸受1の表面に不純物
が付着残存することがないし、もちろん環境破壊の心配
もない。また、排水処理が、酸またはアルカリ系の洗浄
液や合成洗剤からなる洗浄液を用いる場合に比べて、簡
単となる。
【0040】
【発明の効果】この発明によれば、外輪を固定状に保持
した状態で内輪を回転させながら、外輪と内輪の間に、
洗浄用液体、すすぎ用液体および乾燥用気体が順次噴射
されると、洗浄用液体によって軸受の転動体と内外輪の
隙間に付着しているゴミや油分がむらなく取り除かれ、
すすぎ用液体によって軸受に付着している洗浄用液体が
洗い落とされ、乾燥用気体によって軸受に付着している
すすぎ用液体が乾燥されるか、洗浄用液体による洗浄の
後、洗浄用液体がすすぎ用液体で洗い落とされることな
く、乾燥用気体によって軸受に付着している洗浄用液体
が乾燥されるから、軸受の転動体と内外輪の隙間に付着
しているゴミや油分を完全に取り除くことができ、しか
も錆の発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明による洗浄装置の垂直縦断面図であ
る。
【図2】図1のIIーIIにそう水平横断面図である。
【図3】図1に示す洗浄装置を連続式とした場合の洗浄
装置の側面図である。
【図4】他の実施例を示す図1相当の断面図である。
【図5】図4のVーV線にそう水平横断面図である。
【図6】図4に示す洗浄装置を連続式とした場合の洗浄
装置の側面図である。
【図7】純水を使用した連続式の洗浄装置の1実施例を
示す側面図である。
【符号の説明】
1 軸受 2、3 洗浄装置 11 外輪 12 内輪 21,25 保持手段 22,26 回転手段 23,27 噴射手段 31 ロアケース 32,101 アッパケース 43,91 回転伝導体 71 内側噴射口 72 外側噴射口 81 支持台

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外輪および内輪のいずれか一方を固定状
    に保持する保持手段と、同他方を回転させる回転手段
    と、洗浄用液体、すすぎ用液体および乾燥用気体のう
    ち、少なくとも洗浄用液体および乾燥用気体を、順次、
    外輪と内輪の間に噴射させる噴射手段とを備えている、
    転がり軸受の洗浄装置。
  2. 【請求項2】 超音波による洗浄を行う予備洗浄手段を
    備えている、請求項1記載の転がり軸受の洗浄装置。
JP25275693A 1993-10-08 1993-10-08 転がり軸受の洗浄装置 Withdrawn JPH07108230A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25275693A JPH07108230A (ja) 1993-10-08 1993-10-08 転がり軸受の洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25275693A JPH07108230A (ja) 1993-10-08 1993-10-08 転がり軸受の洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07108230A true JPH07108230A (ja) 1995-04-25

Family

ID=17241857

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25275693A Withdrawn JPH07108230A (ja) 1993-10-08 1993-10-08 転がり軸受の洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07108230A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6782898B2 (en) 2000-08-15 2004-08-31 Nsk Ltd Ring-shaped part washing method and washing jig used in the method
KR100985262B1 (ko) * 2003-08-04 2010-10-04 주식회사 포스코 롤러베어링의 폐그리스 제거장치
KR101323030B1 (ko) * 2012-11-27 2013-10-29 제일베어링공업(주) 볼 베어링 유닛의 내륜 궤도경 자동 치수 선별기
CN104056802A (zh) * 2014-06-17 2014-09-24 洛阳市人诚轴承配件有限责任公司 一种滚子清洗装置
CN106623178A (zh) * 2016-10-28 2017-05-10 嘉善蓝欣涂料有限公司 一种自动上料轴承清洗装置
CN106799375A (zh) * 2016-12-30 2017-06-06 唐华烨 汽车轴承清洗擦拭装置
CN107115697A (zh) * 2017-05-05 2017-09-01 杭州金知科技有限公司 一种盐业生产中增稠器外壁防腐蚀装置以及方法
CN111659658A (zh) * 2020-04-22 2020-09-15 武汉船用机械有限责任公司 轴承清洗系统
WO2021171491A1 (ja) * 2020-02-27 2021-09-02 株式会社ジャムコ 転がり軸受の洗浄方法および転がり軸受の洗浄装置
JP2022008670A (ja) * 2020-02-27 2022-01-13 株式会社ジャムコ 転がり軸受の洗浄装置
JP2022008671A (ja) * 2020-02-27 2022-01-13 株式会社ジャムコ 転がり軸受の洗浄装置

