JPH0676243A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0676243A JPH0676243A JP23031092A JP23031092A JPH0676243A JP H0676243 A JPH0676243 A JP H0676243A JP 23031092 A JP23031092 A JP 23031092A JP 23031092 A JP23031092 A JP 23031092A JP H0676243 A JPH0676243 A JP H0676243A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- thin film
- film magnetic
- angle
- element forming
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- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 薄膜磁気素子、端子等寸法を小型にせずにヘ
ッドの小型化を実現する薄膜磁気ヘッドを提供する。 【構成】 素子形成面１１とレール部面Ｂ，ヘッド側面
Ｄが交差する角θ1 、θ3 を鋭角または鈍角にする。 【効果】 ヘッド流出端側の素子形成面サイズが大きく
なるため、小型化薄膜磁気ヘッドが容易に得られる。
ッドの小型化を実現する薄膜磁気ヘッドを提供する。 【構成】 素子形成面１１とレール部面Ｂ，ヘッド側面
Ｄが交差する角θ1 、θ3 を鋭角または鈍角にする。 【効果】 ヘッド流出端側の素子形成面サイズが大きく
なるため、小型化薄膜磁気ヘッドが容易に得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク装置に使用
される磁気ヘッドに係り、特に高記録密度化・小型化に
適した薄膜磁気ヘッドに関する。
される磁気ヘッドに係り、特に高記録密度化・小型化に
適した薄膜磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年の電子計算機の外部記憶装置の小型
化・高性能化は著しく、これは薄膜製造技術を適用した
薄膜磁気ヘッドおよび薄膜媒体を用いたことによるとこ
ろが大きい。図３（ａ），（ｂ），（ｃ）は従来の薄膜
磁気ヘッドを例示する概略斜視図およびその製造工程斜
視図である。図３（ａ）に示す薄膜磁気ヘッドはセラミ
ック等の基体１と、ヘッドの流出端面Ａ側に実装され基
体１の表面である素子形成面１１上にあってアルミナ等
の保護膜２中に密閉された薄膜磁気素子３と、保護膜２
上にあり薄膜磁気素子３と電気的に接続されて記録再生
信号の入出力部となる端子４とから構成される。この構
成で薄膜媒体と対向するヘッドのレール部Ｂにより、薄
膜媒体と所定のすきまを保ちながら記録再生が行れる。
薄膜磁気素子３は例えば特開昭５５−８４０１９号公報
に示されるようにコイルと、絶縁層と、磁気層等の積層
体である。上記薄膜磁気ヘッドはその製造工程で図３
（ｂ）に示すように図３（ａ）の薄膜磁気ヘッドの長さ
Ｌにほぼ等しい厚さＬ1 の基体１０上に形成された薄膜
磁気素子３を基板１０ごと直角方向切断して薄膜磁気素
子列のブロック２０として該切断面を研削・ラップ加工
し、図３（ｃ）に示すように該ブロック２０から直角方
向の切断により薄膜磁気ヘッド３０を取り出してヘッド
の外面がそれぞれほぼ直交した薄膜磁気ヘッドが完成す
る。 現状の薄膜磁気ヘッドのサイズは特開平２−２３
９４１３号公報に示されるように、図３（ａ）の高さＨ
≒０．８５ｍｍ，幅Ｗ≒３．２ｍｍ，長さＬ≒４ｍｍが
主流である。このような薄膜磁気ヘッドに実装されてい
る薄膜磁気素子３のサイズは高さｈ≒０．４ｍｍ，幅ｗ
≒０．３ｍｍで、端子４のサイズは長さａ≒０．６ｍ
ｍ，幅ｂ≒０．２ｍｍが一般的である。
化・高性能化は著しく、これは薄膜製造技術を適用した
薄膜磁気ヘッドおよび薄膜媒体を用いたことによるとこ
ろが大きい。図３（ａ），（ｂ），（ｃ）は従来の薄膜
磁気ヘッドを例示する概略斜視図およびその製造工程斜
視図である。図３（ａ）に示す薄膜磁気ヘッドはセラミ
