JPH06506784A - リス印刷版 - Google Patents

リス印刷版

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JPH06506784A
JPH06506784A JP4509973A JP50997392A JPH06506784A JP H06506784 A JPH06506784 A JP H06506784A JP 4509973 A JP4509973 A JP 4509973A JP 50997392 A JP50997392 A JP 50997392A JP H06506784 A JPH06506784 A JP H06506784A
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leuco
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JP4509973A
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ミッチェル,ジェームズ エドワード
ウェスト,ポール リチャード
ジョセフソン,ポール リチャード,ジュニア
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コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 リス印刷版 技術分野 本発明は一般にリス(又はリフグラフ)印刷版(Li thographicp rirrfing plate)に関し、特に光架橋性ポリマーを含む放射線感 光性組成物からなるリス印刷版に関する。更に詳しくは、本発明は光架橋性ポリ マーを含む放射線感光性組成物及び活性放射線への露光の目に見える焼出しく  print−out)を与える焼出し組成物からなるネガ型リス印刷版に関する 。
背景技術 リソグラフ印刷の技術は、油と水との非混和性に基づくものであり、この技術に 於いては、油性物質又はインキは優先的に画像領域に留まり、水又はファウンテ イン溶液(fountain 5olution)は優先的に非画像領域に留ま る。適当に調製した表面を水で湿潤させ、次いてインキを適用した場合に、バッ クグラウンド又は非画像領域は水を留め、インキをはじくのに対し、他方画像領 域はインキを受け入れ、水をはじく。次いで画像領域上のインキを、紙、布等の ような画像を再生すべき材料の表面に転写する。一般的にインキは普通ブランケ ットと呼ばれる中間材料に転写され、その中間材料は次いて画像を再生すべき材 料の表面にこのインキを転写する。
ネガ型リス印刷版は、放射線露光領域で架橋するポリマーから形成されているネ ガ型放射線感光性組成物から製造される。現像液を使用して、塗膜の未露光部分 を除去することによってネガ画像を形成する。
最も広範囲に使用される種類のネガ型リス印刷版は、アルミニウム基体に適用さ れた放射線感光性組成物の層からなり、普通、放射線感光性層の基体への結合を 調節するための下塗層又は中間層を含んでいる。アルミニウム基体には典型的に 、電解質水溶液中でアルミニウムを陽極酸化することにより形成される陽極酸化 皮膜が形成されている。
ポリマー主鎖の欠くことのできない部分(integral part)として 感光性基: を含有する光架橋性ポリマーを含む放射線感光性組成物を利用してネガ型リス印 刷版を製造することはよ(知られている。(例えば、米国特許第3.030.2 08号、同第3.622.320号、同第3.702.765号及び同第3.9 29.489号参照。)このような光架橋性ポリマーの典型的な例は、ジエチル  p−フェニレンジアクリレート及び1.4−ビス(β−ヒドロキシエトキシ) シクロヘキサンから製造されたポリエステルであり、これは式: の繰り返し単位からなっている。以後ポリマーAと言うこのポリエステルは、商 業ベースで広く使用されてきたリス印刷版で多年に亘って使用されてきた。これ らの印刷版は典型的に、燐酸からなる電解質での電解陽極酸化により形成された 陽極酸化アルミニウム基体を使用してきた。
ポリマーAに加えてリス印刷版の製造に特に有用であるポリエステルは、ジメチ ル−3,3’−((ソジオイミノ)ジスルホニルフジベンゾエート及びジメチル −5−ソジオスルホイソフタレートのようなモノマーから誘導されるイオン性単 位を組み込んだものである。この種類のポリエステルはよく知られており、例え ば、1975年12月30日発行の米国特許第3.929.489号に記載され ている。以後ポリマーBと言うこの種類の好ましいポリエステルは、ポリ(1, 4−ソクロヘキシレンービス(オキシエチレン)−p−フェニレンジアクリレ− トコ−共−3,3’−((ソジオイミノ)ジスルホニルフジベンゾエートである 。以後ポリマーCと言うこの種類の好ましいポリエステルは、ポリ〔l、4−シ クロヘキシレン−ビス(オキシエチレン)−1−フェニレンジアクリレート)− 共−3,3’−〔(ソジオイミノ)ジスルホニルフジベンゾエート−共−ヒドロ キシイソフタレートである。
上記の種類のネガ型リス印刷版の製造者は典型的に、活性化放射線への露光で光 学的濃度差を作る印刷版の放射線感光性層に焼出し組成物を含有させる。このこ とにより、顧客はそれを現像処理する前に印刷版の露光された画像を見ることが 可能になる。
このような焼出しを得るだめの好ましい技術は、ロイコ形の色素及び光酸化剤か らなる焼出し組成物を使用することによるものである。光酸化剤の特に好ましい 種類は、光開裂性窒素−酸素結合を有する光酸化剤である。それは、これらが他 の光酸化剤よりも、改良された焼出し濃度をもたらす能力を含む重要な利点を示 すからである。光開裂性窒素−酸素結合を有する光酸化剤の例は、1984年1 月10日発行のAltland他の米国特許第4,425.424号に記載され ているスルホニルオキシ−N光酸化剤である。Altland他の特許に説明さ れているように、ロイコ形の色素は1個又はそれ以上の除去できる水素原子を有 しており、この除去によりロイコ形とは異なった色に着色された化合物が形成さ れ、そしてまた光活性化剤とも言われる光酸化剤は、活性化放射線に露光された ときロイコ色素を異なった着色形に変えることが可能である。Altland他 の特許の光酸化剤は、式。
(式中、Rは5〜10個の環原子を含む炭素環又は複素環であり、Zは5〜17 個の環原子を含む1個または2個以上の環を完結するために必要な非金属性原子 を表す) のスルホニルオキシ−N化合物である。
光開裂性窒素−酸素結合を有する光酸化剤の他の例には、米国特許第3.359 .109号のN、 N、 O−)リアシルヒドロキシルアミン類、米国特許第4 .954.415号のO−アシルチオヒドロキサメート類及びN−アルコキシピ リジンチオン類、米国再発行特許第28.240号のN−アルコキシピリジニウ ム塩類、米国特許第4.886.735号のオキシカルボニルオキシ置換ピリジ ニウム塩類、ヨーロッパ特許第361.907号のオキシムスルホン酸エステル 並びにヨーロッパ特許第332.158号のオキシムカルボン酸エステルが含ま れる。
光開裂性窒素−酸素結合を存する光酸化剤を含む焼出し組成物は有用な結果をも たらし、工業的に重要性の大きいものであるが、このような焼出し組成物の光効 率を改良するための当該技術分野に於ける緊急のニーズかある。この焼出し組成 物は、印刷版のスピード感度の重大な減少を起こすことなく容易に観察される、 露光での十分な色素濃度を生じなくてはならない。即ち、焼出し組成物は典型的 には、印刷版の光画像形成成分のために必要な露光エネルギーの過剰量を消費し ないために、できるだけ少量で使用される。これは画像か弱すぎて容易に観察し 得ない結果にする傾向がある。焼出し組成物の光効率の改良は、それが一層明瞭 でそのために一層容易に識別できる焼出し画像の形成を可能にし、一方それ以上 の感度の損失を避けるので、非常に望ましい。また、光効率に於ける改良は、焼 出し成分の濃度のより以上の減少を可能にし、そうして光感度を改良し、一方焼 出し画像を識別する性能を落とさない。光効率の改良は、焼出し組成物又はそれ が含有される放射線感光性ポリマー組成物の性質に悪い影響を与えることなく行 われなくてはならないので、光効率の改良は達成するのが非常に困難である。
