JPH07106675A - エキシマレーザのレーザ媒質の精製方法および装置 - Google Patents
エキシマレーザのレーザ媒質の精製方法および装置Info
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- JPH07106675A JPH07106675A JP24957393A JP24957393A JPH07106675A JP H07106675 A JPH07106675 A JP H07106675A JP 24957393 A JP24957393 A JP 24957393A JP 24957393 A JP24957393 A JP 24957393A JP H07106675 A JPH07106675 A JP H07106675A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザ出力を安定化して長時間の運転を可能
にし、しかも簡単な構成でメンテナンスを容易にするこ
と。 【構成】 エキシマレーザのレーザ放電管からのフッ素
を含むレーザ媒質ガスを、アルカリ土類金属充填管に導
いてＦ2、ＣＦ4、ＨＦ、ＮＦ3を除去し、次にＺｒ系金
属充填管に導いてＮ2、Ｏ2、ＣＯ、Ｈ2Ｏ、ＣＯ2を除去
し、その後、Ｆ2を添加して希ガスを循環再使用する。
にし、しかも簡単な構成でメンテナンスを容易にするこ
と。 【構成】 エキシマレーザのレーザ放電管からのフッ素
を含むレーザ媒質ガスを、アルカリ土類金属充填管に導
いてＦ2、ＣＦ4、ＨＦ、ＮＦ3を除去し、次にＺｒ系金
属充填管に導いてＮ2、Ｏ2、ＣＯ、Ｈ2Ｏ、ＣＯ2を除去
し、その後、Ｆ2を添加して希ガスを循環再使用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フッ素を含むレーザ媒
質ガスを用いるエキシマレーザのレーザ媒質の精製方法
および装置に関する。
質ガスを用いるエキシマレーザのレーザ媒質の精製方法
および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】エキシマレーザは、シリコンウエハへの
紫外線リソグラフィ、ポリイミドフィルムへの微細加
工、およびその紫外線レーザ光を利用した精密部品の製
作などのために用いられる。
紫外線リソグラフィ、ポリイミドフィルムへの微細加
工、およびその紫外線レーザ光を利用した精密部品の製
作などのために用いられる。
【０００３】エキシマレーザを連続発振させると、レー
ザ媒質ガス中のフッ素Ｆ2と電極界壁などとの反応によ
ってＣＦ4などの不純物が精製し、そのクエンチング作
用によってレーザ出力が経時的に低下する。したがって
従来では、ガスを定期的に交換する必要がある。この問
題を解決する先行技術は、特開昭６２−７４４３０に開
示されており、その構成は図６および図７に示される。
この先行技術では、エキシマレーザの発振時間を長くす
るために、連続的にガスを精製し、これによって発振の
安定と、ガスの主成分である希ガス、すなわちＫｒ、Ａ
ｒ、Ｎｅなどの消費量の削減を図ることができる。この
先行技術の図６では、エキシマレーザ発生装置１からの
レーザ媒質ガスは、固体アルカリ充填管２に送入して、
Ｆ2、ＨＣｌ、ＨＦ、ＳｉＦ4など除去し、次にゼオライ
ト充填管３に送入して残余の不純物を吸着し、このガス
に、ガス源４からのＦ2のガスを添加して循環して使用
する。このような図６に示される先行技術は、性能上、
満足のいくものであるけれども、長時間の性能を維持す
るには、ゼオライト充填管３内のゼオライトを、毎日、
３００℃、真空下で脱着して再使用する必要があり、不
便である。
ザ媒質ガス中のフッ素Ｆ2と電極界壁などとの反応によ
ってＣＦ4などの不純物が精製し、そのクエンチング作
用によってレーザ出力が経時的に低下する。したがって
従来では、ガスを定期的に交換する必要がある。この問
題を解決する先行技術は、特開昭６２−７４４３０に開
示されており、その構成は図６および図７に示される。
この先行技術では、エキシマレーザの発振時間を長くす
