JPH0663132U - 試料操作装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 真空槽壁面２に設けられた軸ガイド３と、軸
ガイド３に保持さた操作棒１と、真空槽壁面２に設けた
穴６と操作棒１との間に設けられ、真空グリスを塗布さ
れたＯリング４と、真空槽の真空側の壁面２と操作棒１
との間に防塵カバー５を設けた試料操作装置。 【効果】 防塵カバー５を設けることにより、Ｏリング
４に塗布された真空グリスの微粒子が真空側への飛散す
ることを防止できる。そして真空槽の内部をクリーンに
保つことができる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、真空蒸着装置、集束イオンビーム加工装置等の真空装置において、 真空槽内にある試料や部品を操作するための試料操作装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

真空装置の真空槽にある試料や部品を操作する試料操作装置は、真空槽の壁に 穴を明け、その穴の表面を平滑にして、Ｏリング溝を設け、そのＯリング溝にＯ リングを挿入する。この時、Ｏリングに気密性を持たせる為に真空グリスを塗布 する。そして、Ｏリングを配置した穴に、表面を平滑にした操作棒を導入する。 この状態で、真空槽外に位置する操作棒を回転または前後運動させることにより 、真空槽内に位置する操作棒の先端を操作し、真空槽内の試料または部品を操作 していた。

【０００３】 また、別のものとして、磁性流体を利用した試料操作装置がある。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

上記、構造において、操作棒を回転あるいは前後運動を行うと、Ｏリングと操 作棒とのシール面からは、その運動ごとに微少な空気のリークが発生する。この 時の空気の流れにより、Ｏリングに塗布されていた真空グリスが微粒子（パーテ ィクル）となって真空槽内に飛散する。半導体加工装置や半導体検査装置などク リーンな環境が要求される装置において、その真空グリスの汚れは特に問題とな る。その他の真空装置においても、この汚れは、好ましいものではない。

【０００５】 その他磁性流体を利用した試料操作装置は、真空の保持機能および真空槽内を 汚さない点では優れた性能を有するが、価格的に非常に高く、また、仕様上磁性 を嫌う装置には適用できなかった。 本考案は、上記課題を解決するためのものであり、価格も安価にそして磁性の 問題もなくかつ真空槽内を汚さないようにする試料操作装置である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成するために、本考案は、真空装置においてＯリング挿入溝を設 けた穴を有する真空槽壁と、前記Ｏリング挿入溝に配置し、真空グリスを塗布さ れたＯリングと、前記Ｏリングに締代を以て回転かつ前後方向に運動可能に挿入 された操作棒と、前記真空槽壁の真空側に側に設けられ、前記操作棒と前記壁と の間を覆う防塵カバーよりなることを特徴とする試料操作装置である。

【０００７】

【作用】

真空槽壁の真空側に側に操作棒と壁との間を覆う防塵カバーを設けることによ り、Ｏリングのシール面での真空の微少リークに伴い飛散した真空グリスの微粒 子が、真空槽の内部まで飛散することが防げる。そして真空槽内を常にクリーン な環境に保つことができる。

【０００８】

【実施例】

以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明する。図１に於いて、真空装置の 壁２に穴６が設けられている。穴６には、Ｏリング４を挿入するためのＯリング ボックス４ａが円周方向に設けられている。Ｏリング４には真空グリスが塗布さ れており、そしてＯリングボックス４ａに配置されている。特に、Ｏリングボッ クス４ａの表面は気密性をよくするために滑らかに仕上げられている。

【０００９】 穴６の大気側には軸ガイド３を挿入するザグリ６ｂが設けられている。軸ガイ ド３およびＯリング４には、表面を滑らかにした操作棒１が挿入される。このと き、Ｏリング４は、操作棒１により、変形し、Ｏリングボックス４ａにほぼ一杯 になるようにそれらの寸法を設計する。つまり、Ｏリング４の内径と軸ガイド３ の外径には少なくとも締代をもたせる。この構造により、真空装置の操作棒部の 気密性をもたせるものである。

【００１０】 軸ガイド３は、操作棒１を回転運動及び軸方向の動きを自由自在にする為と、 径方向の動きを防ぐために設けられる。 また、真空装置の壁２の真空側には、防塵カバー５が固定して設けられている 。防塵カバー５は、真空側の真空装置の壁２と、操作棒１との間を覆うように設 けられており、そして防塵カバーの内側には空間７できるようになっている。

【００１１】 操作棒１を回転あるいは前後運動を行うと、Ｏリング４と操作棒１とのシール 面からは、その運動ごとに微少な空気のリークが発生する。この時の空気の流れ により、Ｏリングに塗布されていた真空グリスが微粒子（パーティクル）となっ て空間７に飛散する。そしてその微粒子は防塵カバー５の内壁にぶつかり、真空 槽内には飛散しない。

【００１２】 操作棒１と防塵カバー５とは接触しない程度に隙間が多少設けられている。 そして、大気側から操作棒１を操作（回転および前後運動）することにより真 空側の先端を動かし、そしてその動きにより試料又は部品を操作する。

【００１３】

【考案の効果】

以上説明したように、本考案の試料操作装置は、容易にかつ安価に真空グリス の微粒子を真空槽の内部に飛散するのを防ぐことができる。そして、クリーンな くんくう環境を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例の断面図である。

【符号の説明】

１ 操作棒 ２ 真空槽の壁 ３ 軸ガイド ４ Ｏリング ５ 防塵カバー ６ 穴 ６ａ Ｏリングボックス ６ｂ ザグリ ７ 空間

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/265 21/68 Ａ 8418−4Ｍ

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空装置においてＯリング挿入溝を設け
   た穴を有する真空槽壁と、前記Ｏリング挿入溝に配置
   し、真空グリスを塗布されたＯリングと、前記Ｏリング
   に締代を以て回転かつ前後方向に運動可能に挿入された
   操作棒と、前記真空槽壁の真空側に側に設けられ、前記
   操作棒と前記壁との間を覆う防塵カバーよりなることを
   特徴とする試料操作装置