JPH07100692B2 - 複素環化合物及びそれを含有してなる除草剤 - Google Patents
複素環化合物及びそれを含有してなる除草剤Info
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- JPH07100692B2 JPH07100692B2 JP62120232A JP12023287A JPH07100692B2 JP H07100692 B2 JPH07100692 B2 JP H07100692B2 JP 62120232 A JP62120232 A JP 62120232A JP 12023287 A JP12023287 A JP 12023287A JP H07100692 B2 JPH07100692 B2 JP H07100692B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な化合物及び該化合物を有効成分として含
有する除草剤に関するものである。
有する除草剤に関するものである。
農園芸作物の栽培にあたり、多大の労力を必要としてき
た雑草防除に多くの除草剤が使用されるようになってき
た。しかし作物に薬害を生じたり、環境に残留し、汚染
したりすることからより、低い薬量で効果が確実でしか
も安全に使用できる薬剤の開発が望まれている。
た雑草防除に多くの除草剤が使用されるようになってき
た。しかし作物に薬害を生じたり、環境に残留し、汚染
したりすることからより、低い薬量で効果が確実でしか
も安全に使用できる薬剤の開発が望まれている。
本発明の目的は、新規な複素環化合物を工業的に有利に
製造し、作物−雑草間の選択性巾の広い、より低い薬量
で効果の確実な安全性の高い除草剤を提供することであ
る。
製造し、作物−雑草間の選択性巾の広い、より低い薬量
で効果の確実な安全性の高い除草剤を提供することであ
る。
本発明は一般式 〔式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を、Ｙはハロゲ
ン原子を、Ａ、Ｂはそれぞれ低級アルキレン基又は低級
アルキリデン基を、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を、Ｚは
低級アルコキシ基、低級アルキルアミノ基、低級ジアル
キルアミノ基、モルホリル基、又はOM（ここではＭはア
ルカリ金属を示す。）を、Ｑは次の如き複素環残基を示
す。
ン原子を、Ａ、Ｂはそれぞれ低級アルキレン基又は低級
アルキリデン基を、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を、Ｚは
低級アルコキシ基、低級アルキルアミノ基、低級ジアル
キルアミノ基、モルホリル基、又はOM（ここではＭはア
ルカリ金属を示す。）を、Ｑは次の如き複素環残基を示
す。
ここでR1はハロゲン原子又は低級アルキル基、R2は水素
原子又は低級アルキル基を示す。〕で表わされる化合物
及び該化合物を含有する除草剤である。
原子又は低級アルキル基を示す。〕で表わされる化合物
及び該化合物を含有する除草剤である。
本発明化合物は畑条件で土壌処理、茎葉処理のいずれの
方法でも高い除草活性を示す。特に茎葉散布処理でイヌ
ビユ、アカザ、スベリヒユ、カヤツリグサ等の各種の畑
雑草に高い効力を示し、トウモロコシ、小麦、大豆、落
花生等の作物に薬害が軽いことを特徴としている。本発
明化合物に類似の化合物として特開昭58−110566、特開
昭61−36268に３−クロロ−２−〔４−クロロ−２−フ
ルオロ−５−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェ
ニル〕−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−インダゾール、
Ｎ−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシカルボ
ニルメトキシフェニル）−3,4,5,6−テトラヒドロフタ
ルイミド等が知られているが、本発明化合物はこれら既
知化合物に比較し数段優れた高い除草効果を有してい
る。
方法でも高い除草活性を示す。特に茎葉散布処理でイヌ
ビユ、アカザ、スベリヒユ、カヤツリグサ等の各種の畑
雑草に高い効力を示し、トウモロコシ、小麦、大豆、落
花生等の作物に薬害が軽いことを特徴としている。本発
明化合物に類似の化合物として特開昭58−110566、特開
昭61−36268に３−クロロ−２−〔４−クロロ−２−フ
ルオロ−５−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェ
ニル〕−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−インダゾール、
Ｎ−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシカルボ
ニルメトキシフェニル）−3,4,5,6−テトラヒドロフタ
ルイミド等が知られているが、本発明化合物はこれら既
知化合物に比較し数段優れた高い除草効果を有してい
る。
また水稲に対しても選択性を有し、水田雑草のノビエ、
タマガヤツリ、オモダカ等の雑草に対し、低い薬量で優
れた殺草効力を有している。
タマガヤツリ、オモダカ等の雑草に対し、低い薬量で優
れた殺草効力を有している。
更に本発明化合物は果樹園、芝生、線路端、空き地等の
雑草の防除にも適用することができる。
雑草の防除にも適用することができる。
一般式〔Ｉ〕で表わされる本発明化合物は各種原料を用
いて以下に示す方法に従って製造することができる。
いて以下に示す方法に従って製造することができる。
ここで、Ha-lはハロゲン原子を示す。
上記、の反応とも塩基の存在下、無溶媒もしくは溶
媒中、−50〜150℃で行われる。
