JPH0689840A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH0689840A JPH0689840A JP4240455A JP24045592A JPH0689840A JP H0689840 A JPH0689840 A JP H0689840A JP 4240455 A JP4240455 A JP 4240455A JP 24045592 A JP24045592 A JP 24045592A JP H0689840 A JPH0689840 A JP H0689840A
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- temperature
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- G—PHYSICS
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光装置内で時間の経過とともに基板の温度
が変化し、基板が伸縮することによる露光精度の悪化を
防止する。 【構成】 基板が入ったカセット４を恒温室１内に搬入
してからの時間を計測するタイマー４と、タイマー４に
よって計測された時間が所定時間を経過した後に基板を
カセットから露光位置２へ搬送する制御部７とを設け
る。また、タイマー４の代わりに基板の温度を測定する
温度センサ９を設ける。
が変化し、基板が伸縮することによる露光精度の悪化を
防止する。 【構成】 基板が入ったカセット４を恒温室１内に搬入
してからの時間を計測するタイマー４と、タイマー４に
よって計測された時間が所定時間を経過した後に基板を
カセットから露光位置２へ搬送する制御部７とを設け
る。また、タイマー４の代わりに基板の温度を測定する
温度センサ９を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示基板や半導体
素子等の製造に用いられる露光装置に関するものであ
り、特にプロセス処理を施した基板を露光位置に搬送す
る機構に関するものである。
素子等の製造に用いられる露光装置に関するものであ
り、特にプロセス処理を施した基板を露光位置に搬送す
る機構に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の装置は、図５に示すよう
な構成であった。即ち、温度や気圧等を一定に保つ恒温
室１内に基板を露光する露光部１ａと、露光部１ａ内の
露光位置２に基板を搬送する搬送部１ｂとが収納されて
おり、前処理が終了した基板が入ったカセット４を不図
示の搬入部から恒温室１内に搬入するか、外部の処理装
置５から基板を１枚ずつ搬入した後、搬送装置３によっ
て直ちに基板を露光位置２に搬送し、基板に対する露光
を行っていた。
な構成であった。即ち、温度や気圧等を一定に保つ恒温
室１内に基板を露光する露光部１ａと、露光部１ａ内の
露光位置２に基板を搬送する搬送部１ｂとが収納されて
おり、前処理が終了した基板が入ったカセット４を不図
示の搬入部から恒温室１内に搬入するか、外部の処理装
置５から基板を１枚ずつ搬入した後、搬送装置３によっ
て直ちに基板を露光位置２に搬送し、基板に対する露光
を行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、恒温室内に搬入された基板の温度が前処理
の影響で恒温室内の温度と異なることがある。その場
合、時間の経過に伴って、例えば基板に対する露光の前
後で基板の温度が変化して基板が伸縮し、その結果、基
板に対する露光精度が低下するという問題があった。
においては、恒温室内に搬入された基板の温度が前処理
の影響で恒温室内の温度と異なることがある。その場
合、時間の経過に伴って、例えば基板に対する露光の前
後で基板の温度が変化して基板が伸縮し、その結果、基
板に対する露光精度が低下するという問題があった。
【０００４】本発明は上記の如き問題点に鑑みて成され
たものであり、基板の温度変化による露光精度の低下を
防ぐことを目的とする。
たものであり、基板の温度変化による露光精度の低下を
防ぐことを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的のため本発明で
は、基板を露光する露光手段と、基板を外部から搬入す
る搬入部と、基板を搬入部から露光手段の露光位置に搬
送する搬送手段とを恒温室内に収納した露光装置におい
て、基板が搬入部に搬入されてからの時間を計測する計
時手段と；計時手段による計測時間が所定値となった後
に、基板を搬送手段によって露光位置に搬送する制御手
段とを備えたこととした。
は、基板を露光する露光手段と、基板を外部から搬入す
る搬入部と、基板を搬入部から露光手段の露光位置に搬
