JPH06510394A - 離層生成物の分離を伴うケーブルの連続製造方法とその方法に用いる装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 離層生成物の分離を伴うケーブルの連続製造方法とその方法に用いる装置 本発明は連続的なケーブル製造方法に関係し、ガス雰囲気の加熱部を有するＣＶ パイプを通し、次いで架橋のための冷却部を通して押し出したケーブルストラン ドを供給する方法に関する。

さらに、本発明はこの方法を実施する装置に関する。

このような方法と装置は知られている。プラスチック材料を硬化（架橋）させる ために、加熱部とその後の冷却部を有する所謂ｃ■バイブ（連続加硫）を通して 押し出しケーブルストランドを供給する。架橋プロセスは加熱部の中で生じる。

ここで、この架橋プロセスとその温度によって、不都合なガス離層生成物（ｅｌ ｅａｖａｇｅ　ｐｒｏｄｕｃｔｓ）か発生し、低温で凝縮し、バイブの不都合な 汚染を生じさせるだけてなく、バイブを離れて環境に影響を及ぼすことがある。

離層生成物は最初はガス状態として発生し、架橋バイブの特定温度範囲の低温部 分、特に冷却部の遷移領域に凝縮し、粘稠な悪臭物質となる。

１つはバイブの堅い汚れを防ぐため、もう１つは汚染による冷却水回路の負荷を 出来るだけ低く維持するため、連続生産の間にこれらの離層生成物をバイブから 除去する必要かある。また、装置を停止したときに離層生成物か発生する。

これらの離層生成物を除去するため、これまでは加熱部と冷却部の遷移領域に生 したほぼ油の稠度を存する物質を成る間隔で容器に取り出している。また、通常 は窒素である加熱ゾーンの離層生成物を含むガスを周期的に排気し、汚れを含ま ない新しいガスを満たしていた。しかしながら、この方法ではバイブが次第に汚 染されるのを避けることができず、装置を停止する必要がある大がかりな洗浄作 業が必要であった。このように、上記の方法はこのような問題を原理的に解決す ることができなかった。

このような問題に基づき、本発明は上記のパイプの汚れ、雰囲気ガスの汚れ及び ／又は冷却水の汚れの問題を殆と回避する連続的ケーブル製造のための方法と装 置を提供する。

本発明にしたがうと、この問題は次の工程を含む方法によって解決される。即ち 、架橋プロセスの際に生じたガス離層生成物を含むガスを加熱部の端部領域から 吸引し、このガスを処理過程に供し、分離の後、ガスをＣＶバイブの加熱部の入 口領域に再導入する。

したがって、本発明によると加熱部のガス（窒素）を連続的に循環し、同伴する 離層生成物を浄化し、浄化した状態でＣｖバイブに再導入する。これにより、パ イプの運転の間に連続的に発生した離層生成物はパイプから連続的に排出され、 そのガス雰囲気から分離される。したがって、離層生成物は排出ガス雰囲気によ って制御された方法でＣＶパイプより排出される。基本的に重要なことは、この 方法はＣｖパイプの操作の間に連続的に行い、洗浄プロセスを行うためにＣｖパ イプを停止してはならないことである。大気又は冷却水に放出されるその他の汚 染物の量は、ＣＶバイブからのガス雰囲気の連続処理によって最小限に抑えられ る。

好ましくは、処理プロセスの主な工程は離層生成物を含むガスを洗浄工程に供す ることである。この洗浄工程において、ガスをＣｖバイブに再導入できにように 、離層生成物をガス（窒素）と分離する。ＣＶバイブから洗浄設備までの途中で 離層生成物の予備的凝縮を防ぐために、そのガス排出ラインに適切な断熱材を用 意する及び／又は付加的な加熱を提供する。

好ましくは、水を洗浄プロセスの洗浄媒体として使用する。離層生成物の高分離 率を達成するため、例えば５°Ｃといった比較的低い水温を維持する。

洗浄工程で得られた純化ガスは比較的高い湿度を有するため、好ましくは乾燥す る。乾燥の後、ガスをＣｖバイブに導入する前に、好ましくはガスをＣｖバイブ の加熱部の入口区域の対応する操作温度に加熱する。この方法により、Ｃｖバイ ブの操作は本発明のガス循環に影響されない。好適には、ガスを洗浄後の乾燥前 に予熱する。

