JPH065207A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 精細且つ高輝度のドット光が得られる面放電
反射型のＰＤＰを提供すること。 【構成】 前面ガラス基板１と放電空間１０を介して対
向する背面ガラス基板５に蛍光体層９を具備したプラズ
マディスプレイパネルにおいて、上記蛍光体層９の上面
に、中央に向かって深さを増す反射集光面９ａを設けて
いるので、放電時には該反射集光面９ａで反射し集光し
た後の色光をドット光として得ることが可能であり、従
来のものに比べ精細且つ高輝度のドット光が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、各種表示装置に使用さ
れるプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと言
う）に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図６には従来の面放電型ＰＤＰのセル構
造を示してある。

【０００３】同図において２１は前面ガラス基板、２２
ａ，２２ｂは前面ガラス基板２１の下面にストライプ状
に形成された一対の透明電極（放電電極）、２３ａ，２
３ｂは各放電電極２２ａ，２２ｂの下面端部に形成され
た通電補助用の一対の金属電極（バス電極）、２４は放
電電極２２ａ，２２ｂ及びバス電極２３ａ，２３ｂを覆
うように前面ガラス基板２１の下面に形成された保護誘
電体層、２５は保護誘電体層２４の下面に垂設された格
子状の障壁である。

【０００４】また、２６は背面ガラス基板、２７は背面
ガラス基板２６の上面に形成された反射層、２８は反射
層２７の上面に形成された蛍光体層である。

【０００５】上記の前面ガラス基板２１と背面ガラス基
板２６は所定の間隔をおいて対向しており、障壁２５で
区画される空間（放電空間）２９には希ガスが封入され
ている。

【０００６】このセル構造を有するＰＤＰでは、放電電
極２２ａ，２２ｂへの電圧印加により放電空間２９で放
電を生じさせて希ガスを発光させ、該発光成分中の紫外
線で蛍光体層２８を励起し、該蛍光体層２８で生じた色
光（反射光）を前面ガラス基板２１から外部に導き出す
ことができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記セル構造を有する
ＰＤＰは、プラズマ放電で発生した光に基づく蛍光体層
２８からの反射光をドット光として得ている。しかし、
平面状の蛍光体層２８からは広い角度範囲で光が反射さ
れ、しかも該反射光が放電空間２９で拡散し易いため、
上記のドット光はぼやけたものとなり、これに伴って輝
度も低下する難点がある。

【０００８】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、精細且つ高輝度のドット
光が得られるＰＤＰを提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１では、前面ガラス基板と放電空間を介して
対向する背面ガラス基板に蛍光体層を具備したプラズマ
ディスプレイパネルにおいて、上記蛍光体層の上面に、
中央に向かって深さを増す反射集光面を設けている。

【００１０】また、請求項２では、請求項１記載のプラ
ズマディスプレイパネルにおいて、蛍光体層の下側に位
置する部材に、中央に向かって深さを増す第２の反射集
光面を設けている。

【００１１】

【作用】請求項１記載のプラズマディスプレイパネルで
は、プラズマ放電によって蛍光体層に照射された光は、
反射集光面の形状に従って中央寄りに反射して集光し、
この光が前面ガラス基板から外部に導き出される。

【００１２】請求項２記載のプラズマディスプレイパネ
ルでは、上記作用に加え、蛍光体層を通過した光もその
下側の第２の反射集光面によって同様の反射集光作用を
受ける。

【００１３】

【実施例】図１には本発明を適用した対向放電型ＰＤＰ
のセル構造を示してある。

【００１４】同図において１は前面ガラス基板、２は前
面ガラス基板１の下面にストライプ状に形成された透明
電極（放電電極）、３は放電電極２の下面端部に形成さ
れた通電補助用の金属電極（バス電極）、４は前面ガラ
ス基板１の下面に垂設された格子状の障壁である。

【００１５】また、５は背面ガラス基板、６は背面ガラ
ス基板５の上面に上記障壁４と対応して格子状に突設さ
れた突起、７は背面ガラス基板５及び突起６の上面に層
状に形成された反射層、８は反射層７の上面に上記放電
電極２と交差するようにストライプ状に形成された背面
電極、９は反射層７及び背面電極８の上面に層状に形成
された蛍光体層である。蛍光体層９の上面には中央に向
かって徐々に深さを増す略球面状の反射集光面９ａが形
成され、また反射層７の上面にも同様の反射集光面７ａ
が形成されている。

