JPH07101675B2 - 縦型拡散・ｃｖｄ装置 - Google Patents
縦型拡散・ｃｖｄ装置Info
- Publication number
- JPH07101675B2 JPH07101675B2 JP3130390A JP13039091A JPH07101675B2 JP H07101675 B2 JPH07101675 B2 JP H07101675B2 JP 3130390 A JP3130390 A JP 3130390A JP 13039091 A JP13039091 A JP 13039091A JP H07101675 B2 JPH07101675 B2 JP H07101675B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- load lock
- chamber
- boat
- lock chamber
- cassette
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｎ2 ガスで空気と置換
することができるロードロック室 (気密容器），即ちロ
ードロック機能を有し、このロードロック室内を低酸素
雰囲気にすることができる縦型拡散・ＣＶＤ装置に関す
る。
することができるロードロック室 (気密容器），即ちロ
ードロック機能を有し、このロードロック室内を低酸素
雰囲気にすることができる縦型拡散・ＣＶＤ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体デバイスにおいて高集積化
が進む中でウェーハ上に形成される自然酸化膜をできる
だけ少なくし、できればなくすことが必要である。特に
１６Ｍｂｉｔ ＤＲＡＭ以上のデバイスにおいては自然
酸化膜厚さが５Å以下であることが必須であり、そのた
めウェーハは大気にさらされることなしに膜形成を行う
ことができるようにＮ2 ガスまたは真空雰囲気中を搬送
することができる装置の需要が高まっている。
が進む中でウェーハ上に形成される自然酸化膜をできる
だけ少なくし、できればなくすことが必要である。特に
１６Ｍｂｉｔ ＤＲＡＭ以上のデバイスにおいては自然
酸化膜厚さが５Å以下であることが必須であり、そのた
めウェーハは大気にさらされることなしに膜形成を行う
ことができるようにＮ2 ガスまたは真空雰囲気中を搬送
することができる装置の需要が高まっている。
【０００３】従来のロードロック付き縦型拡散・ＣＶＤ
装置は、図面を参照して説明すると、カセット室２，ロ
ードロック室５とも真空ガス置換ができる気密容器で構
成されており、カセット室２とロードロック室５間及び
ロードロック室５と反応室とはそれぞれ仕切弁８，９を
介して接続されている。
装置は、図面を参照して説明すると、カセット室２，ロ
ードロック室５とも真空ガス置換ができる気密容器で構
成されており、カセット室２とロードロック室５間及び
ロードロック室５と反応室とはそれぞれ仕切弁８，９を
介して接続されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来装置における
真空ガス置換ができる気密カセット室２とロードロック
室５はスペースファクターを向上させるために矩形に
し、大気圧に耐えるために剛性のあることが必要で、特
にロードロック室５は保守以外の通常使用時は大気圧状
態で使用するにもかかわらず、保守後真空ガス置換し室
５内を低酸素化するためにだけ剛性のある室５とするこ
とが必要であり、非常に高価な装置となり、また装置重
量が非常に重くなるという課題がある。
真空ガス置換ができる気密カセット室２とロードロック
室５はスペースファクターを向上させるために矩形に
し、大気圧に耐えるために剛性のあることが必要で、特
にロードロック室５は保守以外の通常使用時は大気圧状
態で使用するにもかかわらず、保守後真空ガス置換し室
５内を低酸素化するためにだけ剛性のある室５とするこ
とが必要であり、非常に高価な装置となり、また装置重
量が非常に重くなるという課題がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明装置は上記の課題
を解決するため、図示のように複数枚のウェーハを収納
したカセット１を収容し、ウェーハの出し入れを行う気
密カセット室２と、このカセット室２内のカセット１と
ボート３との間でウェーハを移載する移載機４を有する
ロードロック室５と、このロードロック室５内のボート
３が搬入出される反応室６を備え、気密カセット室２と
ロードロック室５間及びロードロック室５と反応室６間
をそれぞれ仕切弁８，９を介して接続してなる縦型拡散
・ＣＶＤ装置において、ロードロック室５は真空排気せ
ず、Ｎ 2 ガスにより該ロードロック室５内の雰囲気を置
換することを特徴とするものである。
を解決するため、図示のように複数枚のウェーハを収納
したカセット１を収容し、ウェーハの出し入れを行う気
密カセット室２と、このカセット室２内のカセット１と
ボート３との間でウェーハを移載する移載機４を有する
ロードロック室５と、このロードロック室５内のボート
３が搬入出される反応室６を備え、気密カセット室２と
ロードロック室５間及びロードロック室５と反応室６間
をそれぞれ仕切弁８，９を介して接続してなる縦型拡散
・ＣＶＤ装置において、ロードロック室５は真空排気せ
ず、Ｎ 2 ガスにより該ロードロック室５内の雰囲気を置
換することを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】本発明装置はこのような構成であるから、カセ
ット室２のみ真空ガス置換ができる気密容器として装置
内への酸素の混入をシャッタアウトし、Ｎ2ガスを充満
させたロードロック室５内の圧力は大気圧のために薄板
構造として軽量化でき、かつ気密構造でＮ2 ガスで充満
されているために酸素の混入を防止することができ、従
来の全ての容器が真空ガス置換ができる容器で構成され
