JPH07104109A - 光拡散フィルムもしくはシ−トの製造方法 - Google Patents
光拡散フィルムもしくはシ−トの製造方法Info
- Publication number
- JPH07104109A JPH07104109A JP24780993A JP24780993A JPH07104109A JP H07104109 A JPH07104109 A JP H07104109A JP 24780993 A JP24780993 A JP 24780993A JP 24780993 A JP24780993 A JP 24780993A JP H07104109 A JPH07104109 A JP H07104109A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sheet
- meth
- light diffusion
- acrylate
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】表面硬度が高く傷が付きにくい光拡散フィルム
もしくはシ−トの製造方法を提供する。 【構成】分子内に少なくとも2個以上のアクリロイル基
もしくはメタクリロイル基を有する(メタ)アクリレ−
ト化合物100重量部、光重合開始剤0.1〜10重量
部からなる光重合性樹脂組成物を光拡散フィルムもしく
はシ−トの凹凸面に塗工し、活性光線を照射し厚み0.
5〜50μmの表面層を形成することを特徴とする光拡
散フィルムもしくはシ−トの製造方法。
もしくはシ−トの製造方法を提供する。 【構成】分子内に少なくとも2個以上のアクリロイル基
もしくはメタクリロイル基を有する(メタ)アクリレ−
ト化合物100重量部、光重合開始剤0.1〜10重量
部からなる光重合性樹脂組成物を光拡散フィルムもしく
はシ−トの凹凸面に塗工し、活性光線を照射し厚み0.
5〜50μmの表面層を形成することを特徴とする光拡
散フィルムもしくはシ−トの製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ディスプレイや照明カ
バ−等に用いる透明樹脂からなる光拡散フィルムもしく
はシ−トの製造方法に関する。
バ−等に用いる透明樹脂からなる光拡散フィルムもしく
はシ−トの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光拡散フィルムもしくはシ−トは、点状
光源或いは線状光源の光を拡散もしくは出射光角度の調
整し、均一で正面輝度が高い面照明を得るためのもので
液晶ディスプレイ、透過型スクリ−ン、照明装置のカバ
−などに用いられる。
光源或いは線状光源の光を拡散もしくは出射光角度の調
整し、均一で正面輝度が高い面照明を得るためのもので
液晶ディスプレイ、透過型スクリ−ン、照明装置のカバ
−などに用いられる。
【0003】従来から、光拡散フィルムもしくはシ−ト
は、透明性がよく成形性のよいポリ(メタ)アクリレ−
ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性
樹脂の押し出しフィルムもしくはシ−トの表面に多数の
微細な凹凸を形成されることによって製造されている。
は、透明性がよく成形性のよいポリ(メタ)アクリレ−
ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性
樹脂の押し出しフィルムもしくはシ−トの表面に多数の
微細な凹凸を形成されることによって製造されている。
【0004】上記凹凸の形状は、三角錐状、断面が波形
や三角形の平面プリズム状もので均一で正面輝度が高く
なることが、例えば、特開昭60−100103号公報
や特開平2−228689号公報に開示されている。
や三角形の平面プリズム状もので均一で正面輝度が高く
なることが、例えば、特開昭60−100103号公報
や特開平2−228689号公報に開示されている。
【0005】しかしながら、ポリカ−ボネ−トやポリ塩
化ビニルは廉価で特性も優れているが表面硬度が低く、
光拡散フィルムもしくはシ−トをロ−ル状に保存した
り、カットして光拡散ユニットに組み立てる工程で傷つ
きやすく、傷つくとその部分は輝点や影となり光拡散フ
ィルムもしくはシ−トとしての機能が低下するので、製
品の歩留りが低下するといった問題があった。
化ビニルは廉価で特性も優れているが表面硬度が低く、
光拡散フィルムもしくはシ−トをロ−ル状に保存した
り、カットして光拡散ユニットに組み立てる工程で傷つ
きやすく、傷つくとその部分は輝点や影となり光拡散フ
ィルムもしくはシ−トとしての機能が低下するので、製
品の歩留りが低下するといった問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を鑑み、表面硬度が高く、傷が付きにくい光拡散フィル
ムもしくはシ−トを提供することを目的とする。
を鑑み、表面硬度が高く、傷が付きにくい光拡散フィル
ムもしくはシ−トを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明では光拡散フィル
ムもしくはシ−トの凹凸面に沿って、光重合性樹脂組成
物を塗工し、次いで、活性光線を照射し、厚さ0.5〜
50μmの硬化した表面層を設ける。
ムもしくはシ−トの凹凸面に沿って、光重合性樹脂組成
物を塗工し、次いで、活性光線を照射し、厚さ0.5〜
50μmの硬化した表面層を設ける。
【0008】本発明で使用される光拡散フィルムもしく
はシ−トは、公知のものが使用され、例えば、ポリカ−
ボネ−ト、ポリ(メタ)アクリレ−ト、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエステル、酢酸セルロ−スブチレ−ト、ポリエ
チレンを基にしたアイオノマ−(商標名;サ−リン)な
どの透明樹脂のフィルムもしくはシ−トの片面に、三角
錐状、平面プリズム状で断面が三角形や波形状の0.0
5〜5mmの凹凸が設けられたものなどが挙げられる。
はシ−トは、公知のものが使用され、例えば、ポリカ−
