JPH06784B2 - ２，６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体 - Google Patents
２，６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体Info
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- JPH06784B2 JPH06784B2 JP60292242A JP29224285A JPH06784B2 JP H06784 B2 JPH06784 B2 JP H06784B2 JP 60292242 A JP60292242 A JP 60292242A JP 29224285 A JP29224285 A JP 29224285A JP H06784 B2 JPH06784 B2 JP H06784B2
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- solvent
- methyl
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は制癌活性を有する新規なノガラマイシン類縁体
に関する。
に関する。
優れた制癌剤の開発には会社からの強力な要請があり、
アントラサイクリン誘導体は強力な制癌活性を有する化
合物群として医薬において重要な位置を占めている。従
来各種のアントラサイクリン系抗生物質が知られている
が、近年その一系統である下記式(II) のノガラマイシンに代表されるノガラマイシン誘導体
は、優れた制癌活性を示す化合物として注目されるとこ
ろとなっている〔P.F.Wiley,J.Nat.Prod.,42,569(1979)
参照〕。
アントラサイクリン誘導体は強力な制癌活性を有する化
合物群として医薬において重要な位置を占めている。従
来各種のアントラサイクリン系抗生物質が知られている
が、近年その一系統である下記式(II) のノガラマイシンに代表されるノガラマイシン誘導体
は、優れた制癌活性を示す化合物として注目されるとこ
ろとなっている〔P.F.Wiley,J.Nat.Prod.,42,569(1979)
参照〕。
一般に化合物の制癌活性はその化学構造に大きく依存す
ることから、既存のものと異なる構造を有するノガラマ
イシン類縁体の中から優れた制癌剤として実用に供せら
れるものが見出される可能性は極めて高い。
ることから、既存のものと異なる構造を有するノガラマ
イシン類縁体の中から優れた制癌剤として実用に供せら
れるものが見出される可能性は極めて高い。
本発明の目的は制癌活性を有する新規なノガラマイシン
類縁体である２，６−エポキシ−３，４，５，６−テト
ラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン
−９，１２−ジオン誘導体を提供することにある。
類縁体である２，６−エポキシ−３，４，５，６−テト
ラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン
−９，１２−ジオン誘導体を提供することにある。
（式中、Ｒ1は水素原子または水酸基の保護基であ
る。）で表わされる制癌活性を有する新規な２，６−エ
ポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導
体に関する。
る。）で表わされる制癌活性を有する新規な２，６−エ
ポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導
体に関する。
前記一般式(I)で表わされる２，６−エポキシ−３，
４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２
−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体は以下の反
応式に従い製造することができる。
４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２
−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体は以下の反
応式に従い製造することができる。
（式中、Ｒ1は水素原子または水酸基の保護基であり、
Ｒ2は水酸基の保護基である。） 〔第１工程〕 本工程は前記式(III)で表わされるヘキサン−２−オン
誘導体に前記式(IV)で表わされる１，４，５，８−テト
ラメトキシナフタレンのリチウム塩を付加させ、前記式
(V)で表わされる２−ヘキサノール誘導体を製造するも
のである。
Ｒ2は水酸基の保護基である。） 〔第１工程〕 本工程は前記式(III)で表わされるヘキサン−２−オン
誘導体に前記式(IV)で表わされる１，４，５，８−テト
ラメトキシナフタレンのリチウム塩を付加させ、前記式
(V)で表わされる２−ヘキサノール誘導体を製造するも
のである。
本工程の原料である６−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミ
ノ−３，５−ジメトキシメチルオキシ−ヘキサン−２−
オン(III)は公知の方法により合成できる化合物である
〔M.Kawasaki,et all.,Tetrahedron Lett.,26,2693(198
5)〕。
シ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミ
ノ−３，５−ジメトキシメチルオキシ−ヘキサン−２−
オン(III)は公知の方法により合成できる化合物である
〔M.Kawasaki,et all.,Tetrahedron Lett.,26,2693(198
5)〕。
本工程の付加反応を行なうには溶媒中で行なうことが望
ましく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒を用いることができる。
ましく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒を用いることができる。
反応は−７８℃〜５０℃に円滑に進行する。
〔第２工程〕 本工程は前記第１工程で得られる前記式(V)で表わされ
る２−ヘキサノール誘導体のｔ−ブチルジメチルシリル
基を除去し、前記式(VI)で表わされる１，５−ヘキサン
ジオール誘導体を製造するものである。
る２−ヘキサノール誘導体のｔ−ブチルジメチルシリル
基を除去し、前記式(VI)で表わされる１，５−ヘキサン
ジオール誘導体を製造するものである。
本工程の保護基の除去にあたっては、脱シリル化剤とし
て、例えばテトラブチルアンモニウム＝フロリド、フッ
化水素酸、酢酸等を使用することができる。
て、例えばテトラブチルアンモニウム＝フロリド、フッ
化水素酸、酢酸等を使用することができる。
本工程を行なうには、溶媒中で行なうことが望ましく、
例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２
−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、
クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水
素系溶媒を用いることができる。
例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２
−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、
クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水
素系溶媒を用いることができる。
反応温度は０℃〜１００℃で円滑に進行する。
〔第３工程〕 本工程は前記第２工程で得られる前記式(VI)で表わされ
る１，５−ヘキサンジオール誘導体を酸化して、前記式
(VII)で表わされる６−（１，４，５，８−テトラメト
キシナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラ
ヒドロ−２−ピラノン誘導体を製造するものである。
る１，５−ヘキサンジオール誘導体を酸化して、前記式
(VII)で表わされる６−（１，４，５，８−テトラメト
キシナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラ
ヒドロ−２−ピラノン誘導体を製造するものである。
本工程の酸化にあたっては酸化剤として、例えばジメチ
ルスルホキシド／オキザリルクロリド／トリエチルアミ
ン混合系酸化剤、ジメチルスルホキシド／無水トリフロ
ロ酢酸／トリエチルアミン混合系酸化剤、ピリジニウム
クロロクロメート等を用いることができる。
ルスルホキシド／オキザリルクロリド／トリエチルアミ
ン混合系酸化剤、ジメチルスルホキシド／無水トリフロ
ロ酢酸／トリエチルアミン混合系酸化剤、ピリジニウム
クロロクロメート等を用いることができる。
本工程を行なうには溶媒中で行なうことが望ましく、例
えばクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素系溶媒を用いることができる。
えばクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素系溶媒を用いることができる。
反応温度は−６０℃〜５０℃で円滑に進行する。
〔第４工程〕 本工程は前記第３工程で得られる前記式(VII)で表わさ
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピ
ラノン誘導体を還元し前記式(VIII)で表わされる６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン誘
導体を製造するものである。
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピ
ラノン誘導体を還元し前記式(VIII)で表わされる６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン誘
導体を製造するものである。
本工程の還元にあたっては還元剤として例えば、ジイソ
ブチルアルミニウムヒドリド、水素化トリ−ｔ−ブトキ
シアルミニウムリチウム等を用いることができる。
ブチルアルミニウムヒドリド、水素化トリ−ｔ−ブトキ
シアルミニウムリチウム等を用いることができる。
本工程を行なうには溶媒中で行なうことが望ましく例え
ば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、トルエン、ヘキ
サン等の炭化水素系溶媒を用いることができる。
ば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、トルエン、ヘキ
サン等の炭化水素系溶媒を用いることができる。
反応温度は−７８℃〜０℃で円滑に進行する。
〔第５工程〕 本工程は前記第４工程で得られる前記式(VIII)で表わさ
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−
ピラン誘導体の２位水酸基に保護基を導入して前記一般
式(IX)で表わされる６−（１，４，５，８−テトラメト
キシナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラ
ヒドロ−２Ｈ−ピラン誘導体を製造するものである。水
酸基の保護基としては、メチル基、ｔ−ブチル基、アリ
ル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ベンジル基、
ｐ−メトキシベンジル基等のアルキル基およびアリール
メチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
イソプロピルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のトリアルキ
ルシリル基、メトキシメチル基、２−メトキシエトキシ
メチル基、ベンジルオキシメチル基、２−トリメチルシ