送する搬送手段とを恒温室内に収納した露光装置におい
て、基板が搬入部に搬入されてからの時間を計測する計
時手段と；計時手段による計測時間が所定値となった後
に、基板を搬送手段によって露光位置に搬送する制御手
段とを備えたこととした。
【０００６】また、基板を露光する露光手段と、基板を
外部から搬入して露光手段の露光位置に搬送する搬送手
段とを恒温室内に収納した露光装置において、搬送手段
の搬送経路中で基板を待機させる基板待機手段と；基板
の待機時間を計測する計時手段と；計時手段による計測
時間が所定値となった後に、基板を基板待機手段から露
光位置に搬送する制御手段とを備えたこととした。
外部から搬入して露光手段の露光位置に搬送する搬送手
段とを恒温室内に収納した露光装置において、搬送手段
の搬送経路中で基板を待機させる基板待機手段と；基板
の待機時間を計測する計時手段と；計時手段による計測
時間が所定値となった後に、基板を基板待機手段から露
光位置に搬送する制御手段とを備えたこととした。
【０００７】さらに、基板を露光する露光手段と、基板
を外部から搬入する搬入部と、基板を搬入部から露光手
段の露光位置に搬送する搬送手段とを恒温室内に収納し
た露光装置において、搬入部に搬入された基板の温度を
検出する温度測定手段と；温度測定手段による測定結果
が所定値となった後に、基板を搬送手段によって露光位
置に搬送する制御手段とを備えたこととした。
を外部から搬入する搬入部と、基板を搬入部から露光手
段の露光位置に搬送する搬送手段とを恒温室内に収納し
た露光装置において、搬入部に搬入された基板の温度を
検出する温度測定手段と；温度測定手段による測定結果
が所定値となった後に、基板を搬送手段によって露光位
置に搬送する制御手段とを備えたこととした。
【０００８】その他、基板を露光する露光手段と、基板
を外部から搬入して露光手段の露光位置に搬送する搬送
手段とを恒温室内に収納した露光装置において、搬送手
段の搬送経路中で基板を待機させる基板待機手段と；待
機中の基板の温度を検出する温度測定手段と；温度測定
手段による測定結果が所定値となった後に、基板を搬送
手段によって露光位置に搬送する制御手段とを備えたこ
ととした。
を外部から搬入して露光手段の露光位置に搬送する搬送
手段とを恒温室内に収納した露光装置において、搬送手
段の搬送経路中で基板を待機させる基板待機手段と；待
機中の基板の温度を検出する温度測定手段と；温度測定
手段による測定結果が所定値となった後に、基板を搬送
手段によって露光位置に搬送する制御手段とを備えたこ
ととした。
【０００９】
【作用】本発明では、基板を露光装置中（恒温室内）に
搬入した後、所定時間経過するまで基板の露光位置への
搬送を中止する構成としたため、基板の温度を安定させ
た後に露光を行うことができる。また、基板を恒温室内
に搬入した後に、基板の温度を測定し、温度が安定する
まで基板を待機させる構成としたため、基板の温度が安
定してから露光を行うことができる。
搬入した後、所定時間経過するまで基板の露光位置への
搬送を中止する構成としたため、基板の温度を安定させ
た後に露光を行うことができる。また、基板を恒温室内
に搬入した後に、基板の温度を測定し、温度が安定する
まで基板を待機させる構成としたため、基板の温度が安
定してから露光を行うことができる。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の第１の実施例による露光装
置の概略的な構成を示す図である。基本的な構成は従来
の装置と同様であるが、以下の点で異なる。即ち、恒温
室（チャンバ）１内の搬送部１ｂは、基板の入ったカセ
ット４を搬入する搬入部（不図示）と、カセット４がチ
ャンバ内に搬入されたことを検出してカセット搬入から
の時間を計測するタイマー６、及びタイマー６の計測結
果に基づいて搬送装置３に動作信号を出力する制御部７
とで構成されている。
置の概略的な構成を示す図である。基本的な構成は従来
の装置と同様であるが、以下の点で異なる。即ち、恒温
室（チャンバ）１内の搬送部１ｂは、基板の入ったカセ
ット４を搬入する搬入部（不図示）と、カセット４がチ
ャンバ内に搬入されたことを検出してカセット搬入から
の時間を計測するタイマー６、及びタイマー６の計測結
果に基づいて搬送装置３に動作信号を出力する制御部７
とで構成されている。
【００１１】上記の構成において、カセット搬入から所
定時間経過した後にタイマー６が制御部７に信号を出力
する。制御部７はタイマー６からの信号を入力するとカ
セット４から基板を取り出して、露光部１ａ内の露光位
置２へ基板を搬送する。尚、従来の装置において、カセ
ット４が搬入されたことを検出して基板を搬送するよう
に制御する制御部を備えているとすれば、この構成にタ
イマー６の構成を付加するだけでよい。
定時間経過した後にタイマー６が制御部７に信号を出力