ボネ−ト、ポリ(メタ)アクリレ−ト、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエステル、酢酸セルロ−スブチレ−ト、ポリエ
チレンを基にしたアイオノマ−(商標名;サ−リン)な
どの透明樹脂のフィルムもしくはシ−トの片面に、三角
錐状、平面プリズム状で断面が三角形や波形状の0.0
5〜5mmの凹凸が設けられたものなどが挙げられる。
【0009】本発明で使用される光重合性樹脂組成物
は、分子内に少なくとも2個以上のアクリロイル基もし
くはメタクリロイル基を有する(メタ)アクリレ−ト化
合物100重量部と光重合開始剤0.1〜10重量部か
らなる。
は、分子内に少なくとも2個以上のアクリロイル基もし
くはメタクリロイル基を有する(メタ)アクリレ−ト化
合物100重量部と光重合開始剤0.1〜10重量部か
らなる。
【0010】上記分子内に少なくとも2個以上のアクリ
ロイル基もしくはメタクリロイル基を有する(メタ)ア
クリレ−ト化合物としては、例えば、エチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ノナエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ノナプロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、2,2−ビス[4−(アクリロキシジエトキシ)フ
ェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロキ
シジエトキシ)フェニル]プロパン、3−フェノキシ−
2−プロパノイルアクリレート、1,6−ビス(3−ア
クリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−ヘキシルエー
テル等の2官能(メタ)アクリレート、もしくはペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロール
トリ(メタ)アクリレート、トリス−(2−ヒドロキシ
エチル)−イソシアヌル酸エステル(メタ)アクリレー
ト等の3官能(メタ)アクリレート、その他ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上
の(メタ)アクリレート、分子内にウレタン結合を有す
るアクリル系ウレタンオリゴマーが挙げられる。
ロイル基もしくはメタクリロイル基を有する(メタ)ア
クリレ−ト化合物としては、例えば、エチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ノナエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ノナプロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、2,2−ビス[4−(アクリロキシジエトキシ)フ
ェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロキ
シジエトキシ)フェニル]プロパン、3−フェノキシ−
2−プロパノイルアクリレート、1,6−ビス(3−ア
クリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−ヘキシルエー
テル等の2官能(メタ)アクリレート、もしくはペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロール
トリ(メタ)アクリレート、トリス−(2−ヒドロキシ
エチル)−イソシアヌル酸エステル(メタ)アクリレー
ト等の3官能(メタ)アクリレート、その他ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上
の(メタ)アクリレート、分子内にウレタン結合を有す
るアクリル系ウレタンオリゴマーが挙げられる。
【0011】上記分子内にアクリロイル基もしくはメタ
クリロイル基を有するウレタンオリゴマ−は、例えば、
分子内に2個以上のイソシアネート基を有する化合物
と、活性水素を有するアクリレートまたはメタクリレー
トを反応させる方法によって得られる。
クリロイル基を有するウレタンオリゴマ−は、例えば、
分子内に2個以上のイソシアネート基を有する化合物
と、活性水素を有するアクリレートまたはメタクリレー
トを反応させる方法によって得られる。
【0012】上記分子中に2個以上のイソシアネートを
有する化合物としては、例えば、m−フェニレン ジイ
ソシアネート、p−フェニレン ジイソシアネート、ト
ルエン−2,4−ジイソシアネート、トルエン−2,6
−ジイソシアネート、トルエン−2,5−ジイソシアネ
ート、トルエン−3,5−ジイソシアネート、m−キシ
リレン ジイソシアネート、p−キシリレン ジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアンート、トリメチ
ルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、4,4’−ジイソシアネート−3,3’−ジメチ
ルビフェニル、4,4’−ジイソシアネート−3,3’
−ジメチルビフェニルメタンなどが挙げられる。
有する化合物としては、例えば、m−フェニレン ジイ
ソシアネート、p−フェニレン ジイソシアネート、ト
ルエン−2,4−ジイソシアネート、トルエン−2,6
−ジイソシアネート、トルエン−2,5−ジイソシアネ
ート、トルエン−3,5−ジイソシアネート、m−キシ
リレン ジイソシアネート、p−キシリレン ジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアンート、トリメチ
ルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、4,4’−ジイソシアネート−3,3’−ジメチ
ルビフェニル、4,4’−ジイソシアネート−3,3’
−ジメチルビフェニルメタンなどが挙げられる。
