JPH0693069A - 新規ポリアミド系樹脂の製法および新規ポリアミド系樹脂 - Google Patents

新規ポリアミド系樹脂の製法および新規ポリアミド系樹脂

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JPH0693069A
JPH0693069A JP24055692A JP24055692A JPH0693069A JP H0693069 A JPH0693069 A JP H0693069A JP 24055692 A JP24055692 A JP 24055692A JP 24055692 A JP24055692 A JP 24055692A JP H0693069 A JPH0693069 A JP H0693069A
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JP
Japan
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diisocyanate
compound
general formula
polyamide resin
ketene acetal
Prior art date
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Pending
Application number
JP24055692A
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English (en)
Inventor
Takeshi Endo
剛 遠藤
Koichi Ichimura
弘一 市村
Tsutomu Yokozawa
勉 横澤
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 3−メチル−5−フェニル−2−エチレン−
1,3−オキサゾールとジフェニルメタンジイソシアネ
ートとを重付加反応する。 【効果】 様々な特性に修飾可能なポリアミドを提供で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エンジニアリングプラ
スチック用或いは合成繊維用の高分子材料として有用な
新規ポリアミド樹脂に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、エンジリアリングプラスチッ
ク用或いは合成繊維用の高分子材料としてその耐熱性が
優れる所からナイロン等に代表されるポリアミド樹脂が
広く用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ナイロン等に
代表される従来のポリアミド樹脂は、通常ジカルボン酸
またはその誘導体とジアミンとの縮重合によって製造さ
れている。しかし、この製造法では、原料となるジカル
ボン酸およびジアミンの合成上の制約から、反応性に富
む置換基を分子内に導入することが困難であり、一旦ポ
リアミドを合成した後に該ポリアミドを修飾してさらに
多様な性質を付加することができないものであった。
【0004】本発明が解決しようとする課題は、様々な
特性に修飾可能なポリアミドを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、N,O-ケテンア
セタ−ルをジイソシアネートとを反応させることにより
反応性に富むN,O-ケテンアセタ−ル官能基として有
する新規ポリアミド樹脂を見い出し、本発明を完成する
に至った。
【0006】N、O-ケテンアセタ−ル類とジイソシアナ
−ト類とを重付加反応させることを特徴とする新規ポリ
アミド系樹脂の製法、及び数平均分子量が1,000〜
50,000で、かつ主鎖が実質的に下記一般式
(2)、一般式(2)
【0007】
【化3】
【0008】(式中、R1及びR2は低級アルキル基ま
たはフェニル基、R3はアリ−ル基である。)で示させ
る繰り返し単位からなることを特徴とする新規ポリアミ
ド系樹脂に関する。
【0009】本発明の新規ポリアミド樹脂の製造法は、
N,O-ケテンアセタ−ル類とジイソシアナ−ト類とを
重付加させる。本発明で用いるN,O-ケテンアセタ−
ル類としては、例えば下記一般式(1)のものが挙げら
れる。一般式(1)
【0010】
【化4】
【0011】(式中、R1は低級アルキル基、R2はフ
ェニル基である。) また、さらに具体的には、3-メチル-5-フェニル体、
3-エチル-5-フェニル体および3-メチル-5-フェニル
体等が挙げられる。
【0012】これらのN、O-ケテンアセタ−ル類は公知
の方法で合成することができる。例えば、相当するオキ
サゾリン類にハロゲン化アルキルを付加させアンモニウ
ム塩とした後、塩基例えばカリウムt-ブトキシドを用い
て脱水素化させ、蒸留または再結晶等の手段で精製する
ことによって容易に得ることができる。
【0013】また、本発明で使用されるジイソシアネ−
ト類としてはm-フェニレンジイソシアネ−ト、トルエン
2、6-ジイソシアネ−トおよびジフェニルメタン4、4-
