JPH0699467B2 - 2▲’▼−デオキシ−2▲’▼(s)−アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体 - Google Patents
2▲’▼−デオキシ−2▲’▼(s)−アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体Info
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- JPH0699467B2 JPH0699467B2 JP62049540A JP4954087A JPH0699467B2 JP H0699467 B2 JPH0699467 B2 JP H0699467B2 JP 62049540 A JP62049540 A JP 62049540A JP 4954087 A JP4954087 A JP 4954087A JP H0699467 B2 JPH0699467 B2 JP H0699467B2
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規化合物、2′−デオキシ−2′(S)−
アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体、その製造法お
よびそれを有効成分として含有してなる抗ウィルス剤に
関するものである。
アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体、その製造法お
よびそれを有効成分として含有してなる抗ウィルス剤に
関するものである。
近年、種々のウィルス感染症の病原ウィルスに関する研
究が進むにつれ、その予防薬や治療剤の開発が注目を集
めている。
究が進むにつれ、その予防薬や治療剤の開発が注目を集
めている。
従来、化学療法による抗ウィルスの剤としてイドクスウ
リジン、シタラビン、ビダラビン、アシクロビルが臨床
に供されている(たとえば水島裕、宮本昭正共著、1986
年版、今日の治療薬 解説と便覧、第47〜50頁、1986年
3月10日発行、南江堂参照)のをはじめ、各種の抗ウィ
ルス活性ヌクレオシドの医薬としての開発が進められて
いる。
リジン、シタラビン、ビダラビン、アシクロビルが臨床
に供されている(たとえば水島裕、宮本昭正共著、1986
年版、今日の治療薬 解説と便覧、第47〜50頁、1986年
3月10日発行、南江堂参照)のをはじめ、各種の抗ウィ
ルス活性ヌクレオシドの医薬としての開発が進められて
いる。
しかしながら、上記薬剤は抗ウィルス活性スペクトル、
低吸収性、難溶解性、易分解性、薬剤耐性ウィルス株の
出現、種々の副作用などにより臨床面での利用が制限さ
れるなどの問題があるものが多い。このため、新規な抗
ウィルス剤の開発が強く要望されている。
低吸収性、難溶解性、易分解性、薬剤耐性ウィルス株の
出現、種々の副作用などにより臨床面での利用が制限さ
れるなどの問題があるものが多い。このため、新規な抗
ウィルス剤の開発が強く要望されている。
本発明はすぐれた抗ウィルス作用を有する新規な化合物
を提供することを主たる目的とするものである。
を提供することを主たる目的とするものである。
本発明者らは、抗ウィルス剤として有用な新規化合物を
開発すべく研究を重ねた結果、下記一般式〔I〕で表わ
される2′−デオキシ−2′(S)−アルキルピリミジ
ンヌクレオシド誘導体が優れた抗ウィルス活性を有して
いることを見い出した。本発明は、該知見に基づいて完
成されたものである。
開発すべく研究を重ねた結果、下記一般式〔I〕で表わ
される2′−デオキシ−2′(S)−アルキルピリミジ
ンヌクレオシド誘導体が優れた抗ウィルス活性を有して
いることを見い出した。本発明は、該知見に基づいて完
成されたものである。
すなわち、本発明は、一般式〔I〕 (式中、R1はアミノ基または水酸基、R2は水素原子また
は低級アルキル基、R3は低級アルキル基、R4は水素原子
またはリン酸残基をそれぞれ示す。)で表される2′−
デオキシ−2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシ
ド誘導体またはその塩に関するものである。
は低級アルキル基、R3は低級アルキル基、R4は水素原子
またはリン酸残基をそれぞれ示す。)で表される2′−
デオキシ−2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシ
ド誘導体またはその塩に関するものである。
また、本発明は、下記の第1〜3工程よりなる一般式
〔I〕で表される2′−デオキシ−2′(S)−アルキ
ルピリミジンヌクレオシド誘導体の製造法に関するもの
である。
〔I〕で表される2′−デオキシ−2′(S)−アルキ
ルピリミジンヌクレオシド誘導体の製造法に関するもの
である。
第1工程; 下記一般式〔II〕で表される化合物の糖部2′位をアル
キル化剤によりアルキル化し、下記一般式〔III〕で表
される化合物を得る工程 (式中、R2およびR3は前記と同意義であり、R5はアルコ
キシル基、Zは保護基を示す。) 第2工程; 下記一般式〔III〕で表される化合物の糖部2′位の水
酸基をアシル化した後、還元剤により還元し、次いで脱
保護して下記一般式〔IV〕で表される化合物を得る工程 (式中、R2、R3、R5およびZは前記と同意義。) 第3工程; 下記一般式〔IV〕で表される化合物の塩基部4位を加水
分解またはアミノ化し、所望によりさらに糖部5′位を
リン酸化することにより下記一般式〔I〕で表される化
合物を得る工程 (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前記と同意義。) さらに本発明は前記一般式〔I〕で表わされる2′−デ
オキシ−2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシド
誘導体またはその塩を有効成分として含有してなる抗ウ
ィルス剤に関するものである。
キル化剤によりアルキル化し、下記一般式〔III〕で表
される化合物を得る工程 (式中、R2およびR3は前記と同意義であり、R5はアルコ
キシル基、Zは保護基を示す。) 第2工程; 下記一般式〔III〕で表される化合物の糖部2′位の水
酸基をアシル化した後、還元剤により還元し、次いで脱
保護して下記一般式〔IV〕で表される化合物を得る工程 (式中、R2、R3、R5およびZは前記と同意義。) 第3工程; 下記一般式〔IV〕で表される化合物の塩基部4位を加水
分解またはアミノ化し、所望によりさらに糖部5′位を
リン酸化することにより下記一般式〔I〕で表される化
合物を得る工程 (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前記と同意義。) さらに本発明は前記一般式〔I〕で表わされる2′−デ
オキシ−2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシド
誘導体またはその塩を有効成分として含有してなる抗ウ
ィルス剤に関するものである。
以下、本発明について詳述する。
本発明化合物である2′−デオキシ−2′(S)−アル
キルピリミジンヌクレオシド誘導体は、前記一般式
〔I〕で表されるものである。該一般式におけるR1、
R2、R3およびR4は前記定義のとおりであるが、R2および
R3の低級アルキル基の具体例としては、炭素数1〜3の
低級アルキル基、さらに具体的にはメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピルなどが挙げられる。
キルピリミジンヌクレオシド誘導体は、前記一般式
〔I〕で表されるものである。該一般式におけるR1、
R2、R3およびR4は前記定義のとおりであるが、R2および
R3の低級アルキル基の具体例としては、炭素数1〜3の
