JPH06822A - 金型監視方法 - Google Patents

金型監視方法

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Publication number
JPH06822A
JPH06822A JP4159046A JP15904692A JPH06822A JP H06822 A JPH06822 A JP H06822A JP 4159046 A JP4159046 A JP 4159046A JP 15904692 A JP15904692 A JP 15904692A JP H06822 A JPH06822 A JP H06822A
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JP
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mold
molding
molded product
pixels
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JP4159046A
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English (en)
Inventor
Michiya Yokota
道也 横田
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Seikosha KK
Original Assignee
Seikosha KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 雑音の少ない第1の基準画像と、実監視時に
おいて監視環境に対応した第2の基準画像とを自動的に
作成し、この基準画像を用いて的確な良否判定を可能に
し、付着不良の個所を見易くする。 【構成】 成形品を突き出す前の金型の状態を所望のし
きい値で二値化して型開き画像A(w)を作成し、成形品を
突き出した後の金型の状態を所望のしきい値で二値化し
て突出し画像B(w)を作成し、型開き画像A(w)と突出し画
像B(w)との差画像C(w)を作成し、この差画像に雑音除去
処理を施して第1の基準画像P1(w) を作成し、基準画像
P1(w) における成形領域の画素数を第1の基準値とす
る。実監視時において基準画像P1(w) の論理否定画像と
型開き画像との論理積により第2の基準画像を作成し、
この基準画像における非成形領域の画素数を第2の基準
値とする。サイクル中において第1及び第2の基準画像
と、第1及び第2の基準値とを用いて金型の状態の良否
判定を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金型監視方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】プラスチック成形などでは、金型を閉じ
樹脂を充填して成形し、金型を開いて機械的に成形品を
突き出し落下させ、これを繰り返す成形サイクルにより
成形品を製造している。しかし機械的に成形品を突き出
し落下させても、全てが確実に金型から落下したかどう
かは不明である。万一、金型に製品が残留したままであ
ったり、ごみや突き出された成形品などが金型の面に付
着したままで成形サイクルを繰り返すと、不良品を生ず
るだけでなく金型自体の破損をも生じかねず、生産の中
止という事態にもなる。
【0003】従来はこれを避けるために、突出し棒によ
る突出し回数を多めに設定したり、圧縮空気を金型に吹
き付けるなどの処置を講じていた。このために成形時間
が増加し、付帯設備費が多くかかるなどの問題があっ
た。
【0004】そこで更に人間の目視判断能力を機械化し
た金型監視方法が要求された。これらの金型監視方法
は、金型の表面をテレビカメラで撮影し、その濃度情報
から成形品の存在を検出するものが多い。即ち作業者が
予め全ての成形品の位置を教示しておき、成形中にその
領域の濃度変化をカメラで撮影して監視する。この監視
は初期のものではCRT上の濃度変化を光量センサで検
出していたが、近来は画像処理を応用したものが多い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の金型監視