本発明が指向するものは、光架橋性ポリマー及び光効率の増大した焼出し組成物 からなる改良されたリス印刷版の提供にある。
発明の開示 本発明に従えば、(1)ポリマー主鎖の欠くことのできない部分として感光性基 : − CM 富 CH−C− を含有する光架橋性ポリマー; (2)1個又はそれ以上の除去可能な水素原子 を有するロイコ形の色素(この除去によってロイコ形とは異なった色に着色され た化合物が形成される);及び(3)光開裂性窒素−酸素結合を有する光酸化剤 (この光酸化剤は組成物を活性化放射線に露光したときにロイコ色素を異なった 色に着色された形に変える作用をする)を含んでなる放射線感光性組成物中に、 複素芳香族アミンN−オキシトを含有させ、そしてリス印刷版の画像形成層を調 製するためにこの放射線感光組成物を使用する。
放射線感光性組成物に複素芳香族アミンN−オキシトを含有させることにより、 焼出しのレベルが極めて著しく増加する。即ち、この焼出し組成物は非常に少量 で使用したときても、容易に識別できる画儂を得ることかできる。また、最も有 効な複素芳香族アミンN−オキシドは貯蔵寿命の改良、即ち、印刷版の貯蔵の結 果得られる焼出し濃度の低下か非常に少ないか又は無いという非常に重要な利点 を与える。この複素芳香族アミンN−オキシトは、それか焼出し組成物又は放射 線感光性ポリマー組成物の性質に有害な影響を与えることなく、光効率を増加さ せることかできる点で特に有利である。
好ましい態様の説明 本発明は、ロイコ色素及び光開裂性窒素−酸素結合を有する光酸化剤を含有する 焼出し組成物の大きな改良を提供する。この改良は、焼出し組成物の光効率を増 大させる機能をする複素芳香族アミンN−オキシトの有効量を焼出し組成物に含 有させることによって達成される。
従来、広範囲に変わった構造の種々の有機N−オキシトを、感光性組成物の感光 度を増大させる際に使用することが提案されてきた。
これに関して、興味ある先行技術には、色形成性化合物、活性化剤及び有機N− オキシドを含む感光性組成物を記載した米国特許第3、481.739号1更に 赤外安定剤として作用するフェノール性化合物を含む同様の感光性組成物を記載 した米国特許第3.510.309号:色形成性化合物、活性化剤及び芳香族ア ミンN−オキシド(共に感光度を増大し湿度に対する感受性を減少させる)を含 む感光性組成物を記載した米国特許第3.827.887号、並びにイミン官能 基及びヒトロキンル基を含み、任意に有機N−オキシトを含む化合物からなる感 光性組成物を記載した米国特許第4.066、459号が含まれる。
従来、N−オキシドを感光性組成物に光酸化剤として使用することが提案されて きた。例えば、ピリジンN−オキシド及びキノリンN−オキシド又はこれらの第 四級塩が、米国特許第3.582.342号に於いて光酸化剤として使用されて いる。
従来、N−オキシドを、保存剤、増感剤、安定剤及び発色現像促進剤のような目 的のために感光性組成物に使用することが提案されてきた。即ち、例えば、米国 特許第4.251.619号には4−フェニルピリジンN−オキシト、ベンゾキ ノリンN−オキシド及び4−ピコリンN−オキシドを含む感光性組成物が記載さ れ、米国特許第4、640.886号には4−ピコリンN−オキシトを含む感光 性組成物が記載されている。
ロイコ色素及び光開裂性窒素−酸素結合を有する光酸化剤を含む焼出し組成物を 光効率を改良するための試薬として複素芳香族アミンN−オキシトを使用するこ とは、先行技術には記載されておらず、この組合せは焼出し特性の増大を与える 上で特異的に有効である。
これらの特性の増大は、光架橋性ポリマーからなる放射線感光性組成物に於いて 特に有利であり、ネガ型リス印刷版の他の多くの重要な性質にも悪影響を与える ことなく、焼出し組成物が増大した焼出しをもたらすネガ型リス印刷版に於いて 特別の利点を見い出す。
本発明のリス印刷版に使用される放射線感光性組成物は、ポリマー主鎖の欠くこ とのできない部分として感光性基:を含有する、ポリエステルのような光架橋性 ポリマーからなる。例えば、好ましい光架橋性ポリマーは、下記の式により表さ れる1種又はそれ以上の化合物から製造されたポリエステルである。
(式中、R2は、1種又はそれ以上の、炭素数1〜6のアルキル、炭素数6〜1 2のアリール、炭素数7〜20のアラルキル、炭素数1〜6のアルコキシ、ニト ロ、アミノ、アクリル、カルボキシル、水素又はハロゲンであり、少なくとも1 個の縮合部位を与えるように選択され、そしてR1は、ヒドロキシ、炭素数1〜 6のアルコキシ、ハロゲン又は化合物が酸無水物である場合にはオキシである) 。
好ましい化合物はp−フェニレンジアクリル酸又はその官能性等個体である。こ れら及び他の有用な化合物は、米国特許第3.030.208号(1962年4 月17日5che l lenberg他に対し発行)、米国特許第3、702 .765号(1972年11月14日Laaksoに対し発行)及び米国特許第 3、622.320号(1971年11月23日A11enに対し発行)に記載 されている。これらの開示は本明細書に引用によって含める。
R3は上記に定義した通りであり、R4は炭素数1〜4のアルキリデン、炭素数 7〜16のアラルキリデン又は5員若しくは6員の複素環である。式(B)の特 に有用な化合物は、シンナミリデンマロン酸、2−ブテニリデンマロン酸、3− ペンテニリデンマロン酸、0−ニトロノンナミリデンマロン酸、ナフチルアリリ デンマロン酸、2−フルフリリデンエチリデンマロン酸及びこれらの官能性等価 体である。これら及び他の有用な化合物は、米国特許第3.674.745号( 1972年7月4日Ph1lipot他に対し発行)(その開示を本明細書に引 用によって含める)に記載されている。
R3は上記に定義した通りであり、R1は水素又はメチルである。
式(C)の特に有用な化合物は、トランス、トランス−ムコン酸、シス−トラン スムコン酸、シス、シスムコン酸、α、α′−シス。
トランス−ジメチルムコン酸、α、α′−シス、シス、−ジメチルムコン酸及び これらの官能性等価体である。これら及び他のを用な化合物は、米国特許第3. 615.434号(1971年10月26日McConkeyに対し発行)(そ の開示を本明細書に引用によって含める)に記載されている。
R2は上記に定義した通りであり、Zは炭素数6又は7の不飽和架橋又は非架橋 炭素環核を形成するために必要な原子群を表す。このような核は置換されていて も置換されていなくてもよい。式(D)の特に有用な化合物は、4−シクロヘキ セン−1,2−ジカルボン酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、ヘキ サクロロ−5(2:2:1)−ビシクロへブテン−2,3−ジカルボン酸及びこ れらの官能性等価体である。これら及び他の有用な化合物は、カナダ特許第82 4.096号(1969年9月30日Meneh他に対し発行)(その開示を本 明細書に引用によって含める)に記載されている。
R′は上記に定義した通りであり、R6は水素、炭素数1〜12のアルキル、炭 素数5〜12のシクロアルキル又は炭素数6〜12のアリールである。R1は可 能な場合、ハロゲン、ニトロ、アリール、アルコキシ、アリールオキシ等のよう な縮合反応と干渉しないような置換基で置換されていてもよい。カルボニル基は 、互いにメク又はパラで、好ましくはパラでシクロへキサジエン核に結合してい る。式(E)の特に有用な化合物は、■、3−シクロ−へキサジエン−I。
4−ジカルボン酸、1. 3−シクロ−へキサジエン−1,3−ジカルボン酸、 1,5−シクロ−へキサジエン−1,4−ジカルボン酸及びこれらの官能性等個 体である。これら及び他の有用な化合物は、ベルギー特許第754.892号( 1970年10月15日発行)(その開示を本明細書に引用によって含める)に 記載されている。
本発明で使用するための好ましい光架橋性ポリエステルはp−フェニレンジアク リレートポリエステルである。