リルエトキシメチル基、２，２，２−トリクロロエトキ
シメチル基等のアルコキシメチル基、メチルチオメチル
基、フェニルチオメチル基などのアルキル及びアリール
チオメチル基等が例示できる。これらの保護基は当業者
間で公知の方法(C.B.Reese."Prctective Groups in Org
anic Chemistry",ed.by.J.F.W.Mc Omie,Plenum Press,L
ondon and New York,1973,pp95-144;T.W.Greene,"Prote
ctive Groups in Organic Chemistry",John Wiley & So
ns,New York,1981,pp10-86;大石武、有合化，36,715(19
78).)によって導入することができる。
れる６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−
ピラン誘導体の２位水酸基に保護基を導入して前記一般
式(IX)で表わされる６−（１，４，５，８−テトラメト
キシナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラ
ヒドロ−２Ｈ−ピラン誘導体を製造するものである。水
酸基の保護基としては、メチル基、ｔ−ブチル基、アリ
ル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ベンジル基、
ｐ−メトキシベンジル基等のアルキル基およびアリール
メチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
イソプロピルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のトリアルキ
ルシリル基、メトキシメチル基、２−メトキシエトキシ
メチル基、ベンジルオキシメチル基、２−トリメチルシ
リルエトキシメチル基、２，２，２−トリクロロエトキ
シメチル基等のアルコキシメチル基、メチルチオメチル
基、フェニルチオメチル基などのアルキル及びアリール
チオメチル基等が例示できる。これらの保護基は当業者
間で公知の方法(C.B.Reese."Prctective Groups in Org
anic Chemistry",ed.by.J.F.W.Mc Omie,Plenum Press,L
ondon and New York,1973,pp95-144;T.W.Greene,"Prote
ctive Groups in Organic Chemistry",John Wiley & So
ns,New York,1981,pp10-86;大石武、有合化，36,715(19
78).)によって導入することができる。
前記一般式(VIII)に水酸基の保護基としてアルコキシメ
チル基を導入する場合には、ハロゲン化アルコキシメチ
ルをジイソプロピルエチルアミンの存在下(VIII)と反応
させることにより前記一般式(IX)で表わされる６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン誘
導体を製造することができる。アルコキシメチル化に用
いられるハロゲン化アルコキシメチルとしては、例え
ば、塩化メトキシメチル、臭化メトキシメチル、塩化２
−メトキシエトキシメチル、塩化ベンジルオキシメチ
ル、塩化２−トリメチルシリルエトキシメチル、塩化
２，２，２−トリクロロエトキシメチル等を例示するこ
とができる。本工程は無溶媒中で行なうこともできる
が、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系
溶媒を添加しても行なうことができる。
チル基を導入する場合には、ハロゲン化アルコキシメチ
ルをジイソプロピルエチルアミンの存在下(VIII)と反応
させることにより前記一般式(IX)で表わされる６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン誘
導体を製造することができる。アルコキシメチル化に用
いられるハロゲン化アルコキシメチルとしては、例え
ば、塩化メトキシメチル、臭化メトキシメチル、塩化２
−メトキシエトキシメチル、塩化ベンジルオキシメチ
ル、塩化２−トリメチルシリルエトキシメチル、塩化
２，２，２−トリクロロエトキシメチル等を例示するこ
とができる。本工程は無溶媒中で行なうこともできる
が、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系
溶媒を添加しても行なうことができる。
反応温度は室温〜８０℃で円滑に進行する。
〔第６工程〕 本工程は前記第５工程で得られる前記式(IX)で表わされ
る６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−
２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン誘導体を還元し、前記式(X)で表わされる６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン誘
導体を製造するものである。
る６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−
２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン誘導体を還元し、前記式(X)で表わされる６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン誘
導体を製造するものである。
本工程の還元にあたっては還元剤として例えば、水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム等を用い
ることができる。
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム等を用い
ることができる。
本工程を行なうには溶媒中で行なうことが望ましく例え
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジ
メトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒を用い
ることができる。
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジ
メトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒を用い
ることができる。
反応温度は０℃〜８０℃で円滑に進行する。
〔第７工程〕 本工程は前記第６工程で得られる前記式(X)で表わされ
る６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−
２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン誘導体を酸化し、前記式(XI)で表わされる６−
（５，８−ジメトキシ−１，４−ジオキソナフタレン−
２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン誘導体を製造するものである。酸化剤としては硝酸
セリウムアンモニウムを選択できる。
る６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−
２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン誘導体を酸化し、前記式(XI)で表わされる６−
（５，８−ジメトキシ−１，４−ジオキソナフタレン−
２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン誘導体を製造するものである。酸化剤としては硝酸
セリウムアンモニウムを選択できる。
本工程は溶媒中で行なうことが望ましく、例えば、メタ
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アミド等の極性溶媒を用いることができる。
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アミド等の極性溶媒を用いることができる。
反応温度は−５０℃〜５０℃で円滑に進行する。
〔第８工程〕 本工程は前記第７工程で得られる前記式(XI)で表わされ
る６−（５，８−ジメトキシ−１，４−ジオキソナフタ
レン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２
Ｈ−ピラン誘導体をナトリウムヒドロサルファイトで還
元し、得られた生成物を臭化トリメチルシリル、ヨウ化
トリメチルシリル等のハロゲン化トリアルキルシリルで
処理して閉環反応と３位および５位水酸基の保護基の除
去を行ない、更に３位および５位に生成する２個の水酸
基に再度保護基を導入し前記一般式(XII)で表わされる
９，１２−ジメトキシ−２，６−エポキシ−３，４，
５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−
ｂ〕オキソシン誘導体を製造するものである。
る６−（５，８−ジメトキシ−１，４−ジオキソナフタ
レン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２
Ｈ−ピラン誘導体をナトリウムヒドロサルファイトで還
元し、得られた生成物を臭化トリメチルシリル、ヨウ化
トリメチルシリル等のハロゲン化トリアルキルシリルで
処理して閉環反応と３位および５位水酸基の保護基の除
去を行ない、更に３位および５位に生成する２個の水酸
基に再度保護基を導入し前記一般式(XII)で表わされる
９，１２−ジメトキシ−２，６−エポキシ−３，４，
５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−
ｂ〕オキソシン誘導体を製造するものである。
本工程の還元段階は有機層と水層の２層系で行なうこと
が望ましく、有機層としてはクロロホルム、ジクロロメ
タン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
系溶媒が用いられる。
が望ましく、有機層としてはクロロホルム、ジクロロメ
タン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
系溶媒が用いられる。
反応温度は０℃〜５０℃で円滑に進行する。
本工程の閉環と３位および５位水酸基の保護基の除去の
段階は溶媒中で行なうことが望ましく、例えばクロロホ
ルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素系溶媒を用いることができる。
段階は溶媒中で行なうことが望ましく、例えばクロロホ
ルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素系溶媒を用いることができる。
反応温度は３０℃〜６０℃で円滑に進行する。
本工程の３位および５位に導入される水酸基の保護基と
しては、メチル基、ｔ−ブチル基、アリル基、２，２，
２−トリクロロエチル基、ベンジル基、ｐ−ニトロベン
ジル基、ｐ−メトキシベンジル基等のアルキル基および
アリールメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシ
リル基、イソプロピルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のト
リアルキルシリル基、ホルミル基、アセチル基、トリク
ロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル
基、ｐ−フェニルベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイ
ル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル基などのアシル基、メトキシメチル基、２−メト
キシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、２−