低級アルキル基、さらに具体的にはメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピルなどが挙げられる。
このような本発明化合物の代表例としては、たとえば
2′−デオキシ−2′(S)−メチルシチジン、2′−
デオキシ−2′(S)−エチルシチジン、2′−デオキ
シ−2′(S)−プロピルシチジン、2′−デオキシ−
2′(S)−メチルウリジン、2′−デオキシ−2′
(S)−エチルウリジン、2′−デオキシ−2′(S)
−イソプロピルウリジン、2′(S)−メチルチミジ
ン、2′(S)−エチルチミジン、2′(S)−プロピ
ルチミジンなどのヌクレオシドおよびこれらの5′−り
ん酸エステルが挙げられる。
2′−デオキシ−2′(S)−メチルシチジン、2′−
デオキシ−2′(S)−エチルシチジン、2′−デオキ
シ−2′(S)−プロピルシチジン、2′−デオキシ−
2′(S)−メチルウリジン、2′−デオキシ−2′
(S)−エチルウリジン、2′−デオキシ−2′(S)
−イソプロピルウリジン、2′(S)−メチルチミジ
ン、2′(S)−エチルチミジン、2′(S)−プロピ
ルチミジンなどのヌクレオシドおよびこれらの5′−り
ん酸エステルが挙げられる。
これらの本発明ヌクレオシドの中でも、一般式〔I〕中
のR2が水素原子またはメチル基、R3がメチル基である化
合物群、特に2′−デオキシ−2′(S)−メチルシチ
ジンおよび2′(S)−メチルチミジンがヘルペスウイ
ルス科に属する単純ヘルペスウイルス(HSV)に対して
強力な抗ウィルス活性を有している。
のR2が水素原子またはメチル基、R3がメチル基である化
合物群、特に2′−デオキシ−2′(S)−メチルシチ
ジンおよび2′(S)−メチルチミジンがヘルペスウイ
ルス科に属する単純ヘルペスウイルス(HSV)に対して
強力な抗ウィルス活性を有している。
本発明化合物は塩の形態も包含するものであり、かかる
塩としては、たとえば前記一般式〔I〕のR4が水素原子
である場合には塩酸塩または硫酸塩などの酸付加塩、R4
がリン酸残基である場合にはナトリウム塩、カリウム塩
またはリチウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウム塩
などのアルカリ土類金属塩もしくはアンモニウム塩など
の薬学的に許容される任意の塩が例示される。
塩としては、たとえば前記一般式〔I〕のR4が水素原子
である場合には塩酸塩または硫酸塩などの酸付加塩、R4
がリン酸残基である場合にはナトリウム塩、カリウム塩
またはリチウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウム塩
などのアルカリ土類金属塩もしくはアンモニウム塩など
の薬学的に許容される任意の塩が例示される。
本発明化合物は、新規化合物であり、上記に述べた3反
応工程により製造することができる。各反応工程につい
て以下詳細に説明する。
応工程により製造することができる。各反応工程につい
て以下詳細に説明する。
第1工程 本発明方法における原料化合物であるピリミジンヌクレ
オシド誘導体は一般式〔II〕で表わされるものである。
該式中のR2およびZは前記定義のとおりであり、R5のア
ルコキシル基の具体例としては炭素数1〜3の低級アル
コキシル基、さらに具体的にはメトキシ、エトキシ、プ
ロポキシなどが挙げられる。またZの保護基としては、
通常のヌクレオシドの保護基として使用されるものであ
ればよく、たとえばアセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、ベンゾイルなどのアシル基、ベンジリデンなどのア
ルキリデン基、トリチルなどのアリールアルキル基、テ
トライソプロピルジシロキシル(TIPDS),t−ブチルジ
メチルシリルなどのシリル保護基が例示できる。
オシド誘導体は一般式〔II〕で表わされるものである。
該式中のR2およびZは前記定義のとおりであり、R5のア
ルコキシル基の具体例としては炭素数1〜3の低級アル
コキシル基、さらに具体的にはメトキシ、エトキシ、プ
ロポキシなどが挙げられる。またZの保護基としては、
通常のヌクレオシドの保護基として使用されるものであ
ればよく、たとえばアセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、ベンゾイルなどのアシル基、ベンジリデンなどのア
ルキリデン基、トリチルなどのアリールアルキル基、テ
トライソプロピルジシロキシル(TIPDS),t−ブチルジ
メチルシリルなどのシリル保護基が例示できる。
本原料化合物は公知の方法を応用して合成することがで
きる。たとえば次のような反応経路により調製すること
が可能である。
きる。たとえば次のような反応経路により調製すること
が可能である。
(式中、R2、R5およびZは前記と同意義。) すなわち、一般式(A)で表されるウリジン類の糖部水
酸基を保護した後、塩基部4位をハロゲン化剤によりハ
ロゲン化し、次いでこれにアルコキシドを反応させてア
ルコキシル基を導入し、一般式(B)化合物を得る。一
般式(B)で表される4−アルコキシ体の糖部3′およ
び5′位を保護した後、糖部2′位水酸基を酸化するこ
とにより原料化合物を得ることができる。
酸基を保護した後、塩基部4位をハロゲン化剤によりハ
ロゲン化し、次いでこれにアルコキシドを反応させてア
ルコキシル基を導入し、一般式(B)化合物を得る。一
般式(B)で表される4−アルコキシ体の糖部3′およ
び5′位を保護した後、糖部2′位水酸基を酸化するこ
とにより原料化合物を得ることができる。
ハロゲン化反応における水酸基の保護基としては、ハロ
ゲン化反応の障害にならないものであれば特に限定され
ず、アシル基、アルキリデン基、アリールアルキル基な
ど通常の水酸基の保護基が適用されるが、特に酸の存在
により脱離しない保護基、たとえばアシル基が好まし
い。
ゲン化反応の障害にならないものであれば特に限定され
ず、アシル基、アルキリデン基、アリールアルキル基な
ど通常の水酸基の保護基が適用されるが、特に酸の存在
により脱離しない保護基、たとえばアシル基が好まし
い。
たとえばアシル保護反応は常法によって行えばよく、一
般式(A)化合物に反応溶媒(たとえばピリジン、ピコ
リン、ジエチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル、トリエチルアミ
ンなどの単独または混合溶媒)中でアシル化剤(たとえ
ば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、置換安息香
酸などの酸無水物もしくはそれらの酸塩化物など)を3
〜10倍モル、反応温度0〜50℃で反応させることにより
実施することができる。
般式(A)化合物に反応溶媒(たとえばピリジン、ピコ
リン、ジエチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル、トリエチルアミ
ンなどの単独または混合溶媒)中でアシル化剤(たとえ
ば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、置換安息香
酸などの酸無水物もしくはそれらの酸塩化物など)を3
〜10倍モル、反応温度0〜50℃で反応させることにより
実施することができる。
ハロゲン化反応は、不活性溶媒(たとえば、クロロホル
ム、塩化メチレンなど)中、ハロゲン化剤を作用させる
方法により行うことができる。ハロゲン化剤としては塩
化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リンなどを適用
することができ、必要に応じてジメチルスルホキシドな
どの有機溶媒溶液として使用してもよい。使用量は一般
式(A)化合物1モルに対して1〜5モル程度である。
反応は、加熱還流下で行えばよい。
ム、塩化メチレンなど)中、ハロゲン化剤を作用させる
方法により行うことができる。ハロゲン化剤としては塩