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6782898B2 (en) 2000-08-15 2004-08-31 Nsk Ltd Ring-shaped part washing method and washing jig used in the method
KR100985262B1 (ko) * 2003-08-04 2010-10-04 주식회사 포스코 롤러베어링의 폐그리스 제거장치
KR101323030B1 (ko) * 2012-11-27 2013-10-29 제일베어링공업(주) 볼 베어링 유닛의 내륜 궤도경 자동 치수 선별기
CN104056802A (zh) * 2014-06-17 2014-09-24 洛阳市人诚轴承配件有限责任公司 一种滚子清洗装置
CN106623178A (zh) * 2016-10-28 2017-05-10 嘉善蓝欣涂料有限公司 一种自动上料轴承清洗装置
CN106799375A (zh) * 2016-12-30 2017-06-06 唐华烨 汽车轴承清洗擦拭装置
CN107115697A (zh) * 2017-05-05 2017-09-01 杭州金知科技有限公司 一种盐业生产中增稠器外壁防腐蚀装置以及方法
WO2021171491A1 (ja) * 2020-02-27 2021-09-02 株式会社ジャムコ 転がり軸受の洗浄方法および転がり軸受の洗浄装置
JP6980118B1 (ja) * 2020-02-27 2021-12-15 株式会社ジャムコ 転がり軸受の洗浄方法
JP2022008670A (ja) * 2020-02-27 2022-01-13 株式会社ジャムコ 転がり軸受の洗浄装置
JP2022008671A (ja) * 2020-02-27 2022-01-13 株式会社ジャムコ 転がり軸受の洗浄装置
US11826795B2 (en) 2020-02-27 2023-11-28 Jamco Corporation Method for cleaning rolling bearing and rolling bearing cleaning device
CN111659658A (zh) * 2020-04-22 2020-09-15 武汉船用机械有限责任公司 轴承清洗系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101190169B1 (ko) 기판처리장치, 연마장치, 무전해 도금장치 및 제어프로그램
KR102090511B1 (ko) 기판 세정 장치
JPH07108230A (ja) 転がり軸受の洗浄装置
CN108499957B (zh) 一种全自动超声波清洗系统
KR20130096185A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US20080173335A1 (en) Semiconductor Wafer Cleaning System
KR101816692B1 (ko) 기판 처리 시스템
KR100901495B1 (ko) 기판 처리 장치 및 그 세정 방법
US10242862B2 (en) Post-CMP hybrid wafer cleaning technique
KR20120083841A (ko) 액 처리 장치 및 액 처리 방법
KR20160003558A (ko) 전지캔 세정 시스템
CN104299930A (zh) 基板清洗机、基板清洗装置、清洗后基板的制造方法及基板处理装置
JPH0414494B2 (ja)
JP2001096245A (ja) 洗浄方法および洗浄装置
US6079073A (en) Washing installation including plural washers
JPH07211689A (ja) ウェーハホルダー
JP2001044106A (ja) ウエット装置
JPH10335283A (ja) 洗浄設備及び洗浄方法
JPH07161670A (ja) ウェーハハンドリング装置
CN100362629C (zh) 半导体晶片的清洗方法
JP2876272B2 (ja) 転がり軸受の洗浄装置
JPH0774133A (ja) 基板処理装置
KR20110064608A (ko) 스핀 스크러버에 의한 반도체 웨이퍼의 세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법
JPH01111338A (ja) 洗浄方法及び洗浄装置
JPH0731941A (ja) 洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20001226