【0013】上記活性水素含有のアクリレートもしくは
メタクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレー
ト、1,6−ビス(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシ
プロピル)−ヘキシルエーテル、ペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等が挙
げられる。が挙げられる。
メタクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレー
ト、1,6−ビス(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシ
プロピル)−ヘキシルエーテル、ペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等が挙
げられる。が挙げられる。
【0014】上記光重合開始剤としては、活性光線の照
射によって前記分子内に少なくとも2個以上のアクリロ
イル基もしくはメタクリロイル基を有する(メタ)アク
リレ−ト化合物の重合を開始させるものであればよく、
例えば、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイ
ド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイル
モノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド
類;チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−
クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサント
ン等のチオキサントン誘導体;ヒドラゾン、アゾビスイ
ソブチロニトリル等のアゾ化合物;ベンゼンジアゾニウ
ム塩;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノ
ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキ
ノン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラ
キノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアント
ラキノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カルボ
ニル化合物;p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、p−
ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安
息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピ
ル等のジアルキルアミノ安息香酸エステル;ベンゾイル
パーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジク
ミルパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド
等の過酸化物;9−フェニルアクリジン、9−p−メト
キシフェニルアクリジン、9−アセチルアミノアクリジ
ン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体;9,10
−ジメチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフェナ
ジン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン
誘導体;6,4’,4’’−トリメトキシ−2,3−ジ
フェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体;2,
4,5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロ
フルオレン、2,4,6−トリフェニルピリリウム四弗
化ホウ素塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)
−1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビス
クマリン、チオミヒラーケトン等が挙げられ、単独で使
用しもよいし、2種以上を併用しもよい。
射によって前記分子内に少なくとも2個以上のアクリロ
イル基もしくはメタクリロイル基を有する(メタ)アク
リレ−ト化合物の重合を開始させるものであればよく、
例えば、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイ
ド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイル
モノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド
類;チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−
クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサント
ン等のチオキサントン誘導体;ヒドラゾン、アゾビスイ
ソブチロニトリル等のアゾ化合物;ベンゼンジアゾニウ
ム塩;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノ
ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキ
ノン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラ
キノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアント
ラキノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カルボ
ニル化合物;p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、p−
ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安
息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピ
ル等のジアルキルアミノ安息香酸エステル;ベンゾイル
パーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジク
ミルパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド
等の過酸化物;9−フェニルアクリジン、9−p−メト
キシフェニルアクリジン、9−アセチルアミノアクリジ
ン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体;9,10
−ジメチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフェナ
ジン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン
誘導体;6,4’,4’’−トリメトキシ−2,3−ジ
フェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体;2,
4,5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロ
フルオレン、2,4,6−トリフェニルピリリウム四弗
化ホウ素塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)
−1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビス
クマリン、チオミヒラーケトン等が挙げられ、単独で使
用しもよいし、2種以上を併用しもよい。
【0015】上記光重合開始剤には、酸素による光感度
の低下を防止するために、アミン化合物を共存させても
よく、このようなアミンとしては、揮発性低いものであ
ればよく、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエ
タノールアミン等の脂肪族アミン;ジアルキルアミノ安
息香酸エステル、ミヒラーケトンなどの芳香族アミンが
挙げられる。
の低下を防止するために、アミン化合物を共存させても
よく、このようなアミンとしては、揮発性低いものであ
ればよく、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエ
タノールアミン等の脂肪族アミン;ジアルキルアミノ安
息香酸エステル、ミヒラーケトンなどの芳香族アミンが
挙げられる。
【0016】上記光重合開始剤の添加量は、少なくなる
と重合速度が遅くなり硬化に時間がかかったり、硬化が
不充分になり高い硬度、優れた耐擦傷性の表面層が得ら
れなくなり、多くなると、表面層の耐熱性、耐候性など
が低下したり、着色や白化が起こるため、上記(メタ)
クリレ−ト化合物100重量部に対して、0.1〜10
重量部に限定される。
と重合速度が遅くなり硬化に時間がかかったり、硬化が
不充分になり高い硬度、優れた耐擦傷性の表面層が得ら
れなくなり、多くなると、表面層の耐熱性、耐候性など
が低下したり、着色や白化が起こるため、上記(メタ)
クリレ−ト化合物100重量部に対して、0.1〜10
重量部に限定される。
【0017】本発明の光重合性樹脂組成物の構成は上述
の通りであるが、表面層の着色防止や特性の均一性をよ
くするために、紫外線吸収剤、酸化防止剤、重合禁止剤
などの添加剤を加えてもよい。
の通りであるが、表面層の着色防止や特性の均一性をよ
くするために、紫外線吸収剤、酸化防止剤、重合禁止剤
などの添加剤を加えてもよい。
【0018】上記光重合性樹脂組成物は一般に有機溶剤
に溶解され、塗工液として公知の塗工方法で光拡散フィ
ルムもしくはシ−トの凹凸面に塗工され、次いで、有機
溶剤を除去し、紫外線、可視光線などの活性光線を照射
し、重合、硬化することにより表面層が形成される。
に溶解され、塗工液として公知の塗工方法で光拡散フィ
ルムもしくはシ−トの凹凸面に塗工され、次いで、有機
溶剤を除去し、紫外線、可視光線などの活性光線を照射
し、重合、硬化することにより表面層が形成される。
【0019】上記有機溶剤としては、光重合性樹脂組成
物を溶解し、光拡散フィルムもしくはシ−トを形成する
樹脂を膨潤又は溶解しないものであればよく、例えば、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテル
(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチル
エーテル(エチルセロソルブ)、酢酸ブチル、イソプロ
ピルアルコール、アセトン、アニソール等が挙げられ、
これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用しもよ
い。
物を溶解し、光拡散フィルムもしくはシ−トを形成する
樹脂を膨潤又は溶解しないものであればよく、例えば、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテル
(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチル
エーテル(エチルセロソルブ)、酢酸ブチル、イソプロ
ピルアルコール、アセトン、アニソール等が挙げられ、
これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用しもよ
い。
【0020】上記光重合性樹脂組成物の塗工液の固形分
濃度は、形成される表面層の厚さによって決められる
が、好適には0.3〜65重量%である。