媒中、−50〜150℃で行われる。
溶媒としては、水、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、エーテル、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル等のエ
ステル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミ
ドなどの非プロトン性極性溶媒などが使用できる。塩基
としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウムなどの無機塩基、ナトリウムメチラートなどの
アルコラート類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機
塩基などが使用できる。
ール類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、エーテル、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸エチル等のエ
ステル類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミ
ドなどの非プロトン性極性溶媒などが使用できる。塩基
としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウムなどの無機塩基、ナトリウムメチラートなどの
アルコラート類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機
塩基などが使用できる。
上記反応は無溶媒又は酢酸などのカルボン酸類、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類、水などの溶媒中、60〜200℃
で行われる。
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類、水などの溶媒中、60〜200℃
で行われる。
上記反応は有機溶媒中、もしくは無溶媒で縮合触媒の存
在下、70〜200℃で行われる。
在下、70〜200℃で行われる。
溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等通常の
溶媒が使用できる。触媒としてはＰ−トルエンスルホン
酸等のスルホン酸類、ジメチルアミノピリジン等の３級
アミン類等が使用できる。
溶媒が使用できる。触媒としてはＰ−トルエンスルホン
酸等のスルホン酸類、ジメチルアミノピリジン等の３級
アミン類等が使用できる。
また（１） の場合と同様にして下記反応に従って製造することもで
きる。
きる。
上記反応式中Ｖは酸素原子又は硫黄原子を表わし、Ｅは
水素原子、ナトリウムイオン、カリウムイオン等のカチ
オン類、またはメチル基、エチル基等の低級アルキル基
を示す。
水素原子、ナトリウムイオン、カリウムイオン等のカチ
オン類、またはメチル基、エチル基等の低級アルキル基
を示す。
上記反応は、無溶媒または、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチ
ル、酢酸イソブチル等の酢酸エステル類、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の
非プロトン性極性溶媒類、アセトン、エチルメチルケト
ン等のケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ブタノール等のアルコール類、水等の溶媒中ま
たはこれらの混合溶媒中、−50〜100℃の温度範囲にて
反応せしめることにより、一般式〔XII〕で表わされる
中間体を得、これを無溶媒、または、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶
媒、アセトン、エチルメチルトケン等のケトン類、水等
の溶媒中、またはこれらの混合溶媒中、塩酸、硫酸等の
鉱酸類、ギ酸、酢酸等の有機脂肪酸類、メタンスルホン
酸、Ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、水酸化
ナトリウム（カリウム）等のアルカリ金属水酸化物、ナ
トリウムメトキシド、カリウムブトキシド等のアルカリ
金属アルコキシド類、炭酸ナトリウム（カリウム）等の
アルカリ金属炭酸塩類等の存在下又は非存在下に−20〜
180℃の温度範囲で環化することにより行われる。
レン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチ
ル、酢酸イソブチル等の酢酸エステル類、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の
非プロトン性極性溶媒類、アセトン、エチルメチルケト
ン等のケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ブタノール等のアルコール類、水等の溶媒中ま
たはこれらの混合溶媒中、−50〜100℃の温度範囲にて
反応せしめることにより、一般式〔XII〕で表わされる
中間体を得、これを無溶媒、または、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶
媒、アセトン、エチルメチルトケン等のケトン類、水等
の溶媒中、またはこれらの混合溶媒中、塩酸、硫酸等の
鉱酸類、ギ酸、酢酸等の有機脂肪酸類、メタンスルホン
酸、Ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、水酸化
ナトリウム（カリウム）等のアルカリ金属水酸化物、ナ
トリウムメトキシド、カリウムブトキシド等のアルカリ
金属アルコキシド類、炭酸ナトリウム（カリウム）等の
