JPH067414A

JPH067414A - 改良された過酸化物消毒方法及びそのための装置

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Publication number: JPH067414A
Application number: JP5080063A
Authority: JP
Inventors: Paul C Nicolson; シー．ニコルソンポール; Kenneth R Seamons; アール．シーモンケネース; Fu-Pao Tsao; ツァオフーパオ; Larry A Alvord; エー．アルボードラリー; Jr Earl C Mccraw; シー．マックロージュニアーアール
Original assignee: Ciba Geigy AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1992-03-13
Filing date: 1993-03-15
Publication date: 1994-01-18
Also published as: EP0560728A1; TW212832B; CA2091531A1; AU3407493A; MX9301339A

Abstract

(57)【要約】【目的】コンタクトレンズを、過酸化水素溶液に、従
来与えられているよりもより高い濃度に、より長い時間
曝すことを許容する消毒方法及び装置の提供。【構成】コンタクトレンズを、過酸化水素溶液及び過
酸化水素の分解手段（白金黒触媒）と接触させる。該分
解手段は、該分解手段が過酸化水素と接触する時から少
なくとも２０％過酸化物・分の１２時間を超えない期間
に渡る累積（％過酸化物）・（分）曝露を、コンタクト
レンズに許容する。消毒装置は、例えば、図１７に示さ
れるような二重触媒調節装置が使用される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、過酸化水素消毒方法及
び装置に関する。本発明は特にコンタクトレンズ、より
特別にはソフトコンタクトレンズのＨ₂Ｏ₂消毒に特に
適用される方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】表面の過酸化物消毒の分野において、残
存過酸化物は消毒表面と接触させる他の物質の感受性が
故に消毒表面から除かねばならない。このことは、特に
消毒されたレンズが目の上に直接置かれるコンタクトレ
ンズの消毒面においてそうである。過去において、この
ことは大量の水又は食塩水で希釈するような方法乃至溶
液及び／又は消毒した物質を残存する過酸化水素を許容
しうるレベルまで減少するのに十分な時間過酸化水素分
解剤又は触媒に曝す方法により達成されている。不幸に
も、多くの設定において、特にコンタクトレンズの分野
において、希釈は商業的に実行し得るか又は使用者が行
い得るものではない。更に、分解剤又は触媒が使用され
る場合、手順は数多くの工程を包含しそして使用者を巻
き込む必要性の程度において煩わしいものである。手順
の複雑性が増加するにつれて、その手順に厳密に従うこ
とが急激に低下する。それ故、使用者により親切な単一
工程法が試みられている。ＡＯＳｅｐｔシステムは最
近の使用に於いて最も著名であり本発明と関連する。こ
のシステムは消毒されるべきコンタクトレンズを過酸化
物溶液及び白金デイスクと接触しておくことにより操作
され、それにより過酸化物消毒と分解を本質的に同時に
起こさせる。使用者の入力は単にシステム中に構成要素
を置きそしてレンズを除く前に適当な時間間隔だけ待つ
ことである。不幸にも、何回も使用者は十分に手順に従
わないので、完全な消毒が行われないか又は分解が十分
に起こらないという危険がある。過酸化水素が消毒のた
めのコンタクトレンズの導入と同時に接触する典型的な
過酸化水素システムにおいては、過酸化水素は急激に減
少しそして高濃度における消毒は短い。例えば、ＡＯＳ
ｅｐｔシステムにおいては過酸化水素の初期濃度は３％
であり、過酸化水素の濃度は約１２．５分で約０．１％
まで急激に低下する。この点の後は、濃度は非常にゆっ
くりと減少し、そして過酸化水素が目に対して十分に安
全乃至許容し得るレベルまで減少し、それによりコンタ
クトレンズがあまり刺激乃至傷を着けることなしで目に
挿入することができるまでには、数時間、即ち８時間乃
至それ以上の時間がかかる。しかしながら、或る場合に
おいては、過酸化水素の濃度がより長い転移期間に渡っ
て高いように過酸化水素の触媒反応を調節すること、及
び理想てきには過酸化水素濃度をより長い期間に渡って
高いレベルに維持し、次いで目に許容し得るレベルにま
で急激に低下できるように系を調節することが望まし
い。このより長い転移時間は消毒すべき物質がひどく汚
れている場合に特に重要である。それ故、過酸化水素の
分解速度を調節することを可能ならしめる改良された過
酸化水素消毒系が必要である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、現在
入手しうるものよりも改善された過酸化水素消毒手順を
提供することにある。本発明の他の目的は、過酸化水素
を使用した、簡単な単一ステップ消毒法を提供すること
にある。更に本発明の他の目的は、従前の過酸化水素ー
触媒系よりもより高いＨ₂Ｏ₂濃度におけるＨ₂Ｏ₂溶
液中に、消毒すべき物質を、より長い転移時間許容する
調節された方法で触媒反応を行う方法を提供することに
ある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、過酸化水素に
安定な物質を、過酸化水素含有溶液及び通常の過酸化物
消毒系によつて従来与えられているよりも高い濃度によ
り長く曝すことを許容するために適用される過酸化水素
分解手段と、接触することにより過酸化水素に安定な物
質を消毒する方法に関する。このことは、消毒すべき物
質をして、分解手段が過酸化水素含有溶液と接触する時
から、少なくとも２０％過酸化物・分が１２時間を超え
ない期間に渡る累積（％過酸化物）・（分）曝露をさせ
るよう許容する過酸化水素分解手段を使用することによ
り達成される。また、前記方法が達成される装置及び要
素が開示される。

【０００５】本出願において述べる累積曝露は、触媒の
ような組成手段が過酸化物含有溶液と接触した時、即ち
時間ゼロから、少なくとも２０％過酸化物・分の１２時
間より大きくない期間に渡る曝露である。この累積曝露
は、過酸化水素系における過酸化水素の分解速度を決定
する便利な数学的手段である。これは、図１及び図２に
示すように時間に対する過酸化水素のパーセンテージを
プロットし、種々の時間間隔における曲線下の面積を決
定し、そして時間に対する累積面積をプロットすること
により得られる。

【０００６】図１においては、白金触媒が３％過酸化水
素溶液と接触される典型的な従来のＡＯＳｅｐｔ系に
ついて描かれており、分解速度がグラフにプロットされ
ている。その場合、Ｈ₂Ｏ₂の濃度は１２．５分で約
０．１％に急速に低下することに注意すべきである。し
かしながら、図２は過酸化水素の分解速度が、過酸化水
素の濃度が時間に渡ってよりゆっくりと低下するように
調節された過酸化水素系の典型的な分解プロフィルを示
す。累積面積を決定するために、例えば第１及び２図の
曲線下の面積が、種々の時間間隔において、％過酸化物
・分による累積面積又は面積の合計を決定するために積
分乃至計算される。これらの面積は、過酸化水素が時間
と共に分解する速度を決定するために、順次時間に対し
てプロットされる。かくして、時間に対する累積曝露の
グラフは、何らかの与えられた時間における系の消毒能
力を数学的に表す正確な方法である。先に指摘したよう
に、過酸化水素の比較的高い濃度が、より長い転移時間
に渡って残存するように分解速度を調節することは望ま
しい。図１において見られるように、０から或る正の時
間間隔、例えば５分までの曲線下の面積は図２の０から
５分までの曲線下の面積より小さい。かくして、累積面
積が大きければ大きい程過酸化水素の分解速度は小さ
い。これに関連して、累積面積は％（過酸化物）（分）
により表現される。何故ならば、曲線の縦座標はパーセ
ンテージ及び分の横座標において表されるからである。
それ故、面積の計算された値は％過酸化物・分により表
される。本発明に従えば、累積面積又は累積曝露は、図
１及び図２のようなグラフから計算され、次いでそれを
種々の時間間隔における累積曝露を決定するために時間
に対してプロットされる。そのような典型的なグラフは
図面の図３に示される。該図面には触媒速度（Ｈ₂Ｏ₂
の分解）の効果が描かれている。