上記の光架橋性ポリマーに加えて、本明細書に記載の放射線感光性組成物には焼 出し組成物が含まれる。焼出し組成物の本質的な成分は、(a)1個又はそれ以 上の除去できる水素原子を有するロイコ形の色素(この除去によってロイコ形と は異なった色に着色された化合物が形成される); (b)光開裂性窒素−酸素 結合を有し、組成物を活性化放射線に露光したときにロイコ色素を異なった色に 着色された形に変えることができる光酸化剤:及び(C)焼出し組成物の光効率 を改良する機能を果たす複素芳香族アミンN−オキシドである。
1個又はそれ以上の水素原子の除去によって異なった色に着色された形に変わる すべてのロイコ色素が本発明で有用である。光重合体を活性化するために使用さ れる波長で著しく吸収しない色素が好ましい。除去可能な水素原子(単複)が立 体的に障害を受けていないロイコ色素が最も好ましい。即ち、有用な色素は、米 国特許第3、359.109号及び同第4.139.390号(その開示を本明 細書に引用によって含める)に記載されている種類から入手できる。アミノトリ アリールメタン類、例えば、4.4’、4’−メチリデントリス(N、N−ジプ ロピルアニリン)及び4.4’、じ−メチリデントリス(N、N−ジメチルアニ リン);3.6−ビス(ジメチルアミノ)−9−(p−ジメチルアミノフェニル )キサンチン及び3゜6−ビス(ジエチルアミノ)〜9−(p−ジメチルアミノ フェニル)キサンチンのようなアミツギサンテン類二アミノチオキサンチン類二 アミノフェノキサジン類;アミノフェノチアジン類;3,6−ビス(ジメチルア ミノ)−9−(p−ジメチルアミノフェニル)フェナジン及び3,7−ビス(ジ メチルアミノ)−5,10−ジヒドロ−5−フェニルフェナジンのようなアミノ ジヒドロフェナジン類;l。
l−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)メタンのようなアミノジフェニルメタ ン類:ロイコインダミン類;4−(p−クロロアニリノ)−α、β−ジンアノヒ ドロ桂皮酸メチルエステル及び4−アニリノ−α、β−ジシアノヒドロ桂皮酸メ チルエステルのようなアミノヒドロ桂皮酸類;1−(2−ナフチル)−2〜フエ ニルヒドラジン及びI−(p−ジメチルアミノフェニル”)−2−(2−ピリジ ル)ヒドラジンのようなヒドラジン類−ロイコインジゴイド色素;アミノ−2, 3−ジヒドロアントラキノン類:並びにN−(2−シアノエチル>−p−フェネ チルアニリン及びN、 N−ジエチル−p−フェニルエチルアニリンのようなフ ェネチルアニリン類が含まれる。
本発明で有用な光酸化剤は、光開裂性窒素−酸素結合を有するものである。即ち 、これらはその構造内に基:を含む化合物である。
本明細書で使用するとき、用語「光開裂性(photoscissionabl e)jは、活性化放射線により、光分解機構によるように直接的にか又は活性化 放射線により開始される電子移動によるように間接的に開裂れ得ることを意味す る。
スルホニルオキシ−N光酸化剤は、その構造中に基。
を含む化合物である。この種類の特に有効な化合物は、1984年1月10日発 行のAltland他の米国特許第4.425.424号に詳細に記載されてい る。
本発明の目的のための有用なスルホニルオキシ−N光酸化剤には式: (式中、R1は5〜lO個の環原子を含む炭素環又は複素環であり、そしてZは 5〜17個の環原子を含む1個又はそれ以上の環を完結するために必要な非金属 原子を表す) の化合物が含まれる。
本明細書で使用する、光酸化剤のR1についての「炭素環」及び「複素環」には 、フェニル、p−クロロフェニル、ナフチル等のようなアリール及び置換アリー ルのような非置換の環及び置換した環の両方が含まれる。炭素環又は複素環のそ の他の有用な置換基には、ブロモのようなハロ置換基及びメトキシのようなアル コキシが含まれる。有用な複素環には、2−又は3−チオフェン、2−又は3− フラン、2−13−又は4−ピリジン、イミダゾール、トリアゾール及びピラゾ ールが含まれる。
好ましくは、Zは、例えば、スクシンイミド、グルタルイミド、フタルイミド、 ナフタルイミド、ピリドン又はキノロンを作る、4〜16個の炭素原子を含む環 を作るために必要な原子を表す。好ましくはZは、窒素原子に隣接するオキシ基 で任意に置換されて追加のケトンを形成する1〜4個の環を含む環単位を形成す る3〜15個の炭素原子を表す。最も好ましくは、Zは1〜2個の環を完結する ような原子を表す。
好ましいスルホニルオキシN−光酸化剤は、式:(式中、R1及びZは前記定義 の通りである)のものである。
本発明で有用なスルホニルオキシ−N光酸化剤の代表的な具体例には、N−(4 −クロロベンゼンスルホニルオキシ)−1,8−ナフタルイミド、N−(4−ク ロロベンゼンスルホニルオキシ)フタルイミド、N−ベンゼンスルホニルオキシ フタルイミド、N−ベンゼンスルホニルオキシ−1,8−ナフタルイミド、N− ベンゼンスルホニルオキシ−2(IH)−ピリドン及びN−ベンゼンスルホニル オキシ−2(IH)−キノロンが含まれる。
フタルイミド類及びナフタルイミド類は本発明で使用するためのスルホニルオキ シ−N光酸化剤の好ましい種類を代表する。式:を有する化合物、N−(4−ク ロロベンゼンスルホニルオキシ)−1,8−ナフタルイミドが、光酸化剤として 使用するために特に好ましい。
N、N、〇−トリアジルヒドロキシルアミン類も本発明で使用するために非常に 有効な光酸化剤である。これらは、式:(式中、R1,R1及びR3の夫々はア シル基を表す)の化合物である。アシル基の例には、アセチル、プロピオニル、 ブチリル、n−オクタノイル、n−デカノイル、ステアロイル、ベンゾイル及び ナフトイルが含まれる。
■967年12月19日発行のHarder他の米国特許第3.359.109 号に開示されているように、光酸化剤として特に有効である代表的なN、 N。
0−トリアジルヒドロキシルアミン類には下記のものが含まれる。
N、N、O−トリアセチルヒドロキシルアミン、N、N、O−)リブロピオニル ヒドロキシルアミン、N、N、0−1−リブチリルヒドロキシルアミン、N、N 、O−トリステアロイルヒドロキシルアミン、N、N、O−トリベンゾイルヒド ロキシルアミン、N、N、O−)リス(m−クロロベンゾイル)ヒドロキシルア ミン、 N、N、04リス(p−メチルベンゾイル)ヒドロキシルアミン、 N、N、04リス(0−プロピオニルベンゾイル)ヒドロキシルアミン、 N、N−ジアセチル−〇−ブチリルヒドロキシルアミン、N、N−ジアセチル− 〇−ベンゾイルヒドロキシルアミン、N、N−ジアセチル−0−ナフトイルヒド ロキシルアミン、N、N−ジブチリル−O−アセチルヒドロキシルアミン、N、  N−ジベンゾイル−〇−アセチルヒドロキシルアミン、N、N−ジベンゾイル −〇−(p−メチルベンゾイル)ヒドロキシルアミン、 N、O−ジアセチル−N−ブチリルヒドロキシルアミン、N、O−ジアセチル− N−ベンゾイルヒドロキシルアミン、及びN、O−ジブロピオニルーN−カプロ イルヒドロキシルアミン。
Harder他の特許にまた記載されているように、N、N、O−トリアジルヒ ドロキシルアミンのN、 N−アシル基は、窒素原子と一緒にイミド環を形成し てそれによりN−アシルオキシイミド類を作ってもよい。このようなN−アシル オキシイミド類の代表的な例には下記のものが含まれる。
N−アセトキシ−2,3−ジメチルスクシンイミド、N−ベンゾイルオキシスク シンイミド、N−アセトキシグルタルイミド、 N−アセトキシ−2−ドデシルグルタルイミド、N−ブチリルオキシ−2,3− ジメチルマレイミド、N−(p−クロロベンゾイルオキシ)マレイミド、N−ア セトキシフタルイミド、 N−ブチリルオキシフタルイミド、 N−ベンゾイルオキシフタルイミド、 N−(p−メチルベンゾイルオキシ)フタルイミド、N−プロピオニルオキシ− 2,3−ナフタルイミド、N−(4−クロロベンゾイルオキシ)−1,8−ナフ タルイミド、N−(4−シアノベンゾイルオキシ)フタルイミド。
本発明で使用するのに非常に有効である他の種類の光酸化剤は、米国再発行特許 第28.240号(その開示を本明細書に引用によって含める)に記載されてい る光酸化剤である。これらは、アルコキシ基又はアシルオキシ基の何れかにより 置換された複素環窒素原子を含む光酸化剤である。米国再発行特許第28.24 0号に記載されているように、この種類の典型的な光酸化剤は、下記の式の一つ により表わ〔式中、R1は、下記のものの何れがであり、a、シアニン色素に含 まれている種類の複素環核により末端閉塞されているメチン結合、例えば、Me es及びJames著、rThe Theoryof the Photogr aphic Process J 、 Macmillan 、第3版、198 〜232頁に記載されているもの、メチン結合は置換されていても置換されてい なくてもよい。例えば−C1(=、 −C(CH,)=、−C(C,H,) = 。