アルカリ金属炭酸塩類等の存在下又は非存在下に−20〜
180℃の温度範囲で環化することにより行われる。
上記反応式中Ｖは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｇは低
級アルキル基を表わす。
級アルキル基を表わす。
上記反応は式〔XIII〕で示されるテトラメチレンヒドラ
ジン誘導体を塩基の存在下、40〜100℃で反応させるこ
とによって製造することができる。
ジン誘導体を塩基の存在下、40〜100℃で反応させるこ
とによって製造することができる。
溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ｔ−ブタノール、オクタノール、ジクロヘキサノ
ール、メチルセロソルブ等のアルコール類、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等の単独
又はそれらの混合物があげられる。
ール、ｔ−ブタノール、オクタノール、ジクロヘキサノ
ール、メチルセロソルブ等のアルコール類、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等の単独
又はそれらの混合物があげられる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド等のアルカリ金属アルコキシド、フッ化ナトリウム、
フッ化カリウム等のフッ化物等があげられる。
無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド等のアルカリ金属アルコキシド、フッ化ナトリウム、
フッ化カリウム等のフッ化物等があげられる。
なお、式〔XIII〕で表わされる原料は次式に従って製造
できる。
できる。
また、下記反応式に従って製造することもできる。
上記反応式における第一段階の反応は不活性溶媒中、−
50〜50℃で行う。不活性溶媒としては、エーテル、塩化
メチレン、クロロホルム、酢酸エチル等が使用できる。
第二段階の閉環反応は有機溶媒中、酸化剤を作用させて
行う。有機溶媒としては、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジメチレンホルムアミド、酢酸エチル等一般の不活
性溶媒が使用できる。酸結合剤を共存させてもかまわな
い。酸結合剤としては、トリエチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、炭
酸ナトリウム等の無機塩基が使用できる。酸化剤として
は臭素・塩素・次亜塩素酸ナトリウム等が用いられる。
50〜50℃で行う。不活性溶媒としては、エーテル、塩化
メチレン、クロロホルム、酢酸エチル等が使用できる。
第二段階の閉環反応は有機溶媒中、酸化剤を作用させて
行う。有機溶媒としては、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジメチレンホルムアミド、酢酸エチル等一般の不活
性溶媒が使用できる。酸結合剤を共存させてもかまわな
い。酸結合剤としては、トリエチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、炭
酸ナトリウム等の無機塩基が使用できる。酸化剤として
は臭素・塩素・次亜塩素酸ナトリウム等が用いられる。
又、下記の反応式に従って製造することもできる。
上記反応は、酢酸中、50〜118℃（還流）で加熱する
か、ベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒中、共沸脱
水しながら行う。
か、ベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒中、共沸脱
水しながら行う。
又、下記反応式に従って製造することもできる。
いずれの方法で反応した場合も反応終了後は通常の後処
理を行うことにより目的物を得ることができる。本発明
化合物の構造は、IR、NMR、MASS等から決定した。
理を行うことにより目的物を得ることができる。本発明
化合物の構造は、IR、NMR、MASS等から決定した。
次に実施例を挙げ本発明化合物を更に詳細に説明する。
〔実施例１〕 ３−クロロ−２−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−
（１−メトキシカルボニルエトキシメチル）フェニル〕
−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−インダゾール（化合物
番号10）： ３−クロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒ
ドロキシメチルフェニル）−4,5,6,7−テトラヒドロ−2
H−インダゾール2gを乾燥したN,N−ジメチルホルムアミ
ド10mlに溶解し、攪拌しながら氷冷下60％水素化ナトリ
ウム0.25gを加えた。20分間攪拌したのち、氷冷下２−
クロルプロピオン酸メチル0.78gを滴下した。一夜室温
で攪拌後、反応液を氷水に投入し酢酸エチルで抽出し、
脱水濃縮して得られた残留をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、目的物1.8gを得た。▲n23.5 D▼
1.5425 〔実施例２〕 ３−クロロ−２−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−
（１−メトキシカルボニルエチルチオメチル）フェニ
ル〕−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−インダゾール（化
合物番号１）： チオ乳酸メチル0.33gをN,N−ジメチルホルムアミド5ml
に溶媒し、氷冷下攪拌しながら60％水素化ナトリウム0.