ジイソシアネ−ト等が挙げられる。
【0014】反応原料のモル比は、N、O-ケテンアセタ
−ル1モルに対して、ジイソシアネ−ト類を0.8〜1.
2モル、好適には1.0モル等量を用いる。本発明は、
溶剤の存在下に実施される。溶剤としては、具体的には
ポリマ−生成反応において通常用いられる溶剤すなわ
ち、N-メチルピドリドン、ジメチルホルムアミド等が
挙げられる。
【0015】反応温度は、特に制限されないが、該反応
は発熱反応であるので通常−20〜100℃の範囲が挙
げられ、特に0〜20℃の範囲が好ましい。反応時間
は、温度、溶剤等の条件によって異なり、特に限定され
ないが、通常1〜10時間の範囲、中でも3〜6時間の
範囲が好ましい。
【0016】この様にして得られたポリアミド系樹脂
は、通常、数平均分子量が1,000〜50,000で、
かつ主鎖が実質的に下記一般式(2)、一般式(2)
【0017】
【化5】
【0018】(式中、R1及びR2は低級アルキル基ま
たはフェニル基、R3はアリール基である。)で示させ
る繰り返し単位からなる本発明の新規ポリアミド系樹脂
となる。尚、本発明の新規ポリアミドは上述した方法の
みならず、その他の製法によって得られたものであって
もよい。
【0019】本発明のポリアミド系樹脂の分子量は1,
000〜50,000であるが、1,000に満たない
場合は、高分子材料として所望の特性が得られなくな
り、また50,000を越える場合は、耐熱性の著しい
低下を招く。
【0020】また、上記一般式(2)において、R1及
びR2はフェニル基、アルキル置換フェニル基、ナフチ
ル基、ヒドロキシナフチル基等のアリール基またはメチ
ル基、エチル基、プロピル基等の低級アルキル基、R3
はフェニレン基、ジフェニルメタン残基、2,2’−ジ
フェニルプロパン残基等のアリール基であるが、これら
の中でもポリアミド系樹脂の修飾性及び耐熱性に優れる
点からR1が低級アルキル基、R2がフェニル基、R3
がジフェニルメタン残基であることが好ましい。
【0021】本発明のポリアミド化合物は、酸による加
水分解によってN、O-ケテンアセタ−ル基が脱離したカ
ルボン酸またはアルコ−ル共存下ではエステルに容易に
変換でき、多様な分子設計が可能である。
【0022】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に示
す。なお、記載した収率は、使用したジイソシアネ−ト
に対して、得られたポリマ−中に含まれるジイソシアネ
−ト部分のモル数の比を示す。 実施例1 ジフェニルメタンジイソシアネ−ト25g(0.1モ
ル)と3-メチル-5-フェニル-2-エチレン-1、3-オキ
サゾ−ル17.5g(0.1モル)をN-メチルピロリド
ン100mlに溶解し、0℃で5時間攪拌した。その
後、反応液を500mlのメタノ−ル中に注ぎ、目的物
のポリアミド系樹脂を固体として得た。(収率99%) GPCにより分子量を測定した結果、数平均分子量はポ
リスチレン換算で12,900で、重量平均分子量/数
平均分子量は、1.56であった。
【0023】次に、得られたポリアミド樹脂の赤外線吸
収スペクトルを測定した。主要な吸収帯は次の通りであ
った。 3332cm-1、3092cm-1、3010cm-1、2238cm-1、1642cm-1
1610cm-1、1605cm-1、1540cm-1、1123cm-1、834cm-1
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、様々な特性に修飾可能
なポリアミドを提供することにある。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 N、O-ケテンアセタ−ル類とジイソシア
    ナ−ト類とを重付加反応させることを特徴とする新規ポ
    リアミド系樹脂の製法。
  2. 【請求項2】 N、O-ケテンアセタ−ル類が下記一般式
    (1)、一般式(1) 【化1】 (式中、R1は低級アルキル基、R2はフェニル基であ
    る。)で表される請求項3記載の製法。
  3. 【請求項3】 ジイソシアナートが、4,4’−ジフェ
    ニルメタンジイソシアナートである請求項2記載の製
    法。
  4. 【請求項4】 数平均分子量が1,000〜50,000
    で、かつ主鎖が実質的に下記一般式(2)、一般式
    (2) 【化2】 (式中、R1及びR2は低級アルキル基またはフェニル
    基、R3はアリ−ル基である。)で示させる繰り返し単
    位からなることを特徴とする新規ポリアミド系樹脂
  5. 【請求項5】 一般式(2)中のR1が低級アルキル
    基、R3がジフェニルメタン残基である請求項4記載の
    樹脂。
JP24055692A 1992-09-09 1992-09-09 新規ポリアミド系樹脂の製法および新規ポリアミド系樹脂 Pending JPH0693069A (ja)

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