JPS5836767B2 - カンコウセイヤキダシヨウソ - Google Patents

カンコウセイヤキダシヨウソ

Info

Publication number
JPS5836767B2
JPS5836767B2 JP50024948A JP2494875A JPS5836767B2 JP S5836767 B2 JPS5836767 B2 JP S5836767B2 JP 50024948 A JP50024948 A JP 50024948A JP 2494875 A JP2494875 A JP 2494875A JP S5836767 B2 JPS5836767 B2 JP S5836767B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
bis
group
methanebis
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP50024948A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS50122929A (ja
Inventor
チヤールス フアーレイ ウイリアム
ポール カニングハム マイケル
コーネリユース バンハネヘム リチヤード
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of JPS50122929A publication Critical patent/JPS50122929A/ja
Publication of JPS5836767B2 publication Critical patent/JPS5836767B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • G03C1/732Leuco dyes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、輻射線に露光した際に、カラーを形成する感
光性組戊物の使用前の安定化に関する。
多くの写真的応用、例えばリングラフ版、フォトレジス
ト等においては、現像前に、露光部分が可視的にわかる
ことがきわめて好ましい。
例えば、段階露光や繰り返し露光操作において、塗布さ
れた要素を露光した後現像までの間にある時間保存する
場合とか、あるいは現像前に露光により生じた画像を調
べるのが望ましい場合にこのようなことが便利である。
このような可能性を与えるために、塗布組或物から得ら
れる輻射線に感光する塗布物には、その露光の際に、焼
出し又はブリーチ・アウトを行ないうる指示薬として色
素を含むのが通例である。
露光の際に、指示薬として作用する広汎な各種の色素が
公知であり、この分野において使用しうる。
露光により指示薬として働くこのような色素の中には、
例えば、スピロペンゾピラン類のようなフォトクロミツ
ク色素(例えば、3,3’−シメチル−6−ニトロー1
7−フエニルスピロ(2H−1)ペンゾピラン−2,2
′−インドリン、5′−メトキシカルホニル−8−メト
キシ−17,3/,3′一トリメチル−6−ニトロスピ
ロ(2H−1)ペンゾピラン−2,2′−インドリン等
)、pHに感応する色素、例えばある種の活性剤と一緒
に用いるのに有用なビス( 4 . 4’−ビス(ジメ
チルアミノ)ペンズヒドロール〕エーテル、およびミッ
チェル(Mitche11)の米国特許第3,619,
194号に記載されているようなシアニン色素が含まれ
る。
これに関して特に有効なものは、有機ポリハロゲン化合
物または酸化剤を使って各種のロイコ色素をその対応す
る色素に酸化する方法である。
(例えばPhot.Sci.Eng., 5 , 9
8−1 0 3 .1961 ,および米国特許第3
,042,515号参照)。
この型の代表的な方法においては、ジフエニルアミンと
四臭化炭素との混合物が紫外輻射線の模様に露光される
輻射線によりハロゲン化炭化水素が分解して分解生成物
を生じこれがジフエニルアミンを酸化してその対応する
青色色素にする。
米国特許第3,615,568号には、ハロゲン化炭化
水素の代りに、アルコキシ基がアシ口キシ基で置換され
た複素環窒素原子を有する光酸化剤の入った要素が記載
されている。
米国特許第2,936,308号には、多くのレダクト
ンやその製造法が記載されている。
不飽和結合のエノール型水酸基の配列によって、こうい
った化合物は、特有の強い還元力を有しており、さらに
また還元剤、酸化防止剤、写真現像薬および医薬として
広汎に使用されていることが指摘される。
前記の米国特許第3,042,515号には、ベンゼン
環に水酸基を有し、少なくとも別の水酸基またはアミノ
基がこのベンゼン環の別の位置にある有機の還元剤(例
えばハイドロキノン、カテコール、レゾルシノール、ヒ
ドロキシヒドロキノン、ピロログリシノールおよび○−
アミノフェノールおよびp−アミンフェノールのような
アミノーフェノール類)を加えることにより光もしくは
熱または両方の存在下で空気または酸素にさらした際に
生ずるロイコ色素の変色防止法が開示されている。
本発明は、ある種の化合物を安定剤として、ロイコ色素