トリメチルシリルエトキシメチル基、２，２，２−トリ
クロロエトキシメチル基等のアルコキシメチル基、メチ
ルチオメチル基、フェニルチオメチル基などのアルキル
及びアリールチオメチル基、メタンスルホニル基、ベン
ゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基などのス
ルホニル基が例示できる。これらの保護基は当業者間で
公知の方法(C.B.Reese."Protective Groups in Orgnaic
Chemistry",ed.by.J.F.W.Mc Omie,Plenum Press,Londo
n and New York,1973,pp95-144;T.W.Greene,"Protectiv
e Groups in Organic Chemistry",John Wiley & Sons,N
ew York,1981,pp10-86;大石武、有合化，36,715(197
8).)によって導入することができる。
しては、メチル基、ｔ−ブチル基、アリル基、２，２，
２−トリクロロエチル基、ベンジル基、ｐ−ニトロベン
ジル基、ｐ−メトキシベンジル基等のアルキル基および
アリールメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシ
リル基、イソプロピルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のト
リアルキルシリル基、ホルミル基、アセチル基、トリク
ロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル
基、ｐ−フェニルベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイ
ル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル基などのアシル基、メトキシメチル基、２−メト
キシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、２−
トリメチルシリルエトキシメチル基、２，２，２−トリ
クロロエトキシメチル基等のアルコキシメチル基、メチ
ルチオメチル基、フェニルチオメチル基などのアルキル
及びアリールチオメチル基、メタンスルホニル基、ベン
ゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基などのス
ルホニル基が例示できる。これらの保護基は当業者間で
公知の方法(C.B.Reese."Protective Groups in Orgnaic
Chemistry",ed.by.J.F.W.Mc Omie,Plenum Press,Londo
n and New York,1973,pp95-144;T.W.Greene,"Protectiv
e Groups in Organic Chemistry",John Wiley & Sons,N
ew York,1981,pp10-86;大石武、有合化，36,715(197
8).)によって導入することができる。
水酸基の保護基としてアセチル基を導入する場合には無
水酢酸アセチルクロリド等を酢酸カリウム、酢酸ナトリ
ウムなどの存在下、無溶媒またはメタノール、エタノー
ル、プロパノールなどのアルコール系溶媒中で行なうこ
とができる。
水酢酸アセチルクロリド等を酢酸カリウム、酢酸ナトリ
ウムなどの存在下、無溶媒またはメタノール、エタノー
ル、プロパノールなどのアルコール系溶媒中で行なうこ
とができる。
反応温度は−２０℃〜５０℃で円滑に進行する。
〔第９工程〕 本工程は前記第８工程で得られる前記一般式(XII)で表
わされる９，１２−ジメトキシ−２，６−エポキシ−
３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ
〔１，２−ｂ〕オキソシン誘導体を三臭化ホウ素と反応
させた後トリエチルアミンで反応を終了させ得られた生
成物を硝酸セリウムアンモニウムで酸化して前記一般式
(I)で表わされる２，６−エポキシ−３，４，５，６−
テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソ
シン−９，１２−ジオン誘導体を製造するものである。
わされる９，１２−ジメトキシ−２，６−エポキシ−
３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ
〔１，２−ｂ〕オキソシン誘導体を三臭化ホウ素と反応
させた後トリエチルアミンで反応を終了させ得られた生
成物を硝酸セリウムアンモニウムで酸化して前記一般式
(I)で表わされる２，６−エポキシ−３，４，５，６−
テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソ
シン−９，１２−ジオン誘導体を製造するものである。
本工程の三臭化ホウ素との反応は溶媒中で行なうことが
望ましく、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒
を用いて行なうことができる。
望ましく、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒
を用いて行なうことができる。
反応温度は−２０℃〜室温で円滑に進行する。
本工程の硝酸セリウムアンモニウムでの酸化反応は溶媒
中で行なうことが望ましく、例えばメタノール、エタノ
ール、プロパノール等のアルコール系溶媒を用いること
ができる。
中で行なうことが望ましく、例えばメタノール、エタノ
ール、プロパノール等のアルコール系溶媒を用いること
ができる。
反応温度は−７８℃〜０℃で円滑に進行する。
以上の如くして得られる２，６−エポキシ−３，４，
５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−
ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体は悪性腫瘍細
胞増殖抑制試験を行なうことにより、制癌剤としての、
有用性を確認した。試験はマウスのリンパ性白血病細胞
(p388)を用い、常法に従って実施し、抑制率を求めた。
５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−
ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体は悪性腫瘍細
胞増殖抑制試験を行なうことにより、制癌剤としての、
有用性を確認した。試験はマウスのリンパ性白血病細胞
(p388)を用い、常法に従って実施し、抑制率を求めた。
以下、参考例、実施例及び試験例により本発明を詳細に
説明する。
説明する。
１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン（ｍ．ｐ．
１６７−１６９℃）１．７４ｇ（７．０ｍｍｏｌ）を無
水テトラヒドロフラン１８０mlに溶かし、０℃にて攪拌
しながらｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．２７モ
ル濃度）５．５１ml（７．０ｍｍｏｌ）を加え、さらに
その温度で２０分間攪拌を続けた。（−）−（３Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ）−６−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−
３，５−ジメトキシメチルオキシ−４−（Ｎ−メトキシ
カルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２−ヘキサノン〔Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２６，２６９３
（１９８５）の方法により合成〕２．１３ｇ（４．９ｍ
ｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン溶液１５mlを０℃に
て３０秒間にわたって滴下した。さらにその温度で３分
間攪拌を続けた。続いて飽和塩化アンモニウム水溶液１
００mlを注加して反応を止めた。トルエン２００mlを加
えて攪拌し有機層を分離後飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去した。
得られた残渣をシリカゲルカラム（ｎ−ヘキサン／酢酸
エチル＝３続いてクロロホルム／酢酸エチル＝３）に通
し、（−）−（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−６−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−３，５−ジメトキシメチル
オキシ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）
アミノ−２−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタ
レン−２−イル）−２−ヘキサノール１．９０ｇ（５７
％収率）を淡黄色のカラメルとして得た。
１６７−１６９℃）１．７４ｇ（７．０ｍｍｏｌ）を無
水テトラヒドロフラン１８０mlに溶かし、０℃にて攪拌
しながらｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．２７モ
ル濃度）５．５１ml（７．０ｍｍｏｌ）を加え、さらに
その温度で２０分間攪拌を続けた。（−）−（３Ｒ，４
Ｓ，５Ｓ）−６−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−
３，５−ジメトキシメチルオキシ−４−（Ｎ−メトキシ
カルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２−ヘキサノン〔Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２６，２６９３
（１９８５）の方法により合成〕２．１３ｇ（４．９ｍ
ｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン溶液１５mlを０℃に
て３０秒間にわたって滴下した。さらにその温度で３分
間攪拌を続けた。続いて飽和塩化アンモニウム水溶液１
００mlを注加して反応を止めた。トルエン２００mlを加
えて攪拌し有機層を分離後飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去した。
得られた残渣をシリカゲルカラム（ｎ−ヘキサン／酢酸
エチル＝３続いてクロロホルム／酢酸エチル＝３）に通
し、（−）−（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−６−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−３，５−ジメトキシメチル
オキシ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）
アミノ−２−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタ
レン−２−イル）−２−ヘキサノール１．９０ｇ（５７
％収率）を淡黄色のカラメルとして得た。
▲〔α〕20 D▼−３５．５°（ｃ＝１．００ クロロホ
ルム）質量スペクトルｍ／ｅ６８５（Ｍ+）．ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：0.03,0.05(6H,2s,Si(CH3)2),
0.86,0.90(9H,2s, SiC(CH3)3),1.76(3H,s,3H1),3.02(3H,s,NCH3),3.10,3.2
9,3.33,3.37,3.55,3.64,3.70,3.81,3.84,3.86,3.89(21
H,11s,7OCH3),2.9-5.0(10H,m,OH,OCH2×3,H3,H4,H5),6.