本発明による改良にしたがうと、洗浄プロセスで発生する離層生成物を含む水を 、離層生成物を離層生成物を分離するための分離プロセスに供する。この分離プ ロセスは、好ましくは緩和部内での重力分離である。重い離層生成物は堆積し、 集めて処分することができる。また、洗浄プロセスで生じる水からの離層生成物 の分離は、この他に又は付加的に冷却、塩の添加、又は他の類似手段を用いて行 うことかできる。

好ましくは、洗浄プロセスで生じる離層生成物を含む水は収集し、その後又は同 時に、離層生成物の分離のための分離プロセスに供する。収集工程と分離工程を 同時に行う場合、緩和部内で重力によって上記の分離を行うことが適切である。

ここで、収集工程とその分離工程は続けて行うことも可能である。

重力による上記の分離に加えて又はそれに代えて、遠心分離によって分離プロセ スを行うこともできる。この方法は重力による上記の分離よりもプロセスを速く 行うことができる長所を有し、このため水と離層生成物の特に良好な分離を達成 することができ、少量の水のみを処分する必要がある。遠心分離で生じた純化水 は、好ましくは回路にポンプて戻す。分離した濃縮された離層生成物を集めて処 分する。

洗浄プロセスで生じた離層生成物を含む水は、好ましくは遠心分離による分離プ ロセスに供する前に集めるため、例えば５０リットル／時（＋／ｈ）の高出力を 有する遠心分離（セパレーター）の断続的操作を使用することがあり、相当量の 液体を収集したときに断続的に操作する。遠心分離工程により、含まれる（ｄｅ ｐｏｓｉｔ）約１〜２９６の固体は６０〜５０％の水と３９〜４８％の濃縮され た離層生成物となる。

本発明の改良にしたがうと、重力分離及び／又は遠心分離のような分離プロセス を行うために、水相の密度を増加させる。これは例えば塩の添加によって達成す ることができ、ＮａＣ１又はＮａＣ０゜の５９６溶液の添加によって特に良好な 結果が得られる。これにより、離層生成物と水の比重量の違いが増加し、離層生 成物が浮く。さらに、遠心分離工程で高い効率か達成できる。分離プロセスの改 良のもう１つの可能性は、離層生成物の密度を下げるために、離層生成物を含む 洗浄プロセスで生じた水を加熱する（例、４５°Ｃ）ことである。

さらに、上記の問題は請求の範囲第１３項の記載のプロセスを実施するための装 置によって解決される。この装置は加熱部のガスの処理装置、及びＣ■パイプの 加熱部の端部からその入り口まで延びる配管（ｐｉｐｅ　ｃｉｒｃｕｉｔ）を含 む。処理装置はこの配管に組み込む。

好ましくは、処理装置は主な構成成分としてガス洗浄機、ガス洗浄機の後ろに配 置したガス乾燥機を含み、洗浄・乾燥したガスをＣＶバイブの操作温度まて戻す 。好ましくは、ガス洗浄機は、ガス洗浄機の中で洗浄媒体（水）の温度を離層生 成物の分離効率に最も適する温度に保つための冷却装置を備える。好ましくは、 この温度は５°Ｃである。冷却装置はパイプコイルの形状で伸びてガス洗浄機を 通る冷却回路を存する。Ｃ■パイプからガス洗浄機に延びる配管部は、好ましく はこのパイプラインの凝縮（離層生成物の）を防ぐために保温する。配管は、ガ ス洗浄機より好ましくは吸着乾燥機である上記のガス乾燥機に延びる。好ましく はこの吸着乾燥機は複式装置てあり、各々の内容物が飽和したときに自動的に切 り替わる。循環ガスの一部を乾燥機の内容物の再生に使用する。

好ましくは、ガス洗浄機を出た湿度の高い浄化ガスを予熱するためガス洗浄機と 乾燥機の間にヒーターを設置する。好ましくは、乾燥機に前フィルターと後フィ ルターを備える。好ましくは、吸着乾燥機において露点−４０°Ｃの湿度まで乾 燥する。

吸着乾燥機の後に配置した後ヒーターは、好ましくは所望の温度を絶えず調節す ることができる電気ヒーターである。ガスの相対湿度は約４００〜４２０°Ｃに 加熱した後は再びかなり低下する。