るために、連続的にガスを精製し、これによって発振の
安定と、ガスの主成分である希ガス、すなわちＫｒ、Ａ
ｒ、Ｎｅなどの消費量の削減を図ることができる。この
先行技術の図６では、エキシマレーザ発生装置１からの
レーザ媒質ガスは、固体アルカリ充填管２に送入して、
Ｆ2、ＨＣｌ、ＨＦ、ＳｉＦ4など除去し、次にゼオライ
ト充填管３に送入して残余の不純物を吸着し、このガス
に、ガス源４からのＦ2のガスを添加して循環して使用
する。このような図６に示される先行技術は、性能上、
満足のいくものであるけれども、長時間の性能を維持す
るには、ゼオライト充填管３内のゼオライトを、毎日、
３００℃、真空下で脱着して再使用する必要があり、不
便である。
【０００４】図７に示される他の先行技術では、エキシ
マレーザ発生装置１からのレーザ媒質ガスは低温トラッ
プ５に導いて、そのガス中の高沸点物質を凝縮して除去
し、低沸点のＦ2、ＨＣｌ、Ｈｅ、Ｎｅなどの主成分物
質は、再びエキシマレーザ発生装置１に戻して循環し、
凝縮分離された高沸点物質は、固体アルカリ充填管２お
よびゼオライト充填管３にこの順序で送入する。
マレーザ発生装置１からのレーザ媒質ガスは低温トラッ
プ５に導いて、そのガス中の高沸点物質を凝縮して除去
し、低沸点のＦ2、ＨＣｌ、Ｈｅ、Ｎｅなどの主成分物
質は、再びエキシマレーザ発生装置１に戻して循環し、
凝縮分離された高沸点物質は、固体アルカリ充填管２お
よびゼオライト充填管３にこの順序で送入する。
【０００５】このような図７に示される先行技術でもま
た、ゼオライト充填管３を用いるので、前述の図６の先
行技術と同様な問題がある。
た、ゼオライト充填管３を用いるので、前述の図６の先
行技術と同様な問題がある。
【０００６】さらにこの図７の先行技術では、低温トラ
ップ５を用いており、この低温トラップ５では、液体窒
素などの冷媒を用いるので、そのような冷媒の補充に労
力が必要である。
ップ５を用いており、この低温トラップ５では、液体窒
素などの冷媒を用いるので、そのような冷媒の補充に労
力が必要である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、簡単
な構成で、しかもメンテナンスが容易であるエキシマレ
ーザのレーザ媒質の精製方法および装置を提供すること
である。
な構成で、しかもメンテナンスが容易であるエキシマレ
ーザのレーザ媒質の精製方法および装置を提供すること
である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、フッ素を含む
レーザ媒質ガスを用いるエキシマレーザの前記ガスを、
アルカリ土類金属に接触させ、次に、Ｚｒ系金属に接触
させ、その後、フッ素を添加して循環して使用すること
を特徴とするエキシマレーザのレーザ媒質の精製方法で
ある。
レーザ媒質ガスを用いるエキシマレーザの前記ガスを、
アルカリ土類金属に接触させ、次に、Ｚｒ系金属に接触
させ、その後、フッ素を添加して循環して使用すること
を特徴とするエキシマレーザのレーザ媒質の精製方法で
ある。
【０００９】また本発明は、アルカリ土類金属は、Ｃａ
であり、４５０〜６００℃に加熱することを特徴とす
る。
であり、４５０〜６００℃に加熱することを特徴とす
る。
【００１０】また本発明は、Ｚｒ系金属を３５０〜６０
０℃に加熱することを特徴とする。
０℃に加熱することを特徴とする。
【００１１】また本発明は、エキシマレーザのレーザ放
電管からのフッ素を含むレーザ媒質ガスが導かれ、アル
カリ土類金属が充填された第１充填層と、第１充填層か
らのガスが導かれ、Ｚｒ系金属が充填された第２充填層
と、第２充填層からのガスに、フッ素を添加してレーザ
放電管に供給して循環する手段とを含むことを特徴とす
るエキシマレーザのレーザ媒質の精製装置である。
電管からのフッ素を含むレーザ媒質ガスが導かれ、アル
カリ土類金属が充填された第１充填層と、第１充填層か
らのガスが導かれ、Ｚｒ系金属が充填された第２充填層
と、第２充填層からのガスに、フッ素を添加してレーザ