【０００７】第３図によると、その底部に固定された白
金触媒を有する従来のＡＯＳｅｐｔ系（該系は本発明
のように累積曝露を調節するために変性されていな
い。）は累積曝露が約１０であるグラフの線１により表
される比較的真直な線である。グラフの右手側は、初期
酸素遊離速度が記載されている。通常のＡＯＳｅｐｔ
系では、約４０ｍｌ／ｍｉｎの酸素の高い遊離速度が最
初に生じることが見られる。過酸化水素は触媒の手段に
より分解して水及び発生酸素を生じるので、酸素遊離速
度は、勿論、過酸化水素の分解速度を決定する手段であ
る。酸素遊離速度は、それ故、分解速度及び消毒される
べき物質の累積曝露を決定する手段である。更に、この
グラフからは、累積曝露が約２０％以上に上昇すると、
消毒されるべきコンタクトレンズ等の累積曝露を調節す
るために採用される手段により、酸素の発生が約１５ｍ
ｌ／ｍｉｎから約１．０ｍｌ／ｍｉｎの間にまで非常に
低下することが分かる。この特別のグラフは、如何に累
積曝露が系のＨ₂Ｏ₂の分解速度に関係するかを説明す
るために選ばれたものである。

【０００８】消毒されるべき物質が、１２時間より大き
くない期間に渡る、少なくとも２０％・分の累積曝露を
有するように、過酸化系の消毒能力を調節する種々の実
際的な手段がある。そのような具体的手段を議論する前
に、過酸化水素の触媒的分解に通じる主に考慮すべき一
般的な問題を議論する。一般に、過酸化水素の触媒的分
解において、考慮されるべき５つの重要な段階がある。
これらの段階は広く次のように述べることができる。（１）触媒と過酸化水素の間の連続的接触を確実にする
ため触媒にＨ₂Ｏ₂を移送する。（２）触媒表面に対する過酸化水素の吸着（３）過酸化水素が水及び発生酸素に分解される中和乃
至触媒作用（４）活性位置を再び露出するように、反応生成物、即
ち水及び発生酸素、又は他の汚染物の表面からの脱着（５）反応生成物の表面から離れる移動

【０００９】過酸化水素溶液中で消毒されるべき物質の
累積曝露を調節するように、上記したような触媒的分解
をおこなう要素を考慮して、過酸化水素の分解速度を調
節する種々の具体的手段がある。そのような手段の一つ
は、触媒を販売し、使用者により最初の使用させる前に
触媒を予め被毒させることである。典型的な過酸化水素
の触媒的分解においては、触媒の活性位置は、本来反応
生成物等による表面の吸着又は汚染により、一定期間に
渡って種々の程度にまで脱活性化される。そのような脱
活性化は、次第に過酸化水素の分解速度を落とし、それ
により曲線下の累積面積又は累積曝露を上記したように
増加させる。

【００１０】触媒的分解速度を調節するために、本発明
によれば白金のような触媒が、触媒ー過酸化水素分解装
置の使用者に対して販売する前に、累積曝露が最初から
調節されるように、活性位置を部分的に脱活性化すべ
く、例えば、水素分解触媒反応に曝すことにより予備被
毒される。触媒が十分に予備被毒されているか否かを決
定するために、系から酸素の発生を測定することができ
る。既に述べたように、触媒として白金触媒を使用する
典型的なＡＯＳｅｐｔ系においては、初期の酸素の発
生は４０ｍｌ／ｍｉｎ．である。図３の図面の右端を参
照。累積曝露が２０％・分以上になるように触媒を十分
に予備被毒するため、反応の間に遊離する酸素が、酸素
遊離速度が１５ｍｌ／ｍｉｎ．になる位まで、好ましく
はグラフにおいて示される最小２０％ミニマム曝露と相
関する約２及び５ｍｌ／ｍｉｎ．の間になるまで、時々
測定される。

【００１１】累積曝露を調節する他の手段に於いては、
触媒１を、系からの酸素の離脱を約２〜１５そして好ま
しくは２〜３ｍｌ／ｍｉｎ．になるまで調節するため、
チューブ内に開口１２を有するチューブのような容器に
部分的に封入される。既に述べたように、この装置は、
酸素を約２〜１５そして好ましくは２〜３ｍｌ／ｍｉ
ｎ．の量まで漏洩すべく口径を測定された小さなオリフ
ィス１２を頂部乃至底部に有する簡単なチューブ１０で
あつてよい。そのような装置は図４に示されている。該
装置はチューブ１０の側部が酸素ガスの離脱を許容する
極小さい孔を有するように更に改変することができる。
チューブはそこに描かれているようなものであるが、触
媒から酸素の離脱を調節すべく寸法規制されている限り
如何なる形状の容器も使用することができる。

【００１２】過酸化水素の分解及び前記した曲線下の累
積面積を調節する他の都合のよい手段は、１９８９年１
２月２８日出願の米国特許出願０７／４５８，１２３号
に記載されているような浮力伝達調節触媒反応を通して
のものである。この浮力伝達調節系は、次に詳細に述べ
る。

【００１３】使用される触媒は、また分解速度を調節す
る重要な要素である。種々の触媒の活性は、単位表面当
り高い分解速度を示すＰｔのような触媒と、多くのＨ₂
Ｏ₂消毒系に対して実際には低過ぎるかもしれない分解
速度を有するＡｕまで非常に相違している。種々の触媒
系に対する単位表面積当りのＨ₂Ｏ₂の分解の順序は次
の通りである。Ｐｔ＞Ｏｓ＞Ｉｎ＞Ｐｄ＞Ｒｕ＞Ｒｈ＞Ａｕ上述した手段のいずれかについて固有の触媒の選択はそ
れ故重要な要素である。通常使用されるものの中で、そ
のような触媒のいずれもＨ₂Ｏ₂の分解に使用し得るも
のであるが、白金のような高い分解速度を有する触媒を
使用して、上記した操作の一つに従って反応速度を落と
すため変性することが好ましい。Ｈ₂Ｏ₂の分解速度及
び累積曝露を調節する特別な操作として、本発明の浮力
伝達触媒調節態様が本発明の特徴を例示する手段として
詳細に述べられる。