【００１６】上記の前面ガラス基板１と背面ガラス基板
５は所定の間隔をおいて対向しており、障壁４で区画さ
れる空間（放電空間）１０にはＮｅ，Ｎｅ＋Ｘｅ等の希
ガスが封入されている。

【００１７】ここで、図１に示したＰＤＰの製造方法に
ついて説明する。

【００１８】まず、前面ガラス基板１となるガラス基板
上にＣＶＤ法（化学的蒸着法）によって厚さ０．５μｍ
程度のＳｎＯ2 （酸化スズ）またはＩＴＯ（酸化インジ
ウム・スズ）製の薄膜を形成し、これをウェットエッチ
ングにより所定のストライプパタ−ンに加工して放電電
極２を得る。

【００１９】次に、放電電極２上の端部に厚膜印刷法に
よってＮｉペ−ストを印刷し、これを焼成して厚さ１５
μｍ程度のバス電極３を得る。

【００２０】次に、放電電極２及びバス電極３が形成さ
れたガラス基板上に厚膜印刷法によってガラスペ−スト
を数回繰り返して印刷し、これを焼成して高さ１００μ
ｍ程度の格子状の障壁４を得る。勿論、この障壁４は予
めガラス基板をＨＦ（弗化水素）の水溶液でエッチング
して形成しておいてもよい。

【００２１】一方、背面ガラス基板５となるガラス基板
Ｋ上に厚膜印刷法によってガラスペ−ストＰｇを数回繰
り返して印刷し、これを焼成して高さ４０μｍ程度の格
子状の突起６を得る（図２参照）。

【００２２】次に、背面ガラス基板５及び突起６の上面
にＡｇペ−ストＰａを５μｍ程度の厚さでスプレ−噴霧
し、該ペ−ストＡＰの上面上方から風を当てながら焼成
して反射層７を得る（図３参照）。突起６内側のＡｇペ
−ストＰａは上記風圧及び突起６の存在によって略球面
状に窪んで該形状のままで固化し、これにより反射集光
面７ａに対応する凹みが形成される。

【００２３】次に、反射層７の上面に厚膜印刷法によっ
てＮｉペ−ストＰｎをストライプ状に印刷し、該ペ−ス
トＰｎを焼成して厚さ１５μｍ程度の背面電極８を得る
（図４参照）。

【００２４】次に、反射層７及び背面電極８の上面に厚
膜印刷法によって蛍光体ペ−ストＰｋを印刷し、該ペ−
ストＰｋを焼成して厚さ１０μｍ程度の蛍光体層９を得
る（図５参照）。蛍光体ペ−ストＰｋは反射層７の上面
形状に沿ってほぼ均一な厚みで印刷され、この結果、蛍
光体層９には反射集光面９ａに対応する凹みが形成され
る。

【００２５】そして、上記の前面ガラス基板１と背面ガ
ラス基板５を１５０μｍ程度の間隔をおいて対向させ、
Ｎｅ，Ｎｅ＋Ｘｅ等の希ガスを対向空間（放電空間１
０）に封入する。以上で図１に示したＰＤＰが製造され
る。

【００２６】本実施例のＰＤＰでは、放電電極２及び背
面電極８への電圧印加によって放電空間１０で放電を生
じさせて希ガスを発光させ、該発光成分中の紫外線で蛍
光体層９を励起し、該蛍光体層９で生じた色光（反射
光）を前面ガラス基板１１から外部に導き出すことがで
きる。

【００２７】蛍光体層９の上面に略球面状の反射集光面
９ａが形成されていることから、プラズマ放電によって
反射集光面９ａに照射された光は、該反射集光面９ａの
形状に従って中央寄りに反射し前面ガラス基板１に向か
って集光することになる。また、蛍光体層９を通過した
光も、反射層７の上面に形成された反射集光面８ａで同
様の反射集光作用を受けることとなる。

【００２８】つまり、本実施例のＰＤＰでは、放電時に
蛍光体層９と反射層７の反射集光面９ａ，７ａで反射し
集光した後の色光をドット光として得ることが可能であ
り、このドット光は従来のようにぼやけたものではなく
精細度が極めて高く、また集光されている分だけ輝度も
高い。