84(2H,s,ArH),7.00(1H,s,ArH). ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４５０（ＯＨ）， １６９０（ＣＯ），１６００（Ａｒ）cm-1． 元素分析値：Ｃ33H55NO11Ｓｉとしての 計算値：Ｃ；５７．７９，Ｈ；８．０８，Ｎ；２．０４
％． 分析値：Ｃ；５７．７６，Ｈ；７．９３，Ｎ；１．９９
％． （−）−（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−６−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ−３，５−ジメトキシメチルオキ
シ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミ
ノ−２−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−２−ヘキサノール１．５０ｇ（２．１９
ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン５０mlに溶かし、
１５〜２５℃で攪拌下テトラブチルアンモニウムニフロ
リドのテトラヒドロフラン溶液（１モル濃度）５．０ml
（５．０ｍｍｏｌ）を加え、その温度で１時間攪拌を続
けた。溶媒を留去した後残渣をシリカゲルカラム（酢酸
エチル）通し（−）−（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−３
−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−
２，４−ジメトキシメチルオキシ−５−（１，４，５，
８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−１，５−
ヘキサンジオール１．２２ｇ（９８％収率）を無色カラ
メルとして得た。
ルム）質量スペクトルｍ／ｅ６８５（Ｍ+）．ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：0.03,0.05(6H,2s,Si(CH3)2),
0.86,0.90(9H,2s, SiC(CH3)3),1.76(3H,s,3H1),3.02(3H,s,NCH3),3.10,3.2
9,3.33,3.37,3.55,3.64,3.70,3.81,3.84,3.86,3.89(21
H,11s,7OCH3),2.9-5.0(10H,m,OH,OCH2×3,H3,H4,H5),6.
84(2H,s,ArH),7.00(1H,s,ArH). ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４５０（ＯＨ）， １６９０（ＣＯ），１６００（Ａｒ）cm-1． 元素分析値：Ｃ33H55NO11Ｓｉとしての 計算値：Ｃ；５７．７９，Ｈ；８．０８，Ｎ；２．０４
％． 分析値：Ｃ；５７．７６，Ｈ；７．９３，Ｎ；１．９９
％． （−）−（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−６−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ−３，５−ジメトキシメチルオキ
シ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミ
ノ−２−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン
−２−イル）−２−ヘキサノール１．５０ｇ（２．１９
ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン５０mlに溶かし、
１５〜２５℃で攪拌下テトラブチルアンモニウムニフロ
リドのテトラヒドロフラン溶液（１モル濃度）５．０ml
（５．０ｍｍｏｌ）を加え、その温度で１時間攪拌を続
けた。溶媒を留去した後残渣をシリカゲルカラム（酢酸
エチル）通し（−）−（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−３
−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−
２，４−ジメトキシメチルオキシ−５−（１，４，５，
８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−１，５−
ヘキサンジオール１．２２ｇ（９８％収率）を無色カラ
メルとして得た。
▲〔α〕20 Ｄ▼−３１．４（ｃ＝１．２５ クロロホル
ム）質量スペクトルｍ／ｅ５７１（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.73(3H,s,3H6),2.96
(3H,s,NCH3),3.2-4.1(28H,m,7CH3,2H1,H2,H3,H4,2OH),
4.4-5.0(4H,m,OCH2O×２）,6.81(2H,s,ArH),7.05,7.22
(1H,2s,ArH). ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４５０（ＯＨ）， １６８０（ＣＯ），１６００（Ａｒ）cm-1． オキザリルクロリド０．３８ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を無
水ジクロロメタン２５mlに溶かし、−６０℃で攪拌しな
がら、ジメチルスルホキシド０．５５ｇ（７．０ｍｍｏ
ｌ）の無水ジクロロメタン溶液５mlを加え、その温度に
て２分間攪拌した。（−）−（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ）−３−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）ア
ミノ−２，４−ジメトキシメチルオキシ−５−（１，
４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−
１，５−ヘキサンジオール０．９０ｇ（１．５７ｍｍｏ
ｌ）の無水ジクロロメタン溶液５mlを加え、−６０℃に
て２０分間攪拌したのちこの温度にてトリエチルアミン
１．５２ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）を滴下し、反応温度を
２０分間かけて０℃まで上げた。飽和塩化アンモニウム
水溶液１００mlと酢酸エチル１００mlを加えて反応を止
めた。有機層を分離後飽和食塩水（２０ml×２）で洗浄
したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧下
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル／ヘキサン＝２）で精製し０．８２ｇ（９
１％収率）の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ−
メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ジ
メトキシメチルオキシ−６−メチル−６−（１，４，
５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−３，
４，５，６−テトラヒドロー２−ピラノンを無色カラメ
ルとして得た。
ム）質量スペクトルｍ／ｅ５７１（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.73(3H,s,3H6),2.96
(3H,s,NCH3),3.2-4.1(28H,m,7CH3,2H1,H2,H3,H4,2OH),
4.4-5.0(4H,m,OCH2O×２）,6.81(2H,s,ArH),7.05,7.22
(1H,2s,ArH). ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４５０（ＯＨ）， １６８０（ＣＯ），１６００（Ａｒ）cm-1． オキザリルクロリド０．３８ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を無
水ジクロロメタン２５mlに溶かし、−６０℃で攪拌しな
がら、ジメチルスルホキシド０．５５ｇ（７．０ｍｍｏ
ｌ）の無水ジクロロメタン溶液５mlを加え、その温度に
て２分間攪拌した。（−）−（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ，５
Ｒ）−３−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）ア
ミノ−２，４−ジメトキシメチルオキシ−５−（１，
４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−
１，５−ヘキサンジオール０．９０ｇ（１．５７ｍｍｏ
ｌ）の無水ジクロロメタン溶液５mlを加え、−６０℃に
て２０分間攪拌したのちこの温度にてトリエチルアミン
１．５２ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）を滴下し、反応温度を
２０分間かけて０℃まで上げた。飽和塩化アンモニウム
水溶液１００mlと酢酸エチル１００mlを加えて反応を止
めた。有機層を分離後飽和食塩水（２０ml×２）で洗浄
したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧下
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル／ヘキサン＝２）で精製し０．８２ｇ（９
１％収率）の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ−
メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ジ
メトキシメチルオキシ−６−メチル−６−（１，４，
５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−３，
４，５，６−テトラヒドロー２−ピラノンを無色カラメ
ルとして得た。
質量スペクトル：ｍ／ｅ５６７（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：2.04(3H,s,6-CH3),2.9
7(3H,s,NCH3),3.20,3.36(6H,2s,OCH3×２）,3.66,3.70,
3.86,3.90,3.92(15H,5s,ArOCH3×４，ＣＯ２ＣＨ３），
４．５６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７Hz，８Hz，ＯＣＨ
２Ｏ），４．９２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３６HZ，７HZ，Ｏ
ＣＨ２Ｏ），６．８４（２Ｈ，ｓ，ＡｒＨ），７．００