【００１４】高濃度に於いて曝露時間を増加するための
浮力伝達調節系そのような浮力伝達調節系によれば、触媒反応は、
（ａ）触媒粒子を液相の表面にまで上昇するのに十分な
浮力を与えるガス（酸素）を発生するＨ₂Ｏ₂液中で行
われるか又は（ｂ）反応生成物溶液が反応溶液より十分
に相違する密度で、そして反応溶液と実質的に非相溶性
である液中で行われ、そして触媒粒子が、少なくともそ
の一部が反応溶液部分と接触して残る傾向がある適当な
密度であり、そして反応溶液／反応生成物溶液の界面に
おいて又は界面近くにあるような十分な浮力のものであ
る。本発明は第１には最初の反応（ａ）に関係する。浮
力調節触媒反応は二つの主要な反応のタイプに入る。第
１はガスを発生する反応である。ガスの気泡は触媒粒子
の表面に付着し、浮力粒子を作る。浮力粒子は、ガス気
泡が液体反応媒体上のガス相にまで脱出する場合、表面
に上昇する。ガス気泡を失うと、触媒は浮力を失い、そ
してそれは再び反応成分を含む液と接触するまで沈降し
始め、その結果更に浮力ガス気泡が発生する。この上下
動作用は、それゆえ、反応成分溶液及び反応生成物溶液
の最上部層に限定され、十分な時間実質的に妨害されな
い反応成分溶液の低部部分を残す。

【００１５】特別な反応が起こりがちな速度により、触
媒の浮力は触媒の量を変える特別な密度の担体又は基体
粒子を被覆することにより変えることができる。より低
い密度の粒子は、上部反応溶液部分及び反応生成物溶液
部分により閉じ込められるであろうから、反応時間はよ
り延びるであろう。同様に、粒子表面に於ける触媒の量
がより多くなると、より多くの粒子が最上部反応成分溶
液及び反応生成物溶液中に見出されるであろう。粒子形
状もまた反応速度の調節に一部役割を果たす。球状の粒
子は他の形状のものよりも、そのガス気泡浮きを失いが
ちであが、球状の粒子は他の粒子形状のものよりも液体
溶液を通してより容易に動くことができる。最後に、粒
子寸法は、粒子重量対粒子表面積に於ける変化と関連し
て反応速度の調節に重要である。より大きい重量は、よ
り大きいガス気泡からの浮力を必要とする。もし表面積
が少なくとも急激に増加しないのであれば、粒子は反応
溶液域により長い時間存在し、そしてそれによりそうで
ない場合より反応を速めるであろう。これと釣り合っ
て、触媒の表面積が大きくなる程反応は速くなり、消毒
されるべき物品の消毒液中での存在時間が短くなるとい
う事実がある。

【００１６】浮力調節触媒反応の第２のタイプは、触媒
粒子が、その密度により、反応成分溶液／反応生成物溶
液の界面において又は界面近くに存在し、そして触媒粒
子の少なくともその一部が反応溶液部分と接触して残存
する傾向があるものである。もし反応生成物が反応成分
溶液より密度が低ければ、反応は実質的に頂部から底部
に向かつて進行し、そして触媒粒子は反応溶液よりも若
干低い密度に設計される（即ち、反応生成物及び反応成
分溶液の密度の間）。もし反応生成物溶液が反応成分溶
液より密度が高ければ、反応は底部から頂部に向かって
進行し、そして触媒粒子は反応成分溶液より若干高い密
度に設計される。いずれの場合も、反応が継続して進行
するためには、触媒粒子は反応成分溶液と接触するため
戻らねばならない。もし反応生成物が、反応生成物溶液
に向かって触媒を動かすのに十分な時間触媒に付着して
いるならば、上記のいずれの場合も、触媒粒子はまた反
応成分溶液と同様な密度になるであろう。

【００１７】第１のタイプの典型的な触媒反応は、過酸
化水素とパーオキシダーゼ、キャタラーゼ又は白金、パ
ラジュウム等の遷移金属とに限定されず、酸化鉄、酸化
マンガン、酸化チタン触媒粒子のような化合物を含む。
実際、そのような触媒系は本発明によつて意図される分
解手段の全てに使用される。典型的な触媒粒子は、耐火
物、プラスチック、繊維等適当な形態を持った粒子か
ら、該粒子を白金、キャタラーゼ等のような触媒で被覆
乃至含浸することにより製造することができる。適当な
粒子形態は、限定されるものではないが、円盤、板、
球、星、ドーナツ状、ウエファー、チューブ、棒及び片
である。本質的に如何なる粒子形状も満足なものであ
る。球形のための適当な粒子径は約０．５ｍｍから約５
ｃｍ、好ましくは約１ｍｍから約２ｃｍ、より好ましく
は約３ｍｍから約１ｃｍ、最もこのましくは約４ｍｍか
ら約８ｍｍの直径を持った粒子である。他の形状を限定
する適当な寸法は、当業者にとつて容易に予測できるで
あろう。粒子径と表面積を望む比率にバランスさせるた
め、同等の重量及び表面積の１個の粒子の代わりに、複
数のより小さい寸法の粒子、例えば、各々１ｍｍの直径
の粒子３個を使用しても良い。

【００１８】浮力伝達調節系の第２の態様は、触媒粒子
が反応成分溶液／反応生成物溶液界面からあまり離れな
いことであり、そして粒子の移動の考慮はあまり重要で
はない。それゆえ、触媒の形状についてはより柔軟性が
あり、粒子の適当な密度により関係する。上下動（ｂｏ
ｂｂｉｎｇａｃｔｉｏｎ）があつても、少ないことが
期待されるが、そのような動きは除外されない。実際
に、触媒反応によつて、発生した反応生成物はある程度
触媒に付着し、ある程度正乃至負の浮力効果があるであ
ろう（生成物溶液が反応溶液より、より低い密度である
か又はより高い密度であるかに依存する。）。これらの
事柄を除けば、第１の態様に使用される触媒粒子は同様
に本発明の第２の態様の使用に適当である。ここで意図
するガス生成反応は過酸化水素の水及び酸素ガスへの消
失を示す。そのような、ガス発生反応では、適当な粒子
形態は、星状、板、円盤、ウエーファー、球、棒、片及
びドーナツ状、より好ましくは球、ドーナツ状、棒、
板、円盤及びウエーファー、最も好ましくは、板、円
盤、ウエーファー及び球である。触媒粒子の特別の密度
は、該粒子がいかに速くそして遠くまで反応成分溶液相
に戻って侵入できるかに依存する。与えられた形態に対
して、密度が大きくなれば、反応成分溶液相から粒子を
上げるのに十分な浮力を発生するのにより長くかかり
（ガス発生系で、反応生成物が反応成分より密度が低い
系）、表面積が重量に関して増加しても、より少ない時
間、粒子は反応成分溶液中に残るであろう。