方法では、1回で成形される個数が多い金型では、成形
領域の手動設定に労力と熟練性とが必要で設定し難い。
せいぜい4個成形までならば短時間に設定が可能である
が、それ以上になると困難度が高くなる。また金型表面
での見かけ上の成形品の大きさが小さくなると成形領域
が設定できなくなる。仮に設定しても監視誤動作の原因
になり易い。更に監視領域を設定しても成形領域以外の
雑音が観測画像中に混入して分離が難しい。
【0006】更に作業開始時の条件設定内容が監視環境
の変動により適合しなくなると、監視の誤動作を生じる
ことがある。また監視環境で照明量などの変化が生じた
場合には、手動で条件を再設定しなければならない。更
に監視条件を環境の変化に従って自動変更する場合に安
全性の保証がないなどの問題がある。
【0007】そこで本発明の目的は、雑音の少ない第1
の基準画像を自動的に作成し、更に実監視時において監
視環境に対応した第2の基準画像を自動的に作成し、抽
出された基準画像により的確な良否判定を可能にする。
また成形品と金型とのコントラストの違いに対応した判
定画像を作成して判定不良の個所を見易くする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の金型監視方法は、金型を閉じ、この金型内
に樹脂等の成形剤を充填して成形を行い、その後金型を
開いて成形品を突き出す作業を順次繰り返す成形サイク
ル中に、金型を開いた状態で成形品を突き出す前の金型
の状態と、成形品を突き出した後の金型の状態とを、そ
れぞれ画像認識することによって金型を監視する金型監
視方法において、金型を開いた状態で成形品を突き出す
前の金型の状態を所望のしきい値によって二値化して読
み取ることにより型開き画像を作成し、成形品を突き出
した後の金型の状態を所望のしきい値によって二値化し
て読み取ることにより突出し画像を作成し、型開き画像
と突出し画像との差画像を作成し、この差画像に雑音除
去処理を施して第1の基準画像を作成し、この第1の基
準画像における成形領域の画素数を第1の基準値とし、
実監視時において、第1の基準画像の論理否定画像と型
開き画像との論理積により第2の基準画像を作成し、こ
の第2の基準画像における非成形領域の画素数を第2の
基準値とし、上記のサイクル中において、第1の基準画
像、第2の基準画像、第1の基準値および第2の基準値
を用いて金型の状態の良否判定を行うことを特徴として
いる。
【0009】また上記の良否判定は、型開き画像と第1
の基準画像との論理積により成形良否判定画像を作成
し、この成形良否判定画像の画素数に基づいて、成形品
が正しく形成されたか否かの判定を行う成形判定、突出
し画像と第1の基準画像との論理積により残留良否判定
画像を作成し、この残留良否判定画像の画素数に基づい
て、金型の成形領域に成形品が残留していないか否かの
判定を行う残留判定、および突出し画像と第2の基準画
像との排他的論理和により付着良否判定画像を作成し、
この付着良否判定画像の画素数に基づいて、金型の非成
形領域に成形品が付着していないか否かの判定を行う付
着判定である。
【0010】さらに上記の良否判定は、型開き画像と第
1の基準画像との論理積により成形良否判定画像を作成
し、この成形良否判定画像の画素数に基づいて、成形品
が正しく形成されたか否かの判定を行う成形判定、突出
し画像と第1の基準画像との論理積により残留良否判定
画像を作成し、この残留良否判定画像の画素数に基づい
て、金型の成形領域に成形品が残留していないか否かの
判定を行う残留判定、および突出し画像と第2の基準画
像との論理積により判定中間画像を作成し、この判定中
間画像と第2の基準画像との排他的論理和により付着良
否判定画像を作成し、この付着良否判定画像の画素数に
基づいて、金型の非成形領域に成形品が付着していない
か否かの判定を行う付着判定である。
【0011】
【実施例】図1は本発明の金型監視を金型監視方法に適
用した全体構成を示しており、成形機の駆動手段により
開閉駆動される可動金型1が固定金型2に当接し、樹脂
等の成形剤が注入されて可動金型1に成形品が成形され
ると金型が開かれる。そこでこの成形品が形成される側
の可動金型1の金型面1aを監視面とし、金型1,2が
開かれた時にこの監視面1aを照明する位置に照明3が
設けてあり、監視面1aを撮影可能にテレビカメラ(C