化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リンなどを適用
することができ、必要に応じてジメチルスルホキシドな
どの有機溶媒溶液として使用してもよい。使用量は一般
式(A)化合物1モルに対して1〜5モル程度である。
反応は、加熱還流下で行えばよい。
アルコキシル基の導入反応は、保護基を有する一般式
(A)の4−ハロゲノ体に反応溶媒(たとえば、メタノ
ール、エタノール、プロパノール)中でアルコキシド
(たとえば、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナト
リウムプロポキシドなど)を1〜5倍モル程度加熱反応
させることにより実施することができる。
(A)の4−ハロゲノ体に反応溶媒(たとえば、メタノ
ール、エタノール、プロパノール)中でアルコキシド
(たとえば、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナト
リウムプロポキシドなど)を1〜5倍モル程度加熱反応
させることにより実施することができる。
3′位および5′位の保護基としては、前記のハロゲン
化反応で使用されるものと同一のものでよく、好ましく
はシリル保護基であり、特にTIPDS基が好適である。
化反応で使用されるものと同一のものでよく、好ましく
はシリル保護基であり、特にTIPDS基が好適である。
シリル化保護を例にして説明すれば、シリル化剤の使用
量は一般式(B)化合物1モルに対して1〜3モルの範
囲から適宜選定でき、反応条件は前述のアシル化反応と
同様の条件を採用できる。
量は一般式(B)化合物1モルに対して1〜3モルの範
囲から適宜選定でき、反応条件は前述のアシル化反応と
同様の条件を採用できる。
2′位水酸基の酸化方法としては、クロム酸−ピリミジ
ン−無水酢酸の複合体などを用いるクロム酸酸化(A
法)もしくは、塩化オキサリル−ジメチルスルホキシド
などにより生じる活性化ジメチルスルホキシドを用いる
活性化ジメチルスルホキシド酸化(B法)などを採用す
ることができる。反応はA法の場合−10℃〜室温、B法
の場合−70〜−10℃で1〜10当量の酸化剤の存在下に実
施することができる。
ン−無水酢酸の複合体などを用いるクロム酸酸化(A
法)もしくは、塩化オキサリル−ジメチルスルホキシド
などにより生じる活性化ジメチルスルホキシドを用いる
活性化ジメチルスルホキシド酸化(B法)などを採用す
ることができる。反応はA法の場合−10℃〜室温、B法
の場合−70〜−10℃で1〜10当量の酸化剤の存在下に実
施することができる。
前述のようにして製造される原料化合物は、通常の分離
精製手段を用いればよく、たとえば溶媒を留去後、カラ
ムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン等の適当な
有機溶媒にて結晶化する。
精製手段を用いればよく、たとえば溶媒を留去後、カラ
ムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン等の適当な
有機溶媒にて結晶化する。
本発明方法の第1工程は原料化合物の2′位をアルキル
化剤によりアルキル化する反応工程である。
化剤によりアルキル化する反応工程である。
本工程におけるアルキル化剤としては一般式R3MgX(式
中、R3は前記と同意義、Xはハロゲンを示す。)で表さ
れるグリニヤール試薬が使用できる。前記式中、ハロゲ
ンとしては、塩素、ヨウ素、臭素が挙げられ、ヨウ素、
臭素が好ましい。グリニヤール試薬の具体例としては、
目的とする一般式〔I〕化合物のR3によって異なるが、
臭化メチルマグネシウム、ヨウ化メチルマグネシウム、
臭化エチルマグネシウム、ヨウ化プロピルマグネシウム
などが用いられる。グリニヤール試薬の使用量は一般式
〔II〕化合物1モルに対して1〜10モル、好ましくは、
2〜4モルである。
中、R3は前記と同意義、Xはハロゲンを示す。)で表さ
れるグリニヤール試薬が使用できる。前記式中、ハロゲ
ンとしては、塩素、ヨウ素、臭素が挙げられ、ヨウ素、
臭素が好ましい。グリニヤール試薬の具体例としては、
目的とする一般式〔I〕化合物のR3によって異なるが、
臭化メチルマグネシウム、ヨウ化メチルマグネシウム、
臭化エチルマグネシウム、ヨウ化プロピルマグネシウム
などが用いられる。グリニヤール試薬の使用量は一般式
〔II〕化合物1モルに対して1〜10モル、好ましくは、
2〜4モルである。
反応は、エーテル,エチルグリコールジメチルエーテル
またはジオキサンなど単独もしくは二種類以上を混合し
た不活性溶媒中窒素あるいはアルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で実施し、反応温度は冷却下、好ましくは−80
〜0℃である。
またはジオキサンなど単独もしくは二種類以上を混合し
た不活性溶媒中窒素あるいはアルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で実施し、反応温度は冷却下、好ましくは−80
〜0℃である。
前述のようにして製造した一般式〔III〕化合物の単離
は、通常の分離精製手段を用いればよく、たとえばエー
テルと水で分配後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチルなどの有機溶媒で
溶出し結晶化する。なお、本工程のアルキル化反応にお
いては、目的とするリボフラノシル誘導体のほかにアラ
ビノフラノシル誘導体も副生成するが、これらはシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーなどで容易に分離するこ
とができる。
は、通常の分離精製手段を用いればよく、たとえばエー
テルと水で分配後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチルなどの有機溶媒で
溶出し結晶化する。なお、本工程のアルキル化反応にお
いては、目的とするリボフラノシル誘導体のほかにアラ
ビノフラノシル誘導体も副生成するが、これらはシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーなどで容易に分離するこ
とができる。
第2工程 本発明方法の第2工程は、一般式〔III〕化合物の2′
位水酸基をアシル化した後、還元剤を用いて還元し、次
いで脱保護することにより実施される。
位水酸基をアシル化した後、還元剤を用いて還元し、次
いで脱保護することにより実施される。
2′位のアシル化反応は第1工程の原料化合物の調製に
おいて説明したアシル化反応と同様に行えばよい。
おいて説明したアシル化反応と同様に行えばよい。
還元反応における還元剤としは、有機スズ水素化物が好
ましく、たとえば、水素化トリ−n−ブチルスズ、水素
化トリフェニルスズなどが用いられる。還元剤の使用量
は一般式〔III〕化合物1モルに対して1〜3モルが用
いられる。
ましく、たとえば、水素化トリ−n−ブチルスズ、水素
化トリフェニルスズなどが用いられる。還元剤の使用量
は一般式〔III〕化合物1モルに対して1〜3モルが用
いられる。
還元反応は、トルエンなどの有機溶媒中、アゾジイソブ
チロニトリルまたはジ−n−ブチルペルオキシドなどの
触媒の存在下で還元剤を反応させて行い、反応温度は50
〜150℃が好ましい。
チロニトリルまたはジ−n−ブチルペルオキシドなどの
触媒の存在下で還元剤を反応させて行い、反応温度は50
〜150℃が好ましい。
還元反応後の脱保護は、使用した保護基に応じた酸性加
水分解、アルカリ性加水分解、フッ化アンモニウム処
理、接触還元などの通常の処理を適宜選択して行えばよ
い。
水分解、アルカリ性加水分解、フッ化アンモニウム処
理、接触還元などの通常の処理を適宜選択して行えばよ
い。
このようにして合成される一般式〔IV〕化合物は、通常
のシリカゲルカラムクロマトグラフィー等にて単離する