たものと同等の低酸素濃度化が図られ、自然酸化膜の形
成を最小にすることができるばかりでなく、装置の軽量
化が図られるとともに低価格化が図れることになる。
ット室２のみ真空ガス置換ができる気密容器として装置
内への酸素の混入をシャッタアウトし、Ｎ2ガスを充満
させたロードロック室５内の圧力は大気圧のために薄板
構造として軽量化でき、かつ気密構造でＮ2 ガスで充満
されているために酸素の混入を防止することができ、従
来の全ての容器が真空ガス置換ができる容器で構成され
たものと同等の低酸素濃度化が図られ、自然酸化膜の形
成を最小にすることができるばかりでなく、装置の軽量
化が図られるとともに低価格化が図れることになる。
【０００７】
【実施例】以下図面に基づいて本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明装置の１実施例の構成の概要を示す簡
略平面図、図２は同じくその簡略正断面図である。本実
施例は、多数枚のウェーハを収納したカセット１を収容
し、ウェーハの出し入れを行い、真空Ｎ2 ガス置換がで
きる気密カセット室２と、このカセット室２内のカセッ
ト１とボート３との間でウェーハを載置する移載機４及
び移載機エレベータ１１を有し、真空排気せず、大気圧
の下で、高純度のＮ2 ガスで空気と置換ができるロード
ロック室５と、このロードロック室５内のボート３がボ
ートエレベータ１０により搬入出される反応室６とより
なり、気密カセット室２とロードロック室５間及びロー
ドロック室５と反応室６間をそれぞれ仕切弁８，９を介
して接続してなる。
る。図１は本発明装置の１実施例の構成の概要を示す簡
略平面図、図２は同じくその簡略正断面図である。本実
施例は、多数枚のウェーハを収納したカセット１を収容
し、ウェーハの出し入れを行い、真空Ｎ2 ガス置換がで
きる気密カセット室２と、このカセット室２内のカセッ
ト１とボート３との間でウェーハを載置する移載機４及
び移載機エレベータ１１を有し、真空排気せず、大気圧
の下で、高純度のＮ2 ガスで空気と置換ができるロード
ロック室５と、このロードロック室５内のボート３がボ
ートエレベータ１０により搬入出される反応室６とより
なり、気密カセット室２とロードロック室５間及びロー
ドロック室５と反応室６間をそれぞれ仕切弁８，９を介
して接続してなる。
【０００８】ロードロック室５は移載機４及び移載機エ
レベータ１１を収容する移載部１４と、ボート３及びボ
ートエレベータ１０を収容したボート部１５とよりな
り、両者間はゲート弁１６で仕切られている。
レベータ１１を収容する移載部１４と、ボート３及びボ
ートエレベータ１０を収容したボート部１５とよりな
り、両者間はゲート弁１６で仕切られている。
【０００９】７はカセット室２に設けられた仕切弁で、
カセット１を入出する時に開操作される。１２，１３は
それぞれロードロック室５の移載部１４及びボート部１
５に設けられた保守用扉である。
カセット１を入出する時に開操作される。１２，１３は
それぞれロードロック室５の移載部１４及びボート部１
５に設けられた保守用扉である。
【００１０】上記の構成においてカセット室２内のカセ
ット１に収められたウェーハは仕切弁８が開にされロー
ドロック室５を構成する移載部１４内の移載機４及び移
載機エレベータ１１により移載部１４内に移され、仕切
弁８が閉じられる。
ット１に収められたウェーハは仕切弁８が開にされロー
ドロック室５を構成する移載部１４内の移載機４及び移
載機エレベータ１１により移載部１４内に移され、仕切
弁８が閉じられる。
【００１１】次いでゲート弁１６が開かれ、ロードロッ
ク室５を構成するボート部１５内のボート３にゲート弁
１６の開で移載されゲート弁１６が閉じられる。ウェー
ハの移載されたボート３は仕切弁９が開にされボートエ
レベータ１０により反応室６内に搬入され仕切弁９が閉
じられる。
ク室５を構成するボート部１５内のボート３にゲート弁
１６の開で移載されゲート弁１６が閉じられる。ウェー
ハの移載されたボート３は仕切弁９が開にされボートエ
レベータ１０により反応室６内に搬入され仕切弁９が閉
じられる。
【００１２】反応室６内に搬入されたボート３に移載さ
れたウェーハは反応室６内で拡散・ＣＶＤ膜が生成され
る。この拡散・ＣＶＤ膜が生成されボート３に載置され
たウェーハは上記とは逆の過程を得て取り出されること
になる。
れたウェーハは反応室６内で拡散・ＣＶＤ膜が生成され
る。この拡散・ＣＶＤ膜が生成されボート３に載置され
たウェーハは上記とは逆の過程を得て取り出されること
になる。
【００１３】カセット室２のみ真空ガス置換ができる気
密容器として装置内への酸素の混入をシャッタアウト
し、Ｎ2 ガスを充満させたロードロック室５内の圧力は
大気圧のために薄板構造として軽量化でき、かつ気密構
造でＮ2 ガスで充満されているために酸素の混入を防止
することができ、従来の全ての容器が真空ガス置換がで
きる容器で構成されたものと同等の低酸素濃度化が図ら
れ、自然酸化膜の形成を最小にすることができるばかり
でなく、装置の軽量化が図られるとともに低価格化が図
れることになる。
密容器として装置内への酸素の混入をシャッタアウト
し、Ｎ2 ガスを充満させたロードロック室５内の圧力は
大気圧のために薄板構造として軽量化でき、かつ気密構
造でＮ2 ガスで充満されているために酸素の混入を防止
することができ、従来の全ての容器が真空ガス置換がで
きる容器で構成されたものと同等の低酸素濃度化が図ら
れ、自然酸化膜の形成を最小にすることができるばかり
でなく、装置の軽量化が図られるとともに低価格化が図
れることになる。
【００１４】即ち、本実施例によれば、装置重量を３０
〜４０％軽量化でき、価格を１０〜２０％安価にでき
る。またロードロック室５内の酸素濃度を２ppm 以下に
でき、真空ガス置換方式の場合の１ppm 以下と比較して
問題にならない。
〜４０％軽量化でき、価格を１０〜２０％安価にでき
る。またロードロック室５内の酸素濃度を２ppm 以下に