CD)4が配設してある。CCD4による映像出力信号
aは、監視装置5に供給され、ここで画像処理されて成
形動作が正常に行われているか否かが判定される。
【0012】図2は監視装置5の構成を示している。C
PU5a,ROM5b,RAM5cにより画像処理機能
を備えたマイクロコンピュータを構成している。RAM
5cは記憶用二値画像メモリであって、後述の基準画像
等を記憶する。CCD4による監視画像の映像出力信号
aは、成形機の制御信号bが制御入出力回路5dに入力
するのに同期して二値化回路5eに入力され、二値化し
て読み出された画像が二値画像メモリ5fに記憶され、
観測二値化画像となる。この画像はCPU5aにてRA
M5cに記憶されている基準画像との画像演算を行い、
演算結果は演算出力用二値画像メモリ5gに記憶され、
かつその画素数が画素計数回路5hにより算出され、成
形機に動作指示を与える。5iは二値画像論理演算回路
である。作業者からの指示は操作スイッチ5jにより行
い、観測画像や必要な情報5kをCRT5m上に表示す
る。
【0013】図3に成形動作手順の概略を示している。
先ず開いている成形機の型を閉じるために制御信号bと
して型閉じ信号を与えると、可動金型1が前進して固定
金型2に対接して型が閉じられる。そこで型に樹脂等の
成形剤を注入して成形を行う。成形が終了して型開き信
号が与えられると可動金型1が後退して金型を開く。こ
こで後述する良否判定の手順にしたがって成形判定の作
業がなされるが、この時全ての成形品が可動金型1の表
面に確認できない場合は、例えば固定金型2側に付着し
ていても不完全成形として成形不良とする。成形確認を
終了して突き出し信号が与えられると、成形機は可動金
型1上の成形品を突き出し棒で突き出し落下させる。つ
いで残留判定の作業がなされ、全ての成形品が成形位置
を離脱しない場合は、成形品落下不完全として再突き出
し信号が与えられ、再度突き出し落下を試みる。これで
もなお落下しない場合は残留不良とする。ついで付着判
定の作業がなされ、成形品が落下の途中で金型表面へ静
電付着したり、ランナーの一部が付着した場合は付着不
良とする。成形不良,残留不良及び付着不良の場合はい
ずれも作業者による除去作業が必要である。正常の場合
には上記の動作を繰り返し実行する連続動作となる。
【0014】つぎに、図4のフローチャートに沿って基
準画像作成動作について説明する。
【0015】まず、スタートに先立って監視の条件設定
を行う。これには二値化しきい値Vと、再突出し回数
と、監視領域範囲が含まれる。二値化しきい値Vはオペ
レータの目視判断による値として与えられる。再突出し
回数は残留不良があった時に突出しを繰り返す回数であ
り、適宜に回数を設定する。また監視領域範囲は、図5
に示すように、CCD4に入力される画像は、座標(x,
y)=(0,0) から座標(511,511) 内の全領域の各画素が
レベル1またはレベル0の値を有するが、成形品はその
一部に過ぎないので、可動金型1の監視面1a内の監視
領域を、座標(a,b)〜(c,d) として定義する。通常の論
理演算では、(a,b) 〜(c,d) のみがレベル1の二値画像
(マスク画像)を作成し、全領域との論理積(&)を計
算すれば、監視領域だけを分離できる。
【0016】次に基準画像の作成動作を行なう。本発明
では基準画像の作成に当って所望のしきい値として二値
化レベルVに微小レベルΔVを加味している。これはC
CD4によって得られる実検査画像では、レベルVによ
り二値化して読み取った画像が常に等しくはならない。
これは環境変動などのノイズによるものである。このノ
イズレベルを微小レベルΔVで代替しているもので、Δ
Vの大きさは、実検査画像のノイズレベルに合わせれば
よい。+ノイズは二値化画像のレベル1を拡大するノイ
ズで、微小レベル+ΔVで代替される。−ノイズは二値
化画像のレベル1を縮小するノイズで、微小レベル−Δ
Vで代替される。そこで予めノイズを+ΔV,−ΔVで
代替して基準画像を作成すれば、通常時の実検査画像に
含まれるノイズをキャンセルすることができる。
【0017】+ΔVを代替するか、−ΔVを代替するか
は、成形品と金型面の濃度を比較し、成形品の表面濃度
が金型面(背景)より薄い場合即ち白成形(w)である
か、濃い場合即ち黒成形(b)であるかにより、また
は、突出し画像(成形品なし)であるか、型開き画像