（１Ｈ，ｓ，ＡｒＨ）． ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７４０（ＣＯ）， １６９５（ＣＯ），１６００（Ａｒ），１０２５（−Ｏ
−）cm-1． （３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ，）−４−（Ｎ−メトキシカ
ルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ジメトキシメ
チルオキシ−６−メチル−６−（１，４，５，８−テト
ラメトキシナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−
テトラヒドロ−２−ピラノン４３５mg（０．７７ｍｍｏ
ｌ）を無水トルエン３０mlに溶かして−７８℃で攪拌し
ながら、ジイソブチルアルミニウムピドリドのヘキサン
溶液（１．０モル濃度）０．９２ml（０．９２ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、この温度にて２０分間攪拌した。メタノ
ール０．５mlを注加して反応を止め更に飽和塩化アンモ
ニウム水溶液１００mlを加え、酢酸エチル（３０ml×
２）で抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水（２０ml
×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を
減圧留去した。残渣をメタノール３０mlに溶かし無水炭
酸カリウム２．０ｇを加え、３０分間加熱還流した後、
反応液を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。このものをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキ
サン＝２）で精製し（＋）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６
Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル
−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ジメトキシメチルオキ
シ−６−メチル−６−（１，４，５，８−テトラメトキ
シナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒ
ドロ−２Ｈ−ピラン３５４mg（８２％収率）を淡黄色カ
ラメルとして得た。
7(3H,s,NCH3),3.20,3.36(6H,2s,OCH3×２）,3.66,3.70,
3.86,3.90,3.92(15H,5s,ArOCH3×４，ＣＯ２ＣＨ３），
４．５６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７Hz，８Hz，ＯＣＨ
２Ｏ），４．９２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３６HZ，７HZ，Ｏ
ＣＨ２Ｏ），６．８４（２Ｈ，ｓ，ＡｒＨ），７．００
（１Ｈ，ｓ，ＡｒＨ）． ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７４０（ＣＯ）， １６９５（ＣＯ），１６００（Ａｒ），１０２５（−Ｏ
−）cm-1． （３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ，）−４−（Ｎ−メトキシカ
ルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ジメトキシメ
チルオキシ−６−メチル−６−（１，４，５，８−テト
ラメトキシナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−
テトラヒドロ−２−ピラノン４３５mg（０．７７ｍｍｏ
ｌ）を無水トルエン３０mlに溶かして−７８℃で攪拌し
ながら、ジイソブチルアルミニウムピドリドのヘキサン
溶液（１．０モル濃度）０．９２ml（０．９２ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、この温度にて２０分間攪拌した。メタノ
ール０．５mlを注加して反応を止め更に飽和塩化アンモ
ニウム水溶液１００mlを加え、酢酸エチル（３０ml×
２）で抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水（２０ml
×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を
減圧留去した。残渣をメタノール３０mlに溶かし無水炭
酸カリウム２．０ｇを加え、３０分間加熱還流した後、
反応液を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。このものをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキ
サン＝２）で精製し（＋）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６
Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（Ｎ−メトキシカルボニル
−Ｎ−メチル）アミノ−３，５−ジメトキシメチルオキ
シ−６−メチル−６−（１，４，５，８−テトラメトキ
シナフタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒ
ドロ−２Ｈ−ピラン３５４mg（８２％収率）を淡黄色カ
ラメルとして得た。
▲〔α〕20 Ｄ▼＋１２．１（ｃ＝１．０５ クロロホル
ム）質量スペクトルｍ／ｅ５６９（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.83,1.91(3H,2s,6-CH
3),2.96,2.99(3H,2s,NCH3),3.28(3H,s,OCH3),3.37(3H,
s,OCH3),3.4-4.3(19H,m,OCH3×４，CO2CH3,OH,H3,H4,
H5),4.4-4.9(5H,m,OCH3×２，H2),6.80(2H,s,ArH),7.72
(1H,s,ArH). ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４５０（ＯＨ）， １６９０（ＣＯ），１６００（Ａｒ），１０７０，１０
３０（−Ｏ−）cm-1． （＋）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−２−ヒドロキシ
−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ
−３，５−ジメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン３
５０mg（０．６２ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン
５．０mlに溶かし、ジイソプロピルエチルアミン４．４
４ｇ（３４ｍｍｏｌ）クロロメチルメチルエーテル３．
１８ｇ（３９ｍｍｏｌ）を加えたのち３時間加熱還流し
た。続いて氷冷攪拌下トリエチルアミン２ml、メタノー
ル３mlを注加してこの温度で１５分間おいたのち酢酸エ
チル８０mlを加えた。有機層を冷３ＮＨＣｌ水、飽和重
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで
乾燥後溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２）で精
製し、（−）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ
−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２，３，
５−トリメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン３４
３mg（９１％収率）を無色結晶として得た。
ム）質量スペクトルｍ／ｅ５６９（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.83,1.91(3H,2s,6-CH
3),2.96,2.99(3H,2s,NCH3),3.28(3H,s,OCH3),3.37(3H,
s,OCH3),3.4-4.3(19H,m,OCH3×４，CO2CH3,OH,H3,H4,
H5),4.4-4.9(5H,m,OCH3×２，H2),6.80(2H,s,ArH),7.72
(1H,s,ArH). ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４５０（ＯＨ）， １６９０（ＣＯ），１６００（Ａｒ），１０７０，１０
３０（−Ｏ−）cm-1． （＋）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−２−ヒドロキシ
−４−（Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ
−３，５−ジメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン３
５０mg（０．６２ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン
５．０mlに溶かし、ジイソプロピルエチルアミン４．４
４ｇ（３４ｍｍｏｌ）クロロメチルメチルエーテル３．
１８ｇ（３９ｍｍｏｌ）を加えたのち３時間加熱還流し
た。続いて氷冷攪拌下トリエチルアミン２ml、メタノー
ル３mlを注加してこの温度で１５分間おいたのち酢酸エ
チル８０mlを加えた。有機層を冷３ＮＨＣｌ水、飽和重
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで
乾燥後溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２）で精
製し、（−）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ
−メトキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２，３，
５−トリメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−
（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イ
ル）３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン３４
３mg（９１％収率）を無色結晶として得た。
ｍ．ｐ．１１５−１１６℃． ▲〔α〕20 Ｄ▼−１６．２（ｃ＝１．１０ クロロホル
ム）質量スペクトルｍ／ｅ６１３（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.82,(3H,s,6-CH3),2.