濃度は、形成される表面層の厚さによって決められる
が、好適には0.3〜65重量%である。
【0021】前記光重合性樹脂組成物の塗工液には、粘
度調整のため有機溶剤に可溶な樹脂を加えてもよく、そ
のような樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレ
─ト、ポリ塩化ビニルなどが挙げられる。
度調整のため有機溶剤に可溶な樹脂を加えてもよく、そ
のような樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレ
─ト、ポリ塩化ビニルなどが挙げられる。
【0022】光重合性樹脂組成物の塗工液には、上記の
ものの他公知の塗工液に添加されるレベリング剤、脱泡
剤、表面改質剤が添加してもよい。
ものの他公知の塗工液に添加されるレベリング剤、脱泡
剤、表面改質剤が添加してもよい。
【0023】上記塗工方法としては、例えば、スプレ−
法、バ−コ−ト法、ドクタ−ブレ−ド法、ロ−ルコ−ト
法、スピンコ−ト法及びディピング法等が挙げられる
が、特にディピング法が好適に用いられる。
法、バ−コ−ト法、ドクタ−ブレ−ド法、ロ−ルコ−ト
法、スピンコ−ト法及びディピング法等が挙げられる
が、特にディピング法が好適に用いられる。
【0024】本発明における表面層の厚さは、薄くなる
と耐擦傷性が低下し、厚くなると光拡散フィルムもしく
はシ−トの凹凸の埋め込みが起こり、光拡散機能が低下
するため、0.5〜50μmに限定される、
と耐擦傷性が低下し、厚くなると光拡散フィルムもしく
はシ−トの凹凸の埋め込みが起こり、光拡散機能が低下
するため、0.5〜50μmに限定される、
【0025】本発明で用いる光重合性樹脂組成物を照射
し、硬化するために用いる光源としては、活性光線を発
生するものであればよく、例えば、超高圧水銀ランプ、
メタルハライドランプなどが挙げられる。
し、硬化するために用いる光源としては、活性光線を発
生するものであればよく、例えば、超高圧水銀ランプ、
メタルハライドランプなどが挙げられる。
【0026】
【実施例】次に、本発明の実施例を説明する。尚、以下
「部」とあるのは「重量部」を意味する。
「部」とあるのは「重量部」を意味する。
【0027】(実施例1) (光重合性樹脂組成物塗工液の製造)分子内に6個のア
クリロイル基を有するジペンタエリスリトールヘキサア
クリレ−ト15部、光重合開始剤として1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン0.3部及びp−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル0.1部をエチルセロソルブ3
00部に溶解させ光重合性樹脂組成物塗工液を得た。 (表面層の形成)片面にピッチ350μ、深さ220μ
で断面が三角形の平面プリズム状の凹凸が設けられてい
るポリカーボネート製光拡散シ−トを上記光重合性樹脂
組成物塗工液に浸せきし、引き上げ、常温で30分間乾
燥させた後50℃で10分間熱風乾燥し、これを高圧水
銀灯により照射量が800mJ/cm2 になるように紫
外線を照射し、硬化して、厚み1.5μmの表面層が設
けられた光拡散シ−トを製造した。
クリロイル基を有するジペンタエリスリトールヘキサア
クリレ−ト15部、光重合開始剤として1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン0.3部及びp−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル0.1部をエチルセロソルブ3
00部に溶解させ光重合性樹脂組成物塗工液を得た。 (表面層の形成)片面にピッチ350μ、深さ220μ
で断面が三角形の平面プリズム状の凹凸が設けられてい
るポリカーボネート製光拡散シ−トを上記光重合性樹脂
組成物塗工液に浸せきし、引き上げ、常温で30分間乾
燥させた後50℃で10分間熱風乾燥し、これを高圧水
銀灯により照射量が800mJ/cm2 になるように紫
外線を照射し、硬化して、厚み1.5μmの表面層が設
けられた光拡散シ−トを製造した。
【0028】(実施例2)ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート9部、粘度調整剤としてポリメチルメタ
クリレートを1部、光重合開始剤としてベンゾフェノン
0.2部及びp−ジメチルアミノ安息香酸エチル0.0
8部をエチルセロソルブ200部に溶解させ光重合性樹
脂組成物塗工液を得た。
サアクリレート9部、粘度調整剤としてポリメチルメタ
クリレートを1部、光重合開始剤としてベンゾフェノン
0.2部及びp−ジメチルアミノ安息香酸エチル0.0
8部をエチルセロソルブ200部に溶解させ光重合性樹
脂組成物塗工液を得た。
【0029】上記光重合性樹脂組成物と実施例1と同様
の光拡散板シ−トを用い、表面層の厚みを2.0μmと
した以外は実施例1と同様にして、表面層が設けられた
光拡散シ−トを製造した。
の光拡散板シ−トを用い、表面層の厚みを2.0μmと
した以外は実施例1と同様にして、表面層が設けられた
光拡散シ−トを製造した。
【0030】(実施例3)2個のアクリロイル基を有す
るエチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレー
ト(日本化薬製、商品名;R−551)6部、光重合開
始剤として1ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン0.2部及びp−ジメチルアミノ安息香酸エチル0.
08部をエチルセロソルブ430部に溶解させ光重合性
樹脂組成物塗工液を得た。
るエチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレー
ト(日本化薬製、商品名;R−551)6部、光重合開
始剤として1ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン0.2部及びp−ジメチルアミノ安息香酸エチル0.