(成形品あり)であるかによって相違する。図6に二値
化レベルのモデルを示しており、CCD4により得られ
る画像信号の中で、あるライン信号について(A)に白
成形の場合を、(B)に黒成形の場合を示し、(C)に
は、二値化レベルVでの平均画像6と、+ノイズを加味
してレベル1を拡大した最大画像7と、−ノイズを加味
してレベル1を縮小した最大画像8を示している。
【0018】図6(A)は白成形であるので、金型面
(背景)の輝度は低く、レベルVb にあり、(C)に示
す平均画像6に対して、二値化レベルV+ΔVの画像の
画素数n1 ,m1 と、二値化レベルV−ΔVの画像の画
素数n2 ,m2 とを比較すると、n1 <n2 ,m1 <m
2 であり、二値化レベルV−ΔVでレベル1が拡大され
て最大画像7が得られ、二値化レベルV+ΔVでレベル
1が縮小されて最大画像8が得られる。
【0019】図6(B)は黒成形であるので、金型面
(背景)の輝度が高く、レベルVw にあり、(C)に示
す平均画像6に対して、二値化レベルV+ΔVとV−Δ
Vとの画像の画素数を比較すると、n1 >n2 ,m1 >
m2 であり、二値化レベルV+ΔVでレベル1が拡大さ
れて最大画像7が得られ、二値化レベルV−ΔVでレベ
ル1が縮小されて最大画像8が得られる。
【0020】そこで図4の基準画像P1の設定に当っ
て、先ず突出し終了後の突出し画像を入力するが、図7
及び図8に示すように、白成形の突出し画像B(w)と
して、しきい値V+ΔVで二値化して読み取った画像B
(w)を、また黒成形の突出し画像B(b)として、し
きい値V−ΔVで二値化して読み取った画像B(b)を
RAM5cに記憶する。いずれもレベル1が縮小された
最大画像8である。このとき突出し画像B(w)とB
(b)について、画素数を画素計数回路5hでカウント
するが、白成形と黒成形のいずれの場合も、しきい値V
+ΔVの場合の画素数としきい値V−ΔVの場合の画素
数とをそれぞれカウントし、その平均画素数aを算出し
てRAM5cに記憶する。
【0021】次に成形動作後の型開き画像を入力する
が、図7及び図8に示すように、白成形の型開き画像A
(w)として、しきい値V−ΔVで二値化して読み取っ
た画像A(w)を、また黒成形の型開き画像A(b)と
して、しきい値V+ΔVで二値化して読み取った画像A
(b)をRAM5cに記憶する。いずれもレベル1が拡
大された最大画像7である。このとき型開き画像A
(w)とA(b)について、画素数を画素計数回路5h
でカウントし、その画素数bを算出してRAM5cに記
憶する。
【0022】平均画素数aと画素数bとを比較すること
により、a<bの場合には白成形であり、a>bの場合
には黒成形であると判定する。
【0023】次に白成形の場合の第1の基準画像P1
(w)を作る手順について説明する。図7に示すよう
に、RAM5cに記憶した型開き画像A(w)と突出し
画像B(w)を読み出し、二値画像論理演算回路5iに
より両者の排他的論理和演算を行い、差画像C(w)を
作成する。この差画像C(w)にはモールドされた成形
品の画像の他に非成形領域のノイズも含んでいるので、
ここで雑音除去手順を施す。
【0024】この雑音除去手順は、二値画像中の全ての
画素について、レベル1かレベル0を8方向の近傍画素
の状態により決定するもので、図9(A)に示すよう
に、処理1として孤立画素を中心に雑音画素を除去す
る。即ち二次元フィルタで圧縮処理するもので、1つの
孤立画素D9を中心画素とし、その周辺の8方向の近傍画
素D1,D2,D3,D4,D5,D6,D7,D8の状態を調べて論理
積演算を行って中心画素D9を決定する。即ち、8個の近
傍画素の1つでもレベル0が含まれる場合には、中心画
素D9はレベル0と判断される。ついで図9(B)に示す
ように、処理2として、成形品が表される成形領域を二
次元フィルタで膨脹処理する。即ち、モールドされた成
形品の画素の外周の画素は、上記の処理1により圧縮さ
れているので、この領域を膨脹させる。即ち、外周の画
素を中心画素D9とし、そのレベルを近傍画素D1〜D8の排
他的論理和で決定する。これにより8個の近傍画素の1
つでもレベル1が含まれる場合には、中心画素D9はレベ
ル1と判断される。このように処理1及び処理2によっ
て、雑音画素は圧縮して除去され、成形品の画素は圧縮
後膨脹して正しい成形画素が示される。この雑音除去処
