JPH0697058A - Method of forming data for electron beam lithography - Google Patents

Method of forming data for electron beam lithography

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JPH0697058A
JPH0697058A JP4246791A JP24679192A JPH0697058A JP H0697058 A JPH0697058 A JP H0697058A JP 4246791 A JP4246791 A JP 4246791A JP 24679192 A JP24679192 A JP 24679192A JP H0697058 A JPH0697058 A JP H0697058A
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JP
Japan
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margin
graphic
area
divided
rectangular area
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4246791A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazumasa Morishita
和正 森下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0697058A publication Critical patent/JPH0697058A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Multi Processors (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form data for lithography rapidly, while preventing missing and overlapping of graphic figures even though assigning processing target regions for a plurality of CPU's, performing parallel processing independently and registering the graphic form for each rectangular region. CONSTITUTION:Graphic figures F10 and F11 contained in a processing target region EA including a subfield 32 are taken in a CPU, and an overlap is removed and a graphic figure F22 is generated. Cutting lines L3 and L4 containing the boundary line of the processing target region EA is generated and the graphic figure F22 is cut off. A graphic figure below the cutting line L4 is deleted, and a graphic figure F37 is created between the cutting lines L3 and L4. A parting line is generated from the apex of the graphic figure F37 normal to the cutting line L4, thereby dividing it into graphic figures F38 to F40. Since part of the graphic figures F39 and F40 are on the external margin and inside the internal margin so that they are cut at the boundary line of the subfield 32 and the graphic figures F39a and F40a are registered in the subfield 32.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はマスクパターンの図形デ
ータから電子ビーム描画装置用の描画データを作成する
方法に係り、詳しくは集積回路パターンを多数の処理対
象領域に分割し、各処理対象領域を複数のCPUに割り
当てて各処理対象領域を独立に並列処理する方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of creating drawing data for an electron beam drawing apparatus from graphic data of a mask pattern, and more specifically, dividing an integrated circuit pattern into a large number of processing target areas, and processing each processing target area. To a plurality of CPUs to independently process each processing target area in parallel.

【0002】近年のLSIの大規模化、高密度化に伴っ
て電子ビーム描画装置用の描画データ作成に対する処理
時間の短縮の要望が高まっている。この要望に応えるた
めにLSIチップを複数の領域に分割して各領域を独立
にかつ並列に処理する方法が検討されている。そして、
各領域は電子ビーム描画装置において電磁偏向で描画可
能な正方形の領域、即ち、図3に示すようにLSIのチ
ップ領域を碁盤目状に分割した多数のサブフィールド3
0(実線で囲まれた領域)に対応させることが最も望ま
しい。
With the recent increase in the size and density of LSIs, there is an increasing demand for shortening the processing time for creating drawing data for an electron beam drawing apparatus. In order to meet this demand, a method of dividing an LSI chip into a plurality of areas and processing each area independently and in parallel is being studied. And
Each area is a square area that can be drawn by electromagnetic deflection in an electron beam drawing apparatus, that is, a large number of subfields 3 obtained by dividing an LSI chip area in a grid pattern as shown in FIG.
It is most desirable to correspond to 0 (area surrounded by a solid line).

【0003】又、大規模で高密度なLSIを短い時間で
描画するためには、図形データの存在する箇所のみを走
査して露光を行うベクトルスキャン方式の電子ビーム描
画装置を使用した方がよい。しかしながら、ベクトルス
キャン方式の電子ビーム描画装置では、底辺及び高さが
共に所定長未満の微小な図形は電子ビームの照射ができ
ず描画できなかったり、精度が非常に悪くなり高精度な
LSIの開発の妨げとなる。このため、図13に示すよ
うに、各サブフィールド30にはその境界線を基準とし
て内部及び外部に破線で示す所定幅のマージンM(破線
で示す)を設定して、微小な図形の発生を防止するよう
にしている。尚、サブフィールド30の外部マージンは
当該サブフィールドに隣接するサブフィールドの内部マ
ージンである。
Further, in order to draw a large-scale and high-density LSI in a short time, it is better to use an electron beam drawing apparatus of a vector scan system which scans and exposes only a portion where graphic data exists. . However, in the vector scan type electron beam drawing apparatus, a minute figure having a bottom and a height that are both less than a predetermined length cannot be drawn because the electron beam cannot be irradiated, and the accuracy becomes extremely poor. Hinders Therefore, as shown in FIG. 13, a margin M (shown by a broken line) of a predetermined width shown by a broken line is set inside and outside each sub-field 30 with the boundary line as a reference so that a minute figure is generated. I try to prevent it. The outer margin of the subfield 30 is the inner margin of the subfield adjacent to the subfield.

【0004】即ち、図形処理後の図形をサブフィールド
に登録する際、マージンを考慮しないでサブフィールド
の境界線で切断し、サブフィールドに完全に包含される
図形のみを登録すると、微小な図形が発生することがあ
る。例えば、図13に示す図形F1,F2をサブフィー
ルド30の境界線で切断すると、図14に示すように図
形F11,F21が登録される。この場合、図形F21
が微小図形となってしまう。
That is, when a figure after graphic processing is registered in a subfield, cutting is performed at the boundary of the subfield without considering a margin, and only a figure completely included in the subfield is registered, so that a minute figure is generated. May occur. For example, when the figures F1 and F2 shown in FIG. 13 are cut at the boundary line of the subfield 30, the figures F11 and F21 are registered as shown in FIG. In this case, the figure F21
Becomes a minute figure.

【0005】一方、図形処理後の図形をサブフィールド
に登録する際の判定はサブフィールドの内部及び外部の
マージンに基づいて設定されている。即ち、図形がサブ
フィールドに完全に包含されているとき、又は図形が外
部マージンよりも内にありかつ内部マージンを含んでそ
れよりも内にあるときには当該図形をそのサブフィール
ドに登録する。図形の一部でも外部マージンを含んでそ
れよりも外にありかつ内部マージンを含んでそれよりも
内にあるときには当該図形をサブフィールドの境界線で
切断した内部の図形をそのサブフィールドに登録する。
又、図形がサブフィールドの所定の隣接する境界線対に
対応した外部マージンより内にありかつ内部マージンよ
りも外にあるときには当該図形をそのサブフィールドに
登録する。
On the other hand, the judgment at the time of registering the figure after the figure processing in the subfield is set based on the margin inside and outside the subfield. That is, when the graphic is completely contained in the subfield, or when the graphic is within the outer margin and also including the inner margin, the graphic is registered in the subfield. If even part of the figure is outside the margin including the outer margin and inside the margin including the inner margin, the inside figure cut by the boundary line of the subfield is registered in the subfield. .
If the graphic is within the outer margin and outside the inner margin corresponding to a predetermined pair of adjacent boundary lines of the subfield, the graphic is registered in the subfield.

【0006】従って、例えば図13に示す図形F1,F
2のうち、図形F2は登録対象から除外され、図形F1
は登録対象となって図15に示すようにサブフィールド
30に登録される。このため、微小な図形の発生が防止
される。
Therefore, for example, figures F1 and F shown in FIG.
Of the two, the figure F2 is excluded from the registration target, and the figure F1
Is registered and is registered in the subfield 30 as shown in FIG. Therefore, the generation of minute figures is prevented.