含有写真要素およびその前駆体に使用することからなる
さらに詳しくは、本発明は、輻射線に露光した際に焼出
し画像を形戒するロイコ色素含有写真要素またはこの写
真要素のためのロイコ色素含有前駆体の改良にあり、そ
の改良は安定剤として5,6−イソプロピリデンアスコ
ルビン酸、2−ヒドロキシー3−ピペリジノ−5−メチ
ルシクロベント−2−エンー1−オン、 3,4−ジヒドロキシ−5−フエニルー2,5ジヒドロ
−2−フラノン、 5−イミノー3,4−ジヒドロキシ−2−フエニル−2
,5−ジヒドロフラン、 2−イソプロビル、−4.5.6−1−リヒドロキシピ
リ ミジン、または 4,5−ジヒドロキシ−1−メチル−2−プロビル−6
−ピリミドン を使用する点にある。
このような安定剤の使用によって、前記の前駆体は、そ
の塗布前には、変色されに<<、安定であり、また保存
中に前記写真要素の背景域を着色させる暗熱反応が抑制
される。
別の観点において、本発明は輻射線に露光した際焼出し
画像を形成するロイコ色素含有写真要素または前記要素
のためのロイコ色素含有前,駆体の安定化法にあり、こ
の安定化法は、前記の要素または前駆体に、前記の安定
剤を加えることからなる。
本発明の安定剤は、コイコ色素を基準にして、約2ない
し約25重量多の濃度で存在するのが好ましい。
最も好ましい安定剤の濃度は、ロイコ化合物の重量を基
準にして、約5ないし20多である。
前記安定剤と一緒に用いられる材料は、ロイコ色素含有
写真要素とこの要素のためのロイコ色素含有前、駆体で
ある。
「前駆体」とは、要素に実際に加える前の写真要素の或
分、例えば、適当な基材に塗布される前の1種または数
種のロイコ色素を含有する塗布溶液をいう。
■.本発明の実施に用いられるロイコ色素およびこれと
一緒に使用される好ましい光酸化剤については、米国特
許第3,615,568号に記載されている。
本発明に従って使用しうるロイコ型の代表的な色素とし
ては、次のものを挙げることができる。
a.アミノトリアリールメタン類 ビス(4−アミノー2−プチルフエニル)(p−ジメチ
ルアミノフェニル)メタン ビス(4−アミノ− 2−クロロフエニル)(p−アミ
ノフエニル)メタン ビス(4−アミノー3−クロロフエニル)(p−クロロ
フエニル)メタン ビス(4−アミノー3−クロロフエニル)フエニルメタ
ン ビス(4−アミノー3,5−ジエチルフエニル)(o−
クロロフエニル)メタン ビス(4−アミノー3,5−ジエチルフエニル)(o一
エトキシフエニル)メクン ビス(4−アミノー3,5−ジエチルフエニル)(p−
メトキシフエニル)メタン ビス(4−アミノエチルフエニル)(0 クロロフェニル)メタン ビス(p−アミノフエニル)(4−アミノーmトリル)
メタン ビス(p−アミノフエニル)(o−’7口口フエニル)
メタン ビス(p−アミノフエニル)(p 一’7口ロフエニル
)メタン ビス(p−アミノフエニル゛)(2.4−ジクロロフエ
ニル)メタン ビス(p−アミノフエニル)(2.5−ジクロロフエニ
ル)メタン ビス(p−アミノフエニル)(2.6−ジクロロフエニ
ル)メタン ビス(p−アミノフエニル)フエニルメタン−9−メチ
ルアクリジン ビス(4−アミノートリル)(p−クロロフエニル)メ
タン ビス(4−アミノー〇一トリル)(2.4ジクロロフエ
ニル)メタン ビス(p−アニリノフェニル)(4−アミノーm一トリ
ル)メタン ビス(4−ペンジルアミノ−2−ジアノフエニル)(p
−アミノフエニル)メタン ビス(p−ペンジルエチルアミノフェニル(p−クロロ
フエニル)メタン ビス(p−ペンジルエチルアミノフエニル)(p−ジエ
チルアミノフエニル)メタン ビス(p−ペンジルエチルアミノフエニル)(p−ジメ
チルアミノフエニル)メタン ビス(4−ベンジルエチルアミノー0−トリル)(p−
メトキシフエニル)メタン ビス(p−ペンジルエチルアミノフエニル)フエニルメ
タン ビス(4−べ/ジルエチルアミノー〇一トリリル)(o
−クロロフエニル)メタン ビス(4−ベンジルエチルアミノー〇一トリル、)(p
−ジエチルアミノフエニル)メタン ビス(4−ベンジルエチルアミノー。
−トリル)(4−シエチルアミノーo−トリル)メタン ビス(4−ベンジルエチルアミノーo一トリル)(p−
ジメチルアミノフエニル)メタン ビス〔2−クロロー4−(2−ジエチルアミンエチル)
エチルアミノフエニル)(0クロロフエニル)メタン ビス〔p−ビス(2−シアノエチル)アミノフエニル〕
フエニルメタン ビス(p−(2−シアノエチル)エチルアミノー0 −
}リル〕(p−ジメチルアミノフエニル)メタン ビス〔p−(2−シアノエチル)メチルアミノフエニル
〕(p−ジエチルアミノフェニル)メタン ビス(p−ジブチルアミノフエニル)〔p(2−シアノ
エチル)メチルアミ/フエ ニル〕メタン ビス(p−ジブチルアミノフエニル)(pジエチルアミ
ノフエニル)メタン ビス(4−ジエチルアミンー2−ブトキシフエニル)(
p−ジエチルアミノフエニル)メタン ビス(4−ジエチルアミノー2−クロロフエニル)o一
トリルメタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(pアミノフエニ