【００１９】本発明の過酸化水素／酸素ガス系に対する
好ましいパラメーターは、触媒粒子の密度は約１．０５
から約１．３０、好ましくは約１．１０から約１．２
０、最も好ましくは約１．１２から約１．１８；粒子の
表面積は約０．００８から約７５ｃｍ²、好ましくは約
０．０３から約１３ｃｍ²、より好ましくは約０．２か
ら約５ｃｍ²、最も好ましくは約０．３から約３．２ｃ
ｍ²；そして粒子の表面積／重量比は約０．８５から約
１１６、好ましくは約１．１５から約５４．５、最も好
ましくは約２．９５から約１１．３である。

【００２０】表面は平滑から粗のいずれでもよい。但し
粗面は同じ寸法で同じ形態の平滑な粒子よりはより大き
い効果的な表面積を提供する。粗の形態は又より大きい
“揚力”付着性を許容するであろう。

【００２１】過酸化水素／酸素ガス系は、％過酸化物
（レンズの近傍に於ける）対時間下の全面積が、少なく
とも２０％・分、好ましくは４０％・分以上、より好ま
しくは５０％・分以上、さらに好ましくは約７５％・分
以上、さらにより好ましくは約１００％・分より以上、
最も好ましくは１２０％・分以上、理想的には１４０％
・分以上であるような分解プロフィルを有する。これ
は、最近商業的に入手しうるＡＯＳｅｐｔカップ、
約３％過酸化水素を使用し、レンズをカップの底にレン
ズの端を立てて置いて、指示された線までカップを満た
し、レンズの近傍の過酸化物をサンプリングした場合で
ある。分解プロフィールに適合するこの試験に使用され
る試料カップは図５に示される。

【００２２】過酸化物％対時間曲線下の累積面積は図６
に三つの例が示される。これらの例について説明する。
更に、過酸化水素／酸素ガス系において、残留過酸化物
含量は、約８時間以内、好ましくは約６時間以内、より
好ましくは４時間以内、更により好ましくは２時間以
内、最も好ましくは９０分以内に、このましくは目に許
容しうるレベルになるべきである。更に、過酸化物含量
は、サンプル点において、約３％の過酸化水素溶液の分
解が開始した後、少なくとも１５分、好ましくは少なく
とも２０分、より好ましくは少なくとも３０分間、消毒
的有効濃度（即ち１％かそれ以上）か、それより過剰で
あるべきである。より大きい過酸化物濃度で出発したと
き、この時間間隔は、時間過酸化物濃度の％時間値が、
最初の１５分の分解で３５、好ましくは４０以上、最初
の２０分の分解で４０好ましくは５０より好ましくは５
５以上、最初の３０分の分解で４５好ましくは５０より
好ましくは６０最も好ましくは８０以上という条件のも
とに、短縮することができる。

【００２２】上記した浮力伝達調節系の態様において、
同様の考察が、反応成分溶液が反応生成物溶液より密度
が高いか、又は低いかについて適当に考慮して適用され
る。

【００２３】触媒のための担体又は基材は過酸化水素、
使用される触媒及び酸素の化学活性に対して抵抗性があ
るものであれば如何なる物質でもよい。基材として最も
このましいものは合成プラスチックである。これらのう
ち、選択される材料はポリカーボネート、特にアクリレ
ートーブタジエンースチレンと混合したポリカーボネー
トである。基材は、押出、成形、切断、チッピング、ミ
リング、レーシング、及び／又は粉砕を含む良く知られ
た技術によりその望む寸法及び形状に調製され、触媒が
その方法で破壊されない限り、噴霧、浸漬、流動床技
術、蒸気相析出又は他の適当な知られている被覆手段
で、触媒で被覆される。

【００２３】本発明は、触媒反応の浮力伝達調節手段に
より、消毒されるコンタクトレンズの累積曝露を調節す
る一手段を説明する次の実施例に関連してより完全に理
解されるであろう。

【００２４】

【実施例】試験操作は次のとおりである。市販のＡＯ
Ｓｅｐｔカップを予めマークした線まで約３．３％過酸
化水素（約９ｍｌｓ）で満たす。過酸化物決定のため、
系は蓋又は栓を挿入することなしに開放されたままであ
る。５０ｕｌの試料が採取され分析される。本発明で使
用する触媒粒子は容器内に置かれる。更に５０ｕｌの試
料がカップの底（容器の上表面から約２２ｍｍ）から特
定の時間に取り出される。使用される典型的なカップは
図５に示される。

【００２４】実施例１６ｍｍの直径（予備被覆寸法）のＰｔ被覆ボール（アク
リレトーブタジエンースチレンと混合したポリカーボネ
ート，予備被覆密度は１．１１ｇ／ｍｌ）６個を、ＡＯ
Ｓｅｐｔ溶液（３〜３．５％Ｈ₂Ｏ₂，燐酸塩緩衝食
塩水と一緒）で前記線まで満たしたＡＯＳｅｐｔカッ
プ中に入れ、そして上表面から２３〜２５ｍｍのＨ₂Ｏ
₂濃度を一定時間間隔で測定する。結果は次の表１に掲
載する。時間（分）に対する（％過酸化物・分）曲線は
図６に示される。

【００２５】実施例２８ｍｍの直径（予備被覆寸法）のボール（ノリル：Ｎｏ
ｒｙｌ，予備被覆密度は１．０６ｇ／ｍｌ）４個を使用
した点を除いて、実施例１の操作を繰り返した。結果を
次の表に掲載する。時間（分）に対する（％過酸化物・
分）曲線は図６に示される。

【００２６】４ｍｍの直径（予備被覆寸法）のボール
（ポリカーボネート，予備被覆密度は１．１９ｇ／ｍ
ｌ）６個を使用した点を除いて、実施例１の操作を繰り
返した。結果を次の表に掲載する。時間（分）に対する
（％過酸化物・分）曲線は図６に示される。一定時間間
隔の過酸化水素の濃度（％）及び６時間後の過酸化水素
の濃度（ｐｐｍ）。

【００２７】

【表１】

【００２８】上記実施例は、累積曝露速度を、浮力伝達
調節系の手段により、少なくとも２０％・分まで調節す
る一手段の実例を示した。過酸化水素分解が行われる容
器に対して触媒を柔軟に付着させることにより、浮力伝
達触媒反応を調節する他の手段がある。これは、容器の
壁に対して、ヒンジ乃至柔軟なプラスチック材料の手段
により、触媒を付着することにより行われる。この態様
はヒンジが使用される場合に関して述べられる。しかし
ながら、他の手段も触媒をＨ₂Ｏ₂分解装置に付着させ
るために使用し得るものであることが理解されるべきで
ある。