こができる。
のシリカゲルカラムクロマトグラフィー等にて単離する
こができる。
第3工程 目的物として本発明化合物のR1がアミノ基のものを得る
場合には、一般式〔IV〕化合物をアミノ化反応に付し、
R1が水酸基であるものを得る場合には加水分解反応に付
す。
場合には、一般式〔IV〕化合物をアミノ化反応に付し、
R1が水酸基であるものを得る場合には加水分解反応に付
す。
アミノ化反応は常法に従って行えばよく、たとえば封管
中でメタノール性アンモニウムを一般式〔IV〕化合物に
反応させることにより行うことができる。反応温度は50
〜150℃である。
中でメタノール性アンモニウムを一般式〔IV〕化合物に
反応させることにより行うことができる。反応温度は50
〜150℃である。
加水分解反応も、常法に従って行えばよく、特に酸性加
水分解が好ましい。
水分解が好ましい。
また、一般式〔I〕中R4がリン酸残基である化合物の製
造を目的とする場合には、上述のアミノ化反応もしく
は、加水分解反応終了後、オキシ塩化リン、テトラクロ
ロピロリン酸などの通常のヌクレオシドの5′位の選択
的リン酸化に使用するリン酸化剤と反応させて常法によ
り遊離酸型または塩型の目的化合物を得ることができ
る。
造を目的とする場合には、上述のアミノ化反応もしく
は、加水分解反応終了後、オキシ塩化リン、テトラクロ
ロピロリン酸などの通常のヌクレオシドの5′位の選択
的リン酸化に使用するリン酸化剤と反応させて常法によ
り遊離酸型または塩型の目的化合物を得ることができ
る。
このようにして合成される本発明化合物は、一般のヌク
レオシド、ヌクレオシドの単離精製に使用されている方
法を適宜組み合わせて分離精製することができる。たと
えば、、ヌクレオシド体(一般式〔I〕のR4が水素原
子)の場合には溶媒留去後、エタノール等の適当な溶媒
から結晶化すればよく、必要に応じ塩型として得ること
もできる。ヌクレチオド体(一般式〔I〕のR4がリン酸
残基)の場合にはイオン交換樹脂などのイオン交換カラ
ムクロマトグラフィー、活性炭などの吸着カラムクロマ
トグラフィーなどにより精製し、凍結乾燥または結晶化
により遊離酸型を得ることができ、必要に応じて塩型と
して得ることもできる。
レオシド、ヌクレオシドの単離精製に使用されている方
法を適宜組み合わせて分離精製することができる。たと
えば、、ヌクレオシド体(一般式〔I〕のR4が水素原
子)の場合には溶媒留去後、エタノール等の適当な溶媒
から結晶化すればよく、必要に応じ塩型として得ること
もできる。ヌクレチオド体(一般式〔I〕のR4がリン酸
残基)の場合にはイオン交換樹脂などのイオン交換カラ
ムクロマトグラフィー、活性炭などの吸着カラムクロマ
トグラフィーなどにより精製し、凍結乾燥または結晶化
により遊離酸型を得ることができ、必要に応じて塩型と
して得ることもできる。
本発明化合物またはその塩は、ヘルペスウイルス科に属
する単純ヘルペスウィルス(HSV)に対して抗HSV作用を
示し、これらを有効成分とする本発明薬剤は単純ヘルペ
スウィルス感染症の治療の場で用いられる。
する単純ヘルペスウィルス(HSV)に対して抗HSV作用を
示し、これらを有効成分とする本発明薬剤は単純ヘルペ
スウィルス感染症の治療の場で用いられる。
本発明薬剤の有効成分である本発明化合物の投与量は、
患者の重篤度、薬物に対する忍容性などにより異なり、
最終的には医師の判断により決定されるべきであるが、
通常成人1日当り0.1〜10g、好ましくは0.2〜5gであ
り、これを1回または分割して投与する。投与方法は投
与ルートに適した任意の形態をとることができる。
患者の重篤度、薬物に対する忍容性などにより異なり、
最終的には医師の判断により決定されるべきであるが、
通常成人1日当り0.1〜10g、好ましくは0.2〜5gであ
り、これを1回または分割して投与する。投与方法は投
与ルートに適した任意の形態をとることができる。
本発明薬剤は任意慣用の製剤方法により投与用に調製す
ることができる。したがって、本発明薬剤は人体医薬と
して好適な一般式〔I〕で表される2′−デオキシ−
2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体を
含有する製剤組成物を包含するものである。
ることができる。したがって、本発明薬剤は人体医薬と
して好適な一般式〔I〕で表される2′−デオキシ−
2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体を
含有する製剤組成物を包含するものである。
このような組成物は任意所要の製剤用担体または補助剤
により慣用の方法で投与に供される。
により慣用の方法で投与に供される。
たとえば経口投与用の組成物製剤である場合には、消化
管からの吸収に好適な形態で提供され、錠剤、カプセル
剤、散剤、糖衣錠、顆粒剤など固型剤、シロップ剤、懸
濁剤、エリキシル剤などの液剤として調製すればよい。
固型剤の場合、シロップ、アラビアゴム、ゼラチン、ソ
ルビット、トラガカント、ポリビニルピロリドンなどの
結合剤、乳糖、砂糖、コーンスターチ、りん酸カルシウ
ム、ソルビット、グリシンなどの賦形剤、ステアリン酸
マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリ
カなどの潤滑剤、馬鈴薯でんぷんなどの崩壊剤、湿潤
剤、安定化剤、橋味剤などの補助剤を薬剤学的配慮によ
り選択使用して製剤化することができる。液剤の場合
は、補助剤として、必要に応じてソルビットシロップ、
メチルセルロース、グリコール/糖シロップ、ゼラチ
ン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ステアリン酸アルミニウムゲル、水素化食用
脂などの懸濁化剤、乳化剤、p−ヒドロキシ安息香酸メ
チル、p−ヒドロキシ安息香酸プロピル、ソルビン酸な
どの防腐剤を用いることができる。
管からの吸収に好適な形態で提供され、錠剤、カプセル
剤、散剤、糖衣錠、顆粒剤など固型剤、シロップ剤、懸
濁剤、エリキシル剤などの液剤として調製すればよい。
固型剤の場合、シロップ、アラビアゴム、ゼラチン、ソ
ルビット、トラガカント、ポリビニルピロリドンなどの
結合剤、乳糖、砂糖、コーンスターチ、りん酸カルシウ
ム、ソルビット、グリシンなどの賦形剤、ステアリン酸
マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリ
カなどの潤滑剤、馬鈴薯でんぷんなどの崩壊剤、湿潤
剤、安定化剤、橋味剤などの補助剤を薬剤学的配慮によ
り選択使用して製剤化することができる。液剤の場合
は、補助剤として、必要に応じてソルビットシロップ、
メチルセルロース、グリコール/糖シロップ、ゼラチ
ン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ステアリン酸アルミニウムゲル、水素化食用
脂などの懸濁化剤、乳化剤、p−ヒドロキシ安息香酸メ
チル、p−ヒドロキシ安息香酸プロピル、ソルビン酸な
どの防腐剤を用いることができる。
また、注射投与用の組成物製剤を調製する場合は、本発
明の有効成分である本発明化合物に必要によりpH調製
剤、緩衝剤、安定化剤、保存剤、可溶性化剤などを添加
し、常法により、皮下、筋肉内、静脈内注射剤とする。
明の有効成分である本発明化合物に必要によりpH調製
剤、緩衝剤、安定化剤、保存剤、可溶性化剤などを添加
し、常法により、皮下、筋肉内、静脈内注射剤とする。
以下に、本発明薬剤の有効成分である一般式〔I〕化合
物の抗HSV作用についての試験方法および結果を以下に
述べる。
物の抗HSV作用についての試験方法および結果を以下に
述べる。
試験方法 A.ヒト胎児肺由来細胞をイーグルMEM培地(10%準胎児
血清添加)で継代培養する。
血清添加)で継代培養する。
B.上記継代培養したものを親培養とし、これを2倍に希