理後の差画像は、監視領域内の画素のみを有効として図
7の第1の基準画像P1(w)としてRAM5cに記憶
する。
【0025】黒成形の場合の第1の基準画像P1(b)
を作る場合も、上に述べた場合と実質的に同様であり、
RAM5cに記憶した型開き画像A(b)と突出し画像
B(b)とから差画像C(b)を得る。この差画像C
(b)に雑音除去手順を施し、第1の基準画像P1
(b)としてRAM5cに記憶する。
【0026】ついでしきい値Vで二値化して読み取った
型開き画像と、RAM5cに記憶している第1の基準画
像P1(w),P1(b)との論理積演算により成形領
域の画素数を第1の基準値p1 としてRAM5cに記憶
する。
【0027】以上で第1の基準画像P1(w),P1
(b)及び第1の基準値p1 の設定を終了する。
【0028】次に成形品を形成した時の良否判定の手順
について説明する。
【0029】まず実検査に先立って、監視領域面積と成
形領域の基準値p1 から、1回の成形個数例えば4個取
りとか6個取りとかを考慮し、複数回テスト成形を繰り
返した上で、雑音として許容される画素数qと、ばらつ
きとして許容される監視の感度rとを実験的に設定して
おく。不良判定の許容値Q=r×qとする。
【0030】実検査に当たって、図10に示すように、
型が開いている場合にはまず型を閉じて樹脂を注入して
通常の成形動作を行い、型開き信号を出力して型を開
く。このとき図11及び図12に示すように、しきい値
Vで二値化して読み取った実検査の型開き画像S
(w),S(b)と、RAM5cに記憶している第1の
基準画像P1(w),P1(b)との論理積を演算して
成形良否判定画像X(w),X(b)を作成し、この画
像の画素数pを判定値としてRAM5cに記憶する。
【0031】成形品が正しく形成されたか否かの成形判
定に際しては、第1の基準値p1 がその正常判定基準値
として用いられる。まず白成形か黒成形かを判断し、a
<bであれば白成形であるので、p<(p1 −Q)のと
き成形不良とし、またa>bであれば黒成形であるの
で、p>Qのとき成形不良とする。この場合には成形を
直ちに中止させると共に、異状を報知して作業員の手動
により成形不良を解除する。
【0032】そうでない場合は良好な成形品が得られた
のであるから、ここで第2の基準画像P2を作成する。
即ち図10,図13及び図14に示すように、しきい値
Vで二値化して読み取った実検査の型開き画像S
(w),S(b)と、RAM5cに記憶している第1の
基準画像P1(w),P1(b)の論理否定画像との論
理積を演算し、監視領域内の画素のみを有効として第2
の基準画像P2(w),P2(b)としてRAM5cに
記憶する。その後で図15に示す#1から次の判定が進
められる。
【0033】良好な成形品が得られ、第2の基準画像P
2をRAM5cに記憶したら、突出し信号を出力し、突
出し動作により成形品を落下させ、突出し動作の終了を
確認したら、しきい値Vで二値化して読み取った実検査
の突出し画像S1(w),S1(b)と、RAM5cに
記憶している第2の基準画像P2(w),P2(b)と
の論理積演算により非成形領域の画素数を第2の基準値
p2 としてRAM5cに記憶する。
【0034】ついで図15に示すように、成形品が金型
の成形領域に残留していないか否かの残留判定に進む。
図16及び図17に示すように、上記の実検査の突出し
画像S1(w),S1(b)と、RAM5cに記憶して
いる第1の基準画像P1(w),P1(b)との論理積
を演算して残留良否判定画像Y(w),Y(b)を作成
する。そしてこの画像の画素数pを判定値としてRAM
5cに記憶する。
【0035】残留判定に際しては、第1の基準値p1 が
その正常判定基準値として用いられる。まず白成形か黒
成形かを判断し、白成形の場合は、p>(p1 +Q)の
とき残留不良とし、黒成形の場合は、p<(p1 −Q)
のとき残留不良とする。この場合には成形を直ちに中止
させると共に、異状を報知して作業員の手により残留不
良を解除する。そうでない場合は成形領域に成形品の残
留が無いのであるから、図18に示す#2から次の判定
が進められる。
【0036】次の判定は、成形品は突き出されたが、非
成形領域のどこかに成形品が付着していないか否かの付
着判定である。図18に示すように、付着良否判定画像
