JPH0680676A - アリールアリルシラン化合物の製造法 - Google Patents
アリールアリルシラン化合物の製造法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 アリールアリルシラン化合物の高収率で高位
置かつ高立体選択的製造方法の提供。 【構成】 式1のシリルスタナン化合物と、式2の1,
3−ジエン化合物および式3のアリールハロゲン化物
を、周期律表10族有機金属触媒、例えばビス(ジベン
ジリデンアセトン)パラジウムの存在下に反応させる式
4のアリールアリルシラン化合物の製造法。 R5R6R7Si−SnR8R9R10 (1) [R5〜R10はC1〜5のアルキル基または(置換)
フェニル基] CH(R1)=C(R2)−C(R3)=CH(R4)
(2) [R1とR4は水素、C1〜5のアルキル基で、炭素鎖
により互いに結合し環を形成しても良い。R2とR3は
水素、C1〜5のアルキル基、(置換)フェニル基、ア
ルコキシ基またはトリアルキルシロキシ基。] Ar−X (3) [Arは(置換)フェニル基、Xは沃素または臭素原
子。] Ar−CH(R1)−C(R2)=C(R3)−CH
(R4)−SiR5R6R7 (4) [Arは式3と同じ基、R1〜R4は式2と同じ基、R
5〜R7は式1と同じ基。]
置かつ高立体選択的製造方法の提供。 【構成】 式1のシリルスタナン化合物と、式2の1,
3−ジエン化合物および式3のアリールハロゲン化物
を、周期律表10族有機金属触媒、例えばビス(ジベン
ジリデンアセトン)パラジウムの存在下に反応させる式
4のアリールアリルシラン化合物の製造法。 R5R6R7Si−SnR8R9R10 (1) [R5〜R10はC1〜5のアルキル基または(置換)
フェニル基] CH(R1)=C(R2)−C(R3)=CH(R4)
(2) [R1とR4は水素、C1〜5のアルキル基で、炭素鎖
により互いに結合し環を形成しても良い。R2とR3は
水素、C1〜5のアルキル基、(置換)フェニル基、ア
ルコキシ基またはトリアルキルシロキシ基。] Ar−X (3) [Arは(置換)フェニル基、Xは沃素または臭素原
子。] Ar−CH(R1)−C(R2)=C(R3)−CH
(R4)−SiR5R6R7 (4) [Arは式3と同じ基、R1〜R4は式2と同じ基、R
5〜R7は式1と同じ基。]
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新しい機能性材料とし
て注目されているシランポリマーの原料であり、また有
機合成上有用な中間原料である、新規なアリールアリル
シラン化合物の工業的に有用な製造法に関する。
て注目されているシランポリマーの原料であり、また有
機合成上有用な中間原料である、新規なアリールアリル
シラン化合物の工業的に有用な製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】アリルシラン類の化合物は、例えば、ア
リル金属化合物のシリル化反応、ベンゼンやシクロオク
タ−1,3−ジエンなどの共役ジエンの還元的シリル化
反応、ジエン類のヒドロシリル化反応等により合成され
ている(Comprehensive Organo-metallic Chemistry, V
ol. 2, 1〜203, 1982, Pergamon Press、 Oxford参
照)。一方、アリールアリルシラン類の直接合成法は無
く、一旦適当なアリールアリル金属化合物を別途合成
し、しかる後に上記反応を用いて合成することが考えら
れる。
リル金属化合物のシリル化反応、ベンゼンやシクロオク
タ−1,3−ジエンなどの共役ジエンの還元的シリル化
反応、ジエン類のヒドロシリル化反応等により合成され
ている(Comprehensive Organo-metallic Chemistry, V
ol. 2, 1〜203, 1982, Pergamon Press、 Oxford参
照)。一方、アリールアリルシラン類の直接合成法は無
く、一旦適当なアリールアリル金属化合物を別途合成
し、しかる後に上記反応を用いて合成することが考えら
れる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこれらの
反応では、出発原料に用いるアリル金属化合物のアリル
転移反応に基づく異性化により、複雑な反応混合物を与
えたり、シリル化剤の1,4−付加が起こり目的物が得
られないという欠点があった。
反応では、出発原料に用いるアリル金属化合物のアリル
転移反応に基づく異性化により、複雑な反応混合物を与
えたり、シリル化剤の1,4−付加が起こり目的物が得
られないという欠点があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ジエン類
のシリルスタネーション反応を鋭意研究することによ
り、例えば、1,3−ジエンを遷移金属触媒の存在下に
シリルスタナン類と反応させ、アリル珪素とアリルすず
部を同一分子内に持つ新規化合物を、高位値選択的かつ
高立体選択的に合成する方法を先に提案した(例えば、