放電管に供給して循環する手段とを含むことを特徴とす
るエキシマレーザのレーザ媒質の精製装置である。
【００１２】
【作用】本発明に従えば、エキシマレーザのレーザ放電
管からのレーザ媒質ガスを、まず、アルカリ土類金属に
接触させることによってＦ2、ＣＦ4、ＨＦ、ＮＦ3を除
去することができ、次にＺｒ系金属であるゲッタ触媒に
接触させることによって、Ｈ2、Ｎ2、Ｏ2、ＣＯ、Ｈ
2Ｏ、ＣＯ2などの不純物を除去することができる。これ
によってレーザ媒質ガス中の不純物を除去して希ガスで
あるＡｒ、Ｎｅおよび／またはＫｒなどを高純度にし、
その上で、少量のＦ2、さらにはＡｒ、Ｋｒなどの添加
して、希ガスを循環再使用することが可能となる。
管からのレーザ媒質ガスを、まず、アルカリ土類金属に
接触させることによってＦ2、ＣＦ4、ＨＦ、ＮＦ3を除
去することができ、次にＺｒ系金属であるゲッタ触媒に
接触させることによって、Ｈ2、Ｎ2、Ｏ2、ＣＯ、Ｈ
2Ｏ、ＣＯ2などの不純物を除去することができる。これ
によってレーザ媒質ガス中の不純物を除去して希ガスで
あるＡｒ、Ｎｅおよび／またはＫｒなどを高純度にし、
その上で、少量のＦ2、さらにはＡｒ、Ｋｒなどの添加
して、希ガスを循環再使用することが可能となる。
【００１３】また本発明に従えば、Ｚｒ系金属の上流側
にアルカリ土類金属を配置してＦ2を除去するようにし
たので、Ｚｒ系金属がＦ2によって腐食することを防ぐ
ことができる。
にアルカリ土類金属を配置してＦ2を除去するようにし
たので、Ｚｒ系金属がＦ2によって腐食することを防ぐ
ことができる。
【００１４】
【実施例】図１は、本発明の一実施例の全体の構成を示
すブロック図である。エキシマレーザ発生装置１１は、
レーザ放電管内でレーザを発生する構成を有し、レーザ
媒質ガスは、希ガス−ハライド系であり、希ガス、たと
えばＫｒ、Ａｒおよび／またはＮｅと、ハロゲンガスで
あるフッ素Ｆ2とを含み、レーザ放電管内にファンが配
置されてガスが循環される。レーザ出力を低下させる要
因として挙げられるものに、レーザ媒質ガス中に含まれ
る不純物ＣＦ4、Ｈ2Ｏ、Ｏ2、Ｎ2、ＨＦ、ＮＦ3、Ｃ
Ｏ2、ＣＯなどがある。とりわけ、ＣＦ4、ＨＦ、Ｎ
Ｆ3、Ｈ2Ｏ、Ｏ2などはレーザ出力の低下を著しくす
る。これらの不純物を除去するために、先ず、第１充填
層１２が設けられる。この第１充填層１２は、充填管内
にアルカリ土類金属、たとえばＣａが充填されて構成さ
れ、レーザ媒質ガスが導かれる。この第１充填層１２
は、たとえば４５０〜６００℃の操作温度に加熱され
る。アルカリ土類金属としてＣａを用いるとき、不純物
との反応は次のように達成される。
すブロック図である。エキシマレーザ発生装置１１は、
レーザ放電管内でレーザを発生する構成を有し、レーザ
媒質ガスは、希ガス−ハライド系であり、希ガス、たと
えばＫｒ、Ａｒおよび／またはＮｅと、ハロゲンガスで
あるフッ素Ｆ2とを含み、レーザ放電管内にファンが配
置されてガスが循環される。レーザ出力を低下させる要
因として挙げられるものに、レーザ媒質ガス中に含まれ
る不純物ＣＦ4、Ｈ2Ｏ、Ｏ2、Ｎ2、ＨＦ、ＮＦ3、Ｃ
Ｏ2、ＣＯなどがある。とりわけ、ＣＦ4、ＨＦ、Ｎ
Ｆ3、Ｈ2Ｏ、Ｏ2などはレーザ出力の低下を著しくす
る。これらの不純物を除去するために、先ず、第１充填
層１２が設けられる。この第１充填層１２は、充填管内
にアルカリ土類金属、たとえばＣａが充填されて構成さ
れ、レーザ媒質ガスが導かれる。この第１充填層１２
は、たとえば４５０〜６００℃の操作温度に加熱され
る。アルカリ土類金属としてＣａを用いるとき、不純物
との反応は次のように達成される。
【００１５】 Ｃａ＋Ｆ2 → ＣａＦ2 …（１） ２Ｃａ＋ＣＦ4 → ２ＣａＦ2＋Ｃ …（２） Ｃａ＋２ＨＦ → ＣａＦ2＋Ｈ2 …（３）
【００１６】
【数１】
【００１７】こうして第１充填層１２によって、ガス中
のＦ2、ＣＦ4、ＨＦ、ＮＦ3などのガスを除去すること
ができる。
のＦ2、ＣＦ4、ＨＦ、ＮＦ3などのガスを除去すること
ができる。
【００１８】この第１充填層１２の下流に第２充填層１