1gを加えた。20分間攪拌したのち３−−クロロ−２−
（４−クロロ−２−フルオロ−５−クロロメチルフェニ
ル）−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−インダゾール0.9g
を加え室温で更に３時間攪拌した。反応液を氷水に投入
し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、脱水、減圧
濃縮し得られた残留をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し目的物0.9gを得た。▲n23 D▼1.5678 〔実施例３〕 ２−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−メトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニル〕−4,5,6,7−テ
トラヒドロ−2H−イソインドール−1,3−ジオン（化合
物番号11）： 3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸無水物0.06gと４−クロ
ロ−２−フルオロ−５−（１−メトキシカルボニルエト
キシメチル）アニリン0.09gを酢酸10mlに溶解し、３時
間加熱還流した後反応液を氷水に投入し、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗したのち脱水濃縮して得られた
残留をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精
製し目的物0.10gを得た。▲n24.5 D▼1.5412 〔実施例４〕 ２−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−エトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニル）−３−メチレン
−4,5,6,7−テトラヒドロイソインドール−１（2H）−
オン（化合物番号13）： ３−メチル−３−ヒドロキシ−1,3,4,5,6,7−ヘキサヒ
ドロイソベンゾフラン−１−オン0.24gと、４−クロロ
−２−フルオロ−５−（１−エトキシカルボニルエトキ
シメチル）アニリン0.40gとを混合し、触媒量のＰ−ト
ルエンスルホン酸１水和物を加え、攪拌しながら130℃
に昇温、３時間反応させた。冷却後、クロロホルムに溶
解し、クロロホルム層を水洗後無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、濾過、クロロホルムを減圧下濃縮し、残渣をカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を0.3gの油
状物として得た。
（１−メトキシカルボニルエトキシメチル）フェニル〕
−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−インダゾール（化合物
番号10）： ３−クロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒ
ドロキシメチルフェニル）−4,5,6,7−テトラヒドロ−2
H−インダゾール2gを乾燥したN,N−ジメチルホルムアミ
ド10mlに溶解し、攪拌しながら氷冷下60％水素化ナトリ
ウム0.25gを加えた。20分間攪拌したのち、氷冷下２−
クロルプロピオン酸メチル0.78gを滴下した。一夜室温
で攪拌後、反応液を氷水に投入し酢酸エチルで抽出し、
脱水濃縮して得られた残留をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、目的物1.8gを得た。▲n23.5 D▼
1.5425 〔実施例２〕 ３−クロロ−２−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−
（１−メトキシカルボニルエチルチオメチル）フェニ
ル〕−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−インダゾール（化
合物番号１）： チオ乳酸メチル0.33gをN,N−ジメチルホルムアミド5ml
に溶媒し、氷冷下攪拌しながら60％水素化ナトリウム0.
1gを加えた。20分間攪拌したのち３−−クロロ−２−
（４−クロロ−２−フルオロ−５−クロロメチルフェニ
ル）−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−インダゾール0.9g
を加え室温で更に３時間攪拌した。反応液を氷水に投入
し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、脱水、減圧
濃縮し得られた残留をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し目的物0.9gを得た。▲n23 D▼1.5678 〔実施例３〕 ２−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−メトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニル〕−4,5,6,7−テ
トラヒドロ−2H−イソインドール−1,3−ジオン（化合
物番号11）： 3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸無水物0.06gと４−クロ
ロ−２−フルオロ−５−（１−メトキシカルボニルエト
キシメチル）アニリン0.09gを酢酸10mlに溶解し、３時