96,3.00(3H,2s,NCH3),3.23,3.28,3.40(9H,3s,OCH3×
３），3.5-4.3(17H,m,OCH3×５，H3,H5),4.3-5.3(7H,m,
OCH2O×3,H2),6.82(2H,s,ArH),7.74(1H,s,ArH)． ＩＲ（ＫＢｒ）：１７００（ＣＯ），１６００（Ａ
ｒ），１０２０（−Ｏ−）cm-1． 元素分析値：Ｃ29Ｈ43ＮＯ13としての 計算値：Ｃ；５６．７６，Ｈ；７．０６，Ｎ；２．２８
％． 分析値：Ｃ；５６．６３，Ｈ；７．１７，Ｎ；２．２１
％． （−）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ−メト
キシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２，３，５−ト
リメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−（１，４，
５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−３，
４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン７３０mg
（１．１９ｍｍｏｌ）を無水エーテル４０mlに溶かし水
素化アルミニウムリチウム１８２mg（４．８ｍｍｏｌ）
を加え、１時間加熱還流後メタノール１mlを注加して反
応を止めた。酢酸エチル１００mlを加え、この有機層を
飽和食塩水（２０ml×３）で洗浄し無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２）で
精製し（−）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−ジメ
チルアミノ−２，３，５−トリメトキシメチルオキシ−
６−メチル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナ
フタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ
−２Ｈ−ピラン６４１mg（９５％収率）を無色結晶とし
て得た。
ム）質量スペクトルｍ／ｅ６１３（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.82,(3H,s,6-CH3),2.
96,3.00(3H,2s,NCH3),3.23,3.28,3.40(9H,3s,OCH3×
３），3.5-4.3(17H,m,OCH3×５，H3,H5),4.3-5.3(7H,m,
OCH2O×3,H2),6.82(2H,s,ArH),7.74(1H,s,ArH)． ＩＲ（ＫＢｒ）：１７００（ＣＯ），１６００（Ａ
ｒ），１０２０（−Ｏ−）cm-1． 元素分析値：Ｃ29Ｈ43ＮＯ13としての 計算値：Ｃ；５６．７６，Ｈ；７．０６，Ｎ；２．２８
％． 分析値：Ｃ；５６．６３，Ｈ；７．１７，Ｎ；２．２１
％． （−）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−（Ｎ−メト
キシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２，３，５−ト
リメトキシメチルオキシ−６−メチル−６−（１，４，
５，８−テトラメトキシナフタレン−２−イル）−３，
４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン７３０mg
（１．１９ｍｍｏｌ）を無水エーテル４０mlに溶かし水
素化アルミニウムリチウム１８２mg（４．８ｍｍｏｌ）
を加え、１時間加熱還流後メタノール１mlを注加して反
応を止めた。酢酸エチル１００mlを加え、この有機層を
飽和食塩水（２０ml×３）で洗浄し無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２）で
精製し（−）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−ジメ
チルアミノ−２，３，５−トリメトキシメチルオキシ−
６−メチル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナ
フタレン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ
−２Ｈ−ピラン６４１mg（９５％収率）を無色結晶とし
て得た。
ｍ．ｐ．１０９−１１０℃． ▲〔α〕20 Ｄ▼０（ｃ＝１．０８ クロロホルム） ▲〔α〕20 Ｄ▼−１０．３°（ｃ＝１．０８ クロロホ
ルム）質量スペクトルｍ／ｅ：５６９（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.84(3H,s,6-CH3),2.5
3(6H,s,N(CH3)2),3.02(1H,t,J=8.7HZ,H4),3.35(6H,s,OC
H3×２），3.38(3H,s,OCH3),3.71,3.84,3.90,3.92(12H,
4s,ArOCH3×４），3.5-4.2(2H,m,H3,H5),4.6-5.3(7H,m,
OCH2O×3,H2),6.80(2H,s,ArH),7.70(1H,s,ArH)． ＩＲ（ＫＢｒ）：１６００（Ａｒ），１０７０，１０４
０，１０２０（−Ｏ−）cm-1． 元素分析値：Ｃ28Ｈ43ＮＯ11として 計算値：Ｃ；５９．０４，Ｈ；７．６１，Ｎ；２．４６
％． 分析値：Ｃ；５８．８６，Ｈ；７．５７，Ｎ；２．４０
％． （−）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−ジメチルア
ミノ−２，３，５−トリメトキシメチルオキシ−６−メ
チル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレ
ン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ピラン３００mg（０．５３ｍｍｏｌ）をエタノール８
mlに溶かし−４０℃で硝酸セリウムアンモニウム１．８
０ｇ（３．２８ｍｍｏｌ）の３ml水溶液を加え、温度を
上げた。０℃で１０分間攪拌後酢酸エチル２０ml、水２
０mlを加え、激しく攪拌しながら飽和重曹水を滴下して
水層をpH＝８とした。有機層を分離後飽和食塩水（１０
ml）で洗浄したのち０．５ＮＨＣｌ水（２０ml×２）で
逆抽出し、飽和重曹水でpH＝８としたのち、再度酢酸エ
チル（２０ml×２）で抽出した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精
製し（＋）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−６−（５，
８−ジメトキシ−１，４−ジオキソナフタレン−２−イ
ル）−４−ジメチルアミノ−２，３，５−トリメトキシ
メチルオキシ−６−メチル−３，４，５，６−テトラヒ
ドロ−２Ｈ−ピラン２０５mg（７２％収率）を黄色結晶
として得た。
ルム）質量スペクトルｍ／ｅ：５６９（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.84(3H,s,6-CH3),2.5
3(6H,s,N(CH3)2),3.02(1H,t,J=8.7HZ,H4),3.35(6H,s,OC
H3×２），3.38(3H,s,OCH3),3.71,3.84,3.90,3.92(12H,
4s,ArOCH3×４），3.5-4.2(2H,m,H3,H5),4.6-5.3(7H,m,
OCH2O×3,H2),6.80(2H,s,ArH),7.70(1H,s,ArH)． ＩＲ（ＫＢｒ）：１６００（Ａｒ），１０７０，１０４
０，１０２０（−Ｏ−）cm-1． 元素分析値：Ｃ28Ｈ43ＮＯ11として 計算値：Ｃ；５９．０４，Ｈ；７．６１，Ｎ；２．４６
％． 分析値：Ｃ；５８．８６，Ｈ；７．５７，Ｎ；２．４０
％． （−）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−４−ジメチルア
ミノ−２，３，５−トリメトキシメチルオキシ−６−メ
チル−６−（１，４，５，８−テトラメトキシナフタレ
ン−２−イル）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ
−ピラン３００mg（０．５３ｍｍｏｌ）をエタノール８
mlに溶かし−４０℃で硝酸セリウムアンモニウム１．８
０ｇ（３．２８ｍｍｏｌ）の３ml水溶液を加え、温度を
上げた。０℃で１０分間攪拌後酢酸エチル２０ml、水２
０mlを加え、激しく攪拌しながら飽和重曹水を滴下して
水層をpH＝８とした。有機層を分離後飽和食塩水（１０
ml）で洗浄したのち０．５ＮＨＣｌ水（２０ml×２）で
逆抽出し、飽和重曹水でpH＝８としたのち、再度酢酸エ
チル（２０ml×２）で抽出した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精
製し（＋）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−６−（５，
８−ジメトキシ−１，４−ジオキソナフタレン−２−イ
ル）−４−ジメチルアミノ−２，３，５−トリメトキシ
メチルオキシ−６−メチル−３，４，５，６−テトラヒ
ドロ−２Ｈ−ピラン２０５mg（７２％収率）を黄色結晶
として得た。
ｍ．ｐ．１５１−１５２℃． ▲〔α〕20 Ｄ▼＋１４．３（ｃ＝０．２８ クロロホル
ム）質量スペクトルｍ／ｅ：５３９（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：１．８２（３Ｈ，ｓ，
６−ＣＨ３），２．４６（６Ｈ，ｓ，Ｎ（Ｃ