する。制御部７はタイマー６からの信号を入力するとカ
セット４から基板を取り出して、露光部１ａ内の露光位
置２へ基板を搬送する。尚、従来の装置において、カセ
ット４が搬入されたことを検出して基板を搬送するよう
に制御する制御部を備えているとすれば、この構成にタ
イマー６の構成を付加するだけでよい。
【００１２】図２は、本発明の第２の実施例による露光
装置の概略的な構成を示す図である。これは、図１に示
す装置の搬送経路中に基板の待機部８を設けたものであ
る。つまり、カセット４をチャンバ内に搬入した後、基
板を一旦待機部８に配置してタイマー６で基板の待機時
間を計測する。待機時間が所定の時間を経過した後、基
板を露光位置２へ搬送する。この場合、待機部８を温度
調節されたホルダで構成すれば、より速やかに基板の温
度を安定させることができる。また、待機部８を複数設
ける構成とすれば、処理能力が向上することは言うまで
もない。
装置の概略的な構成を示す図である。これは、図１に示
す装置の搬送経路中に基板の待機部８を設けたものであ
る。つまり、カセット４をチャンバ内に搬入した後、基
板を一旦待機部８に配置してタイマー６で基板の待機時
間を計測する。待機時間が所定の時間を経過した後、基
板を露光位置２へ搬送する。この場合、待機部８を温度
調節されたホルダで構成すれば、より速やかに基板の温
度を安定させることができる。また、待機部８を複数設
ける構成とすれば、処理能力が向上することは言うまで
もない。
【００１３】図３は、本発明の第３の実施例による露光
装置の概略的な構成を示す図である。これは、図１に示
す装置のタイマー６の代わりに、チャンバ１内に搬入さ
れたカセット４内の基板の温度を測定する温度センサ９
を設けたものである。この場合、温度センサ９による測
定結果が、チャンバ内の気温とほぼ一致した後にカセッ
ト４から基板を取り出し、露光位置に搬送するように制
御部７によって搬送装置３を制御する。尚、温度センサ
９は基板から放射される赤外線を検出する方式等の非接
触式のものが好適である。
装置の概略的な構成を示す図である。これは、図１に示
す装置のタイマー６の代わりに、チャンバ１内に搬入さ
れたカセット４内の基板の温度を測定する温度センサ９
を設けたものである。この場合、温度センサ９による測
定結果が、チャンバ内の気温とほぼ一致した後にカセッ
ト４から基板を取り出し、露光位置に搬送するように制
御部７によって搬送装置３を制御する。尚、温度センサ
９は基板から放射される赤外線を検出する方式等の非接
触式のものが好適である。
【００１４】図４は、本発明の第４の実施例による露光
装置の概略的な構成を示す図である。これは、図２に示
す装置のタイマー６の代わりに、待機部８に配置された
基板の温度を測定する温度センサ９を設けたものであ
る。この場合、待機部８に配置された基板の温度がチャ
ンバ内の気温とほぼ一致した後に待機部８から露光位置
２へ基板を搬送する。
装置の概略的な構成を示す図である。これは、図２に示
す装置のタイマー６の代わりに、待機部８に配置された
基板の温度を測定する温度センサ９を設けたものであ
る。この場合、待機部８に配置された基板の温度がチャ
ンバ内の気温とほぼ一致した後に待機部８から露光位置
２へ基板を搬送する。
【００１５】以上の各実施例において、いずれも基板の
入ったカセットをチャンバ内に搬入する構成としたが、
これは、外部の処理装置から基板を１枚ずつ搬送装置で
チャンバ内に搬入する構成であっても構わない。
入ったカセットをチャンバ内に搬入する構成としたが、
これは、外部の処理装置から基板を１枚ずつ搬送装置で
チャンバ内に搬入する構成であっても構わない。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板の温
度が安定するのを待ってから露光を行う構成としたた
め、露光中に基板の温度が変化して基板が伸縮すること
がなく、従って、露光精度を高精度に維持することが可
能となる。
度が安定するのを待ってから露光を行う構成としたた
め、露光中に基板の温度が変化して基板が伸縮すること
がなく、従って、露光精度を高精度に維持することが可
能となる。
【図１】本発明の第１の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
な構成を示す図
【図２】本発明の第２の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
な構成を示す図
【図３】本発明の第３の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
な構成を示す図
【図４】本発明の第４の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
な構成を示す図
【図５】従来の技術による露光装置の概略的な構成を示