装置を停止したときのＣＶパイプ中のガスは、ガス洗浄機と後ヒーターの間に配 置したバルブを用いて放出する。この位置でガスを排出することによってガス洗 浄機を通って残りのガスが供給され、したかって浄化される。放出バルブを出た 後、このガスは追加の乾燥を全くせずに大気に出すことができる。

乾燥機の再生の際に発生し、臭気物質に富むガスと水蒸気の混合物は好ましくは 大気に放出する前に活性炭のフィルターを通す。

セパレーター装置をガス洗浄機の洗浄媒体（水）の回路に配置する。このセパレ ーターにおいて、洗浄媒体に同伴された離層生成物は洗浄媒体から分離される。

好ましくは、このセパレーター装置はガス洗浄機から排出された汚染洗浄媒体を 入れる容器を含む。好ましくは、セパレーター装置は重力分離によって操作され 、重い離層生成物は容器からセパレーター装置の底の付近に投入する。これは冷 却を伴う場合である。塩を添加すると離層生成物は塩の水溶液よりも軽い。分離 壁の後ろに高い位置の容器より軽い水を投入し、ガス洗浄機に再循環する。適切 には、セパレーター装置はそのレベルを調節する手段とスイッチを有する。好ま しくは、セパレーター装置の容器の中の洗浄媒体の１ノヘルの上に（プクンヨ： ノブロ了−を設置する。活性炭フィルターを１−のブロアーに取り付ける。

本発明によって操作するＣ■バイブの加熱部の１６記のガス、離層生成物を分離 のためのＣＶバイブの外側のガス、Ｃｖパイプの入口部に再循環するガスは、好 ましくは窒素である。

洗浄プロセスで発生し、離層生成物を含む水の回収を行うための本発明の装置は 、好にシ＜は配ｋによってガス洗浄機に接続した回収容器を含む。、二の回収容 器は、重力沈降法によって分離プロセスを行うための離層生成物の沈降槽を有す ることかできる。ニーで、回収容器を沈降槽と離して位置させることもできる５ ゜分離プロセスを遠心沈降によって行う場合、装置は沈降槽に代えて又はイ」加 して用意する。二とかできる遠心！！（セパレーター）を有する。往昔の場合、 沈降槽の一ド流に設置し、沈降槽の上部の未だ離層生成物を含む水をｔＪＦ出し 、第二の分離プロセスを行うための遠視に供給する。ここで得られた浄化水は沈 降槽に再循環する。分離した離層生成物は収集容器で収集し、処分する。

次に本発明を特定の態様及び図面によって詳細に説明する。図面１−おいて、 図１は本発明の方法を実施ずろための装置の略図であり、図２は遠心機を用いて 操作する場合の装置の（＝１加曲部分の１１１３図であり、 図；（は使用した遠心機の縦断面を示す。

図１において、ケーブルストランドのプラスチックシートを架橋するためのＣｖ バイブを１と簡単に示している。その中の矢印はケーブルの動きの方向を示す。

Ｃ■パイプの図示した部分は加熱部であり、Ｆ流に冷却部（図示せず）を有する 。

配管２はＣＶバイブの加熱部の端部で枝分かオ］する。配管はＣ）ｌバイブの加 熱部の入口部に戻る。このバイブ部分２は、架橋によって発生し、加熱部で用い るガス（窒素）に同伴された離層生成物の処理装置３を含む。処理装置３１：１ おいて離層生成物はガスから分離され、ガスは浄化された状態でＣ■バイブに再 導入することかできる。

Ｃ■パイプから出た離層生成物か早期に凝縮し、配管２の中に不都合な油状物質 を形成することを避けるために、Ｃ■パイプから処理装置３の第１工程（ガス洗 浄機５）に延びる図４に示すような配管を保温する。ガス洗浄機５は冷却回路７ の一部を形成する冷却コイル８か位置するチャンバーを含む。ガスの洗浄媒体と して使用−する水をチャンバーの成る１ノベルまで満たす。そのレベルをレベル スイッチ９て監視する。冷却装置６を冷却回路７の中に配置する。冷却装置６は 冷却コイル８を循環する冷媒によってガス洗浄機５の水温を５°Ｃに保つ。この 温度は離層生成物のガスからの最適分離速度を保証する。ガスはガス洗浄機５の チャンバーの下に導入され、中に含まねる水を通って上昇する。これにより離層 生成物はガスと分離し、水中を通り、水配管１０を通ってガス洗浄機のチャンバ ーから排出される。レベル調節手段（フロー１−スイッチ）９はガス洗浄機の中 の水位を調節する。水位か成るレベルを超えると離層生成物を含む水が水配管ｌ Ｏを通ってセパレーター装置１１に排出される。この２つのチャンバーのセパレ ーター装置ｌｌにおいて、凝縮した離層生成物は水と分離する。これはセパレー ター装置１１の中の緩和チャンバーで重力分離によって行う。冷えると重い離層 生成物は降下し、ポンプ１５によって適切な収集容器（図示せず）へ次の処理の ために送る。セパレーター装置を２つのチャンバーに分ける分離壁１２をセパレ ーター装置１１の中に設置する。この分離壁を水が乗り越える。