ル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(4アミノ−1−
ナフチル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(mブトキシフエ
ニル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(oクロロフエニ
ル)メタン (p−ジエチルアミノフエニル)(p−シアノフエニル
)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニノレ)(oクロロフエ
ニル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(pシアノフエニ
ル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル) ( 2.4−ジ
クロロフエニル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(4ジエチルアミ
ノ−1−ナフチル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフェニル)(pジメチルアミ
ノフエニル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフェニル)(4エチルアミノ
−1−ナフチル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)−2ナフチlレメ
タン ビス(p−ジエチルアミノフェニル)(pニトロフエニ
ル)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)2ビリジルメタン ビス(p−ジエチルアミノーm−トリル)(p−ジエチ
ルアミノフェニル)メタン ビス(4−ジェチルアミノ−o−トリル)(0−クロロ
フエニル)メタン ビス(4−ジエチルアミノー〇一トリル)(p−ジエチ
ルアミノフェニル)メタン ビス(4−ジエチルアミノーo一トリル)(p−ジフエ
ニルアミノフェニル)メタンビス(4−ジエチルアミノ
ー〇−トリル)フエニルメタン ビス(4−ジメチルアミノー2−プロモフエニル)フエ
ニルメタン ビス(p−ジメチルアミノフエニル)(4アミノー1−
ナフチル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(pブチルアミノ
フエニル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフエニル)(psec−プチ
ルエチルアミノフェニル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(pクロロフエニ
ル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(pジエチルアミ
ノフェニル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフエニル゛)(4ジメチルア
ミノー1−ナフチル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(6ジメチルアミ
ノーm−トリル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(4一ジメチルア
ミノー0−}リル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフエニル)(4エチルアミノ
ーl−ナフチル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(pヘキシルオキ
シフエニル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(pメトキシフエ
ニル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(5メチル−2−
ピリジル)メタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)2 キノリルメタン ビス(p−ジメチルアミノフェニル)0 トリルメタン ビス(p−ジメチルアミノフエニル)(1,3.3−ト
リメチル−2−インドリニリデンメチル)メタン ビス(4−ジメチルアミノー〇一トリル)(p−アミノ
フエニル)メタン ビス(4−ジメチルアミノー〇一トリル)(0−プロモ
フエニル)メタン ビス(4−ジメチルアミノー。
=トリル)(0−シアノフエニル)メタン ビス(4−ジメチルアミノー0−トリル)(0−フルオ
ロフェニル)メタン ビス(4−ジメチルアミノー○−トリル)1−ナフチル
メタン ビス(4−ジメチルアミノー〇一トリル)フエニルメタ
ン ビス(p一エチルアミノフェニル)(o一クロロフエニ
ル)メタン ビス(4−エチルアミノーm一トリル) (0−メトキシフエニル)メタン ビス(4−エチルアミノーm一トリル) (0−メトキシフエニル)メタン ビス(4−エチルアミノーm一トリル) (p−ジメチルアミノフエニル)メタン ビス(4−エチルアミノーo一トリル) (p−ヒドロキシフェニル)メタン ビス〔4−エチル(2−ヒドロキシエチル)アミノーm