釈した細胞懸濁液を150ml/ウェルの割合で96穴ミクロウ
ェルに播き、炭酸ガスインキュベーター内で37℃、4〜
5日間培養する。
釈した細胞懸濁液を150ml/ウェルの割合で96穴ミクロウ
ェルに播き、炭酸ガスインキュベーター内で37℃、4〜
5日間培養する。
C.培養液を捨て、50%組織培養感染量の100〜320倍(10
0〜320TCID50)のHSVタイプ1(HSV−1)VR3株またはH
SVタイプ2(HSV−2)MS株を接種する。37℃、1時間
インキュベートした後、ウィルス液は捨て、適当濃度の
被験化合物を含むイーグルMEM培地(2.5%血清添加)を
加えて30℃で培養する。被験化合物は通常100〜1μg/m
lの範囲で0.5log10倍段階希釈して試験に供す。
0〜320TCID50)のHSVタイプ1(HSV−1)VR3株またはH
SVタイプ2(HSV−2)MS株を接種する。37℃、1時間
インキュベートした後、ウィルス液は捨て、適当濃度の
被験化合物を含むイーグルMEM培地(2.5%血清添加)を
加えて30℃で培養する。被験化合物は通常100〜1μg/m
lの範囲で0.5log10倍段階希釈して試験に供す。
D.2〜3日間培養後、被験化合物を含まない対照がウィ
ルス感染により完全に細胞が変性した時点で顕微鏡下各
ウィルスの細胞変性効果(CPE)の程度を観察し、スコ
アー0〜4をつける。
ルス感染により完全に細胞が変性した時点で顕微鏡下各
ウィルスの細胞変性効果(CPE)の程度を観察し、スコ
アー0〜4をつける。
E.CPEを50%以上阻止(CPEスコア2以下)する最小濃度
を被験化合物の最少有効濃度(MIC)とする。
を被験化合物の最少有効濃度(MIC)とする。
実施例 以下に本発明の実施例をあげて本発明について具体的に
述べるが、本発明は何らこれらによって限定されるもの
ではない。
述べるが、本発明は何らこれらによって限定されるもの
ではない。
実施例1 2′−デオキシ−2′(S)−メチルシチジ
ン〔一般式〔I〕、R1=NH2,R2=H,R3=CH3,R4=H〕
の塩酸塩の製造 1)4−O−エチルウリジン〔一般式(B),R2=H,R5
=OC2H5〕の合成 2′,3′,5′−トリ−O−アセチリウリジン3.35gをク
ロロホルム50mlに溶解させ、塩化チオニル8.1mlおよび
ジメチルホルムアミド0.5mlを加え、6時間30分還流し
た後、減圧乾固させた、残渣をエタノール20mlに溶解さ
せ、1規定のナトリウムエトキシド30ml加え、2時間還
流した後、1規定の塩酸で中和し、析出した塩を濾別し
て溶液を濃縮乾固した。これをシリカゲルカラム(4×
31cm)に吸着させ、目的化合物含有画分を16%エタノー
ル−クロロホルムで溶出し、溶媒を留去して目的物の粗
結晶を得た。これをエタノールより再結晶して目的物2.
08g(収率84.2%)を得た。
ン〔一般式〔I〕、R1=NH2,R2=H,R3=CH3,R4=H〕
の塩酸塩の製造 1)4−O−エチルウリジン〔一般式(B),R2=H,R5
=OC2H5〕の合成 2′,3′,5′−トリ−O−アセチリウリジン3.35gをク
ロロホルム50mlに溶解させ、塩化チオニル8.1mlおよび
ジメチルホルムアミド0.5mlを加え、6時間30分還流し
た後、減圧乾固させた、残渣をエタノール20mlに溶解さ
せ、1規定のナトリウムエトキシド30ml加え、2時間還
流した後、1規定の塩酸で中和し、析出した塩を濾別し
て溶液を濃縮乾固した。これをシリカゲルカラム(4×
31cm)に吸着させ、目的化合物含有画分を16%エタノー
ル−クロロホルムで溶出し、溶媒を留去して目的物の粗
結晶を得た。これをエタノールより再結晶して目的物2.
08g(収率84.2%)を得た。
融点:136〜137.5℃ 元素分析値:C11H16N2O6・1/3H2Oとして 計算値(%)C:46.97,H:6.09,N:9.96,O:36.98 実測値(%)C:46.91,H:6.02,N:9.98,O:37.09 2)1−(3′,5′−0−TIPDS−β−D−エリスロペ
ントフラン−2−ウロシル)−4−エトキシ−2−ピリ
ミジノン〔一般式(II),R2=H,R5=OC2H5,Z(3′)
−Z(5′)=TIPDS〕の合成 4−O−エチルウリジン7.04gをピリジン80mlに溶解さ
せ、氷冷してから1,1,3,3,−ジクロロテトライソプロピ
ルジシロキサン9.57gを加え、室温で4時間30分撹拌反
応させた。氷水を加え、溶媒を留去し、残渣をクロロホ
ルム−水で分配し、クロロホルム層を乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラム(10×130cm)に吸着さ
せ、40%酢酸エチル−ヘキサンで溶出された部分を集め
て濃縮し、3′,5′−0−TIPDS体12.3gを得た。
ントフラン−2−ウロシル)−4−エトキシ−2−ピリ
ミジノン〔一般式(II),R2=H,R5=OC2H5,Z(3′)
−Z(5′)=TIPDS〕の合成 4−O−エチルウリジン7.04gをピリジン80mlに溶解さ
せ、氷冷してから1,1,3,3,−ジクロロテトライソプロピ
ルジシロキサン9.57gを加え、室温で4時間30分撹拌反
応させた。氷水を加え、溶媒を留去し、残渣をクロロホ
ルム−水で分配し、クロロホルム層を乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラム(10×130cm)に吸着さ
せ、40%酢酸エチル−ヘキサンで溶出された部分を集め
て濃縮し、3′,5′−0−TIPDS体12.3gを得た。
次に塩化オキサリル2.7mlを塩化メチレン40mlに溶解さ
せ、−70℃に冷却した。これにアルゴン気流下、塩化メ
チレン20mlに溶解させたジメチルスルホキシド4.8mlを2
0分間かけて滴下し、その後30分間撹拌した。これに塩
化メチレン50mlに溶解させた上記3′,5′−0−TIPDS
体(12.3g)を滴下し、−70℃で2時間撹拌した後、ト
リエチルアミン20mlを加えてさらに1時間撹拌した。そ
の反応液を室温に戻し、水を加えて分配し、塩化メチレ
ン層を分取して溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶解
させ、水と分配した。酢酸エチル層を濃縮乾固し、シリ
カゲルカラム(5×28cm)に吸着させ、20%酢酸エチル
−n−ヘキサンで溶出される目的物質を含む画分を集
め、溶媒留去後n−ヘキサンから結晶化して目的物質1
0.2g(収率72.1%)を得た。
せ、−70℃に冷却した。これにアルゴン気流下、塩化メ
チレン20mlに溶解させたジメチルスルホキシド4.8mlを2
0分間かけて滴下し、その後30分間撹拌した。これに塩
化メチレン50mlに溶解させた上記3′,5′−0−TIPDS
体(12.3g)を滴下し、−70℃で2時間撹拌した後、ト
リエチルアミン20mlを加えてさらに1時間撹拌した。そ
の反応液を室温に戻し、水を加えて分配し、塩化メチレ
ン層を分取して溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶解
させ、水と分配した。酢酸エチル層を濃縮乾固し、シリ
カゲルカラム(5×28cm)に吸着させ、20%酢酸エチル
−n−ヘキサンで溶出される目的物質を含む画分を集
め、溶媒留去後n−ヘキサンから結晶化して目的物質1
0.2g(収率72.1%)を得た。
融点:157.5〜159℃ 元素分析:C24H39N2O7Si2として 計算値(%)C:53.87,H:7.86,N:5.46 実測値(%)C:53.73,H:7.87,N:5.57 3)1−(2−メチル−3,5−0−TIPDS−β−D−リボ
フラノシル)−4−エトキシ−2−ピリミジノン〔一般
式(III),R2=H,R3=CH3,R5=OC2H5,Z(3′)−Z
(5′)=TIPDS〕の合成 上記の3′,5′,−0−TIPDS体2gをアルゴン気流下エ
ーテル50mlに溶解し、−75℃に冷却し、これに3M−臭化