これによって形成された第−チャンバーよりポンプ１４を用いて浄化水を取り出 し、ガス洗浄機５に再度ポンプ輸送する。セパレ−ター装置１１への新しい給水 を１３と承ず。比重量に応答するスイッチを１６と不す４、二のスイッチは離層 生成物を排出するポンプ１５を制御する。

レベル調節計１８、ブロア−１９、活性炭フィルター２０をセパレーター装置の 中の水位の−Ｌに設置する。ブロアーは活性炭を通った残留ガスを（ｊ［気する ために役立つ。

通常の操作中は、２−３時間に１回、ポンプ１４を用いてセパレーター’Ａ　置 １１から浄化水をガス洗浄機５に再導入する。浄化ガスはガス洗浄機５の−に部 のチャンバーから取り出し、後ヒーター２１で予熱する。次いで予熱したガスは 前フィルター２２を通して吸着乾燥機２４の中に導入する。吸着乾燥機は復式装 置であり、フィルター内容物か飽和すると自動的に切り替わる。その切り替えコ ックを２３と示す。

乾燥したガスは吸着フィルター２４を出て後フィルター２５を通り、循環ポンプ ２６によって電気ヒーター２７に供給される。ヒーターは乾燥ガスの温度をＣＶ バイブ１の加熱部の操作温度に戻す。次いで保温配管２８を通してガスをＣ■バ イブの加熱部の入口部に再導入する。

乾燥したガスの温度は定常的に調節することかできる。ヒーター２７の中でガス は約４００〜４２０°Ｃに加熱され、それによりガスの相対湿度は再びかなり低 下する。循環ポンプ２６の容量は、処理配管の容積を含む加熱部のガス容積か１ 時間で約５回循環するように設計する。

装置を停止した場合、Ｃｖバイブ中のガスはガス洗浄機５と後ヒーター２１の間 に設置したバルブ３１を用いて放出する。この位置でガスを放出することにより 残存ガスもまた洗浄機を通って浄化される。

一部の循環ガスを、吸着乾燥機２４の中の内容物を再生するために使用する。乾 燥機２４の再生の際に生じた臭気を含むガスと水蒸気の混合物は大気に放出する 前に導管、バルブ２９、活性炭フィルター３０を通して乾燥機より放出する。

図２は付加的に遠心分離機３０（セパレーター）を備えた処理装置のもう１つの 態様を略図で示す。実際の処理装置を３と略図で示す。

これは図１の装置と同じ構造を有する。離層生成物を含む水は水回路１０を通っ てセパレーター装ｆｆ１ｌに投入される。セパレーター装置は同時に収集容器と して役立つ。この２つのチャンバーのセパレーター装ｆｕｌｌにおいて、凝縮離 層生成物は、同様に重力分離によってセパレーター装置１１の中の緩和チャンバ ーの中で水と分離する。したがって、セパレーター装置１１もまた図１と違わな い。フロートスイッチ３３はセパレーター装置への新しい給水用のバルブ３４を 制御する。

導管３５により離層生成物を含む水を緩和領域から取り出して遠心分離機（セパ レーター）３０に供給する。導管３５は遮断バルブ３６を有する。遠心分離機の 正確な設計は図３に示した。遠心分離機によって回収した実質的にきれいな水は 導管３７より取り出して供給ポンプ３１によってセパレーター装置１１の新しい 給水に再度混合する。濃縮された離層生成物は遠心分離機から導管３８を通して 取り出され、適切な収集容器３２に入れる。この容器からこれらを同様に処分す ることかできる。