J.Am.Chem.Soc.1991, 113, 9368−9369参
照)。これらのアリル珪素およびアリルすず部は、共に
親電子試薬に対して高い反応性を有し、さらに別の誘導
体に導くことができる。本発明者らは、この誘導反応を
含めて同一の反応器内で一段で出来るか否かを、一例と
してアリールハロゲン化物を用いて検討したところ、驚
くべきことに形式的にはアリルすず部のみがアリール化
されたアリルシリル化合物が選択的に得られることを見
いだし本発明に到達するに至った。
のシリルスタネーション反応を鋭意研究することによ
り、例えば、1,3−ジエンを遷移金属触媒の存在下に
シリルスタナン類と反応させ、アリル珪素とアリルすず
部を同一分子内に持つ新規化合物を、高位値選択的かつ
高立体選択的に合成する方法を先に提案した(例えば、
J.Am.Chem.Soc.1991, 113, 9368−9369参
照)。これらのアリル珪素およびアリルすず部は、共に
親電子試薬に対して高い反応性を有し、さらに別の誘導
体に導くことができる。本発明者らは、この誘導反応を
含めて同一の反応器内で一段で出来るか否かを、一例と
してアリールハロゲン化物を用いて検討したところ、驚
くべきことに形式的にはアリルすず部のみがアリール化
されたアリルシリル化合物が選択的に得られることを見
いだし本発明に到達するに至った。
【0005】本発明は、下記一般式(1): R5R6R7Si−SnR8R9R10 (1) [式中、R5〜R10はそれぞれ独立に、炭素数1から5
のアルキル基または置換もしくは無置換のフェニル基を
表す]で示されるシリルスタナン化合物と、下記一般式
(2): CH(R1)=C(R2)−C(R3)=CH(R4) (2) [式中、R1及びR4は水素、炭素数1から5のアルキル
基であり、炭素鎖により互いに結合され、環を形成して
いても良い。R2及びR3はそれぞれ独立して、水素、炭
素数1から5のアルキル基、置換もしくは無置換フェニ
ル基、アルコキシ基またはトリアルキルシロキシ基を表
す。]で示される1,3−ジエン化合物、および下記一
般式(3): Ar−X (3) [式中、Arは、置換または無置換フェニル基、Xは沃
素または臭素原子を表す。]で示されるアリールハロゲ
ン化物を、周期律表10族有機金属触媒の存在下に反応
させることを特徴とする、下記一般式(4): Ar−CH(R1)−C(R2)=C(R3)−CH(R4)−SiR5R6R7 (4) [式中、Arは一般式(3)で定義したものと同じ基を表
し、R1〜R4は一般式(2)で定義したものと同じ基を表
し、R5〜R7は一般式(1)で定義したものと同じ基を表
す。]で示されるアリールアリルシラン化合物の製造法
を提供するものである。
のアルキル基または置換もしくは無置換のフェニル基を
表す]で示されるシリルスタナン化合物と、下記一般式
(2): CH(R1)=C(R2)−C(R3)=CH(R4) (2) [式中、R1及びR4は水素、炭素数1から5のアルキル
基であり、炭素鎖により互いに結合され、環を形成して
いても良い。R2及びR3はそれぞれ独立して、水素、炭
素数1から5のアルキル基、置換もしくは無置換フェニ
ル基、アルコキシ基またはトリアルキルシロキシ基を表
す。]で示される1,3−ジエン化合物、および下記一
般式(3): Ar−X (3) [式中、Arは、置換または無置換フェニル基、Xは沃
素または臭素原子を表す。]で示されるアリールハロゲ
ン化物を、周期律表10族有機金属触媒の存在下に反応
させることを特徴とする、下記一般式(4): Ar−CH(R1)−C(R2)=C(R3)−CH(R4)−SiR5R6R7 (4) [式中、Arは一般式(3)で定義したものと同じ基を表
し、R1〜R4は一般式(2)で定義したものと同じ基を表
し、R5〜R7は一般式(1)で定義したものと同じ基を表
す。]で示されるアリールアリルシラン化合物の製造法
を提供するものである。
【0006】本方法により製造されるアリールアリルシ
ラン化合物は、上記一般式(4)で示されるものである
が、具体的には、1−フェニル−4−トリメチルシリル
−2−ブテン、1−フェニル−2−メチル−4−トリメ
チルシリル−2−ブテン、1,2−ジフェニル−4−ト
リメチルシリル−2−ブテン、1−フェニル−2,3−
ジメチル−4−トリメチルシリル−2−ブテン、1−フ
ェニル−2−トリメチルシロキシ−4−トリメチルシリ
ル−2−ブテン、3−フェニル−6−トリメチルシリル
シクロヘキセン、1−クロロフェニル−2−メチル−4
−トリメチルシリル−2−ブテン、1−メチルフェニル
−2−メチル−4−トリメチルフェニル−2−ブテン、
1−ニトロフェニル−2−メチル−4−トリメチルシリ
ル−2−ブテン、1−ナフチル−2−メチル−4−トリ
メチルシリル−2−ブテン、1−フェニル−4−トリフ
ェニルシリル−2−ブテン、1−フェニル−4−t−ブ
チルジメチルシリル−2−ブテン、1−フェニル−4−
フェニルジメチルシリル−2−ブテン、1−フェニル−
2−メチル−4−トリフェニルシリル−2−ブテン、1
−フェニル−2−メチル−4−フェニルジメチルシリル