メチルマグネシウム5mlを滴下し、50分間撹拌した。こ
の反応液に1規定の塩化アンモニウム溶液20mlを加え、
室温に戻し、エーテルと水を加え分配し、有機層を乾燥
後濃縮乾固した。残渣を酢酸エチルに溶解させ、シリカ
ゲル粉末に吸着させ、減圧濃縮乾固した。これをシリカ
ゲルカラム(2.4×25cm)の上に載せて、40%酢酸エチ
ル−n−ヘキサンで溶出される目的物質を含む画分を集
めて濃縮し、n−ヘキサン−酢酸エチルより再結晶して
目的物質0.825g(収率40%)を得た。
フラノシル)−4−エトキシ−2−ピリミジノン〔一般
式(III),R2=H,R3=CH3,R5=OC2H5,Z(3′)−Z
(5′)=TIPDS〕の合成 上記の3′,5′,−0−TIPDS体2gをアルゴン気流下エ
ーテル50mlに溶解し、−75℃に冷却し、これに3M−臭化
メチルマグネシウム5mlを滴下し、50分間撹拌した。こ
の反応液に1規定の塩化アンモニウム溶液20mlを加え、
室温に戻し、エーテルと水を加え分配し、有機層を乾燥
後濃縮乾固した。残渣を酢酸エチルに溶解させ、シリカ
ゲル粉末に吸着させ、減圧濃縮乾固した。これをシリカ
ゲルカラム(2.4×25cm)の上に載せて、40%酢酸エチ
ル−n−ヘキサンで溶出される目的物質を含む画分を集
めて濃縮し、n−ヘキサン−酢酸エチルより再結晶して
目的物質0.825g(収率40%)を得た。
融点:179〜180.5℃ 元素分析:C24H44N2O7Si2として 計算値(%)C:54.51,H:8.39,N:5.30 実測値(%)C:54.39,H:8.32,N:5.17 なお上記シリカゲルカラムにおいて20%酢酸エチル−n
−ヘキサン溶出画分からは目的物の異性体(アラビノフ
ラノシル誘導体)が得られた。
−ヘキサン溶出画分からは目的物の異性体(アラビノフ
ラノシル誘導体)が得られた。
4)4−O−エチル−2′(S)−メチル−2′−デオ
キシウリジン〔一般式(IV),R2=H,R3=CH3,R5=OC2
H5〕の合成 上記で得られた3′,5′,−0−TIPDS−2′−メチル
リボフラノシル体550mgをアセトニトリル10mlに溶解さ
せ、ジメチルアミノピリジン244mgを加え、さらにクロ
ロメチルオキサリル138mμlを加え室温で5分間撹拌し
た。少量のメタノールを加え、酢酸エチルと炭酸ソーダ
水溶液で分取し、有機層を減圧濃縮乾固した。残渣をト
ルエン10mlに溶解させ、100℃に加熱し、これにトルエ
ン5mlに溶解した水素化トリ−n−ブチルスズ1.5当量お
よび2,2′−アゾビスイソブチロニトリル溶媒量をアル
ゴン気流下で滴下した。そのまま1時間反応させた後、
減圧濃縮乾固し、シリカゲルカラム(2.4×28cm)に吸
着させた。10%酢酸エチル−n−ヘキサンで溶出される
画分を集めて濃縮乾固した。残渣をテトラヒドロフラン
10mlに溶解させ、フッ化トリ−n−ブチルアンモニウム
2.2当量加え、室温で10分間撹拌した。これを酢酸で中
和し、少量のシリカゲル粉末を加えて濃縮乾固し、シリ
カゲルカラム(2.4×13cm)の上に載せ、5%エタノー
ル−クロロホルム溶出画分を集めて濃縮し、目的物の結
晶130mg(収率49.2%)を得た。
キシウリジン〔一般式(IV),R2=H,R3=CH3,R5=OC2
H5〕の合成 上記で得られた3′,5′,−0−TIPDS−2′−メチル
リボフラノシル体550mgをアセトニトリル10mlに溶解さ
せ、ジメチルアミノピリジン244mgを加え、さらにクロ
ロメチルオキサリル138mμlを加え室温で5分間撹拌し
た。少量のメタノールを加え、酢酸エチルと炭酸ソーダ
水溶液で分取し、有機層を減圧濃縮乾固した。残渣をト
ルエン10mlに溶解させ、100℃に加熱し、これにトルエ
ン5mlに溶解した水素化トリ−n−ブチルスズ1.5当量お
よび2,2′−アゾビスイソブチロニトリル溶媒量をアル
ゴン気流下で滴下した。そのまま1時間反応させた後、
減圧濃縮乾固し、シリカゲルカラム(2.4×28cm)に吸
着させた。10%酢酸エチル−n−ヘキサンで溶出される
画分を集めて濃縮乾固した。残渣をテトラヒドロフラン
10mlに溶解させ、フッ化トリ−n−ブチルアンモニウム
2.2当量加え、室温で10分間撹拌した。これを酢酸で中
和し、少量のシリカゲル粉末を加えて濃縮乾固し、シリ
カゲルカラム(2.4×13cm)の上に載せ、5%エタノー
ル−クロロホルム溶出画分を集めて濃縮し、目的物の結
晶130mg(収率49.2%)を得た。
融点:148〜149℃ 元素分析:C12H18N2O5として 計算値(%)C:53.33,H:6.71,N:10.36 実測値(%)C:53.21,H:6.71,N:10.28 5)2′−デオキシ−2′(S)−メチルシチジン〔一
般式〔I〕,R1=NH2,R2=H,R3=CH3,R4=H〕の塩酸
塩の合成 氷冷下メタノールにアンモニアガスを飽和させ、これを
20mlとり、上記の4−O−エチル−2′(S)−メチル
体100mgを加えて溶解させ、封管中100℃で2日間反応さ
せた。徐冷後減圧濃縮し、2規定の塩酸0.25mlを加え、
さらにエタノールを加えて減圧濃縮乾固し、エタノール
より結晶化して目的物78mg(収率75.9%)を得た。
般式〔I〕,R1=NH2,R2=H,R3=CH3,R4=H〕の塩酸
塩の合成 氷冷下メタノールにアンモニアガスを飽和させ、これを
20mlとり、上記の4−O−エチル−2′(S)−メチル
体100mgを加えて溶解させ、封管中100℃で2日間反応さ
せた。徐冷後減圧濃縮し、2規定の塩酸0.25mlを加え、
さらにエタノールを加えて減圧濃縮乾固し、エタノール
より結晶化して目的物78mg(収率75.9%)を得た。
融点:167〜169℃ 元素分析:C10H15N3O4・HCl・1/4H2Oとして 計算値(%)C:42.56,H:5.71,N:14.88 実測値(%)C:42.86,H:5.79,N:14.52 実施例2 2′−デオキシ−2′(S)−エチルシチジ
ン〔一般式〔I〕,R1=NH2,R2=H,R3=C2H5,R4=
H〕の塩酸塩の製造 上記実施例1のアルキル化の工程において臭化メチルマ
グネシウムの代わりに臭化エチルマグネシウムを使用
し、次いで順次同じ試薬で反応を行わせ同様に処理する
ことにより2′−デオキシ−2′−(S)−エチルシチ
ジンの塩酸塩を得ることができた。
ン〔一般式〔I〕,R1=NH2,R2=H,R3=C2H5,R4=
H〕の塩酸塩の製造 上記実施例1のアルキル化の工程において臭化メチルマ
グネシウムの代わりに臭化エチルマグネシウムを使用
し、次いで順次同じ試薬で反応を行わせ同様に処理する
ことにより2′−デオキシ−2′−(S)−エチルシチ
ジンの塩酸塩を得ることができた。
融点:167〜168℃ 元素分析:C11H17N3O4・HCl・1/2H2Oとして 計算値(%)C:43.89,H:6.36,N:13.96 実測値(%)C:43.92,H:6.39,N:14.00 実施例3 2′(S)−メチルチミジン〔一般式
〔I〕,R1=OH,R2=CH3,R3=CH3,R4=H〕の製造 1)4−O−エチル−5−メチルウリジン〔一般式
(B),R2=HCH3,R5=OC2H5〕の合成 5−メチルウリジン2.58gをアセトニトリル40mlに溶解
させ、ジメチルアミノピリジン12.5mg,無水酢酸3.8mlを
加えて室温で1時間反応させ、減圧乾固した。残渣をク
ロロホルム50mlに溶解させ、ジメチルホルムアミド0.5m
lおよび塩化チオニル8.0mlを加え、8時間還流した。溶
媒を留去し、残渣をエタノール20mlに溶解させ、氷冷後
1規定のナトリウムエトキシド50mlを加え、室温で17時
間撹拌した。これを1規定の塩酸で中和し、析出する塩
を濾別後濾液を濃縮乾固した。残渣をシリカゲルカラム
(3×25cm)で精製し、エタノールから結晶化して目的
物1.86g(収率65.1%)を得た。
〔I〕,R1=OH,R2=CH3,R3=CH3,R4=H〕の製造 1)4−O−エチル−5−メチルウリジン〔一般式