−CH=CH−、−CH=CH−CH=等);b、置換アルキル基を含む好まし くは炭素数1〜8のアルキル基。
C,フェニル基、ナフチル基、トリル基等のような置換アリール基を含むアリー ル基; 01式 (式中、R1は水素又は好ましくは炭素数1〜8のアルキル基である)を育する アシル基: 19式 (式中、R3は水素、アシル又はアルキルである)を宥する基のようなアニリノ ビニル基:又はg、!換スチリル基を含むスチリル基、例えば(式中、R1は水 素、アルキル、アリール又はジメチルアミノのようなジアルキルアミノを含むア ミノである)、R,は下記のものの何れかであり、 a、メロシアニン色素に含まれている種類の複素環核により末端閉塞されている メチン結合、例えば、(前記引用した) Mees及びJamesに記載されて いるもの、メチン結合は置換されていても置換されていなくてもよい:又は す、シアノアリリデン基、アルキルカルボキシアリリデン基又はアルキルスホニ ルアリリデン基のような置換アリリデン基を含むアリリデン基、 Rは下記のものが何れかであり、 a、アルキル基、例えばスルホアルキル、例えば−(CHt)i SO*−、ア ラルキル、例えばベンジル又はビリジナトオキシアルキル塩、例えば−(CHり 、 −0−Y (但し、Yは置換又は非置換のピリジニウム塩である)等のよう な置換アルキル基を含む、メチル、エチル、プロピル、ブチル等のような好まし くは炭素数1〜8のアルキル基、b、アシル基、例えば、 (式中、R4は好ましくは炭素数1〜8のアルキル基又はアリール基、例えば、 メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、ナフチル等である)、 Zは、置換複素環核を含む5−乃至6−員複素環核を完結するために必要な原子 群を表し、そして、該核は酸素、硫黄、セレン又は窒素のような少なくとも1個 の追加のへテロ原子を含んでいてもよく、例えば、ピリジン核、キノリン核など であり、そしてX−は、酸アニオン、例えば、塩化物、臭化物、沃化物、過塩素 酸塩、スルファミン酸塩、チオシアン酸塩、p−1ルエンスルホン酸塩、硫酸メ チル、テトラフルオロ硼酸塩等を表す。〕本発明に於いて使用することが特に好 ましい米国再発行特許第28、240号に記載された種類の光酸化剤の例には下 記のものが含まれる。
N−メトキシ−4−フェニルピリジニウムテトラフルオロ硼酸塩N、4−ジメト キシピリジニウムテトラフルオロ硼酸塩N−メトキシ−4−メチルピリジニウム テトラフルオロ硼酸塩N−エトキシ−4−フェニルピリジニウムテトラフルオロ 硼酸塩N−エトキシフエナントリジニウムテトラフルオロ硼酸塩光開裂性窒素− 酸素結合を有する光酸化剤の多くの他の種類も当該技術分野で公知である。その 例には下記のものが含まれる。
を有するN−(3,3−ジフェニルプロピオニルオキシ)−ピリジン−2−チオ ンのような○−アシルチオヒドロキサメート類、(2)式: を有する1−(イソブトキシカルボニルオキシ)−2−ピコリニウムクロリドの ようなオキシカルボニルオキシ置換ピリジニウム塩、(3)式: を有する。−(p−t−ルエンスルポニル)−α−ヒドロキシイミノ−ベンジル シアニド及び式: を存する0−(p−ト/はンスルホニル)−9−フルオレノンオキシムのような オキシムスルホネートエステル、並びにを育する0−アニソイルベンゾフェノン オキシムのようなオキシムカルボキシレートエステル。
本発明により、複素芳香族アミンN−オキシドを改良された光効率を得るために 使用する。用語[複素芳香族アミンN−オキシド」千 (式中、Zは置換されているか又は置換されていなくてよい1個又はそれ以上の 環を完結するために必要な原子群を表す)の化合物が意味される。
本発明の好ましい態様に於いて、複素芳香族アミンN−オキシドはピリジンN− オキシトである。用語[ピリジンN−オキシド」により式: (式中、Z′は置換されているか又は置換されていなくてよいピリジン環を完結 するために必要な原子群を表す)の化合物が意味される。
本発明の特に好ましい態様に於いて、複素芳香族アミンN−オキシドは式: 〔式中、R3及びR3の一方は水素であり、他方はである)である〕 のピリジンN−オキシトである。R1は好ましくは炭素数1〜2oのアルキルで あり、アルキル基が置換されている場合、好ましい置換基はジアルキルアミノ基 である。
本発明の最も好ましい態様に於いて、複素芳香族アミンN−オキシドは、式: (式中、Rは炭素数2〜20の、更に好ましくは炭素数4〜12のアルキル基で ある) のニコチン酸アルキルN−オキシド又は式:(式中、Ro及びR2の夫々は炭素 数1〜20の、更に好ましくは炭素数2〜6のアルキル基である) のN、 N−ジアルキルニコチンアミドN−オキシトである。
ピリジンN−オキシト類に加えて、本発明の目的のために有用な複素芳香族アミ ンN−オキシド類の他の例には、キノリンN−オキシド類、イソキノリンN−オ キシト類及びアクリジンN−オキシド類が含まれる。
本発明の目的のために有用である多くの複素芳香族アミンN−オキシドの特別の 例には下記のものが含まれる。
ピリジンN−オキシド 4−メトキシピリジンN−オキシド 4−ピコリンN−オキシド 2−メチルビリジンN−オキシド 3−メチルビリジンN−オキシド 2.6−シメチルビリジンN−オキシド3.5−ジメチルピリジンN−オキシド 4−フェニルピリジンN−オキシト 2.2′−ジチオビスピリジンN−オキシド4−デシルオキシピリジンN−オキ シドx丁。
↑ ニコチン酸エチルN−オキシト ニコチン酸ブチノ(N−オキシド ニコチン酸ヘキシルN−オキシド ニコチン酸オクチルN−オキシド ニコチン酸デシルN−才キシド ↓ キノリンN−オキシト イソキノリンN−オキシト 4−ニトロキノリンN−オキシト 本発明で使用される複素芳香族アミンN−オキシド類は公知の化合物であるか又 は公知の出発物質から容易に合成することができる。
適当な合成方法を例示する目的のために、化合物X、 XIV及びX■の合成を 下記に示す。
化合物X(4−デシルオキシビリジンN−オキシト)の合成4−ニトロピリジン N−オキシF’(5,0g、 30ミリモル)、デシルアルコール(19g、1 20ミリモル)、テトラブチルアンモニウムプロミド(0,5g、1.6ミリモ ル)及び炭酸カリウム(8,2g、60ミリモル)をアセトニトリル(30mL )中で16時間攪拌し、加熱した。次いて得られた混合物を濾過して不溶性物質 を除去し、濾液を減圧下に蒸発させた。残渣をエーテルに溶解し、水で洗浄し、 無水硫酸す1−リウムて乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。粗生成物をリグロ インから2回再結晶して、4−デシルオキシピリジンN−オキシト4、31 g を得た。融点57〜65°C0化合物XIVにコチン酸オクチルN−オキシド) の合成塩化水素を冷オクタツール(2!5g、190ミリモル)中に4,2gの 重量増加か記録されるまでバブリングさせた。次いてニコチン酸N−オキシド( 5,29g、 38ミリモル)を添加し、得られた混合物を95〜100°Cて 3時間40分攪拌し、加熱した。次いて過剰のオクタツールを減圧下に蒸留によ り除去し、蒸留残渣をジクロロメタンに入れた。
ジクロロメタン溶液を重炭酸ナトリウム水溶液で次いて水で洗浄し、無水硫酸マ グネシウムで乾燥し、濾過し、そして減圧下で蒸発させた。残渣をリグロインか ら再結晶して、ニコチン酸オクチルN−オキシド7.73g (31ミリモル) を得た。融点69.5〜71’C。