Z(w),Z(b)を得るために、まず白成形か黒成形
かを判断し、白成形の場合は図18及び図19に示すよ
うに、しきい値Vで二値化して読み取った実検査の突出
し画像S2(w)と、RAM5cに記憶している第2の
基準画像P2(w)との排他的論理和を演算し、付着良
否判定画像Z(w)を作成する。また黒成形の場合は図
18及び図20に示すように、しきい値Vで二値化して
読み取った実検査の突出し画像S2(b)と、RAM5
cに記憶している第2の基準画像P2(b)との論理積
を演算して判定中間画像S3を作成する。ついで、この
判定中間画像S3と、RAM5cに記憶している第2の
基準画像P2(b)との排他的論理和を演算し、付着良
否判定画像Z(b)を作成する。そして判定画像Zの画
素数pを判定値としてRAM5cに記憶する。
【0037】付着判定に際しては、第2の基準値p2 が
その正常判定基準値として用いられる。白成形の場合
は、p>(p2 +Q)のとき付着不良とし、黒成形の場
合もp>(p2 +Q)のとき付着不良とする。この場合
には成形を直ちに中止させると共に、異状を報知して作
業員の手により付着不良を解除する。そうでない場合は
成形品の付着が無いのであるから、成形から落下までの
動作が正しく完了したことになる。そこで図10に示し
た#3に戻り、次の成形品のための成形判定から始まる
一連の良否判定が上に述べたと同様の手順にて行われ
る。
【0038】尚、残留不良の場合に再度突出し動作を行
なう場合には、残留不良の判定の信号を図15の#1へ
供給し、再度突出し、落下を実行させる。この際、突出
し回数は、予め適宜に設定すればよい。
【0039】この実施例では、第2の基準画像P2を成
形判定において良判定が出された後で作成するので、最
新の監視環境での基準画像となり、高精度の付着判定が
できる。また白成形及び黒成形共に付着良否判定画像Z
を排他的論理和で作成するので、ノイズがのりにくく、
付着良否判定画像Z中に、付着個所がレベル1で現れる
ので、付着個所をCRT5mの画面上に目で確認するこ
とが容易となる。
【0040】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の金型監
視方法は、ノイズを考慮した所望のしきい値で二値化し
て読み取って第1の基準画像を作成するので、雑音の少
ない第1の基準画像を自動的に作成でき、更に実監視時
において監視環境に対応した第2の基準画像を自動的に
作成するので、抽出された基準画像により監視環境に対
応した的確な良否判定が可能となる。また成形品と金型
とのコントラストの違いに対応した判定画像を作成する
ので、良否判定の正確度を更に高め、特に付着不良箇所
を見易くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の全体構成図を示した説明図
【図2】本発明の一実施例を示したブロック図
【図3】成形動作手順を説明するための説明図
【図4】第1の基準画像作成動作を説明するためのフロ
ーチャート
【図5】監視領域を説明するための説明図
【図6】しきい値Vの微小変化ΔVに対応する画素数の
変化を示した説明図
【図7】白成形の場合の第1の基準画像の作成手順を説
明するための説明図
【図8】黒成形の場合の第1の基準画像の作成手順を説
明するための説明図
【図9】雑音除去処理の手順を説明するための説明図
【図10】成形判定及び第2の基準画像作成動作を説明
するためのフローチャート
【図11】白成形の場合の成形良否判定画像の作成手順
を説明するための説明図
【図12】黒成形の場合の成形良否判定画像の作成手順
を説明するための説明図
【図13】白成形の場合の第2の基準画像の作成手順を
説明するための説明図
【図14】黒成形の場合の第2の基準画像の作成手順を
説明するための説明図
【図15】残留判定動作を説明するためのフローチャー
【図16】白成形の場合の残留良否判定画像の作成手順
を説明するための説明図
【図17】黒成形の場合の残留良否判定画像の作成手順
を説明するための説明図
【図18】付着判定動作を説明するためのフローチャー
【図19】白成形の場合の付着良否判定画像の作成手順
を説明するための説明図
【図20】黒成形の場合の付着良否判定画像の作成手順
を説明するための説明図
【符号の説明】