(B),R2=HCH3,R5=OC2H5〕の合成 5−メチルウリジン2.58gをアセトニトリル40mlに溶解
させ、ジメチルアミノピリジン12.5mg,無水酢酸3.8mlを
加えて室温で1時間反応させ、減圧乾固した。残渣をク
ロロホルム50mlに溶解させ、ジメチルホルムアミド0.5m
lおよび塩化チオニル8.0mlを加え、8時間還流した。溶
媒を留去し、残渣をエタノール20mlに溶解させ、氷冷後
1規定のナトリウムエトキシド50mlを加え、室温で17時
間撹拌した。これを1規定の塩酸で中和し、析出する塩
を濾別後濾液を濃縮乾固した。残渣をシリカゲルカラム
(3×25cm)で精製し、エタノールから結晶化して目的
物1.86g(収率65.1%)を得た。
融点:143〜144℃ 元素分析値:C12H18N2O6として 計算値(%)C:50.34,H:6.34,N:9.78,O:33.54 実測値(%)C:50.22,H:6.33,N:9.76,O:33.69 2)1−(3,5−O−TIPDS−β−D−エリスロペントフ
ラン−2−ウロシル)−4−エトキシ−5−メチル−2
−ピリミジノン〔一般式(II),R2=CH3,R5=OC2H5,Z
(3′)−Z(5′)=TIPDS〕の合成 上記4−O−エチル体6.0gを実施例1と同様に1,1,3,3,
−ジクロロテトライソプロピルジシクロキサン、次いで
塩化オキサリル−ジメチルスルホキシドを反応させ、同
様に処理して標記の化合物8.51(84.6%)を得た。
ラン−2−ウロシル)−4−エトキシ−5−メチル−2
−ピリミジノン〔一般式(II),R2=CH3,R5=OC2H5,Z
(3′)−Z(5′)=TIPDS〕の合成 上記4−O−エチル体6.0gを実施例1と同様に1,1,3,3,
−ジクロロテトライソプロピルジシクロキサン、次いで
塩化オキサリル−ジメチルスルホキシドを反応させ、同
様に処理して標記の化合物8.51(84.6%)を得た。
融点:109〜111℃ 元素分析:C24H42N2O7Si2として 計算値(%)C:54.74,H:8.04,N:5.34 実測値(%)C:54.54,H:8.03,N:5.29 3)1−(2−メチル−3,5−0−TIPDS−β−D−リボ
フラノシル)−4−エトキシ−5−メチル−2−ピリミ
ジノン〔一般式〔III〕,R2=CH3,R3=CH3,R5=OC
2H5,Z(3′)−Z(5′)=TIPDS〕の合成 上記で得られた化合物3.7gを実施例1と同様に臭化メチ
ルマグネシウムと反応させ、同様に処理して標記化合物
1.38g(収率36.1%)を得た。
フラノシル)−4−エトキシ−5−メチル−2−ピリミ
ジノン〔一般式〔III〕,R2=CH3,R3=CH3,R5=OC
2H5,Z(3′)−Z(5′)=TIPDS〕の合成 上記で得られた化合物3.7gを実施例1と同様に臭化メチ
ルマグネシウムと反応させ、同様に処理して標記化合物
1.38g(収率36.1%)を得た。
融点:182〜183℃ 元素分析:C25H46N2O7Si2として 計算値(%)C:55.32,H:8.54,N:5.16 実測値(%)C:55.19,H:8.54,N:5.40 4)4−O−エチル−2′(S)−メチルチミジン〔一
般式(IV),R2=CH3,R3=CH3,R5=OC2H5〕の合成 上記で得られた化合物340mgを実施例1と同様に順次ク
ロロメチルオキサリル、水酸化トリ−n−ブチルスズ、
2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、次いでフッ化ト
リ−n−ブチルアンモニウムと反応させ、同様に処理し
て目的化合物10.5mg(収率64.6%)を得た。
般式(IV),R2=CH3,R3=CH3,R5=OC2H5〕の合成 上記で得られた化合物340mgを実施例1と同様に順次ク
ロロメチルオキサリル、水酸化トリ−n−ブチルスズ、
2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、次いでフッ化ト
リ−n−ブチルアンモニウムと反応させ、同様に処理し
て目的化合物10.5mg(収率64.6%)を得た。
融点:183〜185℃ 元素分析:C13H20N2O5として 計算値(%)C:54.92,H:7.09,N:9.85 実測値(%)C:54.89,H:7.08,N:9.74 5)2′(S)−メチルチミジン〔一般式〔I〕,R1=
OH,R2=CH3,R3=CH3,R4=H〕の合成 上記で得られた化合物95mgを水5mlエタノール1mlの混合
溶媒に溶解させ、カチオン交換樹脂ダウエックス50(H+
型)1gを加え、室温で4時間撹拌した。樹脂を濾別後、
濾液を濃縮乾固し、エタノール−n−ヘキサンより結晶
化し目的物63mg(収率73.6%)を得た。
OH,R2=CH3,R3=CH3,R4=H〕の合成 上記で得られた化合物95mgを水5mlエタノール1mlの混合
溶媒に溶解させ、カチオン交換樹脂ダウエックス50(H+
型)1gを加え、室温で4時間撹拌した。樹脂を濾別後、
濾液を濃縮乾固し、エタノール−n−ヘキサンより結晶
化し目的物63mg(収率73.6%)を得た。
融点:179〜180℃ 元素分析:C11H16N2O5として 計算値(%)C:51.56,H:6.29,N:10.93 実測値(%)C:51.49,H:6.26,N:11.04 実施例4 2′(S)−メチルチミジン−5′−リン酸
の製造 2′(S)−メチルチミジン2.56gをトリメチルリン酸6
0mlへ加えて氷冷し、これに1.83gのオキシ塩化リンを滴
下し、さらに1時間撹拌する。この反応液を8gの炭酸水
素ナトリウムを含む100gの氷水中へ注加し、そのまま1
時間撹拌し、これにエーテル100ml加えて分配する。水
層を濃縮し、アニオン交換樹脂ダウエックス1(ギ酸
型)へ吸着させ、1モルのギ酸溶液で溶出、目的物質を
含む画分を集め濃縮し、凍結乾燥して、2′(S)−メ
チルチミジン−5′−リン酸を得る。
の製造 2′(S)−メチルチミジン2.56gをトリメチルリン酸6
0mlへ加えて氷冷し、これに1.83gのオキシ塩化リンを滴
下し、さらに1時間撹拌する。この反応液を8gの炭酸水
素ナトリウムを含む100gの氷水中へ注加し、そのまま1
時間撹拌し、これにエーテル100ml加えて分配する。水
層を濃縮し、アニオン交換樹脂ダウエックス1(ギ酸
型)へ吸着させ、1モルのギ酸溶液で溶出、目的物質を
含む画分を集め濃縮し、凍結乾燥して、2′(S)−メ
チルチミジン−5′−リン酸を得る。
実施例5 錠剤 2′(S)−メチルチミジン 10g コーンスターチ 65g カルボキシルメチルセルロース 20g ポリビニルピロリドン 3gステアリン酸カルシウム 2g 全量 100g 常法により1錠100mgの錠剤を調製する。錠剤1錠中、
2′(S)−メチルチミジンを10mgを含有する。
2′(S)−メチルチミジンを10mgを含有する。
実施例6 散剤、カプセル剤 2′−デオキシ−2′(S)メチルシチジン塩酸塩 20g結晶セルロース 80g 全量 100g 両粉末を混合して散剤とする。また散剤100mgを5号の
ハードカプセルに充填してカプセル剤とする。
ハードカプセルに充填してカプセル剤とする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 Tetrahedron Letter s,1969,No.21、P.1627−1628
Claims (3)
- 【請求項1】一般式〔I〕 (式中、R1はアミノ基または水酸基、R2は水素原子また
は低級アルキル基、R3は低級アルキル基、R4は水素原子
またはリン酸残基をそれぞれ示す。)で表される2′−
デオキシ−2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシ
ド誘導体またはその塩。 - 【請求項2】下記の第1〜3工程よりなる一般式〔I〕 (式中、R1はアミノ基または水酸基、R2は水素原子また