ック等の基体１と、ヘッドの流出端面Ａ側に実装され基
体１の表面である素子形成面１１上にあってアルミナ等
の保護膜２中に密閉された薄膜磁気素子３と、保護膜２
上にあり薄膜磁気素子３と電気的に接続されて記録再生
信号の入出力部となる端子４とから構成される。この構
成で薄膜媒体と対向するヘッドのレール部Ｂにより、薄
膜媒体と所定のすきまを保ちながら記録再生が行れる。
薄膜磁気素子３は例えば特開昭５５−８４０１９号公報
に示されるようにコイルと、絶縁層と、磁気層等の積層
体である。上記薄膜磁気ヘッドはその製造工程で図３
（ｂ）に示すように図３（ａ）の薄膜磁気ヘッドの長さ
Ｌにほぼ等しい厚さＬ1 の基体１０上に形成された薄膜
磁気素子３を基板１０ごと直角方向切断して薄膜磁気素
子列のブロック２０として該切断面を研削・ラップ加工
し、図３（ｃ）に示すように該ブロック２０から直角方
向の切断により薄膜磁気ヘッド３０を取り出してヘッド
の外面がそれぞれほぼ直交した薄膜磁気ヘッドが完成す
る。 現状の薄膜磁気ヘッドのサイズは特開平２−２３
９４１３号公報に示されるように、図３（ａ）の高さＨ
≒０．８５ｍｍ，幅Ｗ≒３．２ｍｍ，長さＬ≒４ｍｍが
主流である。このような薄膜磁気ヘッドに実装されてい
る薄膜磁気素子３のサイズは高さｈ≒０．４ｍｍ，幅ｗ
≒０．３ｍｍで、端子４のサイズは長さａ≒０．６ｍ
ｍ，幅ｂ≒０．２ｍｍが一般的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は薄膜磁
気ヘッドを小形化しようとする場合に、ヘッドの外形寸
法Ｈ，Ｗ，Ｌを小さくするだけでなく、素子形成面１１
の面積も小さくなるため実装される薄膜磁気素子や端子
等の寸法も小さくする必要がある。またヘッドの小形化
にともない、ヘッド・媒体間の距離も小さくなり、ヘッ
ドのレール部Ｂの幅Ｗ0 も小さくする必要があるため、
薄膜磁気素子３の幅ｗも小さくする必要がある。しかし
記録再生特性を満足させるために薄膜磁気素子３はコイ
ルの多巻化が必要であって素子の幅ｗと高さｈを小さく
することが難かしい状況にあり、また端子４のサイズも
外部回路と接続するリード線の径や接続する方法に制約
を受けて小さくすることが難かしいという問題があっ
た。
気ヘッドを小形化しようとする場合に、ヘッドの外形寸
法Ｈ，Ｗ，Ｌを小さくするだけでなく、素子形成面１１
の面積も小さくなるため実装される薄膜磁気素子や端子
等の寸法も小さくする必要がある。またヘッドの小形化
にともない、ヘッド・媒体間の距離も小さくなり、ヘッ
ドのレール部Ｂの幅Ｗ0 も小さくする必要があるため、
薄膜磁気素子３の幅ｗも小さくする必要がある。しかし
記録再生特性を満足させるために薄膜磁気素子３はコイ
ルの多巻化が必要であって素子の幅ｗと高さｈを小さく
することが難かしい状況にあり、また端子４のサイズも
外部回路と接続するリード線の径や接続する方法に制約
を受けて小さくすることが難かしいという問題があっ
た。
【０００４】本発明の目的はヘッド外形寸法の高さＨ，
幅Ｗ，長さＬが小さくなる比率よりヘッド流出端面Ａ側
の素子形成面１１の面積の減少する比率をおさえること
により、薄膜磁気素子および端子の実装をより可能にし
て小形化・高性能化した薄膜磁気ヘッドを提供すること
にある。
幅Ｗ，長さＬが小さくなる比率よりヘッド流出端面Ａ側
の素子形成面１１の面積の減少する比率をおさえること
により、薄膜磁気素子および端子の実装をより可能にし
て小形化・高性能化した薄膜磁気ヘッドを提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄膜磁気ヘッドは基体上に薄膜磁気素子お
よび端子が形成されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基
体の素子形成面とヘッドのレール部面か背面が交差する
角と、基体の素子形成面とヘッドの側面が交差する角と
のうち、少なくとも一方の角度を鋭角または鈍角とする
ことにより達成される。
に、本発明の薄膜磁気ヘッドは基体上に薄膜磁気素子お
よび端子が形成されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基