図３は遠心分離機の縦断面を示す。この設計の遠心分離機は少量の軽い液体を有 する液体の分離、即ち離層生成物から残りの水を分離するのに特に適する。混合 物を入口４０を通して導入し、そこから回転ディスクパッケージ４５を備えた分 離チャンバーに供給する。混合物に回転力を適用し、重い水を遠心作用によって チャンバーの周囲に送り、そこからグリッパ−４２を通して出口４１に送る。軽 い離層生成物は収集フードの中に自由に入り、出口４３より排出される。ドラム は、グリッパ−軸の下を走るグリッパ−チャンバーの上の液を入口に供給する構 造である。

当然ながら、上記の構成は単なる１例であり、他の適切な遠心分離機又はセパレ ーターに代えることは可能である。

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. １．押し出したケーブルストランドを、架橋のためのガス雰囲気による加熱部と その後の冷却部を有する連続加硫パイプを通過させるケーブルの連続的製造方法 であって、架橋過程の間に発生したガス離層生成物を含むガスを加熱部の端部領 域で連続的に吸引し、該ガスを処理過程に供し、分離操作の後、連続加硫パイプ の加熱部の入口領域に該ガスを再導入するケーブルの連続的製造方法。
2. ２．離層生成物を含むガスを処理過程において洗浄過程に供し、それにより離層 生成物をガスから分離する請求の範囲第１項に記載の方法。
3. ３．ガスを洗浄後に乾燥する請求の範囲第２項に記載の方法。
4. ４．乾燥後で連続加硫パイプに導入する前のガスを、連続加硫パイプの加熱部の 入口領域の相当する操作温度に加熱する請求の範囲第３項に記載の方法。
5. ５．洗浄後の乾燥前のガスを予熱する請求の範囲第３項に記載の方法。
6. ６．洗浄過程から生じた離層生成物を含む水を収集する請求の範囲第２項に記載 の方法。
7. ７．洗浄過程から生じた離層生成物を含む水を、離層生成物の分離のための分離 過程に供する請求の範囲第２項に記載の方法。
8. ８．分離した離層生成物を収集して処分する請求の範囲第７項に記載の方法。
9. ９．分離過程を重力分離及び／又は遠心分離によって行う請求の範囲第７項に記 載の方法。
10. １０．洗浄過程から生じた離層生成物を含む水を、重力分離による第一分離過程 に供し、重力分離から生じた未だ離層生成物を含む水を遠心分離による第二分離 過程に供する請求の範囲第９項に記載の方法。
11. １１．分離過程を行うために水相の密度を増加させる請求の範囲第７項に記載の 方法。
12. １２．洗浄過程から生じた離層生成物を含む水を、分離過程を行うために加熱す る請求の範囲第７項に記載の方法。
13. １３．ガス加熱部の処理装置（３）、連続加硫パイプ（１）の加熱部端部領域か ら連続加硫パイプ（１）の入口部に延びてその中に処理装置（３）を組み込んだ 配管（２）を含む請求の範囲第１〜第１２項のいずれか１項に記載の方法を実施 するための装置。
14. １４．処理装置（３）がガス洗浄機（５）を含む請求の範囲第１３項に記載の装 置。
15. １５．処理装置（３）が吸着乾燥機（２４）を含む請求の範囲第１３項に記載の 装置。
16. １６．処理装置（３）が、ガス洗浄機（５）と吸着乾燥機（２４）の間に組み込 んだ後ヒーター（２１）を含む請求の範囲第１３項に記載の装置。
17. １７．ヒーター（２７）を吸着乾燥機（２４）の下流に設置する請求の範囲第１ ５項に記載の装置。
18. １８．吸着乾燥機（２４）が複式装置である請求の範囲第１５項に記載の装置。
19. １９．ガス洗浄機（５）が冷却回路（７）を含む請求の範囲第１４項に記載の装 置。
20. ２０．ガス洗浄機（５）を配管によって収集容器に接続した請求の範囲第１４項 に記載の装置。
21. ２１．ガス洗浄機（５）を配管（１０）によって分離装置（１１）に接続し、該 分離装置（１１）は離層生成物の沈降槽を有する請求の範囲第１４項に記載の装 置。
22. ２２．分離装置（１１）が遠心分離機（３０）を含む請求の範囲第２１項に記載 の装置。
23. ２３．遠心分離機（３０）を沈降槽の下流に設置した請求の範囲第２２項に記載 の装置。