は低級アルキル基、R3は低級アルキル基、R4は水素原子
またはリン酸残基をそれぞれ示す。)で表される2′−
デオキシ−2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシ
ド誘導体の製造法。 第1工程; 下記一般式〔II〕で表される化合物の糖部2′位をアル
キル化剤によりアルキル化し、下記一般式〔III〕で表
される化合物を得る工程 (式中、R2およびR3は前記と同意義であり、R5はアルコ
キシル基、Zは保護基を示す。) 第2工程; 下記一般式〔III〕で表される化合物の糖部2′位の水
酸基をアシル化した後、還元剤により還元し、次いで脱
保護して下記一般式〔IV〕で表される化合物を得る工程 (式中、R2、R3、R5およびZは前記と同意義。) 第3工程; 下記一般式〔IV〕で表される化合物の塩基部4位を加水
分解またはアミノ化し、所望によりさらに糖部5′位を
リン酸化することにより下記一般式〔I〕で表される化
合物を得る工程 (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前記と同意義。) - 【請求項3】一般式〔I〕 (式中、R1はアミノ基または水酸基、R2は水素原子また
は低級アルキル基、R3は低級アルキル基、R4は水素原子
またはリン酸残基をそれぞれ示す。)で表される2′−
デオキシ−2′(S)−アルキルピリミジンヌクレオシ
ド誘導体またはその塩を有効成分として含有してなる抗
ウィルス剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62049540A JPH0699467B2 (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 2▲’▼−デオキシ−2▲’▼(s)−アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62049540A JPH0699467B2 (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 2▲’▼−デオキシ−2▲’▼(s)−アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63215694A JPS63215694A (ja) | 1988-09-08 |
| JPH0699467B2 true JPH0699467B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=12834015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62049540A Expired - Lifetime JPH0699467B2 (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 2▲’▼−デオキシ−2▲’▼(s)−アルキルピリミジンヌクレオシド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0699467B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102570831B1 (ko) * | 2023-02-22 | 2023-08-28 | (주)제네시스네스트 | 범용 인증 시스템 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5627053A (en) * | 1994-03-29 | 1997-05-06 | Ribozyme Pharmaceuticals, Inc. | 2'deoxy-2'-alkylnucleotide containing nucleic acid |
| ES2319732T3 (es) * | 2000-04-13 | 2009-05-12 | Pharmasset, Inc. | Derivados de nucleosido 3'- o 2'-hidroximetilo sustituido para el tratamiento de infecciones virales. |
| MY164523A (en) | 2000-05-23 | 2017-12-29 | Univ Degli Studi Cagliari | Methods and compositions for treating hepatitis c virus |
| JP5230052B2 (ja) | 2000-05-26 | 2013-07-10 | イデニクス(ケイマン)リミテツド | フラビウイルスおよびペスチウイルス治療のための方法および組成物 |
| NZ537662A (en) | 2002-06-28 | 2007-10-26 | Idenix Cayman Ltd | 2'-C-methyl-3'-O-L-valine ester ribofuranosyl cytidine for treatment of flaviviridae infections |
| AP2005003213A0 (en) | 2002-06-28 | 2005-03-31 | Univ Cagliari | 2'-C-methyl-3'-O-L-valine ester ribofuranosyl cytidine for treatment of flaviviridae infections. |
| US7824851B2 (en) | 2002-11-15 | 2010-11-02 | Idenix Pharmaceuticals, Inc. | 2′-branched nucleosides and Flaviviridae mutation |
| MXPA05006230A (es) | 2002-12-12 | 2005-09-20 | Idenix Cayman Ltd | Proceso para la produccion de nucleosidos ramificados-2'. |
| SG10201610936RA (en) | 2011-12-22 | 2017-02-27 | Alios Biopharma Inc | Substituted nucleosides, nucleotides and analogs thereof |
| US9441007B2 (en) | 2012-03-21 | 2016-09-13 | Alios Biopharma, Inc. | Substituted nucleosides, nucleotides and analogs thereof |
| USRE48171E1 (en) | 2012-03-21 | 2020-08-25 | Janssen Biopharma, Inc. | Substituted nucleosides, nucleotides and analogs thereof |
-
1987
- 1987-03-04 JP JP62049540A patent/JPH0699467B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| TetrahedronLetters,1969,No.21、P.1627−1628 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102570831B1 (ko) * | 2023-02-22 | 2023-08-28 | (주)제네시스네스트 | 범용 인증 시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63215694A (ja) | 1988-09-08 |
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