一トリル〕(p−ジェチルアミノフエニノ0メタン ビス(p−(2−ヒドロキシェチル)アミノフエニル)
(0−クロロフエニル)メタン ビス(p−ビス(2−ヒドロキシェチル)アミノフエニ
ル〕(4−ジェチルアミノ 0−トリル)メタン ビス(p−(2一メトキシェチル)アミノフエニル〕フ
エニルメタン ビス(p−メチルアミノフェニル)(p ヒド口キシフエニル)メタン ビス(p−プロビルアミノフエニル)(mプロモフエニ
ル)メタン トリス(4−アミノーo−トリル)メタントリス(4−
アニリノー〇一トリル)メタン トリス(p−ペンジルアミノフエニル)メタン トリス〔4−ビス(2−シアノエチル)アミノーo一ト
リル〕メタン トリス〔p−(2−シアノエチル)エチルアミノフエニ
ル〕メタン トリス(p−ジブチルアミノフエニル)メタン トリス(p−ジーt−プチルアミノフエニル)メタン トリス(p−ジメチルアミノフエニル)メタン トリス(4−ジエチルアミノー2−クロロフエニル)メ
タン トリス(p−ジエチルアミノフエニル)メタン トリス(4−ジエチルアミノー0−} ’J ル)メタ
ン トリス(p−ジヘキシルアミノー〇一トリル)メタン トリス(4−ジメチルアミノ−o一トリル゛)メタン トリス(p−へキシルアミノフエニル)メタン トリス(p−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノフエ
ニル〕メタン トリス(p−メチルアミノフエニル)メタン トリス(p−ジオクタデシルアミノフエニル)メタン アミノキサンテン類 3−アミノー6−ジメチノレアミノ−2−メチル−9−
(o−クロロフエニル)キサンテン 3−アミノー6−ジメチルアミノー2−メチル−9−フ
エニルキサンテン 3−アミノー6−ジメチルアミノー2−メチルキサンテ
ン 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9 (0−クロロフエニル)キサンテン 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9−へキシルキサン
テン 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9 (0−メトキシカルボニルフエニル)キサンテン 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9−メチルキサンテ
ン 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9−フエニルキサン
テン 3,6−ビス(ジエチルアミノ) − 9−oトリルキ
サンテン 3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9 (0−クロロフエニル)キサンテン 3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9−エチルキサンテ
ン 3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9一 (0−メトキシカルボニルフエニル)キサンテン 3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9−メチルキサンテ
ン アミノチオキサンテン類 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9− (o一エトキシカルボニルフエニル)チオキサンテン 3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9 (0−メトキシカルボニルフエニル)チオキサンテン 3,6−ビス(ジメチルアミノ)チオキサンテン 3,6−ジアニリノ−9−(o一エトキシカルボニル)
チオキサンテン アミノー9,10−ジヒドロアクリジン類3,6−ビス
(ペンジルアミノ) −9,10ジヒドロ−9−メチル
アクリジン 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9−へキシル−9,
10−ジヒドロアクリジン 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9.10ジヒドロ−
9−メチルアクリジン 3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9.10ジヒドロ−
9−フエニルアクリジン 3,6−ジアミノ−9−ヘキシル−9,10ジヒドロア
クリジノ 3,6−ジアミノー9,10−ジヒドロ 9−メチルアクリジン 3,6−ジアミノー9,10−ジヒドロ 9−フエニルアクリジン 3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9−ヘキシル−9,
10−ジヒドロアクリジン 3,6−ビス(ジメチルアミノ)−9.10−ジヒドロ