08部をエチルセロソルブ430部に溶解させ光重合性
樹脂組成物塗工液を得た。
【0031】上記光重合性樹脂組成物と実施例1と同様
の光拡散板シ−トを用い、表面層の厚みを1.0μmと
した以外は実施例1と同様にして、表面層が設けられた
光拡散シ−トを製造した。
の光拡散板シ−トを用い、表面層の厚みを1.0μmと
した以外は実施例1と同様にして、表面層が設けられた
光拡散シ−トを製造した。
【0032】(比較例1)実施例1で用いた表面層を設
けられていない光拡散シ−ト
けられていない光拡散シ−ト
【0033】実施例1〜実施例3及び比較例1の光拡散
シ−トについて、表面硬度及び正面輝度を測定し性能を
評価した結果を表1に示した。
シ−トについて、表面硬度及び正面輝度を測定し性能を
評価した結果を表1に示した。
【0034】
【表1】
【0035】(試験方法) (表面硬度の測定)表面硬度はJIS K−5400鉛
筆硬度試験方法によって行った。
筆硬度試験方法によって行った。
【0036】(正面輝度の測定)表面輝度は、長辺に冷
陰極管が1灯設置された液晶表示板用バックライトモジ
ュールの導光板上に、光拡散シ−トを連続した凹凸部が
冷陰極管と平行になるように載せ、輝度計(ミノルタ
製、商品名;LS−100)を距離30cmに設置し、
正面輝度を測定した。
陰極管が1灯設置された液晶表示板用バックライトモジ
ュールの導光板上に、光拡散シ−トを連続した凹凸部が
冷陰極管と平行になるように載せ、輝度計(ミノルタ
製、商品名;LS−100)を距離30cmに設置し、
正面輝度を測定した。
【0037】
【発明の効果】本発明の製造方法で得られる光拡散フィ
ルムもしくはシ−トは、透明性の高いポリ(メタ)アク
リルレ−ト、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルのフィ
ルムもしくはシートの少なくとも片面に多数の凹凸を備
えたもので、該凹凸面に沿って、分子内に少なくとも2
個以上のアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有
する化合物と光重合開始剤からなる光重合性樹脂組成物
を塗工、光重合、硬化させて形成される0.5〜50μ
mの表面層を有する構造であるため、表面硬度が高く、
従来の光拡散フィルムもしくはシ−ト比べ耐擦傷性、耐
摩耗性に優れ、しかも表面層が薄く、透明性が高いた
め、優れた光拡散性能が低下しない光拡散フィルムもし
くはシ−トが得られ、従って、本発明の光拡散フィルム
もしくはシ−トはディスプレイや照明カバーなどに好適
に用いられる。
ルムもしくはシ−トは、透明性の高いポリ(メタ)アク
リルレ−ト、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルのフィ
ルムもしくはシートの少なくとも片面に多数の凹凸を備
えたもので、該凹凸面に沿って、分子内に少なくとも2
個以上のアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有
する化合物と光重合開始剤からなる光重合性樹脂組成物
を塗工、光重合、硬化させて形成される0.5〜50μ
mの表面層を有する構造であるため、表面硬度が高く、
従来の光拡散フィルムもしくはシ−ト比べ耐擦傷性、耐
摩耗性に優れ、しかも表面層が薄く、透明性が高いた
め、優れた光拡散性能が低下しない光拡散フィルムもし
くはシ−トが得られ、従って、本発明の光拡散フィルム
もしくはシ−トはディスプレイや照明カバーなどに好適
に用いられる。
Claims (1)
- 【請求項1】 透明樹脂フィルムもしくはシ−トの少な
くとも片面に多数の凹凸が設けられてなる光拡散フィル
ムもしくはシ−トの凹凸に沿って、分子内に少なくとも
2個以上のアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を
有する(メタ)アクリレ−ト化合物100重量部と光重
合開始剤0.1〜10重量部からなる光重合性樹脂組成
物を塗工し、活性光線を照射し0.5〜50μmの硬化
した表面層を設けることを特徴とする光拡散フィルムも
しくはシ−トの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24780993A JPH07104109A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | 光拡散フィルムもしくはシ−トの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24780993A JPH07104109A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | 光拡散フィルムもしくはシ−トの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07104109A true JPH07104109A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17168989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24780993A Pending JPH07104109A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | 光拡散フィルムもしくはシ−トの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07104109A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6862141B2 (en) | 2002-05-20 | 2005-03-01 | General Electric Company | Optical substrate and method of making |
US7180672B2 (en) | 2002-05-20 | 2007-02-20 | General Electric Company | Optical substrate and method of making |
US7248412B2 (en) | 2003-12-31 | 2007-07-24 | General Electric Company | Optical substrate with modulated structure |