化合物XVにコチン酸デシルN−オキシド)の合成ニコチン酸N−オキシト(5 ,00g、 36ミリモル)、デシルアルコール(5,86g、 37ミリモル )及びメタンスルホン酸(3,70g、 38.5ミリモル)を、凝縮器及びデ ィーンスターク(Dean−3tark) トラップを取り付けたフラスコ中で トルエン中で19時間攪拌し、還流まで加熱した。次いて反応混合物を冷却し、 エーテルで希釈し、水、重炭酸ナトリウム水溶液及び食塩水の順で洗浄した。次 いてトルエンノ/エーテル溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そし て減圧下−に蒸発させた。残渣をリグロイン(100mL)から再結晶して、ニ コチン酸デノルN−オキシドア、50g (27ミリモル)を得た。融点80. 5°C0 複素芳香族アミンN−オキシド類か本発明に於いて機能する機構は明らかには理 解されていない。貯蔵安定性に関する重要な要因は、覆素芳香族アミンN−オキ シ′1・か揮発し、それにより印刷版組成物から迅げる度合いであると信じられ る。置換基の種類及びその大きさの両方か、複素芳香族アミンN−オキシドの性 能に影響を与える重要な要因であると信じられる。電子供与性及び電子求引性置 換基の両方か填出し濃度を極めて著しく増大させることを見い出した。
本発明により複素芳香族アミンN−オキシトを使用することによりもたらされる 利点には、焼出しのレベルの非常に実質的な増加及び優れた貯蔵寿命特性か含ま れる。複素芳香族アミンN−オキシトの別の予期しない利屯は、「残留焼出し」 を減少又は除去する能力である。この問題は、現像処理した印刷版をプレス室領 域で白色光に当てるとき及び特にプレスに送る前に他の版で覆うとき起きる。
複素芳香族アミ〉N−オキシドを含まない版は、被覆しない領域でより暗くなり 、均一に印刷する版の能力に関わるようになり、他方この暗化(darkeni ng)は本発明の印刷版では起きない。
本発明のリス印刷版は、その上に塗布された上記の放射線感光性組成物を含む層 を有する支持体からなる。このような版は、塗布組成物で塗膜を形成し、そして 常温又はそれより高い温度で乾燥することによって製造することかできる。押出 コーティング、ドクターブレードコーティング、浸漬コーティング、回転コーテ ィング、スピンコーティング、ローラーコーティング等のような種々の従来のコ ーティング方法の何れも使用することかできる。
本明細書に記載した架橋性ポリマーを含む塗布組成物は、このポリマーをポリマ ートープを製造するために当該技術分野で使用されている何れか適当な溶媒又は 溶媒の組合せに分散又は溶解することによって製造することができる。溶媒は、 溶媒とポリマーとを緊密に維持しようとする時間の間にポリマーに対して実質的 に非反応性であるように選択され、そして塗布のために使用される基体と親和性 であるように選択される。溶媒の最善の選択はよく考えて的確な適用で変わるで あろうか、代表的な好ましい溶媒には、ブタノール、ペンシルアルコールのよう なアルコール類:アセトン、2−ブタノン及びシクロヘキサノンのようなケトン 類、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;2−メトキシエチ ルアセテート。
N、N’−一ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トリクロロエタン、1.2 −ジクロロエタン、1.l−ジクロロエタン、l、1゜2−トリクロロエタン、 ジクロロメタン、テトラクロロエタン、クロロヘンゼンのような塩素化炭化水素 、並びにこれらの混合物か含まれる。
適当な支持体は、塗布組成物と直接化学的に反応しない種々の材料の中から選択 することかできる。このような支持体には、紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプロ ピレン被覆紙、羊皮紙、布等のような繊維ヘースの材料、アルミニウム、銅、マ グネシウム、亜鉛等のような材料のシート及び箔ニガラス及びクロム合金、スチ ール、銀、金、白金等のような金属で被覆したガラス、ポリ(アルキルアクリレ ート)例えば、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリエステルフィルムヘース例 えば、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリ(酢酸ヒニル)、ポリアミド例え ば、ナイロン、並びにセルロースエステルフィルムヘース例えば、硝酸セルロー ス、酢酸セルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテ ートブチレ−1〜等々のような合成樹脂及びポリマー材料が含まれる。
好ましい支持体材料には、亜鉛、陽極酸化アルミニウム、砂目立てしたアルミニ ウム及び砂目立てし陽極酸化したアルミニウムか含まれる。特に好ましい支持体 材料は、1987年3月3日発行のMiller他の米国特許第4.647.3 46号及び1989年9月12日発行のHuddleston他の米国特許第4 .865.951号に記載されている。
前記支持体は、予め、即ち、放射線感光性塗膜を設ける前に、塩化ビニリデン及 びアクリルモノマー、例えば、アクリロニトリル、アクリル酸メチル等及びイタ コン酸等のような不飽和ジカルボン酸のコポリマー:カルボキシメチルセルロー ス:ゼラチン;ポリアクリルアミド並びに同様のポリマー材料のような公知の下 塗層で被覆することかできる。好ましい下塗り組成物は安息香酸からなり、19 87年2月3日発行のMiller他の米国特許第4.640.886号に記載 されている。
放射線感光性層の最適塗布厚さは、印刷版を置く特定のアプリケーション及び塗 膜中に存在する他の成分の性質のような要因に依存するであろう。典型的な塗布 厚さは約0.05〜10.0 ミクロン又はそれより厚いものであってよく、0 .1〜2.5 ミクロンの厚さが好ましい。
本発明の印刷版は従来の方法により、例えば、トランスノくレンツ−又はステン シルを通して、好ましくは紫外光に富んだ化学放射線の像様パターンに露光し、 そして露光領域に於いて放射線感光性ポリマーを架橋し不溶性にすることかでき る。適当な光源には、カーボンアークランプ、水銀蒸気ランプ、蛍光ランプ、タ ングステンフィラメントランプ、「写真電球」、レーザ等が含まれる。露光は、 コンタクトプリント法により、レンズ投映により、反射により、複反対により、 像保持原板(image−bearing original)を通して又は全 ての他の公知の方法によるものであってよい。
本発明の露光した印刷版を、架橋した放射線感光性組成物を放射線感光性層の未 露光領域を選択的に可溶化する(即ち、除去する)溶液(以後、現像液という) での、フラッシング(flushing) 、浸漬、拭き取り(swabb i ng)又はその他の方法で処理することにより現像することができる。現像液は 好ましくは実行が容易であるので中性に近いI)Hを有する水溶液である。
好ましい形態に於いて、現像液には、溶媒系として、水及び水と混和性であるか 又は共溶媒もしくは界面活性剤を使用することによって混和性にできるアルコー ルの組合せか含まれる。水とアルコールとの比率は広範囲に変えることかできる が、典型的に水40〜99体積%及びアルコール1〜60体積%の範囲内である 。最も好ましくは、水含有量を60〜90体積%の範囲内に維持する。現像の間 に架橋した放射線感光性層を化学的に不利に攻撃せず、使用のために選択された 比率の水と混和性であるどのようなアルコール又はアルコールの組合せも使用す ることかできる。有用なアルコールの例は、グリセリン、ベンジルアルコール、 2−フェノキシ−エタノール、1.2−プロパンジオール、5ec−ブチルアル コール及びアルキレングリコール類から誘導されたエーテル類−即ち、ジヒドロ キシポリ(アルキレンオキシド)−例えば、ジヒドロキシポリ(エチレンオキシ ド)、ジヒドロキシポリ(プロピレンオキシド)等である。
現像液には任意に追加の添加物か含まれていてもよいことか認められる。例えば 、現像液には色素及び/又は顔料か含まれていてもよい。現像液に、当該技術分 野で良いと認められるようなスカム形成防止剤及び/又はブラインド形成防止剤 (anti−blindiB agent)を含有させることか有利である。
本発明の新規なリス印刷版て使用する好ましい現像組成物は、(a)リス印刷版 のどの成分に対しても非溶媒である、ブチロラクトン、フェノキンプロパノール 、フェノキシエタノール、ベンジルアルコール又はメチルピロリドンのような非 毒性の現像ベヒクル。