体の素子形成面とヘッドのレール部面か背面が交差する
角と、基体の素子形成面とヘッドの側面が交差する角と
のうち、少なくとも一方の角度を鋭角または鈍角とする
ことにより達成される。
【０００６】
【作用】上記薄膜磁気ヘッドは基体の素子形成面とヘッ
ドのレール部面が交差する角と、基体の素子形成面とヘ
ッドの側面が交差する角とのうち、少なくとも一方の角
度を従来の直角から鋭角または鈍角とすることにより、
ヘッドの側面とヘッドの平面とのうち少なくとも一方の
形状を従来の長方形からひし形にして、素子形成面の寸
法を従来より大きくできるので、薄膜磁気素子および端
子の実装をより可能にしてヘッドの小形化・高性能化が
実現できる。
ドのレール部面が交差する角と、基体の素子形成面とヘ
ッドの側面が交差する角とのうち、少なくとも一方の角
度を従来の直角から鋭角または鈍角とすることにより、
ヘッドの側面とヘッドの平面とのうち少なくとも一方の
形状を従来の長方形からひし形にして、素子形成面の寸
法を従来より大きくできるので、薄膜磁気素子および端
子の実装をより可能にしてヘッドの小形化・高性能化が
実現できる。
【０００７】
【実施例】以下に本発明の一実施例を図１（ａ），
（ｂ），（ｃ）および図２により説明する。図１
（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明による薄膜磁気ヘッド
の一実施例を示す概略斜視図およびその側面図、平面図
である。図１（ａ）において、本薄膜磁気ヘッドは基体
１と、ヘッドの流出端面Ａ側に実装され基体１の表面の
素子形成面１１上にあって保護膜２中に密閉された薄膜
磁気素子３と、保護膜２の表面上にあり薄膜磁気素子３
と電気的に接続されて記録再生信号の入出力部となる端
子４とから成る。本薄膜磁気ヘッドにおいて、基体１の
素子形成面１１とヘッドのレール部面Ｂが交差する角θ
1 と、基体１の素子形成面１１とヘッドの側面Ｄが交差
する角θ3 とが、いずれも鈍角θ1 ，θ3 ＞９０°とな
る形状を有している。このため図１（ｂ），（ｃ）に示
すようにヘッドの側面、平面を従来の一部破線で示す長
方形（矩形）から実線で示すひし形の形状にすることに
より、素子形成面１１の寸法を従来のＨ×ＷからＨ′×
Ｗ′に大きくすることができるので、図１（ａ）のヘッ
ドの薄膜磁気素子３および端子４の寸法を従来より小さ
くすることなしに従来より小形化したヘッドに同素子３
および端子４等の実装が可能となる。
（ｂ），（ｃ）および図２により説明する。図１
（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明による薄膜磁気ヘッド
の一実施例を示す概略斜視図およびその側面図、平面図
である。図１（ａ）において、本薄膜磁気ヘッドは基体
１と、ヘッドの流出端面Ａ側に実装され基体１の表面の
素子形成面１１上にあって保護膜２中に密閉された薄膜
磁気素子３と、保護膜２の表面上にあり薄膜磁気素子３
と電気的に接続されて記録再生信号の入出力部となる端
子４とから成る。本薄膜磁気ヘッドにおいて、基体１の
素子形成面１１とヘッドのレール部面Ｂが交差する角θ
1 と、基体１の素子形成面１１とヘッドの側面Ｄが交差
する角θ3 とが、いずれも鈍角θ1 ，θ3 ＞９０°とな
る形状を有している。このため図１（ｂ），（ｃ）に示
すようにヘッドの側面、平面を従来の一部破線で示す長
方形（矩形）から実線で示すひし形の形状にすることに
より、素子形成面１１の寸法を従来のＨ×ＷからＨ′×
Ｗ′に大きくすることができるので、図１（ａ）のヘッ
ドの薄膜磁気素子３および端子４の寸法を従来より小さ
くすることなしに従来より小形化したヘッドに同素子３
および端子４等の実装が可能となる。
【０００８】上記薄膜磁気ヘッドは図３（ｂ），（ｃ）
の従来例のヘッドの製造工程図を参照して、基板１０上
に形成された薄膜磁気素子３を素子形成面である基板面
に対し今度は鈍角θ1 方向に斜めに切断して薄膜磁気素
子列のブロックを作り、さらに素子形成面である基板面
に対し鈍角θ3 方向に斜めに切断してヘッドを取り出す
ことにより完成させることができる。通常は基板１０の
厚さＬ1 が基板内で同一寸法であり、またヘッドの高さ