【００２９】尚、上記の反射層の上面に凹みを形成する
手法としては風圧を利用する他、焼成時に加圧炉を使用
して所定の圧力をペ−スト上面に付与しながら焼成する
ようにしてもよい。

【００３０】図７には本発明を適用した面放電反射型Ｐ
ＤＰのセル構造の他の例を示してある。

【００３１】同図において１１は前面ガラス基板、１２
ａ，１２ｂは前面ガラス基板１の下面にストライプ状に
形成された一対の透明電極（放電電極）、１３ａ，１３
ｂは各放電電極２ａ，２ｂの下面端部に形成された通電
補助用の一対の金属電極（バス電極）、１４は放電電極
１２ａ，１２ｂ及びバス電極１３ａ，１３ｂを覆うよう
に前面ガラス基板１１の下面に形成された保護誘電体
層、１５は保護誘電体層１４の下面に垂設された格子状
の障壁である。

【００３２】また、１６は背面ガラス基板、１７は背面
ガラス基板１６の上面に層状に形成された反射層、１８
は反射層１７の上面に層状に形成された蛍光体層であ
る。蛍光体層１８の上面には中央に向かって徐々に深さ
を増す略球面状の反射集光面１８ａが形成され、また背
面電極１７の上面にも同様の反射集光面１７ａが形成さ
れている。

【００３３】上記の前面ガラス基板１１と背面ガラス基
板１６は所定の間隔をおいて対向しており、障壁１５で
区画される空間（放電空間）１９にはＮｅ，Ｎｅ＋Ｘｅ
等の希ガスが封入されている。

【００３４】ここで、図７に示したＰＤＰの製造方法に
ついて説明する。

【００３５】まず、前面ガラス基板１１となるガラス基
板上にＣＶＤ法によって厚さ０．５μｍ程度のＳｎＯ2
（酸化スズ）またはＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）製
の薄膜を形成し、これをウェットエッチングにより所定
のストライプパタ−ンに加工して放電電極１２ａ，１２
ｂを得る。

【００３６】次に、放電電極１２ａ，１２ｂ上の端部に
厚膜印刷法によってＮｉペ−ストを印刷し、これを焼成
して厚さ１５μｍ程度のバス電極３ａ，３ｂを得る。

【００３７】次に、放電電極１２ａ，１２ｂ及び電極３
ａ，３ｂが被覆されるように、ガラス基板上にＣＶＤ法
によって厚さ１μｍ程度のＭｇＯ（酸化マグネシウム）
製の薄膜を形成して保護誘電体層１４を得る。

【００３８】次に、保護誘電体層１４上に厚膜印刷法に
よってガラスペ−ストを数回繰り返して印刷し、これを
焼成して高さ１００μｍ程度の格子状の障壁１５を得
る。勿論、この障壁１５は予めガラス基板をＨＦ（弗化
水素）の水溶液でエッチングして形成しておいてもよ
い。

【００３９】一方、背面ガラス基板１６となるガラス基
板Ｋを洗浄，乾燥後に４５０℃で加熱し、ＣＭＤ法（化
学的霧化堆積法）を利用してＳｎｃｌ4 の１０％水溶液
を該基板Ｋ上に噴霧して厚さ０．５μｍ程度のＳｎＯ2
製の第１レジスト膜Ｒ１を形成する。続いて、第１レジ
スト膜Ｒ１上に光硬化性のレジスト剤（東京応化製，Ｐ
ＭＥＲ）をスピンナ−塗布し、１５０℃で１０分間プレ
ベ−クして厚さ０．１μｍ程度の第２レジスト膜Ｒ２を
形成する。そして、第２レジスト膜Ｒ２上に、幅５０μ
ｍの矩形状非透光部を２次元整列で有するホトマスクＭ
を載置する（図８参照）。

【００４０】次に、ホトマスクＭの上方から光を照射し
て露光し、露光後のガラス基板ＫをＫＯＨ（水酸化カリ
ウム）の現像液で現像し、１５０℃で１５分間ポストベ
−クして格子状の第１レジストパタ−ンＲＰ１を形成す
る（図９参照）。

【００４１】次に、上記ガラス基板Ｋの上面にＺｎ粉末
を全体が隠れる程度に散布し、これをＨｃｌの２０％水
溶液に２分間浸漬して、第１レジストパタ−ンＲＰ１を
マスクとして第１レジスト膜Ｒ１をエッチングし、第１
レジストパタ−ンＲＰ１と合致した格子状の第２レジス
トパタ−ンＲＰ２を形成する（図１０参照）。