間加熱還流した後反応液を氷水に投入し、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗したのち脱水濃縮して得られた
残留をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精
製し目的物0.10gを得た。▲n24.5 D▼1.5412 〔実施例４〕 ２−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−エトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニル）−３−メチレン
−4,5,6,7−テトラヒドロイソインドール−１（2H）−
オン（化合物番号13）： ３−メチル−３−ヒドロキシ−1,3,4,5,6,7−ヘキサヒ
ドロイソベンゾフラン−１−オン0.24gと、４−クロロ
−２−フルオロ−５−（１−エトキシカルボニルエトキ
シメチル）アニリン0.40gとを混合し、触媒量のＰ−ト
ルエンスルホン酸１水和物を加え、攪拌しながら130℃
に昇温、３時間反応させた。冷却後、クロロホルムに溶
解し、クロロホルム層を水洗後無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、濾過、クロロホルムを減圧下濃縮し、残渣をカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を0.3gの油
状物として得た。
NMR（CDCl3δppm）;1.30（t,3H）、1.48（d,3H）、1.83
（m,4H）、2.45（m,4H）、4.14（q,1H）、4.22（q,2
H）、4.66（m,4H）、7.30（d,1H）、7.50（d,1H） 〔実施例５〕 ３−〔４−クロル−２−フルオロ−５−（１−エトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニル〕1,5−テトラメ
チレン−２−チオヒダントイン（化合物番号21）： ピペコリン酸エチル0.15gをベンゼン20mlに溶解し、室
温で攪拌下に、４−クロル−２−フルオロ−５−（１−
エトキシカルボニルエトキシメチル）フェニルイソチオ
シアネート0.30gを加えた。室温で1.5時間攪拌後、溶媒
を減圧留去し残留をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、目的物0.25gを得た。▲n26 D▼1.5715 〔実施例６〕 ４−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−エトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニル〕−1,2−テトラ
メチレン３−チオウラゾール（化合物番号16）： １−エトキシカルボニル−1,2−テトラメチレンヒドラ
ジン0.15gをベンゼン20mlに溶解し攪拌下４−クロロ−
２−フルオロ−５−（１−エトキシカルボニルエトキシ
メチル）フェニルイソチオシアネート0.30gを加えた。
室温で１時間攪拌し得られた１−〔４−クロロ−２−フ
ルオロ−５−（１−エトキシカルボニルエトキシメチ
ル）フェニルチオカルバモイル）−２−エトキシカルボ
ニル−1,2−テトラメチレンヒドラジンを単離すること
なく、カセイソーダ粉末触媒量を加え１時間加熱還流し
た。反応液を水洗、脱水、減圧濃縮し得られた残留をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物
0.35g得た。
（m,4H）、2.45（m,4H）、4.14（q,1H）、4.22（q,2
H）、4.66（m,4H）、7.30（d,1H）、7.50（d,1H） 〔実施例５〕 ３−〔４−クロル−２−フルオロ−５−（１−エトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニル〕1,5−テトラメ
チレン−２−チオヒダントイン（化合物番号21）： ピペコリン酸エチル0.15gをベンゼン20mlに溶解し、室
温で攪拌下に、４−クロル−２−フルオロ−５−（１−
エトキシカルボニルエトキシメチル）フェニルイソチオ
シアネート0.30gを加えた。室温で1.5時間攪拌後、溶媒
を減圧留去し残留をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、目的物0.25gを得た。▲n26 D▼1.5715 〔実施例６〕 ４−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−エトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニル〕−1,2−テトラ
メチレン３−チオウラゾール（化合物番号16）： １−エトキシカルボニル−1,2−テトラメチレンヒドラ
ジン0.15gをベンゼン20mlに溶解し攪拌下４−クロロ−
２−フルオロ−５−（１−エトキシカルボニルエトキシ
メチル）フェニルイソチオシアネート0.30gを加えた。
室温で１時間攪拌し得られた１−〔４−クロロ−２−フ
ルオロ−５−（１−エトキシカルボニルエトキシメチ
ル）フェニルチオカルバモイル）−２−エトキシカルボ
ニル−1,2−テトラメチレンヒドラジンを単離すること
なく、カセイソーダ粉末触媒量を加え１時間加熱還流し
た。反応液を水洗、脱水、減圧濃縮し得られた残留をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物
0.35g得た。
▲n23 D▼1.5635 〔実施例７〕 ３−〔４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−メトキシ
カルボニルエトキシメチル）フェニルイミノ〕−6,7−