Ｈ３）２），２．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，Ｈ
４），３．３１（３Ｈ，ｓ，ＯＣＨ３），３．３９（６
Ｈ，ｓ，ＯＣＨ３×２），3.78(1H,d,J=7Hz,H3),3.90,
3.94(6H,2s,ArOCH3×２），4.15(1Hd,J=6Hz，Ｈ５），
４．５−５．１（７Ｈ，ｍ，ＯＣＨ２Ｏ×３，H2),7.24
(3H,s,ArH)． ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６５（ＣＯ），１０４５，１０２
０（−Ｏ−）cm-1． 元素分析値：Ｃ26Ｈ37ＮＯ11として 計算値：Ｃ；５７．８６，Ｈ；６．９１，Ｎ；２．６０
％． 分析値：Ｃ；５７．４６，Ｈ；７．０９，Ｎ；２．５０
％． （＋）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−６−（５，８−
ジメトキシ−１，４−ジオキソナフタレン−２−イル）
−４−ジメチルアミノ−２，３，５−トリメトキシメチ
ルオキシ−６−メチル−３，４，５，６−テトラヒドロ
−２Ｈ−ピラン１００mg（０．１９ｍｍｏｌ）をクロロ
ホルム１０mlに溶かしハイドロサルファイトナトリウム
２５０mg（１．４４ｍｍｏｌ）の水溶液２０mlを加え、
室温にて激しく攪拌した。クロロホルム層が黄色から無
色となった時静置してクロロホルム層を分離し溶媒を減
圧下留去した。これに無水塩化メチレン５mlを加え加熱
還流下臭化トリメチルシリル１．０mlを加え、この温度
で１０分間攪拌した。溶媒を減圧留去後−７８℃でメタ
ノール１mlを注加し室温にてこれを減圧留去することを
２度繰り返した後得られた粗製の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，
５Ｒ，６Ｒ）−４−ジメチルアミノ−３，５，８−トリ
ヒドロキシ−９，１２−ジメトキシ−６−メチル−２，
６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−
ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシンの臭化水素酸塩を
メタノール３mlに溶かし酢酸カリウム３００mg（３．１
ｍｍｏｌ）、無水酢酸２．０ml（２１ｍｍｏｌ）を加え
て３０℃で１時間攪拌後溶媒を減圧留去した。このもの
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）
で精製し（＋）−（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−
３，５−ジアセトキシ−４−ジメチルアミノ−８−ヒド
ロキシ−９，１２−ジメトキシ−６−メチル−２，６−
エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン６９mg（７８％収率）
を無色結晶として得た。
ム）質量スペクトルｍ／ｅ：５３９（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：１．８２（３Ｈ，ｓ，
６−ＣＨ３），２．４６（６Ｈ，ｓ，Ｎ（Ｃ
Ｈ３）２），２．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，Ｈ
４），３．３１（３Ｈ，ｓ，ＯＣＨ３），３．３９（６
Ｈ，ｓ，ＯＣＨ３×２），3.78(1H,d,J=7Hz,H3),3.90,
3.94(6H,2s,ArOCH3×２），4.15(1Hd,J=6Hz，Ｈ５），
４．５−５．１（７Ｈ，ｍ，ＯＣＨ２Ｏ×３，H2),7.24
(3H,s,ArH)． ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６５（ＣＯ），１０４５，１０２
０（−Ｏ−）cm-1． 元素分析値：Ｃ26Ｈ37ＮＯ11として 計算値：Ｃ；５７．８６，Ｈ；６．９１，Ｎ；２．６０
％． 分析値：Ｃ；５７．４６，Ｈ；７．０９，Ｎ；２．５０
％． （＋）−（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−６−（５，８−
ジメトキシ−１，４−ジオキソナフタレン−２−イル）
−４−ジメチルアミノ−２，３，５−トリメトキシメチ
ルオキシ−６−メチル−３，４，５，６−テトラヒドロ
−２Ｈ−ピラン１００mg（０．１９ｍｍｏｌ）をクロロ
ホルム１０mlに溶かしハイドロサルファイトナトリウム
２５０mg（１．４４ｍｍｏｌ）の水溶液２０mlを加え、
室温にて激しく攪拌した。クロロホルム層が黄色から無
色となった時静置してクロロホルム層を分離し溶媒を減
圧下留去した。これに無水塩化メチレン５mlを加え加熱
還流下臭化トリメチルシリル１．０mlを加え、この温度
で１０分間攪拌した。溶媒を減圧留去後−７８℃でメタ
ノール１mlを注加し室温にてこれを減圧留去することを
２度繰り返した後得られた粗製の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，
５Ｒ，６Ｒ）−４−ジメチルアミノ−３，５，８−トリ
ヒドロキシ−９，１２−ジメトキシ−６−メチル−２，
６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−
ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシンの臭化水素酸塩を
メタノール３mlに溶かし酢酸カリウム３００mg（３．１
ｍｍｏｌ）、無水酢酸２．０ml（２１ｍｍｏｌ）を加え
て３０℃で１時間攪拌後溶媒を減圧留去した。このもの
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）
で精製し（＋）−（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−
３，５−ジアセトキシ−４−ジメチルアミノ−８−ヒド
ロキシ−９，１２−ジメトキシ−６−メチル−２，６−
エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン６９mg（７８％収率）
を無色結晶として得た。
ｍ．ｐ．１８２−１８３°． ▲〔α〕20 Ｄ▼＋７９．７℃（ｃ＝０．３１ クロロホ
ルム）質量スペクトルｍ／ｅ：４７５（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.57(3H,s,6-CH3),2.0
7,2.13(6H,2s,COCH3×２），2.26(6H,s,N(CH3)2)，２．
７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．３Hz，Ｈ４），３．８６，
４．０２（６Ｈ，２ｓ，ＯＣＨ３×２），5.12(1H,d,J=
10.3Hz,H5),5.15(1H,dd,J=10.3Hz,4.4Hz,H3),5.85(1H,
d,J=4.4Hz,H2),6.61(1H,s,ArH),6.77(2H,s,ArH),9.35(1
H,s,OH). ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４０（ＯＨ），１７４５（Ｃ
Ｏ），１２５０，１２３５，１２２０（ＣＯ2），１０
４０（Ｃ−Ｏ−Ｃ−Ｏ−Ｃ）cm-1． 元素分析値：Ｃ24Ｈ29ＮＯ9として 計算値：Ｃ；６０．６２，Ｈ；６．１５，Ｎ；２．９５
％． 分析値：Ｃ；６０．２１，Ｈ；６．１３，Ｎ；２．８８
％． （＋）−（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−３，５−
ジアセトキシ−４−ジメチルアミノ−９，１２−ジメト
キシ−６−メチル−２，６−エポキシ−３，４，５，６
−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキ
ソシン４５mg（０．０９５ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメ
タン４．５mlに溶かし、０℃で三臭化ホウ素の１．０モ
ルジクロロメタン溶液０．９０ml（０．９０ｍｍｏｌ）
を滴下し、この温度にて３０分間攪拌した。０℃で溶媒
と過剰の三臭化ホウ素を減圧留去後−７８℃でトリエチ
ルアミン０．５ml、メタノール３mlを加えた後室温にて
これを減圧留去した。残渣をエタノール１２mlに溶か
し、−７８℃で、硝酸セリウムアンモニウム２７０mg
（０．４９ｍｍｏｌ）の水０．３ml＋エタノール１．５
ml溶液を滴下し、この温度にて１０分間攪拌後、トリエ
チルアミン０．２７mlを滴下して反応を止めた。これに
水５０mlを加えたのちクロロホルム（５０ml×２）で抽
出した。クロロホルム層を合わせ、飽和食塩水、１ＮＨ
Ｃｌ水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／
ヘキサン＝２）で精製し、（＋）−（２Ｒ，３Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−３，５−ジアセトキシ−４−ジメチ
ルアミノ−８−ヒドロキシ−６−メチル−２，６−エポ
キシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン３０mg
（７１％収率）を赤橙色結晶として得た。
ルム）質量スペクトルｍ／ｅ：４７５（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.57(3H,s,6-CH3),2.0
7,2.13(6H,2s,COCH3×２），2.26(6H,s,N(CH3)2)，２．
７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．３Hz，Ｈ４），３．８６，