【００２９】ヒンジ触媒分解手段触媒反応の浮力伝達調節の一つの変形は、白金のような
触媒１を、ヒンジ１４の手段により、装置に対して付着
して存在させることである。該装置においては触媒１は
図７〜１０に示すようにヒンジ１４の周りにピボットす
ることにより、反応溶液中を降下及び上昇する。図７〜
１０は、それぞれ、上部位置における触媒１の背面図
（図７）、下部位置のおける触媒の背面図（図８）、上
部位置における触媒の側面図（図９）及び下部位置にお
ける触媒の側面図（図１０）を示す。この態様による
と、触媒部分１の平均密度は溶液の密度より大きくなけ
ればならない。そうでないと、それは沈まないであろ
う。レンズが十分に消毒された後適度に短い時間でその
沈降が生じるように、十分に大きくなければならない。
一方、触媒の密度は過酸化水素の密度に十分に接近して
いなければならない。その結果、発生する酸素との相互
作用が、触媒を溶液中に最初に置いたときよりも十分に
速くその“上部位置”に浮上させるのに十分である。

【００３０】このヒンジ装置の好ましい局面によれば、
触媒１は平らな板１Ａを含み、該板は上部位置において
は水平であり、フィン部分１Ｂは平らな板１Ａから上方
に垂直に延びている（図７を参照）。該平らな板１Ａは
レンズホルダー１６間の隙間によつて許容されような巾
である。これは図７〜１０により示される。板１Ａに取
り付けられたフィン部分１Ｂは、船のキールと同様にし
ばしば上方に傾く。平らな板１Ａ及びフィン部分１Ｂは
被覆されていないアーム１８によりヒンジに取り付けら
れる。図面に示すような構成は、過酸化水素の分解に関
し、良好な前及び終了性能（６０分で約１％）を生じる
が、しかし典型的には６時間で高い残留過酸化物（７５
〜１５０ｐｐｍ）をゆうする。図面に示すれた例の寸法
は巾が約８ｍｍ、長さが２０ｍｍ、深さが約３ｍｍまで
である。

【００３１】垂直フィンは触媒の表面積及び表面積分布
をを増加させるために加えられる。該フィンは、前ー終
末分解プロフィルの速度を上げない上部位置にあるとき
溶液表面上に上昇する傾向がある。溶液から、このフィ
ンを上げるためには、非常に大きい揚力モーメントを必
要とする。より大きいモーメントは、上部位置における
“膠着（ｈａｎｇｉｎｇｕｐ）”から触媒の機会を減
少させる。触媒は、典型的には、その上部位置から下部
位置に転移する間、カップの側壁との間に出来るだけ大
きな隙間、例えば１〜２ｍｍを有する。この装置の変形
としては、２，３又はそれ以上の側部フィンを使用した
装置を使用することができる。また、表面積を減少する
ために穴をあけた垂直フィン及び側部フィンを使用して
も良い。上記に加うるに、触媒が上部位置にある時、触
媒のマス分布をヒンジ軸のまりの機械的モーメントを低
下するようにすべきである。これは、ヒンジ近くを、し
かしその軸上ではない、通る垂直線の丁度前方に触媒の
マスの中心を持つことにより達成される。他方、該マス
の中心の垂直な突出の軸からの距離は、触媒が上部位置
にある時は、それが下部位置にある時よりも小さい。こ
れは触媒が上部位置から下部位置に動くよう回転モーメ
ントを増加せしめる。それ故、この場合触媒を上部位置
に維持するためにより少ない浮力が必要とされる。これ
は触媒をして上部位置により長くいることを許容する。
また、より長い浮き時間は消毒剤に対するより高い曝露
を生じ、効果を改善する。この配置に従って触媒が沈み
始める時、増加する回転モーメントにより、より急速に
沈むであろう。

【００３２】製造される触媒の重心は、上記に指摘した
ように、フィンに穴をあけたり、溝を切ったりして、良
好に上昇しそして沈降する挙動をもつ触媒を開発する努
力により改良される。更に、触媒はステムの近くにある
べきである。コップの内側直径は、溶液を触媒の周りに
詰めるため出来るだけ狭くすべきである。ヒンジ触媒を
保持するカップの内側径は約２４〜２５ｍｍである。カ
ップの底は同様の理由で丸められる。最近のカップは内
径が２２ｍｍである。

【００３３】溶液と接触又は緊密に接触する表面の量
は、溶液と触媒との間の接触を制限するか又は妨げるこ
とにより、初期相の間中和速度を減少し得るような量で
ある。これは消毒に対する％・分曝露を増加させるであ
ろう。ヒンジ触媒は、触媒の部分を溶液から上げ、それ
により全活性を減少させる。同様な効果は、触媒の近く
の低い濃度の溶液を触媒から離れた高い濃度の溶液に交
換する速度を減少させることにより達成される。これ
は、触媒の周囲の閉鎖構造、付着する気泡の調節、触媒
の周囲の閉じ込められたガス又は循環パターンの調節に
より達成することができる。

【００３４】溶液／気泡付着による触媒の湿潤性は重要
である。即ち、過酸化水素反応から遊離する酸素気泡が
核になり、膨張しそして触媒表面から離れる態様は、如
何に大きい浮力を気泡が触媒に対して与えるかを決定す
る。気泡はそれが破壊する前により低い湿潤性の表面で
大きくなる。より大きい気泡は典型的には触媒表面の単
位当りより大きい浮力を与えるが、しかし触媒の浮力
は、また過酸化物の濃度に対して感応性を低くしがちで
ある。この反対の立場はより小さい気泡の場合も存在す
る。触媒表面が大きくなるに従って、気泡が離れる時の
気泡はより小さくなる。

【００３５】触媒表面の湿潤性は、スパッターターゲ
ットから金又はパラジウムで白金触媒を合金化する“プ
ラズマ”処理により増加することができる。加うるに、
触媒の湿潤性は材料の選択または製造者の表面処理の方
法により、又はプロピレングリコール、グリセロール又
はプロオニックＬー３１（ｐｌｕｏｎｉｃＬー３１）
のような湿潤剤を有する溶液で変性することにより改良
することができる。

【００３６】３〜３．５％過酸化水素溶液中における白
金触媒の累積曝露は図１１〜１５に説明されている。該
図において、ヒンジ触媒系の累積曝露が１５分までから
約６時間まで変る種々の時間間隔に対してプロットされ
る。該グラフにおいて、本発明の累積曝露要件内に入
る、触媒の湿潤性等に基づく、異なる累積曝露速度の白
金触媒系に基づく四つの線がある。

【００３６】攪拌棒系図１６に示す攪拌棒系により過酸化水素溶液の分解速度
を調節する他の手段がある。これは、触媒１を容器の頂
部近くで過酸化水素と接触するように過酸化水素が満た
される水準２の直下の容器２０に固定する手段による。
新鮮なＨ₂Ｏ₂が連続的に触媒１との接触にもたらされ
るように、系を攪拌するための攪拌棒乃至羽根２４のよ
うな攪拌手段が過酸化水素分解装置の底に設置される。
これは、触媒１と反応溶液との間の接触が攪拌棒又は羽
根２４の攪拌作用の手段により調節され、その結果反応
生成物溶液が触媒１の近傍から除かれ、そして過酸化水
素（反応溶液）が攪拌棒又は羽根２４の攪拌作用の結果
として前記触媒に連続的に供給されるというよに、浮力
伝達触媒調節系と似ている。攪拌棒又は羽根２４はなん
らかの適当な手段により駆動することができるが、図１
６に示す好ましい態様であは、羽根２４が磁気的駆動系
により駆動される。そのような系は、羽根２４に埋め込
まれた第１磁石２４及びモーター３２から延びるシャフ
ト３０に設けた第２の磁石２８を含む。モーター３２は
第２磁石２８を回転させるために適用され、これは二つ
の磁石の極性により第１の磁石２６を回転させ、かくし
て羽根２４を回転させる。時間／調節器３４が、活性
化、非活性化及びモーターの回転速度の望む調節を提供
するめに、効果的に連結されるとがまた考慮される。モ
ーター及び時間／調節器は如何なる動力源によつても操
作することができるが、それはＤＣ電源であることが好
ましい。