【0007】このようなことから、ベクトルスキャン方
式の電子ビーム描画装置用の描画データを短時間に作成
するためには、サブフィールド単位に独立に並列処理を
行うことが必要不可欠である。又、ベクトルスキャン方
式の電子ビーム描画装置用の描画データを作成するため
には、微小な図形の発生がないような図形処理を行うた
めにサブフィールドにマージンを持たせたサブフィール
ドへの図形登録を行える方法が必要不可欠である。
Therefore, in order to create drawing data for the electron beam drawing apparatus of the vector scan system in a short time, it is indispensable to perform the parallel processing independently for each subfield. Further, in order to create drawing data for a vector scan type electron beam drawing apparatus, a figure is registered in a subfield having a margin in the subfield in order to perform figure processing such that a minute figure is not generated. A way to do is essential.

【0008】[0008]

【従来の技術】従来、ベクトルスキャン方式の電子ビー
ム描画装置用の描画データ作成のために各図形データ又
は図形を構成する各辺を逐次的に処理した後、図形デー
タをサブフィールドに登録する処理においては、図形単
位に登録するサブフィールドを決定していた。このた
め、描画データ作成に多大な時間を要し、作業効率が低
下するという問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, a process of sequentially processing each figure data or each side forming each figure for creating drawing data for a vector scan type electron beam drawing apparatus, and then registering the figure data in a subfield In the above, the subfield to be registered in each figure was decided. Therefore, there is a problem that it takes a lot of time to create the drawing data and the work efficiency is reduced.

【0009】この問題を解決して描画データ作成を高速
に行う方法として、複数のCPUを持つ計算機を使用す
ることが考えられた。この方法はLSIチップを電子ビ
ーム描画装置の電磁偏向で描画可能な多数のサブフィー
ルドに分割し、各サブフィールドを複数のCPUに割り
当てて各サブフィールドを独立に並列処理するものであ
る。
As a method of solving this problem and creating drawing data at high speed, it has been considered to use a computer having a plurality of CPUs. In this method, an LSI chip is divided into a large number of subfields that can be drawn by electromagnetic deflection of an electron beam drawing apparatus, each subfield is assigned to a plurality of CPUs, and each subfield is independently processed in parallel.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところが、この場合、
各CPUによって各サブフィールドに登録された図形の
位置関係の違いにより、製造されたLSIに不具合が発
生することがあった。
However, in this case,
A defect may occur in the manufactured LSI due to the difference in the positional relationship of the graphics registered in each subfield by each CPU.

【0011】例えば、図5に示すように隣接するサブフ
ィールド31,32を異なる図形処理用CPUに割り当
てて図形F10,F11を登録する場合について考え
る。1つの図形処理用CPUには、まず図16(a)に
示すようにサブフィールド31及び同フィールド31に
含まれる図形F10が取り込まれる。この図形F10に
対して各種の図形処理が実行された後、図16(b)に
示すように図形F10の頂点から上下方向に分割線が発
生されて図形F20,F21に分割される。
For example, consider a case where adjacent subfields 31 and 32 are assigned to different graphics processing CPUs to register graphics F10 and F11 as shown in FIG. First, as shown in FIG. 16A, the subfield 31 and the figure F10 included in the field 31 are loaded into one figure processing CPU. After various figure processes are performed on this figure F10, a dividing line is generated in the vertical direction from the vertex of the figure F10 to divide into the figures F20 and F21.

【0012】この後、図形F20,F21の登録判定が
行われ、各図形F20,F21はその一部が外部マージ
ンよりも外にありかつ内部マージンよりも内にあるため
サブフィールド31の境界線で切断される。従って、図
16(c)に示すようにサブフィールド31にはF20
a,F21aが登録される。
After that, the registration of the figures F20 and F21 is determined. Since a part of each figure F20 and F21 is outside the external margin and inside the internal margin, the figures F20 and F21 are bordered by the subfield 31. Be disconnected. Therefore, as shown in FIG. 16C, F20 is set in the subfield 31.
a and F21a are registered.

【0013】別の図形処理用CPUには、図17(a)
に示すようにサブフィールド32及び同フィールド32
に含まれる図形F10,F11が取り込まれる。図形F
10,F11に対して各種の図形処理が実行された後、
図17(b)に示すように図形F10,F11の重なり
が除去されて図形F22が生成される。次に、図17
(c)に示すように図形F22の各頂点から上下方向に
分割線が発生されて図形F23〜F26に分割される。
Another graphic processing CPU is shown in FIG.
As shown in FIG.
Figures F10 and F11 included in are captured. Figure F
After performing various graphic processings on 10, F11,
As shown in FIG. 17B, the overlapping of the figures F10 and F11 is removed to generate the figure F22. Next, FIG.
As shown in (c), a dividing line is generated in the vertical direction from each vertex of the figure F22, and the figure F22 is divided into figures F23 to F26.

【0014】この後、図形F23〜F26の登録判定が
行われる。図形F23は外部マージンよりも外にあるた
め登録対象から除外され、図形F24はその一部が外部
マージンよりも外にありかつ内部マージンよりも外にあ
るため登録対象から除外される。各図形F25,F26
はその一部が外部マージンよりも外にありかつ内部マー
ジンよりも内にあるためサブフィールド32の境界線で
切断される。従って、図17(d)に示すようにサブフ
ィールド32には図形F25a,F26aが登録され
る。尚、図形F25aの左側はサブフィールド32の境
界線から離れている。
After that, the registration of the figures F23 to F26 is determined. The graphic F23 is excluded from the registration target because it is outside the external margin, and the graphic F24 is excluded from the registration target because a part of the graphic F24 is outside the external margin and outside the internal margin. Each figure F25, F26
Is partly outside the outer margin and inside the inner margin, and is cut at the boundary of the subfield 32. Therefore, as shown in FIG. 17D, the figures F25a and F26a are registered in the subfield 32. The left side of the figure F25a is separated from the boundary line of the subfield 32.

【0015】従って、描画データは図18に示すように
サブフィールド31の図形F21aとサブフィールド3
2の図形F25aとの間が欠落したものとなる。この状
態では、LSI回路が電気的に断線してしまい、意図し
たLSI回路が構成できない。
Accordingly, as shown in FIG. 18, the drawing data includes the figure F21a of the subfield 31 and the subfield 3
The area between the second figure F25a is missing. In this state, the LSI circuit is electrically disconnected and the intended LSI circuit cannot be constructed.

【0016】又、図6に示すように隣接するサブフィー
ルド33,34を異なる図形処理用CPUに割り当てて
図形F12,F13を登録する場合について考える。1
つの図形処理用CPUには、まず図19(a)に示すよ
うにサブフィールド33及び同フィールド33に含まれ
る図形F12が取り込まれる。この図形F12に対して
各種の図形処理が実行された後、図19(b)に示すよ
うに図形F12の頂点から上下方向に分割線が発生され
て図形F27,F28に分割される。
Consider a case where adjacent subfields 33 and 34 are assigned to different graphics processing CPUs to register graphics F12 and F13 as shown in FIG. 1
First, as shown in FIG. 19A, the sub-field 33 and the figure F12 included in the field 33 are loaded into one figure processing CPU. After various figure processes are performed on this figure F12, a dividing line is generated in the vertical direction from the vertex of the figure F12 to divide into the figures F27 and F28.

【0017】この後、図形F27,F28の登録判定が
行われ、各図形F27,F28はその一部が外部マージ
ンよりも外にありかつ内部マージンよりも内にあるため
サブフィールド33の境界線で切断される。従って、図
19(c)に示すようにサブフィールド33にはF27
a,F28aが登録される。
After that, the registration of the figures F27 and F28 is determined. Since a part of each of the figures F27 and F28 is outside the outer margin and inside the inner margin, the figures F27 and F28 are bordered by the subfield 33. Be disconnected. Therefore, as shown in FIG. 19C, F27 is set in the subfield 33.
a and F28a are registered.