−2−ブテン等をあげることができる。
ラン化合物は、上記一般式(4)で示されるものである
が、具体的には、1−フェニル−4−トリメチルシリル
−2−ブテン、1−フェニル−2−メチル−4−トリメ
チルシリル−2−ブテン、1,2−ジフェニル−4−ト
リメチルシリル−2−ブテン、1−フェニル−2,3−
ジメチル−4−トリメチルシリル−2−ブテン、1−フ
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シクロヘキセン、1−クロロフェニル−2−メチル−4
−トリメチルシリル−2−ブテン、1−メチルフェニル
−2−メチル−4−トリメチルフェニル−2−ブテン、
1−ニトロフェニル−2−メチル−4−トリメチルシリ
ル−2−ブテン、1−ナフチル−2−メチル−4−トリ
メチルシリル−2−ブテン、1−フェニル−4−トリフ
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チルジメチルシリル−2−ブテン、1−フェニル−4−
フェニルジメチルシリル−2−ブテン、1−フェニル−
2−メチル−4−トリフェニルシリル−2−ブテン、1
−フェニル−2−メチル−4−フェニルジメチルシリル
−2−ブテン等をあげることができる。
【0007】上記一般式(1)で示されるシリルスタナン
化合物において、R5〜R10の置換フェニル基として
は、炭素数1から4のアルキル基で置換されたフェニル
基が例示できる。上記一般式(1)で示されるシリルスタ
ナン化合物の具体例は、(トリメチルシリル)トリブチ
ルスタナン、(トリメチルシリル)トリメチルスタナ
ン、(トリメチルシリル)トリエチルスタナン、(トリ
メチルシリル)トリプロピルスタナン、(t−ブチルジ
メチルシリル)トリブチルスタナン、(t−ブチルジメ
チルシリル)トリメチルスタナン、(t−ブチルジメチ
ルシリル)トリエチルスタナン、(t−ブチルジメチル
シリル)トリプロピルスタナン、(フェニルジメチルシ
リル)トリブチルスタナン、(フェニルジメチルシリ
ル)トリメチルスタナン、(フェニルジメチルシリル)
トリエチルスタナン、(フェニルジメチルシリル)トリ
プロピルスタナン、(トリメチルシリル)トリフェニル
スタナン、(t−ブチルジメチルシリル)トリフェニル
スタナン、(フェニルジメチルシリル)トリフェニルス
タナン等である。シリルスタナン化合物の中でも、R8
〜R10がブチル基で、R5〜R7が炭素数1から4のアル
キル基であるものが好ましい。中でも、特に(トリメチ
ルシリル)トリブチルスタナンが好ましい。
化合物において、R5〜R10の置換フェニル基として
は、炭素数1から4のアルキル基で置換されたフェニル
基が例示できる。上記一般式(1)で示されるシリルスタ
ナン化合物の具体例は、(トリメチルシリル)トリブチ
ルスタナン、(トリメチルシリル)トリメチルスタナ
ン、(トリメチルシリル)トリエチルスタナン、(トリ
メチルシリル)トリプロピルスタナン、(t−ブチルジ
メチルシリル)トリブチルスタナン、(t−ブチルジメ
チルシリル)トリメチルスタナン、(t−ブチルジメチ
ルシリル)トリエチルスタナン、(t−ブチルジメチル
シリル)トリプロピルスタナン、(フェニルジメチルシ
リル)トリブチルスタナン、(フェニルジメチルシリ
ル)トリメチルスタナン、(フェニルジメチルシリル)
トリエチルスタナン、(フェニルジメチルシリル)トリ
プロピルスタナン、(トリメチルシリル)トリフェニル
スタナン、(t−ブチルジメチルシリル)トリフェニル
スタナン、(フェニルジメチルシリル)トリフェニルス
タナン等である。シリルスタナン化合物の中でも、R8
〜R10がブチル基で、R5〜R7が炭素数1から4のアル
キル基であるものが好ましい。中でも、特に(トリメチ
ルシリル)トリブチルスタナンが好ましい。
【0008】上記一般式(2)で示される1,3−ジエン
化合物の具体例は、1,3−ブタジエン、イソプレン、
2−フェニル−1,3−ブタジエン、2−エチル−1,
3−ブタジエン、2−プロピル−1,3−ブタジエン、
2−ブチル−1,3−ブタジエン、2−(2−メチルブ
チル)−1,3−ブタジエン、2−(1−メチルプロピ
ル)−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3
−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−
1,3−ペンタジエン、3−メチル−1,3−ペンタジ
エン、4−メチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ヘ
キサジエン、2,4−ヘキサジエン、1−フェニルブタ
ジエン、1−ナフチル−1,3−ブタジエン、2−p−
トリル−1,3−ブタジエン、2−ナフチル−1,3−
ブタジエン、2−(トリメチルシロキシ)−1,3−ブ
タジエン、シクロヘキサジエン、ミルセン、オシメン、
等である。
化合物の具体例は、1,3−ブタジエン、イソプレン、
2−フェニル−1,3−ブタジエン、2−エチル−1,
3−ブタジエン、2−プロピル−1,3−ブタジエン、