ジヒドロ−3H,5H−ピロロ−〔2,1−ｃ〕〔1,2,4〕チア
ジアゾール（化合物番号９）： ３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシメチ
ルフェニルイミノ）−6,7−ジヒドロ−3H,5H−ピロロ−
〔2,1−ｃ〕〔1,2,4〕チアジアゾール0.40g、２−クロ
ロプロピオン酸メチル0.18gを乾燥したN,N−ジメチルホ
ルムアミド10mlに溶解し、冷却下攪拌しながら60％水素
化ナトリウム0.06gを徐々に加えた。室温で一夜攪拌し
たのち反応液を氷水に投入し酢酸エチルで抽出した。有
機層を水洗、脱水、減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製し目的物0.26gを
得た。
カルボニルエトキシメチル）フェニルイミノ〕−6,7−
ジヒドロ−3H,5H−ピロロ−〔2,1−ｃ〕〔1,2,4〕チア
ジアゾール（化合物番号９）： ３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシメチ
ルフェニルイミノ）−6,7−ジヒドロ−3H,5H−ピロロ−
〔2,1−ｃ〕〔1,2,4〕チアジアゾール0.40g、２−クロ
ロプロピオン酸メチル0.18gを乾燥したN,N−ジメチルホ
ルムアミド10mlに溶解し、冷却下攪拌しながら60％水素
化ナトリウム0.06gを徐々に加えた。室温で一夜攪拌し
たのち反応液を氷水に投入し酢酸エチルで抽出した。有
機層を水洗、脱水、減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製し目的物0.26gを
得た。
m.p 88.5−90℃ 上記実施例を含め、本発明化合物の代表例を第１表に示
す。
す。
〔問題点を解決するための手段−除草剤〕 本発明除草剤は、前記一般式〔Ｉ〕で示される化合物の
１又は２以上を有効成分として含有し、通常の農薬と同
様の形態を有する。即ち、有効成分化合物は一般に適当
な量を担体と混合して水和剤、乳剤、粒剤、水溶剤、フ
ロアブル剤等の形に製剤して使用される。固体担体とし
てはタルク、ホワイトカーボン、ベントナイト、クレ
イ、ケイソウ土等が挙げられ、液体担体としては、水、
アルコール、ベンゼン、キシレン、ケロシン、鉱油、シ
クロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミ
ド等が用いられる。これらの製剤において均一且つ安定
な形態をとるために必要ならば界面活性剤を添加するこ
ともできる。
１又は２以上を有効成分として含有し、通常の農薬と同
様の形態を有する。即ち、有効成分化合物は一般に適当
な量を担体と混合して水和剤、乳剤、粒剤、水溶剤、フ
ロアブル剤等の形に製剤して使用される。固体担体とし
てはタルク、ホワイトカーボン、ベントナイト、クレ
イ、ケイソウ土等が挙げられ、液体担体としては、水、
アルコール、ベンゼン、キシレン、ケロシン、鉱油、シ
クロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミ
ド等が用いられる。これらの製剤において均一且つ安定
な形態をとるために必要ならば界面活性剤を添加するこ
ともできる。
本発明除草剤における有効成分濃度は前述した製剤の形
により種々の濃度に変化するものであるが、例えば、水
和剤においては５〜70％、好ましくは10〜30％：乳剤に
おいては３〜70％、好ましくは５〜20％、粒剤において
は0.01〜20％。好ましくは0.05〜10％の濃度が用いられ
る。
により種々の濃度に変化するものであるが、例えば、水
和剤においては５〜70％、好ましくは10〜30％：乳剤に
おいては３〜70％、好ましくは５〜20％、粒剤において
は0.01〜20％。好ましくは0.05〜10％の濃度が用いられ
る。
この様にして得られた水和剤、乳剤は水で所定の濃度に
希釈して懸濁液或いは乳濁液として散布され、粒剤はそ
のまま雑草の発芽前または発芽後に土壌に散布処理若し
くは混和処理される。実際に本発明除草剤を適用するに
あたっては10アール当り有効成分1g以上の適当量が施用
される。
希釈して懸濁液或いは乳濁液として散布され、粒剤はそ
のまま雑草の発芽前または発芽後に土壌に散布処理若し
くは混和処理される。実際に本発明除草剤を適用するに
あたっては10アール当り有効成分1g以上の適当量が施用
される。
また本発明除草剤は公知の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、
除草剤、植物生長調整剤等と混合して使用することもで
きる。特に除草剤と混合使用することにより、使用薬量
を減少させ、また省力化をもたらすのみならず、混合薬
剤の相乗作用による一層高い効果も期待できる。その場
合複数の公知除草剤との組み合わせも可能である。本発
明除草剤と混合使用するにふさわしい薬剤としては、ベ
ンチオカーブ、モリネート、MY−93〔Ｓ−（2,2−ジメ
チルベンジル）１−ピペリジンカルボチオエート〕等の
カーバメイト系除草剤、チオカーバメイト系除草剤、ブ
タクロール、プレチラクロール等の酸アミド系除草剤、
クロメトキシニル、ビフェノックス等のジフェニルエー
テル系除草剤、ピラゾレート、ピラゾキシフェン等のピ
ラゾール系除草剤、クロルスルフロン、スルホメチュロ
ン−メチル等のスルホニルウレア系除草剤、イマザキ
ン、イマザピル等のイミダゾリン系除草剤、MCP、MCPB
等のフェノキシアルカンカルボン酸系除草剤、ジクロホ
ップ−メチル等のフェノキシフェノキシプロピオン酸系
除草剤、フルアジホップブチル等のピリジルオキシフェ
ノキシプロピオン酸系除草剤、その他としてピペロホ
ス、ダイムロン、ベンタゾン、オキサジアゾン、NTN−8