【0018】別の図形処理用CPUには、図20(a)
に示すようにサブフィールド34及び同フィールド34
に含まれる図形F12,F13が取り込まれる。図形F
12,F13に対して各種の図形処理が実行された後、
図20(b)に示すように図形F12,F13の重なり
が除去されて図形F29が生成される。次に、図20
(c)に示すように図形F29の各頂点から上下方向に
分割線が発生されて図形F30〜F33に分割される。
FIG. 20A shows another graphic processing CPU.
As shown in FIG.
The figures F12 and F13 included in are captured. Figure F
After various graphic processes are executed for 12 and F13,
As shown in FIG. 20B, the overlapping of the figures F12 and F13 is removed to generate the figure F29. Next, FIG.
As shown in (c), a dividing line is generated in the vertical direction from each vertex of the figure F29, and the figure F29 is divided into figures F30 to F33.

【0019】この後、図形F30〜F33の登録判定が
行われる。図形F30は外部マージンよりも外にあるた
め登録対象から除外され、図形F31はその一部が外部
マージンよりも外にありかつ内部マージンよりも外にあ
るため登録対象から除外される。各図形F32,F33
はその一部が外部マージンよりも外にありかつ内部マー
ジンよりも内にあるためサブフィールド34の境界線で
切断される。従って、図20(d)に示すようにサブフ
ィールド34には図形F32a,F33aが登録され
る。尚、図形F32aの左側はサブフィールド32の境
界線から突出している。
After this, the registration determination of the figures F30 to F33 is performed. The figure F30 is excluded from registration because it is outside the external margin, and the figure F31 is excluded from registration because part of it is outside the external margin and outside the internal margin. Each figure F32, F33
Is partly outside the outer margin and inside the inner margin, and is cut at the boundary of the subfield 34. Therefore, as shown in FIG. 20D, the figures F32a and F33a are registered in the subfield 34. The left side of the figure F32a projects from the boundary line of the subfield 32.

【0020】従って、描画データは図21に示すように
サブフィールド33の図形F28aとサブフィールド3
4の図形F32aとがオーバーラップする。この状態
で、ベクトルスキャン方式の電子ビーム描画装置により
描画すると、オーバーラップ部分において二重露光とな
って異常に線幅の太い部分ができる。このため、微細化
されたLSI回路においては電気的に短絡してしまうお
それがあり、意図したLSI回路が構成できない。
Therefore, as shown in FIG. 21, the drawing data includes the figure F28a of the subfield 33 and the subfield 3 of the figure.
The figure F32a of No. 4 overlaps. In this state, when writing is performed by an electron beam drawing apparatus of the vector scan system, double exposure occurs in the overlap portion, and an abnormally thick line width portion is formed. Therefore, the miniaturized LSI circuit may be electrically short-circuited, and the intended LSI circuit cannot be constructed.

【0021】このように、複数のCPUに各処理対象領
域を割り当てて独立に並列処理して描画データを作成す
る方法では、図形に欠落やオーバーラップ部分が生じた
りすることがある。このため、その補正処理が必要とな
り、描画データ作成の高速処理の妨げになっている。
As described above, in the method of allocating each processing target area to a plurality of CPUs and independently performing parallel processing to create drawing data, a missing portion or an overlapping portion may occur in a figure. Therefore, the correction process is required, which hinders high-speed processing of drawing data creation.

【0022】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、複数のCPUに各処理対象領域を割
り当てて独立に並列処理を行うことにより各矩形領域に
図形を登録して描画データを作成しても、回路断線の原
因となる図形欠落や、回路短絡の原因となる図形のオー
バーラップの発生を防止して描画データ作成の高速化を
図ることができる電子ビーム描画装置用の描画データ作
成方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and assigns each processing target area to a plurality of CPUs and independently performs parallel processing to register and draw a figure in each rectangular area. Even if data is created, it is possible to speed up drawing data creation by preventing the loss of graphics that cause circuit disconnection and the overlap of graphics that causes circuit short circuits. It is intended to provide a drawing data creation method.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第1発明は、集積回路パターンを電子ビーム描画装
置の電磁偏向で描画可能な矩形領域を基準とした多数の
処理対象領域に分割し、各処理対象領域及び当該処理対
象領域に含まれるマスクパターンの図形データを複数の
CPUに割り当てて各処理対象領域について独立に図形
処理を施した後、各矩形領域に図形を登録するようにし
た電子ビーム描画装置用の描画データ作成方法におい
て、各矩形領域の境界線を基準として矩形領域の内部及
び外部に所定幅のマージンを設定して外部マージンで囲
まれる領域を処理対象領域とし、各処理対象領域の対向
する上下一対の境界線をそれぞれ含む切断線対を発生さ
せて切断線対間に存在する図形以外の図形を削除した
後、切断線対間に存在する図形の各頂点から切断線対に
垂直な分割線を発生させて当該図形を分割し、各分割図
形が矩形領域に完全に包含されているとき、又は各分割
図形が外部マージンよりも内にありかつ内部マージンを
含んでそれよりも内にあるときには当該分割図形をその
矩形領域に登録する。又、各分割図形の一部でも外部マ
ージンを含んでそれよりも外にありかつ内部マージンを
含んでそれよりも内にあるときには当該分割図形を矩形
領域の境界線で切断した内部の図形をその矩形領域に登
録する。更に、各分割図形が矩形領域の所定の隣接する
境界線対に対応した外部マージンより内にありかつ内部
マージンよりも外にあるときには当該分割図形をその矩
形領域に登録するようにした。
To achieve the above object, a first invention divides an integrated circuit pattern into a large number of processing target areas based on a rectangular area which can be drawn by electromagnetic deflection of an electron beam drawing apparatus. The graphic data of each processing target area and the mask pattern included in the processing target area is assigned to a plurality of CPUs, the graphic processing is independently performed for each processing target area, and then the graphic is registered in each rectangular area. In a drawing data creation method for an electron beam drawing apparatus, a margin of a predetermined width is set inside and outside a rectangular area with a boundary line of each rectangular area as a reference, and an area surrounded by an external margin is set as a processing target area, and each processing is performed. After creating a cutting line pair that includes a pair of upper and lower boundary lines facing each other in the target area and deleting figures other than the figures existing between the cutting line pairs, the cutting line pairs exist between the cutting line pairs. Divide the figure by generating a dividing line perpendicular to the cutting line pair from each vertex of the figure, and when each divided figure is completely included in the rectangular area, or each divided figure is within the outer margin. Further, when the internal figure includes the internal margin and is within the internal margin, the divided figure is registered in the rectangular area. Further, even if a part of each divided figure is outside the outer margin including the outer margin and inside the inner figure including the inner margin, the inner figure obtained by cutting the divided figure at the boundary line of the rectangular area is Register in the rectangular area. Further, when each divided figure is inside the outer margin and outside the inner margin corresponding to a predetermined pair of adjacent boundary lines of the rectangular area, the divided figure is registered in the rectangular area.