【００４２】次に、ＨＦ（弗化水素）の５０％水溶液に
１０分間浸漬して、第２レジストパタ−ンＲＰ２をマス
クとしてガラス基板Ｋをエッチングする。ここでは、幅
１００μｍで深さ３０μｍの矩形状凹部Ｋａが得られた
（図１１参照）。

【００４３】次に、凹部Ｋａが形成された背面ガラス基
板１６の上面にＡｇペ−ストを厚膜印刷法によって印刷
し、該ペ−ストを焼成して厚さ１５μｍ程度の反射層１
７を得る。この反射層１７は背面ガラス基板１６の上面
にほぼぼ均一な厚みで形成され、凹部Ｋａ位置には反射
集光面９ａに対応する凹みが形成される。

【００４４】次に、反射層１７の上面に蛍光体ペ−スト
を厚膜印刷法によって印刷し、該ペ−ストを焼成して厚
さ１０μｍ程度の蛍光体層１８を得る。蛍光体ペ−スト
は反射層１７の上面形状に沿ってほぼ均一な厚みで印刷
され、この結果、蛍光体層１８には反射集光面１８ａに
対応する凹みが形成される。

【００４５】そして、上記の前面ガラス基板１１と背面
ガラス基板１６を所定の間隔をおいて対向させ、Ｎｅ，
Ｎｅ＋Ｘｅ等の希ガスを対向空間（放電空間１９）に封
入する。以上で図７に示したＰＤＰが製造される。

【００４６】本実施例のＰＤＰでも、蛍光体層１８の上
面に略球面状の反射集光面１８ａが形成されていること
から、プラズマ放電によって反射集光面１８ａに照射さ
れた光は、該反射集光面１８ａの形状に従って中央寄り
に反射して集光することになる。また、蛍光体層１８を
通過した光も、反射層１７の上面に形成された反射集光
面１７ａで同様の反射集光作用を受けることとなる。本
実施例で得られる効果は図１に示した実施例と同様であ
る。

【００４７】尚、上記各実施例では、反射集光面として
略球面状のものを示したが、該反射集光面は円錐或いは
角錐状等であっても同様の反射集光作用を得ることが可
能である。また、プラズマ放電で発生した光が主に蛍光
体層上面で反射されるので、上記の反射集光面は少なく
とも蛍光体層の上面に形成されていれば同様の作用，効
果を得ることができる。

【００４８】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１記載のプ
ラズマディスプレイによれば、放電時には蛍光体層の反
射集光面で反射し集光した後の色光をドット光として得
ることが可能であり、従来のものに比べ精細且つ高輝度
のドット光が得られる。

【００４９】また、請求項２記載のプラズマディスプレ
イによれば、蛍光体層を通過した光も第２の反射集光面
で同様の反射集光作用を受けることになるので、より高
い精細度と輝度を持つドット光を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した対向放電型ＰＤＰのセル構造
を示す断面図

【図２】図１に示したＰＤＰに係わる製造工程図

【図３】図１に示したＰＤＰに係わる製造工程図

【図４】図１に示したＰＤＰに係わる製造工程図

【図５】図１に示したＰＤＰに係わる製造工程図

【図６】従来の面放電反射型ＰＤＰのセル構造を示す断
面図

【図７】本発明を適用した面放電反射型ＰＤＰのセル構
造を示す断面図

【図８】図７に示したＰＤＰに係わる製造工程図

【図９】図７に示したＰＤＰに係わる製造工程図

【図１０】図７に示したＰＤＰに係わる製造工程図

【図１１】図７に示したＰＤＰに係わる製造工程図

【符号の説明】

１，１１…前面ガラス基板、５，１６…背面ガラス基
板、９，１８…蛍光体層、９ａ，１８ａ…反射集光面、
１０，１９…放電空間。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 前面ガラス基板と放電空間を介して対向
   する背面ガラス基板に蛍光体層を具備したプラズマディ
   スプレイパネルにおいて、 上記蛍光体層の上面に、中央に向かって深さを増す反射
   集光面を設けた、 ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 【請求項２】 蛍光体層の下側に位置する部材に、中央
   に向かって深さを増す第２の反射集光面を設けた、請求
   項１記載のプラズマディスプレイパネル。