【００３７】この攪拌は、勿論、累積曝露が、少なくと
も２０％過酸化物・分において、１２時間より大きくな
い期間に渡ってあるように、調節されるように相関付け
られる。かくして、この操作によれば、触媒は最初にＨ
₂Ｏ₂溶液に攪拌なしで浸漬され、そして攪拌はＨ₂Ｏ
₂が触媒の近傍で分解した後に開始され、そしてそれに
より形成された反応生成物溶液が除かれ、引き続く攪拌
作用により新しいＨ₂Ｏ₂が供給される。

【００３８】上記した系の全てにおいて、コンタクトレ
ンズの消毒に通常使用される慣用のＨ₂Ｏ₂分解装置
が、米国特許出願０７／４５８，１２３に記載されてい
るように使用することができるが、上記したように、攪
拌棒の特徴、ヒンジ装置１４及び他の分解手段を含むべ
く改良される。前記米国特許出願によると、非連続的ベ
ースで過酸化物消毒を行うために使用される装置は、管
壜ないしレンズコップ（図７〜１０の２０のように）を
有する容器からなり、それはその一端に開口を、周囲か
ら該管壜をシールするための蓋又はカバー（図７〜１０
の２２のように）、該蓋又は壜の壁又は管壜の蓋にガス
圧力の蓄積をゆるめるために接続された開放バルブ及び
消毒を行うコンタクトレンズの位置を該管壜の開口に対
して抹消位置に限定するための手段を有する。この態様
はさらに必要に応じて、開口端部と管壜の抹消位置との
間の垂直方向を通して触媒粒子の移動を許すスリーブ又
はウェブをふくんでも良い。

【００３９】二重触媒調節系過酸化水素溶液の分解速度を調節する他の方法は二重触
媒系による。それは触媒物質の戦略的な配置により容器
中の溶液の循環を作り出すものである。この調節を達成
する装置は、レンズが容器内の消毒位置にある時、レン
ズの上端にほぼ等しいか、又はレンズの上端より上に位
置する触媒物質の上部部分、及び容器内の該上部部分の
下に位置する触媒物質の下部部分からなる。触媒物質は
白金黒が好ましい、しかし前述のようなほとんど全ての
過酸化水素触媒が使用できる。

【００４０】上部触媒部分はレンズ上の消毒液の中和的
循環を提供する。下部触媒物質は、分解の間に放出する
気泡により、容器の下部領域にある消毒溶液の混合を作
り出し溶液を上部触媒物質に向かう方向に動かす。下部
触媒物質による循環及び混合なしでは、過酸化水素の乏
しい溶液の淀んだ層が上部触媒部分の最も低いレベル上
に拡がり、そして該系の総合的な中和効果が大きく減少
する。新鮮な過酸化水素を上部触媒物質に向い追いやる
ことで、淀んだ層の形成を防ぐことは、中和工程を一定
の速度で継続することを許容し、その結果、レンズは、
通常の過酸化物消毒系により従来与えられていたよりも
高濃度の過酸化水素に対して、より長いより調節された
曝露を与えられる。

【００４１】下部触媒部分により放出される気泡の量
は、上部触媒部分が消毒溶液と接触したとき、即ち時間
ゼロから少なくとも２０％過酸化・分の１２時間より大
きくない期間に渡る累積（％過酸化物）（分）曝露をレ
ンズに許容するように十分な過酸化水素の豊富な消毒液
を容器の下部領域から上部触媒部分に向けて動かすよう
な量である。下部触媒物質による過剰の触媒反応性は、
容器の下部領域に、上部触媒物質により誘導された方向
に向かう循環パターンを作り出し、それにより、レンズ
付近に過酸化水素の豊富溶液を維持するというよりむし
ろ容器内をとおして過酸化水素のほぼ均一な濃度を維持
することをもたらす。下部触媒部分の反応性の程度は物
質タイプ、分布又は量の選択により調節される。例え
ば、下部触媒部分は白金黒のような過酸化水素もしくは
他の水のような消毒溶液の成分と接触することで過酸化
水素を分解する物質からの作られたものであつて良い。
二重触媒系の総合効果はレンズに対して、慣用の過酸化
物消毒系より従来与えられる濃度よりもより高い濃度
で、より長い曝露を許容することである。

【００４２】図１７に示される操作において、レンズ１
００がバスケット１０２に設置される、そして過酸化水
素含有消毒液を容器１０４中に、バスケット１０２中の
レンズ１００が挿入される上の上部触媒部分１０６の上
に到達するレベルまで入れる。バスケッット１０２中の
レンズ１００は、次いで溶液を保持する容器１０４に設
置され、そして液漏れを防ぐためにキャップ１０８で閉
められる。消毒溶液と接触すると同時に、上部触媒部分
１０６及び下部触媒部分１１０が過酸化水素を水と酸素
ガスに分解する。上部触媒部分１０６からのより大きい
ガスの量は、レンズ１００上の消毒溶液の循環領域を形
成する。下部触媒部分１１０から発生した酸素ガスは気
泡を形成し、該気泡は、順次、レンズ１００上の過酸化
水素の乏しい領域に容器１０４の下部領域から過酸化水
素の豊富な溶液を動かすために使用される。二重触媒系
の総合効果はレンズ１００が慣用の過酸化物消毒液系に
より従来与えられているよりも、より高い濃度で過酸化
水素に対して、より長い曝露をもつことである。

【００４３】触媒部分１０６、１１０の型は所望の循環
及び混合が形成される限り変化させる事が出来る。上部
及び下部触媒部分１０６、１１０をつくる触媒物質は、
容器１０４の内部表面に直接設けてもよいし、または図
２３の管状部材１１２又は図２２の円盤１２０のような
基材上に設け、そして容器１０４に挿入しても良い。例
えば、図１８に示されるように、触媒物質からなるリン
グ状の上部触媒部分１０６は容器１０４の内部壁面１１
４に直接析出される、そしてリング状の下部触媒部分１
１０は上部触媒部分１０６の下部に析出される。該物質
は消毒溶液及びその副生成物中で安定な接着剤の使用に
より壁面１１４に保持することができる。他に、図１９
に示すように、下部触媒部分１１０は容器１０４の内部
底１１６上にもしくは図２０に示すようにリング構造及
び底１１６の両者として析出しても良い。また、上部及
び下部触媒部分１０６、１１０は触媒物質−自由壁面１
１４のスペース１１８（図１８、１９及び２０に示され
る）によって分離しても良いし、または図２１及び２２
に示すように、完全に被覆された容器１０４の外見を与
えるように連結しても良い。図２２は下部触媒部分１１
０が被覆された基質１２０の形態である態様を示す。