【0024】又、第2の発明は、集積回路パターンを電
子ビーム描画装置の電磁偏向で描画可能な矩形領域を基
準とした多数の処理対象領域に分割し、各処理対象領域
及び当該処理対象領域に含まれるマスクパターンの図形
データを複数のCPUに割り当てて各処理対象領域につ
いて独立に図形処理を施した後、各矩形領域に図形を登
録するようにした電子ビーム描画装置用の描画データ作
成方法において、各矩形領域の境界線を基準として矩形
領域の内部及び外部に所定幅のマージンを設定して外部
マージンで囲まれる領域を処理対象領域とし、各処理対
象領域の対向する左右一対の境界線をそれぞれ含む切断
線対を発生させて切断線対間に存在する図形以外の図形
を削除した後、切断線対間に存在する図形の各頂点から
切断線対に垂直な分割線を発生させて当該図形を分割
し、各分割図形が矩形領域に完全に包含されていると
き、又は各分割図形が外部マージンよりも内にありかつ
内部マージンを含んでそれよりも内にあるときには当該
分割図形をその矩形領域に登録し、各分割図形の一部で
も外部マージンを含んでそれよりも外にありかつ内部マ
ージンを含んでそれよりも内にあるときには当該分割図
形を矩形領域の境界線で切断した内部の図形をその矩形
領域に登録し、更に、各分割図形が矩形領域の所定の隣
接する境界線対に対応した外部マージンより内にありか
つ内部マージンよりも外にあるときには当該分割図形を
その矩形領域に登録するようにした。
According to a second aspect of the invention, the integrated circuit pattern is divided into a large number of processing target areas based on a rectangular area which can be drawn by electromagnetic deflection of an electron beam drawing apparatus, and each processing target area and the processing target area. Drawing data creation method for an electron beam drawing apparatus in which the figure data of the mask pattern included in the above is assigned to a plurality of CPUs, the figure processing is independently performed for each processing target area, and the figure is registered in each rectangular area. In the above, the area surrounded by the external margin by setting a margin of a predetermined width inside and outside the rectangular area with the boundary line of each rectangular area as a reference is the processing target area, and a pair of left and right boundary lines facing each other of the processing target area. After deleting the shapes other than the shapes existing between the cutting line pairs by generating the cutting line pairs each including, each vertex of the shapes existing between the cutting line pairs is perpendicular to the cutting line pair. A dividing line is generated to divide the figure, and each figure is completely contained in the rectangular area, or each figure is within the outer margin and within the inner margin. Sometimes, the divided figure is registered in the rectangular area, and even if a part of each divided figure is outside and including the external margin and inside and including the internal margin, the divided figure is registered in the rectangular area. When the internal figure cut by the boundary line is registered in the rectangular area, and each divided figure is within the outer margin and outside the inner margin corresponding to a predetermined adjacent pair of borders of the rectangular area. The divided figure is registered in the rectangular area.

【0025】[0025]

【作用】本発明によれば、切断線対間に存在する図形以
外の図形が削除され、切断線対間に存在する図形はその
頂点から切断線対に垂直に発生された分割線によっての
み分割される。このため、各矩形領域に図形を登録する
際の図形の取り込み領域が共通化される。従って、微小
な図形、図形欠落又はオーバーラップの発生が防止され
る。
According to the present invention, the figures other than the figures existing between the cutting line pairs are deleted, and the figures existing between the cutting line pairs are divided only by the dividing lines generated perpendicularly to the cutting line pairs from their vertices. To be done. Therefore, the drawing-in area for registering a figure in each rectangular area is made common. Therefore, it is possible to prevent the generation of minute figures, missing figures or overlaps.

【0026】[0026]

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図1〜
図12に従って説明する。図1はベクトルスキャン方式
の電子ビーム描画装置用の描画データを作成する描画デ
ータ作成装置の電気的な概略構成を示す。ホストCPU
1はシステム制御部2、被処理図形データ入力部3、L
SIチップ分割部4、図形データ転送部5、図形データ
受信部6、データ出力部7を備えて構成されている。ホ
ストCPU1からの図形データを受けて図形処理を行う
複数の子CPU13A〜13C等はシステム制御部1
4、図形データ受信部15、図形処理部16、図形デー
タ転送部17を備えて構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment embodying the present invention will now be described with reference to FIGS.
It will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows an electrical schematic configuration of a drawing data creating apparatus for creating drawing data for a vector scan type electron beam drawing apparatus. Host CPU
1 is a system control unit 2, a processed graphic data input unit 3, L
An SI chip dividing unit 4, a graphic data transfer unit 5, a graphic data receiving unit 6, and a data output unit 7 are provided. The plurality of child CPUs 13A to 13C, etc., which perform graphic processing upon receiving graphic data from the host CPU 1, are the system control unit 1.
4, a graphic data receiving unit 15, a graphic processing unit 16, and a graphic data transfer unit 17 are provided.

【0027】ホストCPU1のシステム制御部2は図形
変換処理を指示する制御コマンド8が入力されると所定
の図形処理プログラムを起動させ、被処理図形データ入
力部3,LSIチップ分割部4,図形データ転送部5,
図形データ受信部6及びデータ出力部7を制御する。
When the control command 8 instructing the graphic conversion process is input, the system control unit 2 of the host CPU 1 activates a predetermined graphic processing program to input the processed graphic data input unit 3, the LSI chip dividing unit 4, and the graphic data. Transfer unit 5,
The graphic data receiving unit 6 and the data output unit 7 are controlled.

【0028】被処理図形データ入力部3は磁気テープ9
に記憶されたマスクパターンの図形データを読み込む。
LSIチップ分割部4は作業用直接アクセス装置10を
用いてLSIチップを矩形領域としての多数のサブフィ
ールド30(図3参照)に分割する。又、LSIチップ
分割部4は図4に示すように、各サブフィールド30の
境界線を基準としてサブフィールド30の内部及び外部
に破線で示す所定幅のマージンM(破線で示す)を設定
するとともに、外部マージンで囲まれる領域を処理対象
領域EAとする。
The graphic data input section 3 is a magnetic tape 9
The figure data of the mask pattern stored in is read.
The LSI chip dividing unit 4 divides the LSI chip into a large number of subfields 30 (see FIG. 3) as a rectangular area by using the working direct access device 10. Further, as shown in FIG. 4, the LSI chip dividing unit 4 sets a margin M (shown by a broken line) of a predetermined width shown by a broken line inside and outside the subfield 30 with the boundary line of each subfield 30 as a reference. , The area surrounded by the external margin is the processing target area EA.

【0029】図形データ転送部5は複数の子CPU13
A〜13Cのうち、動作していない子CPUに各処理対
象領域EA及び当該処理対象領域EAに含まれるマスク
パターンの図形データを転送する。図形データ受信部6
は子CPUで処理された図形処理済のデータを受信す
る。前記操作はLSIチップの全ての図形データに対し
て実行される。
The graphic data transfer unit 5 includes a plurality of child CPUs 13.
Of the A to 13C, the processing target area EA and the graphic data of the mask pattern included in the processing target area EA are transferred to the child CPU that is not operating. Graphic data receiving unit 6
Receives the graphic-processed data processed by the child CPU. The above operation is executed for all graphic data of the LSI chip.

【0030】この間、各子CPU13A〜13Cのシス
テム制御部14は所定の図形処理プログラムに基づいて
図形データ受信部15、図形処理部16、図形データ転
送部17を制御する。図形データ受信部15は動作待ち
状態のとき、ホストCPU1から転送されてきたデータ
を受信し、受信したデータを図形処理部16に出力す
る。
During this period, the system control unit 14 of each of the child CPUs 13A to 13C controls the graphic data receiving unit 15, the graphic processing unit 16, and the graphic data transfer unit 17 based on a predetermined graphic processing program. The graphic data receiving unit 15 receives the data transferred from the host CPU 1 and outputs the received data to the graphic processing unit 16 in the operation waiting state.