(b)キンレンスルホン酸のナトリウム、リチウム又はカリウム塩からなる第一 界面活性剤: (c)トルエン、エチルヘンゼン、クメン又はメシチレンスルホン酸のナトリウ ム、リチウム又はカリウム塩からなる第二界面活性剤: (d)アルキル基が少なくとも10個の炭素原子を含むアルキルベンセンスルホ ン酸又はアルキル基か1〜4個の炭素原子を含むアルキルナフタレンスルホン酸 のナトリウム、リチウム又はカリウム塩からなる第二界面活性剤; (e)ポリビニルピロリドン、ポリスチレン/無水マレイン酸コポリマー、ポリ ビニルアルコール、ポリヒニルメチルエーテル及びポリスチレン/酢酸ビニルコ ポリマーのような冷水可溶性フィルム形成剤: (f)ジェタノールアミンのようなアルカノールアミン減感剤;及び (g)現像組成物のpHを調節するためのクエン酸、アスコルビン酸、酒石酸、 グルタル酸、酢酸、燐酸、硫酸又は塩酸のような酸を含む水性組成物である。
これらの現像組成物は1991年7月30日発行の米国特許第5.035.98 2号に記載されている。この種類の現像組成物は、イーストマン・コダック社、 Rochester、 New YorkからKODAK AQUEOUS P LATEDEVELOPERMX−1469−1として市販されている。
現像後、印刷版はその意図する用途に調和した公知のどのような方法によっても 処理することができる。例えば、リス印刷版は典型的に減感エッチに付される。
光架橋性ポリマー、ロイコ色素、光酸化剤及び複素芳香族アミンN−オキシトに 加えて、多数の他の添加剤か塗布組成物中に存在し最終的に完成した印刷版の一 部を形成してもよい。例えば、放射線感光性ポリマー組成物の放射線感光度は、 その中に1種又はそれ以上の分光増感剤を含有させることによって増大させるこ とができる。
適当な分光増感剤には、アントロン類、ニトロ増感剤、トリフェニルメタン類、 キノン類、シアニン色素類、ナフトン類(naphthones)、ピリリウム 及びチアピリリウム塩類、フラノン類、アントラキノン類、3−ケトクマリン類 、チアゾール類、チアジンン類、ナフトチアジンン類、キナリシン類、並びに米 国特許第4.139.390号及びそれに引用された文献に記載されている他の ものが含まれる。好ましい増感剤には、米国特許第4.147.552号に記載 されている3−ケトクマリン類及び米国特許第4.062.686号のチアゾリ ン増感剤か含まれる。このような増感剤は組成物中に当業者により容易に決定さ れる有効な増感量で存在していてよい。
本発明者は本願発明か機能する様式のどのような理論的説明によっても結びつけ られることを望むものではないが、分光増感剤はまた活性化放射線の影響の下に 光酸化剤と相互作用し、エネルギー移動機構により光酸化剤の窒素−酸素結合の 開裂に寄与すると信じられる。
塗布組成物には好ましくは約3μmより小さい最大平均粒子サイズを有する顔料 が含まれていてもよい。これらの顔料は要素の現像の前又は後に画像に目に見え る着色を与えることかできる。有用な顔料は当該技術分野でよく知られており、 これには二酸化チタン、酸化亜鉛、銅フタロンアニン類、ハロゲン化銅フタロシ アニン類、キナクリジン及びMonastral Blue及びMonastr al Red Bのような商品名で市販されているもののような着色剤が含まれ る。顔料は一般的に組成物中に全乾燥組成物重量基準で0〜約50(重量)%の 範囲内の量で存在している。好ましい量は約5〜20(重量)%の範囲内である 。
本明細書に記載した放射線感光性組成物は、本発明の組成物又は印刷版を高温で 、酸量の化学線への露光を許容する領域内で及び/又は長期の間貯蔵する場合に は、意図する露光の前に架橋するようになることか認められる。化学線への意図 する露光の前に組成物が意に反して架橋しないようにするために、安定剤をこの 中に含有させることかできる。有用な安定剤には、ピコリンN−オキシド;2゜ 6−ソーtert−ブチル−p−クレゾール、2,6−シーtert−ブチルア ニソール及びp−メトキシフェノールのようなフェノール類:ヒドロキノン、フ ロログルシノール及び2.5−ジーtert−ブチルヒドロキノンのようなヒド ロキノン類ニトリフェニルアルシンのようなトリフェニル金属類ニトリフェニル スチルベン;及びN−メチルジフェニルアミンのような第三級アミン類か含まれ る。
本発明の印刷版で有用な更に他の添加剤には、酸化防止剤、界面活性制、スカム 防止剤及びその他の当該技術分野で公知のものか含まれる。
バインダー又は体質顔料を放射線感光性組成物中に任意に含有させてもよい。こ のようなバインダー又は体質顔料は全乾燥組成物重量基準でO〜約50(重量) %の範囲内の量で存在していてよい。適当なバインダーには、スチレンーフ゛タ ジエンコポリマー;シリコーン樹脂、スチレンーアルキド樹脂、シリコーン−ア ルキド樹脂:大豆−アルキト樹脂、ポリ(塩化ビニル);ポリ(塩化ビニリデン );塩化ヒニリデジーアクリロニトリルコポリマー:ポリ(酢酸ビニル)。
酢酸ヒニルー塩化ヒニルコポリマー:ポリ(ビニルブチラール)のようなポリ( ビニルアセタール)類、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(n−ブチルメタ クリレート)及びポリ(イソブチルメタクリレート)のようなポリアクリルエス テル及びポリメタクリルエステル;ポリスチレン:ニトロ化ポリスチレン;ポリ メチルスチレン;イソブチレンポリマー−ポリ(エチレン−共−アルカリールオ キシアルキレンテレフタレート)のようなポリエステル類;フェノールホルムア ルデヒド樹脂;ケトン樹脂、ポリアミド類;ポリカーボネート類;ポリチオカー ボネート類;ポリ(エチレン 4,4−イソプロピリデンジフェニレンテレフタ レート)、ポリ(ビニル−m−ブロモベンゾエート−共−酢酸ビニル)のような 酢酸ビニルのコポリマー:エチルセルロース;ポリ(ビニルアルコール):酢酸 セルロース:硝酸セルロース、塩素化ゴム及びゼラチンが含まれる。この種のバ インダー又は体質顔料を製造する方法は先行技術に於いてよく知られている。使 用することが意図されるこの種の典型的な樹脂は、Hercules、Inc、 、 Wilmington、 Del、から市販されているPiccolast ic A50 ”である。使用することができるその他の種類のバインダーには パラフィン及び鉱物ワックスのような物質か含まれる。
本明細書に記載した焼出し組成物は、活性化放射線への露光で目に見える色変化 を得ることを望む場合に使用することができる。これらは印刷版に於いてのみな らず、種々の装飾的、保護的及び画像形成応用に使用することができる。これら は、露光の目に見える焼出しを望む多くの種類の放射線感光性組成物の何れに於 いても有用であり、例えば、これらは印刷回路基板の製造に於いて使用されるフ ォトレジストに使用することかできる。この焼出し組成物は、ネガ型リス印刷版 組成物を得るために光架橋性ポリマー、特にポリマー主鎖の欠くことのできない 部分として感光性基。
を含有する光架橋性ポリマーと組み合わせて特に有用である。p−ジアゾジフェ ニルアミン及びバラホルムアルデヒドの縮合生成物のような、ジアゾニウム化合 物を含有する印刷版を含む他の種類のリス印刷版も、本明細書に記載した新規な 焼出し組成物を使用することにより利益が得られる。
本明細書に記載した種類の放射線感光性組成物に於いて複素芳香族アミンN−オ キシトが−より多い機能を果たすことに注目すべきである。即ち、例えば、4− ピコリンN−オキシドが光酸化剤として、増感剤として及び安定剤として使用す るために先行技術に開示されている。本発明に於いて、これは焼出し組成物の光 効率を改良するために使用される。
本明細書に記載した焼出しシステムは、ロイコ色素、光開裂性窒素−酸素結合を 有する光酸化剤及び複素芳香族アミンN−オキシドを使用する。これらの3種の 試薬は、含まれる特定の適用に依存して任意の有効量に於いて使用することがで きる。典型的に、ロイコ色素は光架橋性ポリマーの重量部当たり約0.0001 〜約0.1部の量で使用され、光酸化剤は光架橋性ポリマーの重量部当たり約0 .0005〜約0.2部の量で使用され、モして複素芳香族アミンN−オキシド は光架橋性ポリマーの重量部当たり約0.0002〜約0.2部の量で使用され る。