US7859759B2 (en) | 2002-05-20 | 2010-12-28 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Film, backlight displays, and methods for making the same |
WO2012124833A1 (ko) * | 2011-03-11 | 2012-09-20 | 인산디지켐 주식회사 | 광학필름이 적층된 복합필름을 제조하는 방법 |
JP2015105368A (ja) * | 2013-12-02 | 2015-06-08 | 大日本印刷株式会社 | ウィンドウフィルム |
-
1993
- 1993-10-04 JP JP24780993A patent/JPH07104109A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6862141B2 (en) | 2002-05-20 | 2005-03-01 | General Electric Company | Optical substrate and method of making |
US7180672B2 (en) | 2002-05-20 | 2007-02-20 | General Electric Company | Optical substrate and method of making |
US7324284B2 (en) | 2002-05-20 | 2008-01-29 | General Electric Company | Optical substrate and method of making |
US7859759B2 (en) | 2002-05-20 | 2010-12-28 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Film, backlight displays, and methods for making the same |
US7965447B2 (en) | 2002-05-20 | 2011-06-21 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Optical substrate and method of making |
US7248412B2 (en) | 2003-12-31 | 2007-07-24 | General Electric Company | Optical substrate with modulated structure |
US7483195B2 (en) | 2003-12-31 | 2009-01-27 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Optical substrate with modulated structure |
WO2012124833A1 (ko) * | 2011-03-11 | 2012-09-20 | 인산디지켐 주식회사 | 광학필름이 적층된 복합필름을 제조하는 방법 |
JP2015105368A (ja) * | 2013-12-02 | 2015-06-08 | 大日本印刷株式会社 | ウィンドウフィルム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5969867A (en) | Active energy ray-curable composition and lens sheet | |
US3954584A (en) | Photopolymerizable vinylurethane liquid composition | |
KR960016468B1 (ko) | 중합성 화합물 | |
US7232651B2 (en) | Optical recording materials | |
US20090030104A1 (en) | Active energy ray curable resin composition and sheet-like optical article | |
JP5883630B2 (ja) | 光拡散フィルムの製造方法 | |
KR20090127354A (ko) | 시트 형상 광학 부재, 광학 시트용 수지 조성물, 광학 시트 및 그의 제조 방법 | |
CN101107256A (zh) | 增光层用组成物及由此制成的增光膜 | |
JP2019167542A (ja) | 光硬化性樹脂組成物並びにそれを用いた光硬化性遮光塗料、光漏洩防止材、液晶表示パネル及び液晶表示装置、並びに光硬化方法 | |
CN103513300A (zh) | 光扩散膜 | |
KR20090090866A (ko) | 고굴절, 고탄성의 프리즘 시트와 이를 위한 조성물 및 그제조 방법 | |
JP5556039B2 (ja) | プリズムシート | |
CN103513302A (zh) | 光扩散膜的制造方法 | |
KR101118633B1 (ko) | 광학필름용 수지 조성물 및 이를 이용한 광학필름 제조 방법 | |
JPH08208773A (ja) | 撥水性組成物 | |
JPH07104109A (ja) | 光拡散フィルムもしくはシ−トの製造方法 | |
KR20040094153A (ko) | 자외선 경화수지 조성물로 이루어진 저반사 고경도성의 필름 및 시트 제조방법 | |
JP2009048184A (ja) | 積層型光学部材用光硬化型樹脂組成物、及びこれを用いてなる積層型光学部材と視野角拡大フィルム | |
JP2008212832A (ja) | 硬化性組成物、硬化膜、反射防止膜、及び硬化膜の製造方法 | |
US7560158B2 (en) | Anti-dazzling film | |
JP2016050231A (ja) | 光硬化性樹脂組成物およびそれを用いた光硬化性遮光塗料、液晶表示パネル、液晶表示装置 | |
JP4385204B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 | |
JPH11349645A (ja) | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および光学シート | |
JPH08113616A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物およびレンズシート | |
JPS60195849A (ja) | 遮光スクリ−ンの製造方法 |