【0031】図形処理部16は処理対象領域EA及び同
処理対象領域EAに含まれる図形データを入力して図2
のフローチャートに示す図形処理を実行する。即ち、ま
ず、ステップ21では入力された図形データに対して重
なり除去処理、サイジング処理、スケーリング処理等の
各種図形処理を行う。例えば、図8(a)に示すように
サブフィールド32と図形F12,F13が入力された
データであると、図形F12,F13の重なりが除去さ
れて図8(b)に示す図形F22が生成される。
The graphic processing unit 16 inputs the processing target area EA and the graphic data included in the processing target area EA, as shown in FIG.
The graphic processing shown in the flowchart of FIG. That is, first, in step 21, various graphic processing such as overlap removal processing, sizing processing, and scaling processing is performed on the input graphic data. For example, if the subfield 32 and the figures F12 and F13 are input data as shown in FIG. 8A, the overlapping of the figures F12 and F13 is removed and the figure F22 shown in FIG. 8B is generated. It

【0032】ステップ22では各種図形処理が終わった
図形に対して処理対象領域EAの対向する上下一対の境
界線をそれぞれ含む切断線対を発生させて図形を切断
し、切断線対間に存在する図形以外の図形を削除する。
例えば、図8(b)において処理対象領域EAの上下の
境界線を含む切断線L3,L4を発生させて図形F22
を切断し、切断線L3の上方及び切断線L4の下方の図
形を削除すると、図8(c)に示すように切断線L3,
L4間に図形F37が生成される。
At step 22, a pair of cutting lines including a pair of upper and lower boundary lines of the processing target area EA are generated for the graphic for which various graphic processing has been finished, and the graphic is cut, and the graphic is present between the pair of cutting lines. Delete shapes other than shapes.
For example, in FIG. 8B, the cutting lines L3 and L4 including the upper and lower boundaries of the processing target area EA are generated to generate the figure F22.
If the figure above the cutting line L3 and below the cutting line L4 is deleted by cutting, the cutting line L3, as shown in FIG.
A figure F37 is generated between L4.

【0033】次に、ステップ23では切断線対間に存在
する図形の各頂点から切断線対に垂直な分割線を発生さ
せ、発生させた分割線と最初に交差する図形の辺との間
で台形図形を生成し、図形が全て台形図形へと分解され
たら、その台形図形を三角形と矩形に分解する。例え
ば、図8(c)において図形F37の各頂点から切断線
L4に垂直に分割線を発生させると、図8(d)に示す
ように分割図形F38〜F40が生成される。
Next, at step 23, a dividing line perpendicular to the cutting line pair is generated from each vertex of the figure existing between the cutting line pair, and between the generated dividing line and the side of the first intersecting figure. When a trapezoidal figure is generated and all the figures are decomposed into trapezoidal figures, the trapezoidal figure is decomposed into triangles and rectangles. For example, when a dividing line is generated perpendicularly to the cutting line L4 from each vertex of the figure F37 in FIG. 8C, divided figures F38 to F40 are generated as shown in FIG. 8D.

【0034】更に、ステップ24ではステップ23で分
割された各図形が、サブフィールドに登録される図形で
あるか否かを図4に示す登録基準に基づいて判断し、登
録対象となった図形をサブフィールドに登録し、登録さ
れない図形を削除する。
Further, in step 24, it is judged whether or not each figure divided in step 23 is a figure to be registered in the subfield based on the registration criteria shown in FIG. 4, and the figure to be registered is selected. Register in the subfield and delete the figures that are not registered.

【0035】即ち、図4(a)に示すように、各図形F
3,F4がサブフィールド30に完全に包含されている
とき、各図形F3,F4はサブフィールド30への登録
対象となる。図4(b)に示すように、図形F5の一部
でも外部マージンを含んでそれよりも外にありかつ内部
マージンを含んでそれよりも内にあるときには図形F5
はサブフィールド30の境界線で図形F5a,F5bに
切断される。そして、サブフィールド30の内部の図形
F5aのみがサブフィールド30への登録対象となり、
図形F5bは削除される。
That is, as shown in FIG. 4A, each figure F
When the subfields 3 and F4 are completely contained in the subfield 30, the figures F3 and F4 are registered in the subfield 30. As shown in FIG. 4B, when even a part of the figure F5 is outside and including the external margin and inside the figure and including the internal margin.
Is cut into figures F5a and F5b at the boundary of the subfield 30. Then, only the figure F5a inside the subfield 30 becomes the registration target in the subfield 30,
The figure F5b is deleted.

【0036】図4(c)に示すように、図形F6がサブ
フィールド30の外部マージンよりも内にありかつ内部
マージンを含んでそれよりも内にあるとき、図形F6は
サブフィールド30への登録対象となる。更に、図4
(d)に示すように、図形F7,F8がサブフィールド
30の上側及び左側の外部マージンより内にありかつ内
部マージンよりも外にあるとき、図形F7,F8はサブ
フィールド30への登録対象となる。
As shown in FIG. 4C, when the figure F6 is inside the outer margin of the subfield 30 and also inside the outer margin including the inner margin, the figure F6 is registered in the subfield 30. Be the target. Furthermore, FIG.
As shown in (d), when the figures F7 and F8 are inside the outer margins on the upper and left sides of the subfield 30 and outside the inner margins, the figures F7 and F8 are to be registered in the subfield 30. Become.

【0037】最後のステップ25ではステップ24にお
いてサブフィールドに登録された図形が描画データ用の
最後の図形処理へと渡される。そして、図形処理部16
は上記のように処理した図形処理済みのデータを図形デ
ータ転送部17に出力する。図形データ転送部17は図
形処理部16によって処理された図形処理済みのデータ
をホストCPU1に送り返す。
In the final step 25, the figure registered in the subfield in step 24 is passed to the final figure processing for drawing data. Then, the graphic processing unit 16
Outputs the graphic-processed data processed as described above to the graphic data transfer unit 17. The graphic data transfer unit 17 sends back the graphic-processed data processed by the graphic processing unit 16 to the host CPU 1.

【0038】複数の子CPU13A〜13CによりLS
Iチップの全ての図形データが処理されて、図形処理済
みのデータがホストCPU1に送り返されると、データ
出力部7は描画データを出力リスト11又は磁気テープ
12等に出力する。
LS by the plurality of child CPUs 13A to 13C
When all the graphic data of the I chip are processed and the graphic-processed data is sent back to the host CPU 1, the data output unit 7 outputs the drawing data to the output list 11 or the magnetic tape 12.

【0039】磁気テープ12に記録された描画データに
基づいて、ベクトルスキャン方式の電子ビーム描画装置
により半導体ウェハへの描画が行われて、LSI回路が
製造される。
On the basis of the drawing data recorded on the magnetic tape 12, an electron beam drawing apparatus of the vector scan system draws on a semiconductor wafer to manufacture an LSI circuit.

【0040】次に、上記のように構成された描画データ
作成装置の作用を説明する。今、例えば、図5に示すよ
うに隣接するサブフィールド31,32を子CPU13
A,13Bに割り当てて図形F10,F11を登録する
場合について考える。
Next, the operation of the drawing data creating apparatus configured as described above will be described. Now, for example, as shown in FIG.
Consider a case in which the figures F10 and F11 are assigned by being assigned to A and 13B.