−9−メチルアクリジン アミノフエノキサジン類 3,7−ビス(ジエチルアミノ)フエノキサジン 9−ジメチルアミノーベンゾ(a)フエノキサジン アミノフエノチアジン類 3,7−ビス(ペンジルアミノ)フエノチアジン アミノジヒドロフエナジン類 3,7−ビス(ペンジルエチルアミノ) 5,10−ジヒドロ−5−フエニルフエナジン 3,7−ビス(ジエチルアミノ)−5−へキシル−5,
10−ジヒドロフエナジン 3,7−ビス(ジヘキシルアミノ)−5,10−ジヒド
ロフエナジン 3,7−ビス(ジメチルアミノ)−5− (p−クロロフエニル)−5.10−ジヒドロフエナジ
ン 3,7−ジアミノー5−(o−クロロフエニル)−5,
10−ジヒドロフエナジン 3,7−ジアミノ−5、,10−ジヒドロフエナジン 3,7−−−ジアミノー5,10−ジヒドロ5−メチノ
レフエナジン 3,7−ジアミノー5−へキシル−5,10ジヒドロフ
エナジン 3,7−ビス(ジメチルアミノ)−5.10ジヒドロフ
エナジン 3,7−ビス(ジメチルアミノ)−5.10ジヒドロ−
5−フエニルフエナジン 3,7−ビス(ジメチルアミノ)−5.10ジヒドロ−
5−メチルフエナジン アミノフエニルメタン類 1,4−ビス〔ビス−p(ジエチルアミノフエニル)メ
チル〕ピペラジン ビろ(p−ジエチルアミノフエニル)アニリノメチン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)−1ペンゾトリア
ゾリルメタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)−2ペンゾトリア
ゾリルメタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(p一クロロアニ
リノ)メタン ビス(.P−ジエチルアミノフエニル) ( 2.4−
ジクロロアニリノ)メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(メチルアミノ)
メタン ビス(p−ジエチルアミノフエニル)(オクタデシルア
ミノ)メタン ビス(p−ジメチルアミノフエニル)アミノメタン ビス(p−ジメチルアミノフエニル)アニリノメタン ■,1−ビス(ジメチルアミノフエニル)エタン 1,1−ビス(ジメチルアミノフエニル)へブタン ビス(4−メチルアミノーm一トリル)アミノエタン i. ロイコインダミン類 4−アミノー4′−ジメチIレアミノジフエニノレアミ
ン p−(p−ジメチルアミノアニリン)フエノーノレ j.アミノヒドロケイ皮酸類(シアンエタン類、ロイコ
メチン類) 4−アミノーα,β−ジシアノヒドロケイ皮酸、メチル
エステル 4−アミノ−α,β−ジシアノヒドロケイ皮酸、メチル
エステル 4−(p−クロロアニリノ)一α,β−ジシアノヒドロ
ケイ皮酸メチルエステル α−シアノー4−ジメチルアミノヒドロケイ皮アミド α−シアノー4−ジメチルアミノヒドロケイ皮酸、メチ
ルエステル α,β−ジシアノ−4−ジエチルアミノヒド口ケイ皮酸
、メチルエステル α,β−ジシアノ−4−ジメチルアミノヒドロケイ皮酸
アミド α,β−ジシアノ−4−ジメチルアミノヒド口ケイ皮酸
、メチルエステル α,β−ジシアノ−4−ジメチルアミノヒド口ケイ皮酸 α,β−ジシアノ−4−ジメチルアミンヒドロケイ皮酸
、ヘキシルエステル α,β−ジシアノ−4−へキシルアミノヒドロケイ皮酸
、メチルエステル α,β−ジシアノ−4−ヘキシルアミノヒド口ケイ皮酸
、メチルエステル α,β−ジシアノ−4−メチルアミノケイ皮酸、メチル
エステル p一(2,2−ジシアノエチル)−N,Nジメチルアニ
リン 4−メトキシ−4’−( 1 , 2 , 2−トリシ
アノエチル)アゾベンゼン 4−(1,2,2−トリシアノエチル)アゾベンゼン p−(1,2,2,トリシアノエチル) N,N−ジメチルアニリン ヒドラジン類 1−(p−ジエチルアミノフエニル)−2=(2−ピリ
ジル)ヒドラジン 1−(p−ジメチルアミノフエニル)一−2(2−ピリ
ジル)ヒドラジン ■−(3−メチル−2−ペンゾチアゾール)−2−(4
−ヒドロキシル−1−メフチル)ヒドラジン 1−(2−ナフチル)−2−フエニルヒドラジン ■−p−ニトロフエニル−2−フエニルヒドラジン 1−(1 ,3,3−トリメチル−2−インドリニル)
−2−(3−N−フエニルカルバモイル−4−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)ヒドラジン ロイコインジゴイド色素 アミノー2,3−ジヒドロアントラキノン類 1,4−ジアニリノ−2,3−ジヒドロアントラキノン 1,4−ビス(エチルアミノ)−2.3 ジヒドロアントラキノン n.フエネチルアニリン類 N−(2−シアンエチル)−p−フエネチルアニリン N,N−ジエチルーp−フエネチルアニリン N,N−ジメチル−p−〔2−(1−ナフチル゛)エチ
ル〕アニリン ■.塩基性NH基を含むロイコ色素のアシル誘導体一塩
基性のNH基を有し、アシル化した際にアミドをつくる
適当な化合物,但し、ジヒドロフエナジン類、フエノチ
アジン類、およびフエノキサジン類を含む。
この種類の代表的な化合物には、次のものを挙げること
ができる。
10−アセチルー3,7−ビス(ジメチルアミノ)フエ
ノチアジン 10−(p−クロロベンゾイル)−3.7ビス(ジエチ
ルアミノ)フエノチアジン 5,10−ジヒドロ−1.0−(p−ニトロベンゾイル