３が配置される。この第２充填層１３は、充填管内にＺ
ｒ系金属ゲッタ触媒が充填されており、操作温度３５０
〜５００℃に加熱される。この第２充填層１３によっ
て、次のように不純物が反応して除去される。
３が配置される。この第２充填層１３は、充填管内にＺ
ｒ系金属ゲッタ触媒が充填されており、操作温度３５０
〜５００℃に加熱される。この第２充填層１３によっ
て、次のように不純物が反応して除去される。
【００１９】 ２Ｚｒ＋Ｎ2 → ２ＺｒＮ …（５） ２Ｚｒ＋Ｏ2 → ２ＺｒＯ …（６） ２Ｚｒ＋ＣＯ → ＺｒＣ＋ＺｒＯ …（７） ２Ｚｒ＋Ｈ2Ｏ → Ｚｒ（Ｈ2）＋ＺｒＯ …（８） ３Ｚｒ＋ＣＯ2 → ＺｒＣ＋２ＺｒＯ …（９） ２Ｚｒ＋Ｈ2 → ２ＺｒＨ …（10） こうして第２充填層１３によって、Ｈ2、Ｎ2、Ｏ2、Ｃ
Ｏ、Ｈ2Ｏ、ＣＯ2などの不純物が除去される。第２充填
層１２においてＦ2ガスが除去されているので、第２充
填層１３では、そのＦ2ガスによってＺｒ系金属が腐食
して劣化するおそれはない。
Ｏ、Ｈ2Ｏ、ＣＯ2などの不純物が除去される。第２充填
層１２においてＦ2ガスが除去されているので、第２充
填層１３では、そのＦ2ガスによってＺｒ系金属が腐食
して劣化するおそれはない。
【００２０】第２充填層１３からの管路１４を経るガス
は、希ガス、たとえば前述のようにＫｒ、Ａｒ、Ｎｅで
あって、高純度である。この管路１４からのガスに、ガ
ス源１５から管路１６を経て、少量のＦ2が添加され、
さらにまたＫｒ、および／またはＡｒなどの希ガスが添
加され、エキシマレーザ発生装置１１に導かれて循環再
使用される。こうしてレーザ出力を長時間にわたり高く
安定化することが可能になる。
は、希ガス、たとえば前述のようにＫｒ、Ａｒ、Ｎｅで
あって、高純度である。この管路１４からのガスに、ガ
ス源１５から管路１６を経て、少量のＦ2が添加され、
さらにまたＫｒ、および／またはＡｒなどの希ガスが添
加され、エキシマレーザ発生装置１１に導かれて循環再
使用される。こうしてレーザ出力を長時間にわたり高く
安定化することが可能になる。
【００２１】本件発明者の実験結果を述べる。図１にお
いてエキシマレーザ発生装置１１として、ラムダ・フィ
ジックス社製商品名ＬＰＸ３１５Ｉ形を用い、レーザ繰
返し数１００Ｈｚ、レーザ媒質ガスの分圧組成は、Ｆ2
が７５ｍｂａｒ、Ｋｒが１００ｍｂａｒ、Ｎｅが３１２
５ｍｂａｒであり、そのガスの精製循環量２リットル／
分の条件で、９×１０5ショット連続発振させたとき、
レーザ出力は約１０％低下した。また１．８×１０6シ
ョット連続発振させたときには、１５％のレーザ出力の
低下があった。その後、連続発振を約５時間、休止させ
ておくと、レーザ出力は元の状態に１００％復帰する。
このようにして本発明によれば、連続発振時におけるレ
ーザ出力の低下が低減されることが確認された。この実
験結果は図２のラインＬ１で示されている。
いてエキシマレーザ発生装置１１として、ラムダ・フィ
ジックス社製商品名ＬＰＸ３１５Ｉ形を用い、レーザ繰
返し数１００Ｈｚ、レーザ媒質ガスの分圧組成は、Ｆ2
が７５ｍｂａｒ、Ｋｒが１００ｍｂａｒ、Ｎｅが３１２
５ｍｂａｒであり、そのガスの精製循環量２リットル／
分の条件で、９×１０5ショット連続発振させたとき、
レーザ出力は約１０％低下した。また１．８×１０6シ
ョット連続発振させたときには、１５％のレーザ出力の
低下があった。その後、連続発振を約５時間、休止させ
ておくと、レーザ出力は元の状態に１００％復帰する。
このようにして本発明によれば、連続発振時におけるレ
ーザ出力の低下が低減されることが確認された。この実
験結果は図２のラインＬ１で示されている。
【００２２】これに対して第１の比較例として、図３に
示されるようにエキシマレーザ発生装置１１だけを用
い、その他の条件を前述の実施例と同一としたとき、
７．２×１０5ショット連続発振させると、レーザ出力
が約３０％低下し、このときの実験結果は図２のライン
Ｌ２で示されるとおりである。
示されるようにエキシマレーザ発生装置１１だけを用
い、その他の条件を前述の実施例と同一としたとき、