【0041】子CPU13Aには、まず図7(a)に示
すようにサブフィールド31を含む処理対象領域EA及
び同処理対象領域EAに含まれる図形F10が取り込ま
れる。この図形F10に対して各種の図形処理が実行さ
れた後、図7(b)に示すように処理対象領域EAの上
下の境界線を含む切断線L1,L2が発生される。切断
線L1,L2により図形F10が切断され、切断線L1
の上方及び切断線L2の下方の図形は削除され、切断線
L1,L2間に図形F34が生成される。次に、図7
(c)に示すように図形F34の頂点から切断線L2に
垂直に分割線が発生され、分割図形F35,F36に分
割される。
First, as shown in FIG. 7A, a processing target area EA including a subfield 31 and a graphic F10 included in the processing target area EA are loaded into the child CPU 13A. After various graphic processes are performed on the graphic F10, cutting lines L1 and L2 including upper and lower boundaries of the processing target area EA are generated as shown in FIG. 7B. The figure F10 is cut by the cutting lines L1 and L2, and the cutting line L1
The figure above the line and below the cutting line L2 is deleted, and a figure F34 is generated between the cutting lines L1 and L2. Next, FIG.
As shown in (c), a dividing line is generated perpendicularly to the cutting line L2 from the apex of the figure F34, and divided into the divided figures F35 and F36.

【0042】この後、図形F35,F36の登録判定が
行われ、各図形F35,F36はその一部が外部マージ
ン上、即ち、外にありかつ内部マージンよりも内にある
ためサブフィールド31の境界線で切断される。従っ
て、図7(d)に示すようにサブフィールド31にはF
35a,F36aが登録される。尚、図形F36aの右
側はサブフィールド31の境界線に接している。
After that, the registration of the figures F35 and F36 is determined, and a part of each of the figures F35 and F36 is on the outer margin, that is, outside and inside the inner margin. It is cut with a line. Therefore, as shown in FIG.
35a and F36a are registered. The right side of the figure F36a is in contact with the boundary line of the subfield 31.

【0043】又、子CPU13Bには、図8(a)に示
すようにサブフィールド32を含む処理対象領域EA及
び同処理対象領域EAに含まれる図形F10,F11が
取り込まれる。図形F10,F11に対して各種の図形
処理が実行された後、図8(b)に示すように図形F1
0,F11の重なりが除去されて図形F22が生成され
る。次に、図8(c)に示すように処理対象領域EAの
上下の境界線を含む切断線L3,L4が発生される。切
断線L3,L4により図形F22が切断され、切断線L
3の上方及び切断線L4の下方の図形は削除され、切断
線L3,L4間に図形F37が生成される。この後、図
8(d)に示すように図形F37の頂点から切断線L4
に垂直に分割線が発生され、分割図形F38〜F40に
分割される。
Further, as shown in FIG. 8A, the child CPU 13B receives the processing target area EA including the subfield 32 and the figures F10 and F11 included in the processing target area EA. After various figure processes are executed on the figures F10 and F11, as shown in FIG.
The figure F22 is generated by removing the overlap of 0 and F11. Next, as shown in FIG. 8C, cutting lines L3 and L4 including upper and lower boundaries of the processing target area EA are generated. The figure F22 is cut by the cutting lines L3 and L4, and the cutting line L
The figure above 3 and below the cutting line L4 is deleted, and a figure F37 is generated between the cutting lines L3 and L4. Thereafter, as shown in FIG. 8D, the cutting line L4 is cut from the top of the figure F37.
A dividing line is generated perpendicularly to and is divided into divided figures F38 to F40.

【0044】そして、図形F38〜F40の登録判定が
行われる。図形F38は外部マージンよりも外にあるた
め登録対象から除外される。各図形F39,F40はそ
の一部が外部マージン上、即ち、外にありかつ内部マー
ジンよりも内にあるためサブフィールド32の境界線で
切断される。従って、図8(e)に示すようにサブフィ
ールド32には図形F39a,F40aが登録される。
尚、図形F39aの左側はサブフィールド32の境界線
に接している。
Then, the registration of the figures F38 to F40 is judged. The figure F38 is excluded from registration because it is outside the external margin. Part of each of the figures F39 and F40 is on the outer margin, that is, outside the inner margin and inside the inner margin, and is therefore cut at the boundary line of the subfield 32. Therefore, the figures F39a and F40a are registered in the subfield 32 as shown in FIG.
The left side of the figure F39a is in contact with the boundary line of the subfield 32.

【0045】従って、描画データは図9に示すようにサ
ブフィールド31の図形F35a,36aとサブフィー
ルド32の図形F39a,F40aとがオーバーラップ
のない状態で接したものとなり、意図したLSI回路を
構成することができる。
Therefore, as shown in FIG. 9, the drawing data is such that the figures F35a and 36a of the subfield 31 and the figures F39a and F40a of the subfield 32 are in contact with each other without any overlap, thereby forming the intended LSI circuit. can do.

【0046】又、図6に示すように隣接するサブフィー
ルド33,34を子CPU13A,13Bに割り当てて
図形F12,F13を登録する場合について考える。子
CPU13Aには、まず図10(a)に示すようにサブ
フィールド33を含む処理対象領域EA及び同処理対象
領域EAに含まれる図形F12が取り込まれる。この図
形F12に対して各種の図形処理が実行された後、図1
0(b)に示すように処理対象領域EAの上下の境界線
を含む切断線L5,L6が発生される。切断線L5,L
6により図形F12が切断され、切断線L5の上方及び
切断線L6の下方の図形は削除され、切断線L5,L6
間に図形F41が生成される。次に、図10(c)に示
すように図形F41の頂点から切断線L6に垂直に分割
線が発生され、分割図形F42,F43に分割される。
Further, consider a case where adjacent subfields 33 and 34 are assigned to the child CPUs 13A and 13B to register the figures F12 and F13 as shown in FIG. First, as shown in FIG. 10A, a processing target area EA including a subfield 33 and a graphic F12 included in the processing target area EA are taken into the child CPU 13A. After various graphic processes have been executed on this graphic F12, FIG.
As shown in 0 (b), cutting lines L5 and L6 including upper and lower boundaries of the processing target area EA are generated. Cutting lines L5, L
The figure F12 is cut by 6, and the figures above the cutting line L5 and below the cutting line L6 are deleted, and the cutting lines L5 and L6 are cut.
A figure F41 is generated in the meantime. Next, as shown in FIG. 10C, a dividing line is generated from the apex of the figure F41 perpendicularly to the cutting line L6 and divided into the divided figures F42 and F43.

【0047】この後、図形F42,F43の登録判定が
行われ、各図形F42,F43はその一部が外部マージ
ン上、即ち、外にありかつ内部マージンよりも内にある
ためサブフィールド33の境界線で切断される。従っ
て、図10(d)に示すようにサブフィールド33には
F42a,F43aが登録される。尚、図形F43aの
右側はサブフィールド33の境界線に接している。
After that, the registration of the figures F42 and F43 is determined, and a part of each figure F42 and F43 is on the outer margin, that is, outside and inside the inner margin. It is cut with a line. Therefore, as shown in FIG. 10D, F42a and F43a are registered in the subfield 33. The right side of the figure F43a is in contact with the boundary line of the subfield 33.