【００４４】分配触媒調節系他の過酸化水素溶液の分解速度の調節方法は、触媒物質
が容器内部の比較的広い表面領域に平等に分布されてい
る手段による。好ましくは、図２４に示すように、触媒
物質１２２は、容器１２８の内部壁面１２６上に放射状
に展開１２４する。その結果、容器１２８中の過酸化水
素分子が触媒物質１２２に到達するまで移動しなければ
ならない平均水平（放射）距離を減少するか、または最
小にする。最小化された移動距離と溶液／触媒接触面の
増加が結合すると、系の拡散工程中に残留過酸化水素を
分解すことが系全体についてより大きく調節されるこ
と、即ち、初期中和速度が低下すると消毒効果が増加
し、工程の最後におけるより低い残存過酸化物、及び目
的の残留濃度に系が到達する能力の増加した信頼性を許
容する。調節は、レンズ１３０をして、触媒物質１２２
が消毒溶液に接触する時間、即ち時間０から少なくとも
２０％過酸化物・分の１２時間を越えない期間に渡たる
累積（％過酸化）（分）曝露を可能にする。

【００４５】触媒物質１２２の分布のパターンは、過酸
化水素分子のための移動距離を最小にする全体効果が達
成される限り変えることができる。例えば、物質１２２
は図２４に示されるように容器１２８の壁面１２６に沿
って分布させても良いし、又図２５に示されるように壁
面１２６及び床１２２に沿って分布させても良い。更に
物質１２２は容器に直接設置しても良いし、又図２６に
示されるような管状部材１３４のような基材上に設置
し、そして容器１２８に挿入しても良い。触媒物質のな
い容器の壁面１３６の窓は、消毒工程中容器１２８の内
部が見えるように構成してもよい。

【００４６】他の考察本発明の一般的限定によると、前記接触が起こる点から
１２時間より大きくない期間に渡る累積（％過酸化物）
（分）曝露は少なくとも２０％過酸化物・分においてで
ある。しかしながら、ある好ましい例では、曝露時間
は、達成されるべき消毒対象物、装置等の汚染の程度に
よって、１．５時間より大きくない期間、又は２時間、
４時間、６時間、８時間もしくは１０時間を越えない範
囲の期間に減少できる。これらの時間範囲の終了時点に
おいて、得られる溶液はコンタクトレンズが目に挿入で
きるような目に許容し得る量よりは大きくない残留過酸
化物濃度を持つべきである。好ましくは、過酸化水素含
量は２００ｐｐｍ、より好ましくは１００ｐｐｍを越え
るべきではなく、そして或る場合には７５ｐｐｍを越て
はならなく、より好ましくは６０ｐｐｍ以下及び理想的
には３０ｐｐｍより越えてはならない。

【００４８】時間０における過酸化水素濃度は０．５か
ら約６％、好ましくは１から４％、より好ましくは約
２．５から約３．５％及び最も好ましくは３．０から
３．５％の範囲である。

【００４９】更に、前記したように、初期酸素発生速度
は通常のＡＯＳｅｐｔ系で約４０から９０ｍｌ／ｍｉ
ｎある。これらの速度は累積曝露に関係した場合、１０
％・分以下を与える。約２０ｍｌ／ｍｉｎ以下の初期速
度は本発明によると２０％・分の率が要求される。これ
は累積曝露である。過酸化水素が目に許容し得るレベル
に到達する時間までの全サイクルに渡る累積露出は過酸
化水素系に対する全露出として関係つけられる。

【００５０】本発明によると、時間０から１５分までの
過酸化水素に対する消毒されるべき物質の累積曝露は、
全曝露の９５％以下でなければならない。より好ましく
は、過酸化水素による時間０及び１５分間の累積曝露
は、全曝露の５０％以下でなければならない。しかしな
がら、他の好ましい限定では、時間０から２０分後の間
の過酸化水素に対する累積曝露は全曝露の９７％以下及
び好ましくは全曝露の６５％以下でなければならない。
過酸化水素に対する時間０及び３０分後の間の累積曝露
は、全曝露の９９％以下及び好ましくは全曝露の８５％
以下でなければならない。本発明の累積露出は、全累積
曝露に関して最低約１５ないし３０分、好ましくは３０
分以上、より好ましくは少なくとも６０分及び最も好ま
しくは少なくとも約１．５時間から１２時間より大きく
ない期間の範囲の時間に渡って少なくとも２０％、過酸
化物・分でなければならない。

【００５１】本明細書で開示されるこれらの特別の具体
例以外に、他に多くの特別な変形が存在し、これらは出
願人の本質的な発明の概念を把握すれば、当業者にとつ
て明らかであろう。