７．２×１０5ショット連続発振させると、レーザ出力
が約３０％低下し、このときの実験結果は図２のライン
Ｌ２で示されるとおりである。
【００２３】また第２の比較例として図４に示されるよ
うに第１充填層１２だけを設け、第２充填層１３を省略
した構成では、Ｆ2との反応による不純物Ｈ2Ｏ、Ｏ2、
Ｎ2などが生じ、またＦ2は、レーザ電極などを劣化促進
させ、これによってレーザ出力が大きく低下することが
確認された。
うに第１充填層１２だけを設け、第２充填層１３を省略
した構成では、Ｆ2との反応による不純物Ｈ2Ｏ、Ｏ2、
Ｎ2などが生じ、またＦ2は、レーザ電極などを劣化促進
させ、これによってレーザ出力が大きく低下することが
確認された。
【００２４】第３比較例として図５に示されるように第
２充填層１３だけを設け、第１充填層１２を省略した構
成では、Ｆ2を除去することができず、また不純物ＣＦ4
を除去することができず、したがって第２充填層１３に
おけるＺｒ系ゲッタ触媒が腐食して吸着力が直ちに劣化
することが確認された。
２充填層１３だけを設け、第１充填層１２を省略した構
成では、Ｆ2を除去することができず、また不純物ＣＦ4
を除去することができず、したがって第２充填層１３に
おけるＺｒ系ゲッタ触媒が腐食して吸着力が直ちに劣化
することが確認された。
【００２５】このことから、図１に示される実施例によ
れば、レーザの連続発振時におけるレーザ出力の低下が
僅かであり、安定したレーザ出力を長時間にわたって得
ることができることがわかる。
れば、レーザの連続発振時におけるレーザ出力の低下が
僅かであり、安定したレーザ出力を長時間にわたって得
ることができることがわかる。
【００２６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、エキシマ
レーザのフッ素を含むレーザ媒質ガスを、アルカリ土類
金属およびＺｒ系金属にこの順序で接触させることによ
って、多種類の不純物を除去することが可能となり、こ
うして精製されたガスにフッ素を添加して、希ガスを循
環再使用することが可能となる。こうしてエキシマレー
ザを長時間、レーザ出力の低下を防いで運転することが
可能になる。
レーザのフッ素を含むレーザ媒質ガスを、アルカリ土類
金属およびＺｒ系金属にこの順序で接触させることによ
って、多種類の不純物を除去することが可能となり、こ
うして精製されたガスにフッ素を添加して、希ガスを循
環再使用することが可能となる。こうしてエキシマレー
ザを長時間、レーザ出力の低下を防いで運転することが
可能になる。
【００２７】さらに本発明によれば、アルカリ土類金属
およびＺｒ系金属を設けるだけで、上述のように多種類
の不純物を除去することができ、構成が簡単であり、し
かもメンテナンスが容易である。
およびＺｒ系金属を設けるだけで、上述のように多種類
の不純物を除去することができ、構成が簡単であり、し
かもメンテナンスが容易である。
【図１】本発明の一実施例の全体の系統図である。
【図２】図１に示される実施例の実験結果を、比較例と
ともに示すグラフである。
ともに示すグラフである。
【図３】第１比較例の構成を示す図である。
【図４】第２比較例の構成を示す図である。
【図５】第３比較例の構成を示す図である。
【図６】先行技術の全体の構成を示す図である。
【図７】他の先行技術の全体の構成を示す図である。
１１ エキシマレーザ発生装置 １２ 第１充填層 １３ 第２充填層 １５ ガス供給手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 一本松 正道 大阪府大阪市中央区平野町四丁目１番２号 大阪瓦斯株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 フッ素を含むレーザ媒質ガスを用いるエ
キシマレーザの前記ガスを、アルカリ土類金属に接触さ
せ、 次に、Ｚｒ系金属に接触させ、 その後、フッ素を添加して循環して使用することを特徴