Ｈおよび幅Ｗも長さＬ方向でほぼ同一であるので、図１
（ａ）のヘッドの素子形成面１１とヘッドの背面Ｃが交
差する角θ2 、ヘッドの素子形成面１１とヘッドの他の
側面が交差する角θ4 、ヘッドの流入端面１２とヘッド
の背面Ｃが交差する角θ′1 、ヘッドの流入端面１２と
ヘッドのレール部面Ｂが交差する角θ′2 、ヘッドの流
入端面１２とヘッドの他の側面が交差する角θ′3 、ヘ
ッドの流入端面１２とヘッドの側面Ｄが交差する角θ′
4は、θ1 ≒θ′1 ，θ2 ≒θ′2 ，θ1 ＋θ2 ≒１８
０°，θ3 ≒θ′3 ，θ4≒θ′4 ，θ3 ＋θ4 ≒１８
０°となる。
の従来例のヘッドの製造工程図を参照して、基板１０上
に形成された薄膜磁気素子３を素子形成面である基板面
に対し今度は鈍角θ1 方向に斜めに切断して薄膜磁気素
子列のブロックを作り、さらに素子形成面である基板面
に対し鈍角θ3 方向に斜めに切断してヘッドを取り出す
ことにより完成させることができる。通常は基板１０の
厚さＬ1 が基板内で同一寸法であり、またヘッドの高さ
Ｈおよび幅Ｗも長さＬ方向でほぼ同一であるので、図１
（ａ）のヘッドの素子形成面１１とヘッドの背面Ｃが交
差する角θ2 、ヘッドの素子形成面１１とヘッドの他の
側面が交差する角θ4 、ヘッドの流入端面１２とヘッド
の背面Ｃが交差する角θ′1 、ヘッドの流入端面１２と
ヘッドのレール部面Ｂが交差する角θ′2 、ヘッドの流
入端面１２とヘッドの他の側面が交差する角θ′3 、ヘ
ッドの流入端面１２とヘッドの側面Ｄが交差する角θ′
4は、θ1 ≒θ′1 ，θ2 ≒θ′2 ，θ1 ＋θ2 ≒１８
０°，θ3 ≒θ′3 ，θ4≒θ′4 ，θ3 ＋θ4 ≒１８
０°となる。
【０００９】図２は本実施例の薄膜磁気ヘッドの例えば
θ1 ，θ3 を１３５°とした場合の素子形成面１１の寸
法を従来例と比較して表で示す図である。図２におい
て、図３（ａ）の従来例でヘッドの高さＨ＝０．８５ｍ
ｍ，幅Ｗ＝３．２ｍｍ，θ1 ＝θ3 ＝９０°の場合に素
子形成面１１のサイズＨ×Ｗ＝０．８５ｍｍ×３．２ｍ
ｍになるのに対比して、本実施例でヘッドの高さＨ＝
０．６ｍｍ，幅Ｗ＝２．３ｍｍ，θ1 ＝θ3 ＝１３５°
と従来例より小形にしても、図３（ｂ），（ｃ）を参照
して素子形成面１１のサイズＨ′×Ｗ′＝（Ｈ÷ｓｉｎ
θ1 ）×（Ｗ÷ｓｉｎθ3 ）＝（０．６ｍｍ÷ｓｉｎ１
３５°）×（２．３ｍｍ÷ｓｉｎ１３５°）≒０．８５
ｍｍ×３．３ｍｍとなり、従来例とほぼ同じであって従
来例より小形化・高性能化したヘッドに薄膜磁気素子３
および端子４等の実装が可能となる。なおヘッドのレー
ル部面Ｂの幅もヘッドの幅ＷとＷ′の関係と同様にな
る。なお上記実施例はθ1 ，θ3 が鈍角（＞９０°）の
場合を説明したが、一般にはθ1，θ3 のうち少なくと
も一方の角度を鋭角（＜９０°）としてもよく相当の効
果がえられる。
θ1 ，θ3 を１３５°とした場合の素子形成面１１の寸
法を従来例と比較して表で示す図である。図２におい
て、図３（ａ）の従来例でヘッドの高さＨ＝０．８５ｍ
ｍ，幅Ｗ＝３．２ｍｍ，θ1 ＝θ3 ＝９０°の場合に素
子形成面１１のサイズＨ×Ｗ＝０．８５ｍｍ×３．２ｍ
ｍになるのに対比して、本実施例でヘッドの高さＨ＝
０．６ｍｍ，幅Ｗ＝２．３ｍｍ，θ1 ＝θ3 ＝１３５°
と従来例より小形にしても、図３（ｂ），（ｃ）を参照
して素子形成面１１のサイズＨ′×Ｗ′＝（Ｈ÷ｓｉｎ
θ1 ）×（Ｗ÷ｓｉｎθ3 ）＝（０．６ｍｍ÷ｓｉｎ１
３５°）×（２．３ｍｍ÷ｓｉｎ１３５°）≒０．８５
ｍｍ×３．３ｍｍとなり、従来例とほぼ同じであって従
来例より小形化・高性能化したヘッドに薄膜磁気素子３
および端子４等の実装が可能となる。なおヘッドのレー
ル部面Ｂの幅もヘッドの幅ＷとＷ′の関係と同様にな
る。なお上記実施例はθ1 ，θ3 が鈍角（＞９０°）の
場合を説明したが、一般にはθ1，θ3 のうち少なくと
も一方の角度を鋭角（＜９０°）としてもよく相当の効
果がえられる。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、薄
膜磁気ヘッドの基体の素子形成面とヘッドのレール部面
が交差する角と、基体の素子形成面とヘッドの側面が交