【図面の簡単な説明】

【図１】白金触媒が３％過酸化物溶液について企画され
ている従来のＡＯＳｅｐｔ系の時間に対する過酸化水
素の分解速度を示すグラフである。

【図２】本発明に従う、時間を通してゆっくりと減少す
る、調節された３％Ｈ₂Ｏ₂系の典型的な分解プロフィ
ルを示すグラフである。

【図３】％・分に於ける累積曝露及び初期酸素放出速度
の両者が時間に対してプロットされている種々の触媒系
についてのグラフである。

【図４】触媒反応中、触媒系から酸素の脱出を調節する
ための開口を有する管のような容器に触媒を部分的に封
入することにより累積曝露を調節する手段を示す図であ
る。

【図５】本発明の方法により消毒されるコンタクトレン
ズの近傍における過酸化物のパーセントを測定するため
に使用される試料カップを示す図である。

【図６】過酸化物対時間曲線下に累積面積として表現さ
れる過酸化水素の分解プロフィルを示すグラフである。

【図７】上部位置における触媒の背面を示すヒンジ触媒
分解装置の図である。

【図８】下部位置のおける触媒の背面を示すヒンジ触媒
分解装置の図である。

【図９】上部位置における触媒の側面を示すヒンジ触媒
分解装置の図である。

【図１０】下部位置における触媒の側面を示すヒンジ触
媒分解装置の図である。

【図１１】異なる曝露速度を有する種々のヒンジ触媒系
の時間に対する累積曝露をプロットしたグラフである。

【図１２】異なる曝露速度を有する種々のヒンジ触媒系
の時間に対する累積曝露をプロットしたグラフである。

【図１３】異なる曝露速度を有する種々のヒンジ触媒系
の時間に対する累積曝露をプロットしたグラフである。

【図１４】異なる曝露速度を有する種々のヒンジ触媒系
の時間に対する累積曝露をプロットしたグラフである。

【図１５】異なる曝露速度を有する種々のヒンジ触媒系
の時間に対する累積曝露をプロットしたグラフである。

【図１６】触媒と反応溶液との間の接触が攪拌棒の攪拌
作用の手段により調節される攪拌棒系分解装置の図であ
る。

【図１７】二重触媒調節系分解装置の一具体例を示す図
である。

【図１８】二重触媒調節系分解装置の他の具体例を示す
図である。

【図１９】二重触媒調節系分解装置の更に他の具体例を
示す図である。

【図２０】二重触媒調節系分解装置の別の具体例を示す
図である。

【図２１】二重触媒調節系分解装置の更に別の具体例を
示す図である。

【図２２】二重触媒調節系分解装置のもう一つ別の具体
例を示す図である。

【図２３】二重触媒調節系分解装置の更にもう一つ別の
具体例を示す図である。

【図２４】分配触媒調節系分解装置の一具体例を示す図
である。

【図２５】分配触媒調節系分解装置の他の具体例を示す
図である。

【図２６】分配触媒調節系分解装置の更に他の具体例を
示す図である。

【符号の説明】

１００レンズ１０２バスケット１０４容器１０６上部触媒部分１０８キャップ１１０下部触媒部分

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ケネースアール．シーモンアメリカ合衆国，30064 ジョージアマレータサドルブロックウエイ 2789 (72)発明者フーパオツァオアメリカ合衆国，30243 ジョージアローレンシービルパインハーストハント 1361 (72)発明者ラリーエー．アルボードアメリカ合衆国，30244 ジョージアローレンシービルスタンフォードサークル 3152 (72)発明者アールシー．マックロージュニアーアメリカ合衆国，30136 ジョージアダルースオールドアイビーロード 5049

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ａ）消毒位置に過酸化水素含有コンタク
トレンズ消毒液及びコンタクトレンズを保持し得る容
器、ｂ）該レンズが前記容器内の消毒位置にあるとき、レン
ズの上端にほぼ等しいか、又はレンズの上端より上に位
置する消毒液を中和するための上部触媒部分、及びｃ）
該上部部分より下の容器内に位置する下部触媒部分から
なり、該下部触媒部分は前記上部触媒部分より触媒的に
反応性が低く、そして消毒液と接触して、消毒液を前記
上部触媒部分に向かう方向に動かすための気泡を生成し
得るものであることからなるコンタクトレンズを消毒す
るための装置。
【請求項２】前記下部触媒部分が、前記上部触媒部分
が前記消毒溶液と接触する時間，即ち時間ゼロから少な
くとも２０％過酸化物・分の１２時間より大きくない期
間の累積（％過酸化物）（分）の曝露をレンズに許す速
度において、消毒液を前記上部部分に向けて動かすこと
からなる請求項１記載の装置。
【請求項３】前記上部触媒部分が白金黒からなる請求
項１記載の装置。
【請求項４】前記上部触媒部分が前記容器の内部側壁
に析出されている請求項１記載の装置。
【請求項５】前記上部触媒部分が前記容器に挿入し得
る基体に析出されている請求項１記載の装置。
【請求項６】前記下部触媒部分が消毒液中の過酸化水
素と接触して気泡を作る触媒物質からなる請求項１記載
の装置。
【請求項７】前記下部触媒部分が白金黒からなる請求
項１記載の装置
【請求項８】前記下部触媒部分が過酸化水素以外の消
毒液の成分と接触して気泡を作る物質からなる請求項１
記載の装置。
【請求項９】前記下部触媒部分が前記容器の内部側壁
に析出されている請求項１記載の装置。
【請求項１０】前記下部触媒部分が前記容器の底に析
出されている請求項１記載の装置。
【請求項１１】前記下部触媒部分が前記容器の内部側
壁及び底の両方に析出されている請求項１記載の装置。
【請求項１２】前記下部触媒部分が一定の間隔の側壁
により前記上部触媒部分と分離されている請求項１記載
の装置。
【請求項１３】前記上部触媒部分と前記下部触媒部分
とが連結されている請求項１記載の装置。
【請求項１４】ａ）消毒位置にコンタクトレンズ消毒
液及びコンタクトレンズを保持し得る容器、ｂ）該レンズが前記容器内の消毒位置にあるとき、レン
ズの上端にほぼ等しいか、又はレンズの上端より上に位
置する消毒液を中和するための上部触媒部分、及びｃ）
該上部部分より下の容器内に位置する下部触媒部分から
なり、該下部触媒部分は前記上部触媒部分より触媒的に
反応性が低く、そして消毒液と接触して、消毒液を前記
上部触媒部分に向かう方向に動かすための気泡を生成し
得るものであることからなるコンタクトレンズを消毒す
るための装置。
【請求項１５】過酸化水素に安定なコンタクトレンズ
を過酸化水素含有溶液及び過酸化水素分解手段と接触
し、該過酸化水素分解手段が、前記コンタクトレンズを
して、前記分解手段が前記過酸化物含有溶液と接触する
時間、即ち時間ゼロから少なくとも２０％過酸化物・分
の１２時間より多くない期間の累積（％過酸化物）
（分）の曝露を許すべく適用されるものである過酸化水
素に安定なコンタクトレンズを消毒する方法。
【請求項１６】前記過酸化水素の分解が、消毒液を容
器の下部過酸化水素の豊富な領域から容器の上部過酸化
水素の乏しい領域まで動かすための手段を作ることによ
り達成される請求項１５記載の方法。
【請求項１７】前記過酸化水素の分解が、消毒溶液
を、レンズが前記容器内の消毒位置にあるときレンズの
上端に略等しいか、又はレンズの上端より上に位置する
上部触媒部分及び同時に該上部部分より下の容器内に位
置する下部触媒部分と接触させることにより達成され、
該下部触媒部分は前記上部触媒部分より触媒的に反応性
が低く、そして消毒液と接触して、消毒液を前記上部触
媒部分に向かう方向に動かすための気泡を生成し得るも
のであることからなる請求項１５記載の方法。
【請求項１８】前記上部触媒部分が白金黒からなる請
求項１７記載の方法。
【請求項１９】前記上部触媒部分が前記容器の内部側
壁に析出されている請求項１７記載の方法。
【請求項２０】前記上部触媒部分が前記容器に挿入し
得る基体に析出されている請求項１７記載の方法。
【請求項２１】前記下部触媒部分が消毒液中の過酸化
水素と接触して気泡を作ることからなる請求項１７記載
の方法。
【請求項２２】前記下部触媒部分が白金黒からなる請
求項１７記載の方法。
【請求項２３】前記下部触媒部分が過酸化水素以外の
消毒液の成分と接触して気泡を作る請求項１７記載の方
法。
【請求項２４】前記下部触媒部分が前記容器の内部側
壁に析出されている請求項１７記載の方法。
【請求項２５】前記下部触媒部分が前記容器の底に析
出されている請求項１７記載の方法。
【請求項２６】前記下部触媒部分が前記容器の内部側
壁及び底の両方に析出されている請求項１７記載の方
法。
【請求項２７】前記下部触媒部分が一定の間隔の側壁
により前記上部触媒部分と分離されている請求項１７記
載の方法。
【請求項２８】前記上部触媒部分と前記下部触媒部分
とが連結されている請求項１７記載の方法。