【0048】又、子CPU13Bには、図11(a)に
示すようにサブフィールド34を含む処理対象領域EA
及び同処理対象領域EAに含まれる図形F12,F13
が取り込まれる。図形F12,F13に対して各種の図
形処理が実行された後、図11(b)に示すように図形
F12,F13の重なりが除去されて図形F29が生成
される。次に、図11(c)に示すように処理対象領域
EAの上下の境界線を含む切断線L7,L8が発生され
る。切断線L7,L8により図形F29が切断され、切
断線L7の上方及び切断線L8の下方の図形は削除さ
れ、切断線L7,L8間に図形F44が生成される。こ
の後、図11(d)に示すように図形F44の頂点から
切断線L8に垂直に分割線が発生され、分割図形F45
〜F47に分割される。
Further, the child CPU 13B has a processing target area EA including a subfield 34 as shown in FIG.
And figures F12 and F13 included in the processing target area EA
Is captured. After various figure processes are performed on the figures F12 and F13, the overlap of the figures F12 and F13 is removed and a figure F29 is generated as shown in FIG. 11B. Next, as shown in FIG. 11C, cutting lines L7 and L8 including upper and lower boundaries of the processing target area EA are generated. The figure F29 is cut by the cutting lines L7 and L8, the figures above the cutting line L7 and below the cutting line L8 are deleted, and the figure F44 is generated between the cutting lines L7 and L8. Thereafter, as shown in FIG. 11D, a dividing line is generated perpendicularly to the cutting line L8 from the vertex of the figure F44, and the dividing figure F45 is generated.
~ F47.

【0049】そして、図形F45〜F47の登録判定が
行われる。図形F45は外部マージンよりも外にあるた
め登録対象から除外される。各図形F46,F47はそ
の一部が外部マージン上、即ち、外にありかつ内部マー
ジンよりも内にあるためサブフィールド34の境界線で
切断される。従って、図11(e)に示すようにサブフ
ィールド34には図形F46a,F47aが登録され
る。尚、図形F46aの左側はサブフィールド34の境
界線に接している。
Then, the registration of the figures F45 to F47 is determined. The figure F45 is excluded from the registration target because it is outside the external margin. Part of each of the figures F46 and F47 is on the outer margin, that is, outside and inside the inner margin, and therefore is cut at the boundary line of the subfield 34. Therefore, as shown in FIG. 11E, the figures F46a and F47a are registered in the subfield 34. The left side of the figure F46a is in contact with the boundary line of the subfield 34.

【0050】従って、描画データは図12に示すように
サブフィールド33の図形F42a,43aとサブフィ
ールド34の図形F46a,F47aとがオーバーラッ
プのない状態で接したものとなり、意図したLSI回路
を構成することができる。
Therefore, as shown in FIG. 12, the drawing data is such that the figures F42a and 43a of the subfield 33 and the figures F46a and F47a of the subfield 34 are in contact with each other without any overlap, and the intended LSI circuit is constructed. can do.

【0051】このように、本実施例では複数のCPU1
3A〜13Cに各処理対象領域を割り当てて独立に並列
処理して描画データを作成する際、各処理対象領域の対
向する上下一対の境界線をそれぞれ含む切断線対を発生
させて切断線対間に存在する図形以外の図形を削除する
ようにした。このため、各サブフィールドに図形を登録
する際の図形の取り込み領域を共通化できる。よって、
LSI回路の断線の原因となる図形欠落や、LSI回路
の短絡の原因となるオーバーラップの発生を防止でき、
描画データ作成の高速化を図ることができる。
As described above, in this embodiment, a plurality of CPUs 1
When each processing target area is assigned to 3A to 13C and parallel processing is performed independently to create drawing data, a cutting line pair including a pair of upper and lower boundary lines facing each other is generated to generate a cutting line pair. The shapes other than the existing shapes are deleted. For this reason, it is possible to make the figure capture area common when registering a figure in each subfield. Therefore,
It is possible to prevent the loss of graphics that causes disconnection of LSI circuits and the occurrence of overlap that causes short circuits in LSI circuits.
It is possible to speed up drawing data creation.

【0052】尚、上記実施例では各処理対象領域EAの
上下一対の境界線を含む切断線対を発生させて切断線対
間に存在する図形以外の図形を削除するようにした。こ
れに代えて、各処理対象領域EAの左右一対の境界線を
含む切断線対を発生させて切断線対間に存在する図形以
外の図形を削除するようにしてもよい。
In the above embodiment, a cutting line pair including a pair of upper and lower boundary lines of each processing target area EA is generated to delete figures other than the figures existing between the cutting line pairs. Instead of this, a cutting line pair including a pair of left and right boundary lines of each processing target area EA may be generated to delete figures other than the figures existing between the cutting line pairs.

【0053】又、上記実施例では3つの子CPU13A
〜13Cを設けたが、2つ又は4つ以上の子CPUを設
け、各CPUに処理対象領域を割り当てて独立に並列処
理を行わせるようにしてもよい。
In the above embodiment, three child CPUs 13A are used.
Although 13C to 13C are provided, two or four or more child CPUs may be provided, and a processing target area may be assigned to each CPU to allow independent parallel processing.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
複数のCPUに各処理対象領域を割り当てて独立に並列
処理を行うことにより各矩形領域に図形を登録して描画
データを作成しても、回路断線の原因となる図形欠落
や、回路短絡の原因となる図形のオーバーラップの発生
を防止できるとともに、描画データ作成の高速化を図る
ことができる優れた効果がある。
As described in detail above, according to the present invention,
Even if the graphics data is created by registering graphics in each rectangular area by allocating each processing target area to multiple CPUs and performing independent parallel processing, the cause of the graphic missing or the circuit short circuit that causes the circuit disconnection It is possible to prevent the overlap of the figures to be generated and to speed up the drawing data creation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】一実施例の描画データ作成装置の電気的構成を
示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an electrical configuration of a drawing data creating apparatus according to an embodiment.

【図2】図形処理部の処理を示すフローチャートであ
る。
FIG. 2 is a flowchart showing processing of a graphic processing unit.

【図3】LSIチップをサブフィールドに分割した状態
を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a state in which an LSI chip is divided into subfields.

【図4】サブフィールドへの図形の登録基準を示す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram showing a registration standard of graphics in a subfield.

【図5】一例のマスクパターンデータを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing an example of mask pattern data.

【図6】一例のマスクパターンデータを示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of mask pattern data.

【図7】一実施例の図形登録処理を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a graphic registration process according to an embodiment.

【図8】一実施例の図形登録処理を説明する図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a graphic registration process according to an embodiment.

【図9】図5のマスクパターンデータから作成された描
画データを示す図である。
9 is a diagram showing drawing data created from the mask pattern data of FIG.

【図10】一実施例の図形登録処理を説明する図であ
る。
FIG. 10 is a diagram illustrating a graphic registration process according to an embodiment.

【図11】一実施例の図形登録処理を説明する図であ
る。
FIG. 11 is a diagram illustrating a graphic registration process according to an embodiment.

【図12】図6のマスクパターンデータから作成された
描画データを示す図である。
12 is a diagram showing drawing data created from the mask pattern data of FIG.

【図13】サブフィールドに内部及び外部マージンを設
定した状態を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a state in which internal and external margins are set in a subfield.

【図14】従来の図形処理方法の問題点を説明する図で
ある。
FIG. 14 is a diagram illustrating a problem of a conventional graphic processing method.

【図15】従来の図形処理方法による登録結果を示す図
である。
FIG. 15 is a diagram showing a registration result by a conventional graphic processing method.

【図16】従来の図形登録処理を説明する図である。FIG. 16 is a diagram illustrating a conventional graphic registration process.

【図17】従来の図形登録処理を説明する図である。FIG. 17 is a diagram illustrating a conventional graphic registration process.

【図18】従来の図形処理方法により作成された描画デ
ータを示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing drawing data created by a conventional graphic processing method.

【図19】従来の図形登録処理を説明する図である。FIG. 19 is a diagram illustrating a conventional graphic registration process.

【図20】従来の図形登録処理を説明する図である。FIG. 20 is a diagram illustrating a conventional graphic registration process.