)−5−フエニルー3,7−ビス(フエニルエチルアミ
ノ)フエナジン 10−(p−ベンゾイル)−3,7−ビス(ナフチルメ
チルアミノ)フエノキサジン■.酸化しうる水素原子を
もっていないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合
物一この種類の代表的な化合物としては、次のものを挙
げることができる。
トリスー(p−ジメチルアミノフエニル)ペンジルチオ
メタン 1−トリス(p−ジエチルアミノフエニル)メチル−2
−フエニルヒドラジン トリス(4−ジエチルアミノーo − }リル)エトキ
シ力ルポニルメタン ビス(4−ジプロピルアミノー0−1リル)(0−フル
オロフエニル)プトキシ力ルポニルメタン ビス〔トリス(4−ジエチルアミノー。
=トリル)メチル〕ジサルファイド ■.米国特許第3,042,515号および同第3,0
42,517号に記載されているような発色形に酸化し
うる有機アミン類。
この型の代表的な化合物としては、次のものを挙げるこ
とができる。
4,4′一エチレンジアミン ジフエニルアミン N,N−ジメチルアニリン 4,4−メチレンジアミン トリフエニノレアミン N−ビニル力ルバゾール 好ましい光酸化剤は、可視光線、紫外線、赤外線、X線
等のような活性輻射線に露光されるまでは、不活性であ
る。
各種の光酸化剤は、化合物の構造により、スペクトルの
全域にわたって異なるピーク感度をもっている。
このようなことから、選ばれた特定の光酸化剤は、活性
光線の性質に左右される。
このような輻射線に露光された場合には、光酸化剤は、
発色形或剤をその発色形に酸化させる酸化剤を生ずる。
代表的な光酸化剤は、次の一般式の一つを有する: 式中、 R9は、次の任意のものである: a.シアニン色素に含まれている型の複素環核で終って
いるメチン結合、例えばミーズ( Mees)とジェー
ムス( James)の「ザ・セオリー・オブ・ザ・フ
オイグラフィック・プロセス」(The Theory
of the Photographic P
rocess ),マツクミラン( MacMi l
fan ) ,第3版、第1 9 8 −232頁に記
載されているもの;このメチン結合は置換されていても
よく、または置換されていなくてもよい。
置換されているメチン結合としては、例えば次のものを
挙げることができる。
b.置換アルキルを含むアルキル、好ましくは1ないし
8個の炭素原子を有するもの。
C.置換アリールを含むアリール、例えばフエニル、ナ
フチル、トリル等。
d.水素。
eー R14は水素またはアルキル、好ましくは1ないし8個
の炭素原子を有するもの。
f.次の一般式を有する置換基のようなアニリノビニル
基 但し、Rl1は水素、アシルまたはアルキルである。
または、g.置換スチリル基を含むスチリル基、例えば
但し Rl°は水素、アルキル、アリール、アミノ(但
し、ジメチルアミノのようなジアルキルアミノを含む)
である。
R13は、次のものから任意に選ばれる:a. メロ
シアニン色素に含まれているような型の複数環核で終っ
ているメチン結合、例えば、ミーズとジェームス(Me
es and James )に記載されているもの
;このメチン結合は、置換されていても、または置換さ
れていなくともよい;または b.置換アIJ IJデン基を包含するアIJ IJデ
ン基、例えば、シアノアリリデン基、アルキルカルボキ
シアリリデン基またはアルキルスルホニルアリリデン基
; R8は、次のものから選ばれる: a.アルキル基、好ましくはlないし8個の炭素原子を
有するもの、例えば、メチル、プロビル、エチル、ブチ
ル等。
但し、このものには置換アルキル基が包含される。
例えばスルホアルキ/l/,例えζよ−( C H2
)a S O3−、アルアルキル、例えばベンジルまた
はピリジネートオキシアルキル塩、例えば−(CH2)
a−o−y,但し、Yは置換または非置換ピリジニウム
塩等;b.アシル基、例えば、 但し、R12はアルキル基、好ましくは1ないし8個の
炭素原子を有するもの、またはアリール基、例えば、メ
チル、エチル、プロビル、ブチル、フエニル、ナフチル
等、 Zは5ないし6員の腹素環核(但し、置換複素環核を含
む)を完或するのに必要な原子を表わす。
この核は、少なくとも1つの別のへテロ原子、例えば酸
素、イオウ、セレンまたは窒素を含むことができる。
このような複素頃核の例としては、ピリジン核、キノリ
ン核等を挙げることができる;そして Xは、酸アニオン、例えば、クロライド、ブロマイド、
ヨーデイド、パークロレート、スルファメート、チオシ
アネート、p−トルエンスルホネート、メチルサルフエ
ート、テトラフルオ口ボレート等である。
本発明の好ましい光酸化剤は、次の構造式で示される1
つを有する。
(A) 式中、Ql , Q2およびQ9は、各々、複素環に5
または6個の原子を含む増感核を完成するに必要な非金
属原子を表わし、このような核には、少なくとも1個の
別のへテロ原子、例えば、酸素、イオウ、セレンまたは
窒素を含むことができる。
例えば、シアニン色素の生戒に使用されうる型の核、例
えば、次の代表的な核を挙げることができる。
チアゾール核、例えば、チアゾール、4−メチルチアゾ