す図
す図
１ チャンバ ６ タイマー ７ 制御部 ８ 待機部 ９ 温度センサ
Claims (4)
- 【請求項１】 基板を露光する露光手段と、基板を外部
から搬入する搬入部と、前記基板を前記搬入部から前記
露光手段の露光位置に搬送する搬送手段とを恒温室内に
収納した露光装置において、 前記基板が前記搬入部に搬入されてからの時間を計測す
る計時手段と；前記計時手段による計測時間が所定値と
なった後に、前記基板を前記搬送手段によって前記露光
位置に搬送する制御手段とを備えたことを特徴とする露
光装置。 - 【請求項２】 基板を露光する露光手段と、基板を外部
から搬入して前記露光手段の露光位置に搬送する搬送手
段とを恒温室内に収納した露光装置において、 前記搬送手段の搬送経路中で前記基板を待機させる基板
待機手段と；前記基板の待機時間を計測する計時手段
と；前記計時手段による計測時間が所定値となった後
に、前記基板を前記基板待機手段から前記露光位置に搬
送する制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 基板を露光する露光手段と、基板を外部
から搬入する搬入部と、前記基板を前記搬入部から前記
露光手段の露光位置に搬送する搬送手段とを恒温室内に
収納した露光装置において、 前記搬入部に搬入された前記基板の温度を検出する温度
測定手段と；前記温度測定手段による測定結果が所定値
となった後に、前記基板を前記搬送手段によって前記露
光位置に搬送する制御手段とを備えたことを特徴とする
露光装置。 - 【請求項４】 基板を露光する露光手段と、基板を外部
から搬入して前記露光手段の露光位置に搬送する搬送手
段とを恒温室内に収納した露光装置において、 前記搬送手段の搬送経路中で前記基板を待機させる基板
待機手段と；待機中の前記基板の温度を検出する温度測
定手段と；前記温度測定手段による測定結果が所定値と
なった後に、前記基板を前記搬送手段によって前記露光
位置に搬送する制御手段とを備えたことを特徴とする露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4240455A JPH0689840A (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4240455A JPH0689840A (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0689840A true JPH0689840A (ja) | 1994-03-29 |
Family
ID=17059756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4240455A Pending JPH0689840A (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0689840A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001159692A (ja) * | 1999-10-11 | 2001-06-12 | Leica Microsystems Wetzler Gmbh | 高精度の測定器にさまざまの透明なサブストレートを組み込むための装置及び方法 |
| WO2006085556A1 (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-17 | Fujifilm Corporation | 画像形成装置および画像形成方法 |
| JP2013016595A (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
-
1992
- 1992-09-09 JP JP4240455A patent/JPH0689840A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001159692A (ja) * | 1999-10-11 | 2001-06-12 | Leica Microsystems Wetzler Gmbh | 高精度の測定器にさまざまの透明なサブストレートを組み込むための装置及び方法 |
| WO2006085556A1 (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-17 | Fujifilm Corporation | 画像形成装置および画像形成方法 |
| JP2013016595A (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
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