【図21】従来の図形処理方法により作成された描画デ
ータを示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing drawing data created by a conventional graphic processing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ホストCPU 2 システム制御部 3 被処理図形データ入力部 4 LSIチップ分割部 5 図形データ転送部 6 図形データ受信部 7 データ出力部7 13A〜13C 子CPU 14 システム制御部 15 図形データ受信部 16 図形処理部 17 図形データ転送部 30〜34 サブフィールド EA 処理対象領域 F1〜F46 図形 L1〜L8 切断線 M マージン 1 host CPU 2 system control unit 3 processed graphic data input unit 4 LSI chip dividing unit 5 graphic data transfer unit 6 graphic data receiving unit 7 data output unit 7 13A to 13C child CPU 14 system control unit 15 graphic data receiving unit 16 graphic Processing unit 17 Graphic data transfer unit 30 to 34 Subfield EA Processing target area F1 to F46 Graphic L1 to L8 Cutting line M Margin

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 集積回路パターンを電子ビーム描画装置
の電磁偏向で描画可能な矩形領域を基準とした多数の処
理対象領域に分割し、各処理対象領域及び当該処理対象
領域に含まれるマスクパターンの図形データを複数のC
PUに割り当てて各処理対象領域について独立に図形処
理を施した後、各矩形領域に図形を登録するようにした
電子ビーム描画装置用の描画データ作成方法において、 各矩形領域の境界線を基準として矩形領域の内部及び外
部に所定幅のマージンを設定して外部マージンで囲まれ
る領域を処理対象領域とし、各処理対象領域の対向する
上下一対の境界線をそれぞれ含む切断線対を発生させて
切断線対間に存在する図形以外の図形を削除した後、切
断線対間に存在する図形の各頂点から切断線対に垂直な
分割線を発生させて当該図形を分割し、 各分割図形が矩形領域に完全に包含されているとき、又
は各分割図形が外部マージンよりも内にありかつ内部マ
ージンを含んでそれよりも内にあるときには当該分割図
形をその矩形領域に登録し、各分割図形の一部でも外部
マージンを含んでそれよりも外にありかつ内部マージン
を含んでそれよりも内にあるときには当該分割図形を矩
形領域の境界線で切断した内部の図形をその矩形領域に
登録し、更に、各分割図形が矩形領域の所定の隣接する
境界線対に対応した外部マージンより内にありかつ内部
マージンよりも外にあるときには当該分割図形をその矩
形領域に登録するようにしたことを特徴とする電子ビー
ム描画装置用の描画データ作成方法。
1. An integrated circuit pattern is divided into a large number of processing target areas based on a rectangular area that can be written by electromagnetic deflection of an electron beam drawing apparatus, and each processing target area and mask patterns included in the processing target area are divided. Graphic data can be converted into multiple C
In the drawing data creation method for the electron beam drawing apparatus, which is configured such that the figures are registered in each rectangular area after being assigned to the PU and each figure area is independently processed, the boundary line of each rectangular area is used as a reference. By setting a margin of a predetermined width inside and outside the rectangular area, the area surrounded by the external margin is set as the processing target area, and a cutting line pair including a pair of upper and lower boundary lines of each processing target area is generated and cut. After deleting shapes other than the ones existing between line pairs, divide the figure by generating a dividing line perpendicular to the cutting line pairs from each vertex of the shapes existing between the cutting line pairs, and dividing each shape into a rectangle. When it is completely included in the area, or when each divided figure is inside the outer margin and also inside the inner margin, the divided figure is registered in the rectangular area, and Even if a part of the split figure is outside and including the external margin and inside and including the internal margin, the internal figure obtained by cutting the divided figure at the boundary of the rectangular area is set to the rectangular area. Further, the divided figures are registered in the rectangular area when each divided figure is within the outer margin and outside the inner margin corresponding to a predetermined pair of adjacent boundary lines of the rectangular area. A writing data creation method for an electron beam writing apparatus, characterized in that.
【請求項2】 集積回路パターンを電子ビーム描画装置
の電磁偏向で描画可能な矩形領域を基準とした多数の処
理対象領域に分割し、各処理対象領域及び当該処理対象
領域に含まれるマスクパターンの図形データを複数のC
PUに割り当てて各処理対象領域について独立に図形処
理を施した後、各矩形領域に図形を登録するようにした
電子ビーム描画装置用の描画データ作成方法において、 各矩形領域の境界線を基準として矩形領域の内部及び外
部に所定幅のマージンを設定して外部マージンで囲まれ
る領域を処理対象領域とし、各処理対象領域の対向する
左右一対の境界線をそれぞれ含む切断線対を発生させて
切断線対間に存在する図形以外の図形を削除した後、切
断線対間に存在する図形の各頂点から切断線対に垂直な
分割線を発生させて当該図形を分割し、 各分割図形が矩形領域に完全に包含されているとき、又
は各分割図形が外部マージンよりも内にありかつ内部マ
ージンを含んでそれよりも内にあるときには当該分割図
形をその矩形領域に登録し、各分割図形の一部でも外部
マージンを含んでそれよりも外にありかつ内部マージン
を含んでそれよりも内にあるときには当該分割図形を矩
形領域の境界線で切断した内部の図形をその矩形領域に
登録し、更に、各分割図形が矩形領域の所定の隣接する
境界線対に対応した外部マージンより内にありかつ内部
マージンよりも外にあるときには当該分割図形をその矩
形領域に登録するようにしたことを特徴とする電子ビー
ム描画装置用の描画データ作成方法。
2. An integrated circuit pattern is divided into a large number of processing target areas based on a rectangular area that can be drawn by electromagnetic deflection of an electron beam drawing apparatus, and each processing target area and mask patterns included in the processing target area are divided. Graphic data can be converted into multiple C
In the drawing data creation method for the electron beam drawing apparatus, which is configured such that the figures are registered in each rectangular area after being assigned to the PU and each figure area is independently processed, the boundary line of each rectangular area is used as a reference. A margin of a predetermined width is set inside and outside the rectangular area, and the area surrounded by the external margin is set as a processing target area, and a cutting line pair including a pair of left and right boundary lines of each processing target area is generated and cut. After deleting shapes other than the ones existing between line pairs, divide the figure by generating a dividing line perpendicular to the cutting line pairs from each vertex of the shapes existing between the cutting line pairs, and dividing each shape into a rectangle. When it is completely included in the area, or when each divided figure is inside the outer margin and also inside the inner margin, the divided figure is registered in the rectangular area, and Even if a part of the split figure is outside and including the external margin and inside and including the internal margin, the internal figure obtained by cutting the divided figure at the boundary of the rectangular area is set to the rectangular area. Further, the divided figures are registered in the rectangular area when each divided figure is within the outer margin and outside the inner margin corresponding to a predetermined pair of adjacent boundary lines of the rectangular area. A writing data creation method for an electron beam writing apparatus, characterized in that.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5936642A (en) * 1996-03-29 1999-08-10 Shinko Electric Industries, Co., Ltd. Parallel graphic processing system using a network
US6008822A (en) * 1996-03-19 1999-12-28 Shinko Electric Industries, Co., Ltd. Parallel graphic processing system using a network
JP2002124450A (en) * 2000-10-17 2002-04-26 Nec Corp Creation method of exposure mask data for electron-ray projection aligner, exposure mask for electron-ray projection aligner, and exposure method
US7844857B2 (en) 2006-09-21 2010-11-30 Nuflare Technology, Inc. Writing data processing control apparatus, writing method, and writing apparatus

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