ール、3−エチルチアゾール、4−フエニルチアゾール
、5−メチルチアゾール、5−フエニルチアゾール、4
,5−ジメチルチアゾール、4,5ジフエニルチアゾー
ル、4−(2−チェニル)チアゾール、ペンゾチアゾー
ル、4−クロロベンゾチアゾール、4−または5−ニト
ロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6
−4ロロベンゾチアゾール、7−クロロベンゾチアゾー
ル、4−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチ
アゾール、6−メチルベンゾチアゾール、6ニトロベン
ゾチアゾール、5−プロモベンゾチアゾール、6−プロ
モベンゾチアゾール、5−クロロー6−ニトロベンゾチ
アゾール、4−フエニルベンゾチアゾール、4−メトキ
シベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、
6−メトキシベンゾチアゾール、5−ヨードベンヅチア
ゾール、6−ヨードベンゾチアゾール、4−エトキシベ
ンゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、テト
ラヒド口ペンゾチアゾール、5,6−ジメトキシベンゾ
チアゾール、5,6−メチレンジオキシベンゾチアゾー
ル、5−ヒドロキシベンソチアゾール、6−ヒドロキシ
ベンゾチアゾール、αナフトチアゾール、β−ナフトチ
アゾール、β,β−ナフトチアゾール、5−メトキシー
β,βナフトチアゾール、5−エトキシ−β−ナフトチ
アゾール、8−メトキシ−α−ナフトチアゾール、7−
メトキシーα−ナフトチアゾール、4′−メトキシチア
ナフテノ−7’, 6’, 4 . 5−チアゾール、
ニトロ基で置換されたナフトチアゾール等;オキサゾー
ル核、例えば4−メチルオキサゾール、4ニトローオキ
サゾール、5−メチルオキサゾール、4−フエニルオキ
サゾール、4,5−ジフエニルオキサゾール、4−エチ
ルオキサゾール、4,5一ジメチルオキサゾール、5−
フエニルオキサゾール、ペンソオキサソール、5−クロ
ロベンソオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾール
、5フエニルベンゾオキサゾール、.5−または6ニト
ロヘンソオキサゾール、5−クロロー6−ニトロペンゾ
オキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、5,6
−ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベン
ゾオキサゾール、5−メトキシベンゾオキサゾール、5
−エトキシベンゾオキサゾール、5−クロロペンゾオキ
サゾール、6メトキシベンゾオキサゾール、5−ヒドロ
キシベンゾオキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサ
ゾール、α−ナフトオキサゾール、β−ナフトオキサゾ
ール、二トロ基で置換されたナフトオキサゾール等;セ
レナゾール核、例えば4−メチルセレナゾール、4−ニ
トロセレナゾール、4−フエニルセレナゾール、ペンゾ
セレナゾール、5−クロロペンゾセレナゾール、5−メ
トキシベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレ
ナゾール、5−または6−ニトロペンゾセレナゾール、
5クロロー6−ニトロベンゾセレナゾール、テトラヒド
ロベンゾセレナゾール、α−ナフトセレナゾール、β−
ナフトセレナゾール、三トロ基で置換されたナフトセレ
ナゾール等;チアゾリン核、例えばチアゾリン、4−メ
チルチアゾリン等;ピリジン核、例えば2−ピリジン、
5−メチル−2ピリジン、4−ピリジン、3−メチル−
4−ピリジン、ニトロ基で置換されたピリジン等;キノ
リン核、例えば、2−キノリン、3−メチル−2キノリ
ン、5−エチル−2−キノリン、6−クロロー2−キノ
リン、6−ニトロ−2−キノリン、8−クロロ−2−キ
ノリン、6−メトキシ−2キノリン、8−エトキシ−2
−キノリン、8−ヒドロキシ−2−キノリン、4−キノ
リン、6−メトキシ−4−キノリン、6−ニトロ−4−
キノリン、7−メチル−4−キノリン、8−クロロ−4
キノリン、1−イソキノリン、6−ニトロ−1イソキノ
リン、3,4−ジヒドロ−1−イソキノリン、3−イソ
キノリン等;3,3−ジアルキルインドレニン核、好ま
しくはニトロまたはシアノ置換基を有するもの、例えば
、3,3−ジメチル−5または6−ニトロインドレニン
、3,3ジメチル−5、または6−シアノインドレニン
等;およびイミダゾール核、例えばイミダゾール、1ア
ルキルイミダゾール、1−アルキルー4−フエニルイミ
タソール、■−アルキルー4,5−ジメチルイミダゾー
ル、ペンズイミダゾール、1アルキルベンズイミダゾー
ル、1−アルキルー5ニトロペンズイミダゾール、1−
アリールー5,6−ジクロロベンズイミダゾール、1−
アルキルα−ナフトイミダゾール、1−アリールーβナ
フトイミダゾール、1−アルキル−5−メトキシ−α−
ナフトイミダゾール、またはイミダゾ(4.5−b,l
’キノキサリン核、例えばl−アルキルイミダゾ(4.