本発明をその実施の下記の例により更に示す。これらの例に於いて、光架橋性ポ リマーは前記規定したポリマーAであるが、例えば、前記のポリマーB又はポリ マーCのような感光性基果が得られる。ポリマーA、B及びCの混合物のような 2種又はモリス印刷版の製造で有用な塗布組成物を下記の配合により製造した。
(1,2−ジクロロエタン中15重量%溶液) 90.10(2)PICCOL ASTICA−50樹脂” 1.94(3) MONASTRAL Red赤色 顔料(l、2−ジクロロエタン中7重量%分散液)32.22(4)2− (ビ ス(2−フロイル)メチレン)−1−メチルナフト(1,2−d)チアゾリン  0.52(5)2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール 0.38<6)N− (4−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−1,8−ナフタルイミド 0.88 (7)ジヒドロアンヒドロビペリジノヘキソースリダクトン0.02(8)ロイ コプロピルバイオレット 0.16(9) MODAFLOW塗布助剤” 0. 50(10) 1. 2−ジクロロエタン 373.28* PICCOLAS TICA−50は、Hercules、Inc、により供給されるポリスチレン 樹脂についての登録商標である。
■ MODAFLOW塗布助剤は、Mon5anto Corporation により製造されたアクリル酸エチルとアクリル酸2−エチルヘキシルとのコポリ マーである。
上記の配合に於いて、(1)及び(2)はフィルム形成性ポリマーとして機能し 、(3)は着色剤として機能し、(4)は分光増感剤として機能し、(5)は安 定剤として機能し、(6)は光酸化剤として機能し、(7)は酸化防止剤として 機能し、(8)は焼出し色素として機能し、(9)は塗布助剤として機能しそし て(10)は溶媒として機能する。
上記の配合には複素芳香族アミンN−オキシド添加剤か含まれておらず、これは 、下記の表1に示すように、複素芳香族アミンN−オキシドを含む本発明の範囲 内の塗膜と比較するための対照塗膜として使用した。各側に於いて、複素芳香族 アミンN−オキシトを3、22 ミリモルの量で添加した。
薄いカルホキツメチルセルロース下塗りを設けた燐酸−陽極酸化アルミニウム基 体の上に、放射線感光性組成物を塗布し、約1.3g、、” rrrの放射線感 光性層の乾燥塗膜重量を得ることによって、印刷版を製造した。各塗膜の試料に 、0LEC真空フレーム(Irvine。
Ca1iforniaの0LECC0RPORATIONにより製造)で17単 位の露光を与え、次いて各印刷版の露光領域の光学濃度から未露光領域の光学濃 度を差し引くことによって焼出し濃度を測定した。同し焼出し濃度測定を強制空 気オーブン中で2分間+10°Cてベークした各印刷版の試料について行った。
得られた結果を表1に示す。
表1 対照 な し 0.04 0.04 例1 化合物I[0,140,11 例2 化合物I O,140,06 例3 化合物IX O,090,06 例4 化合物X O,140,16 例5 化合物XV O,100,13 表1のデータにより示されるように、全ての複素芳香族アミンN−オキシドは焼 出し濃度を実質的に対照で得られた0、 04の値を越えて増加させた。ベーク 処理は焼出し材料の長期安定性を予測するものとして機能する。この点に関して 、特に良好な結果か例1,4及び5て得られた。4−ピコリンN−オキシド(化 合物■)の場合に、焼出し濃度の低下か新しく塗布した版とわずか1日経過した 版との間で顕著である。他方、ニコチン酸デソルN−オキシト(化合物XV)の 場合に、環境条件下で2力月間貯蔵した後でも、焼出し濃度の変化は観察されな かった。対照版と例5の版との相対センシトメトリー感度は、それぞれ127及 び134であると測定され、ニコチン酸デンルN−オキシドの添加により感度が 低下しないことになる印刷版を例1〜5に関して記載した同じ配合から製造し、 各場合に、表2に示すような複素芳香族アミンN−オキシトを3.22 ミリモ ルの量で添加した。各塗膜の試料に、OL E C真空フレームで18単位の露 光を与え、次いて焼出し濃度を測定した。同し焼出し濃度測定を強制空気オーブ ン中で2分間105°Cてベークした各印刷版の試料について行った。得られた 結果を表2に示す。
例6 化合物XI O,120,08 例7 化合物XII O,120,11例8 化合物XI[0,110,11 例9 化合物XIV O,110,12例10 化合物XV O,110,12 表2のデータにより示されるように、全ての複素芳香族アミンN−オキシドは焼 出し濃度を実質的に、複素芳香族アミンN−オキシドを使用しなかったとき得ら れた0、04の値を越えて増加させた。
例6及び10の試料を環境条件下で5.5力月間エージングしtこ。新鮮な試料 とエーンングレこ試料との両方につし)て未露光濃度、露光濃度及び焼出し濃度 について測定を行い、得られtこ結果を下言己の表3に示す。
上記の結果は、ニコチン酸デシルN−オキシト(化合物XV)についてエーシン グした焼出し濃度は、ニコチン酸エチルN−オキシド(化合物XI)についての ものよりも損失か小さいことを示している。この結果は、少なくとも部分的に、 より多くのニコチン酸エチルN−オキシトか印刷版から揮発のために失われると 言う事実のためであると信しられる。
例4. 6. 7. 8. 9及び10の試料を2週間49°Cてインキュベー ションした。新鮮な試料とインキュベーションした試料との両方について未露光 濃度、露光濃度及び焼出し濃度について測定を行い、得られた結果を下記の表4 に示す。
表4のデータにより示されるように、対照塗膜について、多分ロイコ−7゛ロビ +hバイオし、川への熱酸化のためにハックグラウンド又は未露光濃度か増加す るという事実にも拘わらず、焼出し濃度はより多い又はより少ない一定で留まっ ている。例6〜IOのニコチン酸アルキILN−オキシドを含む塗膜に関して、 焼出し濃度はインキュベーションでわずかに低下したか、ハックグラウント濃度 は本質的に変化しないままであり、そうして焼出しコントラストは高いままであ る。例4の・1−デノルオギンピリジンN−オキッドについて、塗膜はイア・キ ュ・\−ノヨレした露光濃度で少ない損失を示すのみならず、イ′二、キュヘ− 2・ヨンて71ツクグラウンド濃度の著しい増加(0,59か=o、6.iに) を示し、そうして焼出し濃度に於ける真の変化は非常に大きかった(0.15か ら0.07に)。即ち、4−デシルオキシビリ;’ :、、 N−オキシドは最 初はニコチン酸アルキルN−オキシトのものよりも優ねた焼出し濃度を与えるか 、焼出しコントラストは時間と共に非常に僅かしか変化しないので、後者か焼出 し増強材料として好ましい。ニコチン酸アルキルN−オキシトを含む塗布組成物 は複素芳香族アミンN−オキシド添加剤を含まない同様の組成物又は4−アルコ キシビリノンN−オキシトを含む同様の組成物よりもニー27ンゲでより少ない 暗化を示すことか観察された。
例1及び2の試料を環境条件下で3力月間エーシングした。新鮮な試料とエージ ングした試料との両方について未露光濃度、露光濃度及び焼出し濃度について測 定を行い、得られた結果を下記の表5に示す。
表5に示す結果は、4−ピコリンN−オキシドを含む版(例2)が部分的にパッ クグラウンド濃度の増加のために、その焼出し濃度の36%を失ったことを示し ている。4−メトキシピリジンN−オキシドを含む版(例1)は、室温でのエー ジングでノ<・ツクグラウンド濃度の増加は無かったか、その焼出し濃度の50 %を失った。
例1!〜17 印刷版を例1〜5に関して記載した同じ配合から製造し、各場合に、表6に示す ような複素芳香族アミンN−オキシトを3.22ミリモルの量で添加した。未露 光濃度、露光濃度及び焼出し濃度を、塗膜を1週間80%相対湿度及び27°C てインキュベーションする前及びインキ、ベーンヨンした後で測定した。