とするエキシマレーザのレーザ媒質の精製方法。 - 【請求項２】 アルカリ土類金属は、Ｃａであり、 ４５０〜６００℃に加熱することを特徴とする請求項１
記載のエキシマレーザのレーザ媒質の精製方法。 - 【請求項３】 Ｚｒ系金属を３５０〜６００℃に加熱す
ることを特徴とする請求項１または２記載のエキシマレ
ーザのレーザ媒質の精製方法。 - 【請求項４】 エキシマレーザのレーザ放電管からのフ
ッ素を含むレーザ媒質ガスが導かれ、アルカリ土類金属
が充填された第１充填層と、 第１充填層からのガスが導かれ、Ｚｒ系金属が充填され
た第２充填層と、 第２充填層からのガスに、フッ素を添加してレーザ放電
管に供給して循環する手段とを含むことを特徴とするエ
キシマレーザのレーザ媒質の精製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24957393A JPH07106675A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | エキシマレーザのレーザ媒質の精製方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24957393A JPH07106675A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | エキシマレーザのレーザ媒質の精製方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07106675A true JPH07106675A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17195020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24957393A Pending JPH07106675A (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | エキシマレーザのレーザ媒質の精製方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07106675A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010092920A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Ebara Corp | 不純物を除去する不純物除去装置およびその運転方法 |
| JP2018195713A (ja) * | 2017-05-17 | 2018-12-06 | 日本エア・リキード株式会社 | ガスリサイクル機能を有するエキシマレーザ発振装置 |
| US10892592B2 (en) | 2015-11-13 | 2021-01-12 | Gigaphoton Inc. | Laser gas purifying system and laser system |
-
1993
- 1993-10-05 JP JP24957393A patent/JPH07106675A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010092920A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Ebara Corp | 不純物を除去する不純物除去装置およびその運転方法 |
| US10892592B2 (en) | 2015-11-13 | 2021-01-12 | Gigaphoton Inc. | Laser gas purifying system and laser system |
| JP2018195713A (ja) * | 2017-05-17 | 2018-12-06 | 日本エア・リキード株式会社 | ガスリサイクル機能を有するエキシマレーザ発振装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020611 |