４．０２（６Ｈ，２ｓ，ＯＣＨ３×２），5.12(1H,d,J=
10.3Hz,H5),5.15(1H,dd,J=10.3Hz,4.4Hz,H3),5.85(1H,
d,J=4.4Hz,H2),6.61(1H,s,ArH),6.77(2H,s,ArH),9.35(1
H,s,OH). ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４０（ＯＨ），１７４５（Ｃ
Ｏ），１２５０，１２３５，１２２０（ＣＯ2），１０
４０（Ｃ−Ｏ−Ｃ−Ｏ−Ｃ）cm-1． 元素分析値：Ｃ24Ｈ29ＮＯ9として 計算値：Ｃ；６０．６２，Ｈ；６．１５，Ｎ；２．９５
％． 分析値：Ｃ；６０．２１，Ｈ；６．１３，Ｎ；２．８８
％． （＋）−（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−３，５−
ジアセトキシ−４−ジメチルアミノ−９，１２−ジメト
キシ−６−メチル−２，６−エポキシ−３，４，５，６
−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキ
ソシン４５mg（０．０９５ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメ
タン４．５mlに溶かし、０℃で三臭化ホウ素の１．０モ
ルジクロロメタン溶液０．９０ml（０．９０ｍｍｏｌ）
を滴下し、この温度にて３０分間攪拌した。０℃で溶媒
と過剰の三臭化ホウ素を減圧留去後−７８℃でトリエチ
ルアミン０．５ml、メタノール３mlを加えた後室温にて
これを減圧留去した。残渣をエタノール１２mlに溶か
し、−７８℃で、硝酸セリウムアンモニウム２７０mg
（０．４９ｍｍｏｌ）の水０．３ml＋エタノール１．５
ml溶液を滴下し、この温度にて１０分間攪拌後、トリエ
チルアミン０．２７mlを滴下して反応を止めた。これに
水５０mlを加えたのちクロロホルム（５０ml×２）で抽
出した。クロロホルム層を合わせ、飽和食塩水、１ＮＨ
Ｃｌ水、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／
ヘキサン＝２）で精製し、（＋）−（２Ｒ，３Ｓ，４
Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−３，５−ジアセトキシ−４−ジメチ
ルアミノ−８−ヒドロキシ−６−メチル−２，６−エポ
キシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン３０mg
（７１％収率）を赤橙色結晶として得た。
ｍ．ｐ．１５３−１５５℃． ▲〔α〕20 Ｄ▼＋４２０°（ｃ＝０．０５０クロロホル
ム）質量スペクトル ｍ／ｅ:445（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.58(3H,s,6-CH3),2.1
2,2.15(6H,2s,COCH3×２），2.28(6H,s,N(CH3)2)，２．
６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，Ｈ４），５．１１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，Ｈ５），５．１９（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，４．０Hz，Ｈ３），５．
８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Hz，Ｈ２），６．８９（２
Ｈ，ｓ，ＡｒＨ），７．０４（１Ｈ，ｓ，ＡｒＨ），１
２．４０（１Ｈ，ｓ，ＯＨ）． ＩＲ（ＫＢｒ）：３４６０（ＯＨ），１７４５（Ｃ
Ｏ），１６４０（ＣＯ），１２２０（ＣＯ2），１０４
０（Ｃ−Ｏ−Ｃ−Ｏ−Ｃ）cm-1． 元素分析値：Ｃ22Ｈ23ＮＯ9＋０．５Ｈ2Ｏとすると 計算値：Ｃ；５８．１５，Ｈ；５．３２，Ｎ；３．０８
％． 分析値：Ｃ；５８．３６，Ｈ；５．２６，Ｎ；３．０１
％． 試験例（癌細胞増殖阻害作用） マウスリンパ性白血病細胞（ｐ３８８）を１０％仔牛胎
児血清含有のＲＰＭＩ−１６４０培養液に加え、培養細
胞数をＷＯ５×１０4個／１mlに調製し、本発明の新規
２，６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２
Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−
ジオン誘導体（Ｉ）を所定の濃度になるように添加し、
３７℃で２日間培養した。コールターカウンターを用
い、浮遊細胞数を計算して、対照区に対する増殖阻害率
から５０％細胞増殖阻害濃度ＩＣ50を求めた結果を第１
表に示す。
ム）質量スペクトル ｍ／ｅ:445（Ｍ+）． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ppm）：1.58(3H,s,6-CH3),2.1
2,2.15(6H,2s,COCH3×２），2.28(6H,s,N(CH3)2)，２．
６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，Ｈ４），５．１１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，Ｈ５），５．１９（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，４．０Hz，Ｈ３），５．
８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Hz，Ｈ２），６．８９（２
Ｈ，ｓ，ＡｒＨ），７．０４（１Ｈ，ｓ，ＡｒＨ），１
２．４０（１Ｈ，ｓ，ＯＨ）． ＩＲ（ＫＢｒ）：３４６０（ＯＨ），１７４５（Ｃ
Ｏ），１６４０（ＣＯ），１２２０（ＣＯ2），１０４
０（Ｃ−Ｏ−Ｃ−Ｏ−Ｃ）cm-1． 元素分析値：Ｃ22Ｈ23ＮＯ9＋０．５Ｈ2Ｏとすると 計算値：Ｃ；５８．１５，Ｈ；５．３２，Ｎ；３．０８
％． 分析値：Ｃ；５８．３６，Ｈ；５．２６，Ｎ；３．０１
％． 試験例（癌細胞増殖阻害作用） マウスリンパ性白血病細胞（ｐ３８８）を１０％仔牛胎
児血清含有のＲＰＭＩ−１６４０培養液に加え、培養細
胞数をＷＯ５×１０4個／１mlに調製し、本発明の新規
２，６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２
Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−
ジオン誘導体（Ｉ）を所定の濃度になるように添加し、
３７℃で２日間培養した。コールターカウンターを用
い、浮遊細胞数を計算して、対照区に対する増殖阻害率
から５０％細胞増殖阻害濃度ＩＣ50を求めた結果を第１
表に示す。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 で表わされる２，６−エポキシ−３，４，５，６−テト
ラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン
−９，１２−ジオン誘導体（式中、Ｒ1は水素原子また
は水酸基の保護基である。）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292242A JPH06784B2 (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ２，６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292242A JPH06784B2 (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ２，６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62153289A JPS62153289A (ja) | 1987-07-08 |
| JPH06784B2 true JPH06784B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=17779302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60292242A Expired - Lifetime JPH06784B2 (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ２，６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06784B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102787677A (zh) * | 2011-05-20 | 2012-11-21 | 青岛理工大学 | 工程结构抗震烈度预测方法 |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP60292242A patent/JPH06784B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102787677A (zh) * | 2011-05-20 | 2012-11-21 | 青岛理工大学 | 工程结构抗震烈度预测方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62153289A (ja) | 1987-07-08 |
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