巳1=デ二二元!= 巳1蓋賢田ツモ蓋ツ 表6のデータにより示されるように、全ての複素芳香族アミンN−オキシトは焼 出し濃度を実質的に、複素芳香族アミンN−オキシトを使用しなかったどき、得 られた値を越えて増加させた。例11〜16の夫々はインキュベーションで有効 性の損失を受けたが、ニコチン酸エチルN−オキシドは明らかに最小の損失を受 けた。最良の結果は例17のN、 N−ジエチルニコチンアミドN−オキシトて 得られ、これはインキュベーションで焼出し濃度の損失を示さなかった。
例18 例1〜5に関して前記したものと同一である対照塗布組成物を調製した。前記と 同し方法で対照組成物及び3.22 ミリモルのニコチン酸オクチルN−オキシ トを含む試験組成物から印刷版を製造した。
夫々の塗膜の試料に0LEC真空フレームで18単位の露光を与え、これをKO DAK AQUEOUS PLATE DEVELOPERMX−1469−]  で機械現像処理した。
次いて露光し現像処理した版を不透明のフィルムで部分的にマスクし、72単位 の光に再露光した。下記の表7に示すように、ニコチン酸オクチルN−オキシド を含む試験塗膜について二回目の露光の後でマスクした領域と再露光した領域と の間で濃度差は測定できず、一方対照塗膜については測定可能な差異か存在した 。
対照塗膜 0.57 0.59 試験塗膜 0.58 0.58 表7のデータにより示されるように、ニコチン酸オクチルN−オキシトは残留焼 出しの問題を解消した。
例19 N−(4−クロロヘンセンスルホニルオキシ)−1,8−ナフタルイミドを等モ ル量のN−(4−ノアノベンゾイルオキシ)フタルイミドて置き換えた以外は、 例1〜5に関して前記したものと同一である対照塗布組成物を調製した。前記と 同じ方法で対照組成物及び3.22ミリモルのニコチン酸オクチルN−オキシト を含む試験組成物から印刷版を製造した。夫々の塗膜の試料に0LEC真空フレ ームでI88単の露光を与え、露光領域及び未露光領域で濃度読み取りを行った 。得られた結果を表8に示す。
対照塗膜 0.55 0.59 0.04試験塗膜 0.55 0.64 0. 09表8のデータにより示されるように、N、N、O−トリアシルヒトロキンル アミン光酸化剤を使用した組成物に於いて複素芳香族アミンN−オキシトにより 焼出し濃度が実質的に増加した。
叫亜 ポリマー八が幾らか高い分子量のものであり、N−(4−クロロヘンセンスルホ ニルオキシ)−1,8−ナフタルイミドを等モル量のN−メトキシ−4−フェニ ルピリジニウムテトラフルオロ硼酸塩で置き換えた以外は、例1〜5に関して前 記したものと同一である対照塗布組成物を調製した。前記と同じ方法で対照組成 物及び3.22ミリモルのニコチン酸オクチルN−オキシトを含む試験組成物か ら印刷版を製造した。夫々の塗膜の試料に0LEC真空フレームで6.6単位の 露光を与え、露光領域及び未露光領域で濃度読み取りを行った。
得られた結果を表9に示す。
対照塗膜 0.55 0.61 0.06試験塗膜 0.55 0.67 0. 12表9のデータにより示されるように、N−アルコキシピリジニウム塩光酸化 剤を使用する組成物に於いては、複素芳香族アミンN−すギノトにより焼出し濃 度か実質的に増加した。
本明細書に記載した焼出し組成物は、それをリス印刷版に於いて特に有用にする 多数の重要な利点を提供する。例えば、これらはリス印刷版の放射線感光性層を 製造する際に典型的に使用されるポリマー及び溶媒と相溶性である。これらは優 れた焼出し濃度を与え、そうして所望の画像を容易に目に見えるようにする。こ れらは光重合体の活性化と干渉しないような非常に少量て使用することがてき、 しかもなお容易に観察できるために十分な色素濃度を与える。複素芳香族アミン N−オキシトの添加により作られる焼出しの増大は、光酸化剤及びロイコ色素の 存在により生しるものを越えた感光度に於けるとのような減少にもならない。最 も有効な種類は、この印刷版は焼出し濃度の大きな損失無しに長期間貯蔵するこ とかできるので優れた寿命特性を与え、残留焼出しの問題点を有効に避ける。
補正書の翻訳文提出書 (特許法第184条の8) 平成5年9月2+日

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.ポリマー主鎖の欠くことのできない部分として感光性基:▲数式、化学式、 表等があります▼ を含有する光架橋性ポリマー並びに1個又はそれ以上の除去可能な水素原子を有 するロイコ形の色素(この除去によってロイコ形とは異なった色に着色された化 合物が形成される)及び光開製性窒素一酸素結合を有する光酸化剤(この光酸化 剤は前記活性化放射線への露光によって該ロイコ色素を異なった色に着色された 形に変える作用をする)を含む活性化放射線への露光により光学的濃度差を生じ 焼出し組成物の放射線感光性層をその上に有する支持体からなるネガ型りス印刷 版であって、該焼出し組成物が更に、光効率を改良するに十分な量で複素芳香族 アミンN−オキシドを含有することを特徴とするネガ型リス印刷版。
  2. 2.該光架橋性ポリマーがp−フェニレンジアクリレートポリエステルである請 求の範囲第1項に記載のネガ型リス印刷版。
  3. 3.該光架橋性ポリマーが式: ▲数式、化学式、表等があります▼ の繰り返し単位からなる請求の範囲第1項に記載のネガ型リス印刷版。
  4. 4.該ロイコ色素ガアミノトリアリールメタン色素である請求の範囲第1〜3項 の何れか1項に記載のネガ型リス印刷版。
  5. 5.該光酸化剤がスルホニルオキシ−N光酸化剤である請求の範囲第1〜4項の 何れか1項に記載のネガ型リス印刷版。
  6. 6.該光酸化剤がN,N,O−トリアシルヒドロキシルアミンである請求の範囲 第1〜4項の何れか1項に記載のネガ型リス印刷版。
  7. 7.該光酸化剤がN−アシルオキシイミドである請求の範囲第1〜4項の何れか 1項に記載のネガ型リス印刷版。
  8. 8.該光酸化剤が、N−(4−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−1,8−ナ フタルイミド、N−(4−シアノベンゾイルオキシ)フタルイミド又はN−メト キシ−4−フェニルピリジニウムテトラフルオロ硼酸塩である請求の範囲第1〜 4項の何れか1項に記載のネガ型リス印刷版。
  9. 9.該複素芳香族アミンN−オキシドがビリジンN−オキシドである請求の範囲 第1〜8項の何れか1項に記載のネガ型リス印刷版。
  10. 10.該複素芳香族アミンN−オキシドが、式:▲数式、化学式、表等がありま す▼ 〔式中、R1及びR2の一方は水素であり、他方は▲数式、化学式、表等があり ます▼基(式中、R3はアルキルである)である〕のビリジンN−オキシドであ る請求の範囲第1〜8項の何れか1項に記載のネガ型リス印刷版。
  11. 11.該複素芳香族アミンN−オキシドが式:▲数式、化学式、表等があります ▼ (式中、Rはアルキルである) のニコチン酸アルキルN−オキシドである請求の範囲第1〜8項の何れか1項に 記載のネガ型リス印刷版。
  12. 12.該複素芳香族アミンN−オキシドが式:▲数式、化学式、表等があります ▼ (式中、R1及びR2の夫々はアルキルである)のN,N−ジアルキルニコチン アミドN−オキシドである請求の範囲第1〜8項の何れか1項に記載のネガ型リ ス印刷版。
  13. 13.該複素芳香族アミンN−オキシドが4−メトキシピリジンN−オキシド、 2,2′−ジチオビスピリジンN−オキシド、ニコチン酸デシルN−オキシド、 ニコチン酸オクチルN−オキシド、N,N−ジエチルニコチンアミドN−オキシ ド又は4−ニトロキノリンN−オキシドである請求の範囲第1〜8項の何れか1 項に記載のネガ型リス印刷版。
  14. 14.活性化放射線への露光によって光学的濃度差を生じるために、リス印刷版 、フォトレジスト等に有用であり、1個又はそれ以上の除去可能な水素原子を有 するロイコ形の色素(この除去によってロイコ形とは異なった色に着色された化 合物が形成される)及び光開裂性窒素−酸素結合を有する光酸化剤(この光酸化 剤は前記活性化放射線への露光で該ロイコ色素を異なった色に着色された形に変 える作用をする)からなる焼出し組成物であって、該焼出し組成物に更に、光効 率を改良するに十分な量で複素芳香族アミンN−オキシドを含有することを特徴 とする焼出し組成物。
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