2−ブチル−1,3−ブタジエン、2−(2−メチルブ
チル)−1,3−ブタジエン、2−(1−メチルプロピ
ル)−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3
−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−
1,3−ペンタジエン、3−メチル−1,3−ペンタジ
エン、4−メチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ヘ
キサジエン、2,4−ヘキサジエン、1−フェニルブタ
ジエン、1−ナフチル−1,3−ブタジエン、2−p−
トリル−1,3−ブタジエン、2−ナフチル−1,3−
ブタジエン、2−(トリメチルシロキシ)−1,3−ブ
タジエン、シクロヘキサジエン、ミルセン、オシメン、
等である。
【0009】上記一般式(3)で示されるアリールハロゲ
ン化物の具体例は、無置換のハロゲン化ベンゼン、塩素
原子、メチル基、エチル基、ニトロ基等により置換され
た置換ハロゲン化ベンゼン、ハロゲン化縮環芳香族化合
物であり、ハロゲンは沃素、臭素、好ましくは沃素であ
る。さらに具体的には沃化ベンゼン、臭化ベンゼン、ク
ロロ沃化ベンゼン、メチル沃化ベンゼン、ニトロ沃化ベ
ンゼン、沃化ナフタレン、沃化アントラセンなどであ
る。
ン化物の具体例は、無置換のハロゲン化ベンゼン、塩素
原子、メチル基、エチル基、ニトロ基等により置換され
た置換ハロゲン化ベンゼン、ハロゲン化縮環芳香族化合
物であり、ハロゲンは沃素、臭素、好ましくは沃素であ
る。さらに具体的には沃化ベンゼン、臭化ベンゼン、ク
ロロ沃化ベンゼン、メチル沃化ベンゼン、ニトロ沃化ベ
ンゼン、沃化ナフタレン、沃化アントラセンなどであ
る。
【0010】触媒は、10族有機金属錯体、好ましくは
パラジウムもしくは白金を、好ましくはパラジウムを、
中心金属とする有機金属錯体を使用することができる。
具体的には、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウ
ム(0)、カルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(0)、ジカルボニルビス(トリフェニルホス
フィン)パラジウム(0)、テトラキス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム(0)、(エチレン)ビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(0)、ジ−μ−クロロ−
ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)二パラジウム
(II)、ジ−μ−クロロ−ジクロロビス(トリエチルホス
フィン)二パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニ
ルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(II)、酢酸パラジウム
(II)、ジクロロ(フェニルイソシアニド)パラジウム
(II)、ジカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)
白金(0)、カルボニルトリス(トリフェニルホスフィ
ン)白金(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)
白金(0)、(エチレン)ビス(トリフェニルホスフィ
ン)白金(0)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィ
ン)白金(II)、ビス(ジベンジリデンアセトン)白金
(0)等があげられるが、良好な収率を与える触媒はビス
(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)である。
パラジウムもしくは白金を、好ましくはパラジウムを、
中心金属とする有機金属錯体を使用することができる。
具体的には、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウ
ム(0)、カルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(0)、ジカルボニルビス(トリフェニルホス
フィン)パラジウム(0)、テトラキス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム(0)、(エチレン)ビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(0)、ジ−μ−クロロ−
ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)二パラジウム
(II)、ジ−μ−クロロ−ジクロロビス(トリエチルホス
フィン)二パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニ
ルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(II)、酢酸パラジウム
(II)、ジクロロ(フェニルイソシアニド)パラジウム
(II)、ジカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)
白金(0)、カルボニルトリス(トリフェニルホスフィ
ン)白金(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)
白金(0)、(エチレン)ビス(トリフェニルホスフィ
ン)白金(0)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィ
ン)白金(II)、ビス(ジベンジリデンアセトン)白金
(0)等があげられるが、良好な収率を与える触媒はビス
(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)である。
【0011】反応は通常、有機溶媒に触媒、1,3−ジ
エン、アリールハロゲン化物、シリルスタナン化合物を
不活性ガス気流下に加え、30〜150℃、好ましくは
80〜100℃の温度で、反応温度にもよるが10分以
上、通常10分〜10時間加熱することにより行われ
る。溶媒しては、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホルアミド等のアミド類の単独もしくは混合物
を挙げることができるが、良好な収率を与えるトルエ
ン、ベンゼン、ジオキサンなどの、使用する触媒と非配
位性の溶媒の単独もしくはそれらの混合物が好ましい。
触媒の使用量は特に制限されないが、経済的には反応系
に添加するシリルスタナン化合物に対し10モル%以
下、通常1モル%以上用いることが好ましい。1,3−
ジエン、アリールハロゲン化物およびシリルスタナン化
合物の仕込比率も特に制限されない。仕込比率により反
応量論に過剰な原料が未反応物として残るが、反応効
率、経済性及び分離の容易さから1,3−ジエンを、等
量のアリールハロゲン化物、シリルスタナン化合物に対
し5〜10倍用いることが望ましい。
エン、アリールハロゲン化物、シリルスタナン化合物を
不活性ガス気流下に加え、30〜150℃、好ましくは
80〜100℃の温度で、反応温度にもよるが10分以
上、通常10分〜10時間加熱することにより行われ
る。溶媒しては、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホルアミド等のアミド類の単独もしくは混合物
を挙げることができるが、良好な収率を与えるトルエ
ン、ベンゼン、ジオキサンなどの、使用する触媒と非配
位性の溶媒の単独もしくはそれらの混合物が好ましい。
触媒の使用量は特に制限されないが、経済的には反応系
に添加するシリルスタナン化合物に対し10モル%以
下、通常1モル%以上用いることが好ましい。1,3−
ジエン、アリールハロゲン化物およびシリルスタナン化
合物の仕込比率も特に制限されない。仕込比率により反
応量論に過剰な原料が未反応物として残るが、反応効
率、経済性及び分離の容易さから1,3−ジエンを、等
量のアリールハロゲン化物、シリルスタナン化合物に対
し5〜10倍用いることが望ましい。
【0012】
【発明の効果】本発明の方法によれば、アリルシリル構
造を持つ置換基を有する芳香族化合物を、高収率で高位
置選択的かつ高立体選択的に得ることができる。
造を持つ置換基を有する芳香族化合物を、高収率で高位
置選択的かつ高立体選択的に得ることができる。
【0013】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。なお、以下の実施例において、生成物の同定は
1H-nmr、13C-nmrを用いて行った。 実施例1 30mlのステンレス製オートクレーブ中に、アルゴン気
流下、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)
(0.025mmol)、トルエン(2ml)、1,3−ブタジエ
ン(3.0mmol)、沃化ベンゼン(0.5mmol)、(トリ
メチルシリル)トリブチルスタナン(0.5mmol)をこ
の順に加え、80℃にて4時間撹拌した。空気パージ
は、アルゴンガスを20気圧に加圧し次に脱圧する操作
を3回繰り返して行った。反応後、反応混合物をフロリ
ジルカラム(8mm×50mm)を通した後、減圧蒸留し1
−フェニル−4−トリメチルシリル−2−ブテン(31
mg、対シリルスタナン収率:30%)を得た。このもの
の構造はnmrにより確認し、90%以上がE体であっ
た。
明する。なお、以下の実施例において、生成物の同定は
1H-nmr、13C-nmrを用いて行った。 実施例1 30mlのステンレス製オートクレーブ中に、アルゴン気
流下、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)
(0.025mmol)、トルエン(2ml)、1,3−ブタジエ
ン(3.0mmol)、沃化ベンゼン(0.5mmol)、(トリ