01（２−ベンゾチオアゾール−２−イルオキシ−Ｎ−メ
チルアセトアニリド）、ナプロアニリド、HW−52（４−
エトキシメトキシベンズ−２′,3′−ジクロルアニライ
ド）、KNW−242〔１−（３−メチルフェニル）−５−フ
ェニル−1H−1,2,4−トリアゾール−３−カルボキサミ
ド〕、Ｓ−47〔Ｎ−（2,2−ジメチルベンジル）−ｄ−
プロモーターシャリーブチルアセトアミド〕、セトキシ
ジム、アロキシジム−ソディウム等のシクロヘキサンジ
オン系の除草剤等があげられる。
除草剤、植物生長調整剤等と混合して使用することもで
きる。特に除草剤と混合使用することにより、使用薬量
を減少させ、また省力化をもたらすのみならず、混合薬
剤の相乗作用による一層高い効果も期待できる。その場
合複数の公知除草剤との組み合わせも可能である。本発
明除草剤と混合使用するにふさわしい薬剤としては、ベ
ンチオカーブ、モリネート、MY−93〔Ｓ−（2,2−ジメ
チルベンジル）１−ピペリジンカルボチオエート〕等の
カーバメイト系除草剤、チオカーバメイト系除草剤、ブ
タクロール、プレチラクロール等の酸アミド系除草剤、
クロメトキシニル、ビフェノックス等のジフェニルエー
テル系除草剤、ピラゾレート、ピラゾキシフェン等のピ
ラゾール系除草剤、クロルスルフロン、スルホメチュロ
ン−メチル等のスルホニルウレア系除草剤、イマザキ
ン、イマザピル等のイミダゾリン系除草剤、MCP、MCPB
等のフェノキシアルカンカルボン酸系除草剤、ジクロホ
ップ−メチル等のフェノキシフェノキシプロピオン酸系
除草剤、フルアジホップブチル等のピリジルオキシフェ
ノキシプロピオン酸系除草剤、その他としてピペロホ
ス、ダイムロン、ベンタゾン、オキサジアゾン、NTN−8
01（２−ベンゾチオアゾール−２−イルオキシ−Ｎ−メ
チルアセトアニリド）、ナプロアニリド、HW−52（４−
エトキシメトキシベンズ−２′,3′−ジクロルアニライ
ド）、KNW−242〔１−（３−メチルフェニル）−５−フ
ェニル−1H−1,2,4−トリアゾール−３−カルボキサミ
ド〕、Ｓ−47〔Ｎ−（2,2−ジメチルベンジル）−ｄ−
プロモーターシャリーブチルアセトアミド〕、セトキシ
ジム、アロキシジム−ソディウム等のシクロヘキサンジ
オン系の除草剤等があげられる。
またこれらの組合わせたものに植物油及び油濃縮物を添
加することもできる。
加することもできる。
次に本発明除草剤に関する製剤例を若干示すが有効成分
化合物、添加物及び添加割合は本実施例にのみ限定され
ることなく広い範囲で変更可能である。
化合物、添加物及び添加割合は本実施例にのみ限定され
ることなく広い範囲で変更可能である。
〔実施例８〕 水和剤 本発明化合物５ 20部 ホワイトカーボン 20部 ケイソウ土 52部 アルキル硫酸ソーダ ８部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分20％の水
和剤を得た。
和剤を得た。
〔実施例９〕 乳剤 本発明化合物６ 20部 キシレン 55部 ジメチルホルムアミド 15部 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10部 以上を混合、溶解して有効成分20％の乳剤を得た。
〔実施例10〕 粒剤 本発明化合物９ ５部 タルク 40部 クレー 38部 ベントナイト 10部 アルキル硫酸ソーダ ７部 以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径0.5〜1.0mmの
粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得た。
粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得た。
次に本発明除草剤の効果に関する試験例を示す。
〔試験例１〕 茎葉散布処理 100cm2のポットに土壌を充填し、表層にカヤツリグサ、
イチビ、イヌビユ、アカザの各種子を播き、種子が見え
ない程度に覆土し温室内で生育させた。各雑草が4cm〜1
2cmの草丈に生育した時点で各供試化合物の乳剤を水で
希釈して調整した薬液を100l/10aの割合で小型噴霧器に
て雑草の茎葉部に散布した。３週間後に雑草の生育状況
を下記の基準に従って調査し、第２表に示す結果を得
た。
イチビ、イヌビユ、アカザの各種子を播き、種子が見え
ない程度に覆土し温室内で生育させた。各雑草が4cm〜1
2cmの草丈に生育した時点で各供試化合物の乳剤を水で
希釈して調整した薬液を100l/10aの割合で小型噴霧器に
て雑草の茎葉部に散布した。３週間後に雑草の生育状況
を下記の基準に従って調査し、第２表に示す結果を得
た。
殺 草 率 指 数 0 ％ ０ 20〜29 ％ ２ 40〜49 ％ ４ 60〜69 ％ ６ 80〜89 ％ ８ 100 ％ 10 また1,3,5,7,9の数値は、各々０と２、２と４、４と
６、６と８、８と10の中間の値を示す。
６、６と８、８と10の中間の値を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 43/90 １０３ １０４ Ｃ０７Ｄ 209/48 231/56 Ｄ 237/30 471/04 １０１ １０８ Ｘ 487/04 １４０ 7019−4Ｃ 513/04 ３２５ (72)発明者 石川 尚雄 神奈川県小田原市高田字柳町345 日本曹 達株式会社小田原研究所内 (72)発明者 佐藤 淳司 神奈川県小田原市高田字柳町345 日本曹 達株式会社小田原研究所内 (56)参考文献 特開 昭58−13567（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−209061（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−70358（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−43192（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−161288（ＪＰ，Ａ) 国際公開87−7602（ＷＯ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 〔式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を、Ｙはハロゲ