差する角のうち、少なくとも一方の角度を鋭角または鈍
角とすることにより、ヘッドの流出端面側の素子実装面
積を小さくすることなくヘッドの小形化・高性能化が可
能となる効果がある。
膜磁気ヘッドの基体の素子形成面とヘッドのレール部面
が交差する角と、基体の素子形成面とヘッドの側面が交
差する角のうち、少なくとも一方の角度を鋭角または鈍
角とすることにより、ヘッドの流出端面側の素子実装面
積を小さくすることなくヘッドの小形化・高性能化が可
能となる効果がある。
【図１】図１（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の一実施
例を示す斜視、側面、平面図
例を示す斜視、側面、平面図
【図２】図２は本実施例と従来例の寸法比較表図
【図３】図３（ａ），（ｂ），（ｃ）は従来例を示す斜
視、工程図
視、工程図
１…基体、２…保護膜、３…薄膜磁気素子、４…端子、
１１…素子形成面、１２…流入端面、Ａ…流出端面、Ｂ
…レール部面、Ｃ…ヘッド背面、Ｄ…ヘッド側面、θ1
…素子形成面とレール部面が交差する角、θ3 …素子形
成面と側面が交差する角
１１…素子形成面、１２…流入端面、Ａ…流出端面、Ｂ
…レール部面、Ｃ…ヘッド背面、Ｄ…ヘッド側面、θ1
…素子形成面とレール部面が交差する角、θ3 …素子形
成面と側面が交差する角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 櫛田 伸昌 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原工場内 (72)発明者 今中 律 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 基体上に薄膜磁気素子と、端子とが形成
されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基体の素子形成面
とヘッドのレール部面が交差する角と、基体の素子形成
面とヘッドの側面が交差する角とのうち、少なくとも一
方の角度を鋭角または鈍角としたことを特徴とする薄膜
磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23031092A JPH0676243A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23031092A JPH0676243A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0676243A true JPH0676243A (ja) | 1994-03-18 |
Family
ID=16905834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23031092A Pending JPH0676243A (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676243A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1064014A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-06 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド装置 |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP23031092A patent/JPH0676243A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1064014A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-06 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド装置 |
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