メチルシリル)トリブチルスタナン(0.5mmol)をこ
の順に加え、80℃にて4時間撹拌した。空気パージ
は、アルゴンガスを20気圧に加圧し次に脱圧する操作
を3回繰り返して行った。反応後、反応混合物をフロリ
ジルカラム(8mm×50mm)を通した後、減圧蒸留し1
−フェニル−4−トリメチルシリル−2−ブテン(31
mg、対シリルスタナン収率:30%)を得た。このもの
の構造はnmrにより確認し、90%以上がE体であっ
た。
【0014】実施例2〜6 ジエン化合物を、イソプレン、2−フェニル−1,3−
ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、
2−トリメチルシロキシ−1,3−ブタジエン、または
1,3−シクロヘキサジエンに代えた以外は、実施例1
と同様に反応を実施した。結果を実施例1と共に表1に
示す。
ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、
2−トリメチルシロキシ−1,3−ブタジエン、または
1,3−シクロヘキサジエンに代えた以外は、実施例1
と同様に反応を実施した。結果を実施例1と共に表1に
示す。
【0015】
【表1】
【0016】実施例7〜10 アリールハロゲン化物を、クロロ沃化ベンゼン、メチル
沃化ベンゼン、ニトロ沃化ベンゼン、または沃化ナフタ
レンに代え、ジエン化合物としてイソプレンを用いた以
外は、実施例1と同様に反応を実施した。結果を表2に
示す。
沃化ベンゼン、ニトロ沃化ベンゼン、または沃化ナフタ
レンに代え、ジエン化合物としてイソプレンを用いた以
外は、実施例1と同様に反応を実施した。結果を表2に
示す。
【0017】
【表2】
【0018】実施例11〜14 使用する触媒、シリルスタナン化合物および1,3−ジ
エン化合物を、表3に記載のものにそれぞれ変更した以
外は、実施例1と同様に実験を行った。結果を表3に示
す。
エン化合物を、表3に記載のものにそれぞれ変更した以
外は、実施例1と同様に実験を行った。結果を表3に示
す。
【0019】
【表3】
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(1): R5R6R7Si−SnR8R9R10 (1) [式中、R5〜R10はそれぞれ独立に、炭素数1から5
のアルキル基または置換もしくは無置換のフェニル基を
表す]で示されるシリルスタナン化合物と、下記一般式
(2): CH(R1)=C(R2)−C(R3)=CH(R4) (2) [式中、R1及びR4は水素、炭素数1から5のアルキル
基であり、炭素鎖により互いに結合され、環を形成して
いても良い。R2及びR3はそれぞれ独立して、水素、炭
素数1から5のアルキル基、置換もしくは無置換フェニ
ル基、アルコキシ基またはトリアルキルシロキシ基を表
す。]で示される1,3−ジエン化合物、および下記一
般式(3): Ar−X (3) [式中、Arは、置換または無置換フェニル基、Xは沃
素または臭素原子を表す。]で示されるアリールハロゲ
ン化物を、周期律表10族有機金属触媒の存在下に反応
させることを特徴とする、下記一般式(4): Ar−CH(R1)−C(R2)=C(R3)−CH(R4)−SiR5R6R7 (4) [式中、Arは一般式(3)で定義したものと同じ基を表
し、R1〜R4は一般式(2)で定義したものと同じ基を表
し、R5〜R7は一般式(1)で定義したものと同じ基を表
す。]で示されるアリールアリルシラン化合物の製造
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4236802A JPH0680676A (ja) | 1992-09-04 | 1992-09-04 | アリールアリルシラン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4236802A JPH0680676A (ja) | 1992-09-04 | 1992-09-04 | アリールアリルシラン化合物の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0680676A true JPH0680676A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=17006005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4236802A Pending JPH0680676A (ja) | 1992-09-04 | 1992-09-04 | アリールアリルシラン化合物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0680676A (ja) |
-
1992
- 1992-09-04 JP JP4236802A patent/JPH0680676A/ja active Pending
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