ン原子を、Ａ、Ｂはそれぞれ低級アルキレン基又は低級
アルキリデン基を、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を、Ｚは
低級アルコキシ基、低級アルキルアミノ基、低級ジアル
キルアミノ基、モルホリル基、又はOM（Ｍはアルカリ金
属を示す。）を、Ｑは の如き複素環残基（ここでR1はハロゲン原子又は低級ア
ルキル基、R2は水素原子又は低級アルキル基を示す。）
を示す。〕で表わされる化合物。 - 【請求項２】一般式 〔式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を、Ｙはハロゲ
ン原子を、Ａ、Ｂはそれぞれ低級アルキレン基又は低級
アルキリデン基を、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を、Ｚは
低級アルコキシ基、低級アルキルアミノ基、低級ジアル
キルアミノ基、モルホリル基、又はOM（Ｍはアルカリ金
属を示す。）を、Ｑは の如き複素環残基（ここでR1はハロゲン原子又は低級ア
ルキル基、R2は水素原子又は低級アルキル基を示す。）
を示す。〕で表わされる化合物の１種又は２種以上を有
効成分として含有することを特徴とする除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62120232A JPH07100692B2 (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 複素環化合物及びそれを含有してなる除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62120232A JPH07100692B2 (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 複素環化合物及びそれを含有してなる除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63287766A JPS63287766A (ja) | 1988-11-24 |
| JPH07100692B2 true JPH07100692B2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=14781125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62120232A Expired - Lifetime JPH07100692B2 (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 複素環化合物及びそれを含有してなる除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07100692B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6409988B1 (en) | 1999-07-01 | 2002-06-25 | 3-Dimensional Pharmaceuticals, Inc. | Radiolabeled 1-aryl pyrazoles, the synthesis thereof and the use thereof as pest GABA receptor ligands |
| US6506784B1 (en) | 1999-07-01 | 2003-01-14 | 3-Dimensional Pharmaceuticals, Inc. | Use of 1,3-substituted pyrazol-5-yl sulfonates as pesticides |
| WO2001007413A1 (en) | 1999-07-22 | 2001-02-01 | 3-Dimensional Pharmaceuticals, Inc. | 1-aryl-3-thioalkyl pyrazoles, the synthesis thereof and the use thereof as insecticides |
| US6545033B1 (en) | 1999-10-06 | 2003-04-08 | 3-Dimensional Pharmaceuticals, Inc. | Fused 1-(2,6-dichloro-4-trifluoromethylphenyl)-pyrazoles, the synthesis thereof and the use thereof as pesticides |
-
1987
- 1987-05-19 JP JP62120232A patent/JPH07100692B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63287766A (ja) | 1988-11-24 |
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