でき、真空ガス置換方式の場合の１ppm 以下と比較して
問題にならない。
【００１５】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、Ｎ2 ガス
で充満させたロードロック室５内の圧力は大気圧のため
薄板構造にでき、装置全体の軽量化と低価格化を図るこ
とができるばかりでなく、ロードロック室５は気密構造
でＮ2 ガスで充満されているため、酸素の混入を防止す
ることができ、従来の全ての容器を真空ガス置換した場
合と同等の低酸素濃度化を図ることができ、自然酸化膜
の形成を最小にすることができる。
で充満させたロードロック室５内の圧力は大気圧のため
薄板構造にでき、装置全体の軽量化と低価格化を図るこ
とができるばかりでなく、ロードロック室５は気密構造
でＮ2 ガスで充満されているため、酸素の混入を防止す
ることができ、従来の全ての容器を真空ガス置換した場
合と同等の低酸素濃度化を図ることができ、自然酸化膜
の形成を最小にすることができる。
【図１】本発明装置の１実施例の構成の概要を示す簡略
平面図図である。
平面図図である。
【図２】同じくその簡略正断面図である。
１ カセット ２ 気密カセット室 ３ ボート ４ 移載機 ５ ロードロック室 ６ 反応室 ７〜９ 仕切弁 １０ ボートエレベータ １１ 移載機エレベータ １２，１３ 保守用扉 １４ 移載部 １５ ボート部 １６ ゲート弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 修一 東京都港区虎ノ門二丁目３番13号 国際電 気株式会社内 (72)発明者 笠原 修 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (56)参考文献 特開 平３−218017（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】 反応室と、複数枚のウェーハを保持する
ボートと、前記ボートとカセットとの間でウェーハを移
載する移載機とを収容したロードロック室と、複数枚の
ウェーハを収納した前記カセットを収容した気密カセッ
ト室を備え、前記反応室とロードロック室間およびロー
ドロック室と気密カセット室間をそれぞれ仕切弁を介し
て接続してなる縦型拡散・ＣＶＤ装置において、前記ロ
ードロック室は真空排気せず、大気圧の下でＮ2 ガスに
より該ロードロック室内の雰囲気を置換する事を特徴と
する縦型拡散・ＣＶＤ装置。 - 【請求項２】 前記ロードロック室は、移載機および移
載機エレベータを収容する移載部と、ボートおよびボー
トエレベータとを収容するボート部とからなり、前記移
載部と前記ボート部との間はゲート弁で仕切られている
事を特徴とする請求項１に記載の縦型拡散・ＣＶＤ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3130390A JPH07101675B2 (ja) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | 縦型拡散・ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3130390A JPH07101675B2 (ja) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | 縦型拡散・ｃｖｄ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04329630A JPH04329630A (ja) | 1992-11-18 |
| JPH07101675B2 true JPH07101675B2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=15033175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3130390A Expired - Lifetime JPH07101675B2 (ja) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | 縦型拡散・ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07101675B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05315273A (ja) * | 1992-05-13 | 1993-11-26 | Nec Yamagata Ltd | 縦型熱処理装置 |
| JPH11186257A (ja) | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Asahi Kasei Micro Syst Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2909481B2 (ja) * | 1989-07-25 | 1999-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型処理装置における被処理体の処理方法 |
| JP2759368B2 (ja) * | 1990-01-23 | 1998-05-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
-
1991
- 1991-05-01 JP JP3130390A patent/JPH07101675B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04329630A (ja) | 1992-11-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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