1 金型 A(w),A(b) 型開き画像 B(w),B(b) 突出し画像 C(w),C(b) 差画像 P1(w),P1(b) 第1の基準画像 P2(w),P2(b) 第2の基準画像 p1 第1の基準値 p2 第2の基準値 X(w),X(b) 成形良否判定画像 Y(w),Y(b) 残留良否判定画像 Z(w),Z(b) 付着良否判定画像 p 判定画像の画素数

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金型を閉じ、この金型内に樹脂等の成形
    剤を充填して成形を行い、その後上記金型を開いて成形
    品を突き出す作業を順次繰り返す成形サイクル中に、上
    記金型を開いた状態で上記成形品を突き出す前の上記金
    型の状態と、上記成形品を突き出した後の上記金型の状
    態とを、それぞれ画像認識することによって上記金型を
    監視する金型監視方法において、 上記金型を開いた状態で上記成形品を突き出す前の上記
    金型の状態を所望のしきい値によって二値化して読み取
    ることにより型開き画像を作成し、上記成形品を突き出
    した後の上記金型の状態を所望のしきい値によって二値
    化して読み取ることにより突出し画像を作成し、上記型
    開き画像と上記突出し画像との差画像を作成し、この差
    画像に雑音除去処理を施して第1の基準画像を作成し、
    この第1の基準画像における成形領域の画素数を第1の
    基準値とし、実監視時において、上記第1の基準画像の
    論理否定画像と上記型開き画像との論理積により第2の
    基準画像を作成し、この第2の基準画像における非成形
    領域の画素数を第2の基準値とし、上記サイクル中にお
    いて、上記第1の基準画像、第2の基準画像、第1の基
    準値および第2の基準値を用いて上記金型の状態の良否
    判定を行うことを特徴とする金型監視方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、上記良否判定は、上
    記型開き画像と上記第1の基準画像との論理積により成
    形良否判定画像を作成し、この成形良否判定画像の画素
    数に基づいて、上記成形品が正しく形成されたか否かの
    判定を行う成形判定、上記突出し画像と上記第1の基準
    画像との論理積により残留良否判定画像を作成し、この
    残留良否判定画像の画素数に基づいて、上記金型の成形
    領域に上記成形品が残留していないか否かの判定を行う
    残留判定、および上記突出し画像と上記第2の基準画像
    との排他的論理和により付着良否判定画像を作成し、こ
    の付着良否判定画像の画素数に基づいて、上記金型の非
    成形領域に上記成形品が付着していないか否かの判定を
    行う付着判定であることを特徴とする金型監視方法。
  3. 【請求項3】 請求項1において、上記良否判定は、上
    記型開き画像と上記第1の基準画像との論理積により成
    形良否判定画像を作成し、この成形良否判定画像の画素
    数に基づいて、上記成形品が正しく形成されたか否かの
    判定を行う成形判定、上記突出し画像と上記第1の基準
    画像との論理積により残留良否判定画像を作成し、この
    残留良否判定画像の画素数に基づいて、上記金型の成形
    領域に上記成形品が残留していないか否かの判定を行う
    残留判定、および上記突出し画像と上記第2の基準画像
    との論理積により判定中間画像を作成し、この判定中間
    画像と上記第2の基準画像との排他的論理和により付着
    良否判定画像を作成し、この付着良否判定画像の画素数
    に基づいて、上記金型の非成形領域に上記成形品が付着
    していないか否かの判定を行う付着判定であることを特
    徴とする金型監視方法。
JP4159046A 1992-06-18 1992-06-18 金型監視方法 Pending JPH06822A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012066596A (ja) * 2012-01-11 2012-04-05 Sigumakkusu Kk 射出成形機監視装置

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