5−b)キノキサリン、例えば1−エチルイミダゾ(4
.5−b)キノキサリン、6−クロロー1−エチルイミ
ダゾ〔4,5b〕キノキサリン等、1−アルケニルイミ
ダゾ(4.5−b)キノキサリン、例えば1−アリルイ
ミダゾC4 .5−b)キノキサリン、6−クロロ−1
−アリルイミダゾー(4 .5−b〕キノキサリン、等
;1−アリールイミダゾ(4 .5−b)キノキサリン
、例えば1−フエニルイミダゾ〔4,5−b)キノキサ
リン、6−クロロ−1−フェニルイミダゾ(4,5−b
l:]キノキサリン等;3,3ジアルキル−3H−ピロ
ロ−(2.3−b)ピリジン核、例えば、3,3−ジメ
チル−3H−ピロロー(2.3−b)ピリジン、3,3
−ジェチル3H−ピロロー(2.3−b)ピリジン等;
チアゾロ(4,5−b)キノリン核。
R11は前に定義した通りであり、例えばメチル、エチ
ル、プロビル、イソプロビル、ブチル、ヘキシル、シク
ロヘキシル、デシル、ドデシル等、および置換アルキル
基(好ましくは1ないし4個の炭素原子を有する低級置
換アルキルであり)、例えば、ヒドロアルキル基、例え
ばβ−ヒドロキシエチル、ω−ヒドロキシブチル等、ア
ルコキシアルキル基、例えばβ−メトキシエチル、ω−
ブトキシブチル等、カルボキシアルキル基、例えば、β
一カルボキシエチル、ω一カルボキシブチル等、アルコ
キシ基、例えばメトキシ、エトキシ等、スルホアルキル
基、例えば、β−スルホエチル、ωスルホブチル等、ス
ルファトアルキル基、例えば、β−スルファトエチル、
ω−スルファトブチル等、アシロキシアルキル基、例え
ば、β−アセトキシエチル、γ−アセトキシプロビル、
ω−プチリルオキシブチル等、アルコキシカルボニルア
ルキル基、例えば、β−メトキシ力ルポニルエチル、ω
一エトキシ力ルポニルブチル等またはアルアルキル基、
例えば、ベンジル、フエネチル等;アルケニル基、例え
ばアリル、■−プロペニル、2ブテニル等またはアリー
ル基、例えばフエニル、トリル、ナフチル、メトキシフ
エニル、クロロフエニル等; Q4は、5ないし6員の複素環核を完威させるのに必要
な非金属原子群を表わし、代表的には、窒素、イオウ、
セレンおよび酸素から選ばれるヘテロ原子を含むもので
あり、例えば2−ビラゾリン−5オン核(例えば3−メ
チル−1−フエニルー2−ビラソリンー5−オン、1−
フエニル−2−ビラゾリン−5−オン、1−(2−ペン
ゾチアゾリル)−3−メチル−2−ビラゾリン−5−オ
ン等)イソオキサゾ吊ン核(例えば3−フエニルー5(
4H)−イソオキサゾロン、3−メチル−5(4H)一
イソオキサゾロン、3−メチル−5(4H)一イソオキ
サゾロン等);オキシインドール核(例えば、1−アル
キル−2,3−ジヒドロ−2−オキシインドール等)、
2,4.6−トリケトへキサヒドロピリミジン核(例え
ば、バルビツル酸または2−チオバルビッル酸並びにこ
れらの1−アルキル(例えば1−メチル、■−エチル、
1−プロビル、■−ヘプチル等)または1,3−ジアル
キル(例えば1.3−ジメチル、■,3−ジエチル、1
,3−ジプロピル、■,3−ジイソプロビル、1,3−
ジシクロヘキシル、1,3−ジ(β−メトキシエチル)
等または1,3ジアリール(例えば1,3−ジフエニル
、■,3ジ(p−クロロフエニル)、■,3−ジ(pエ
トキシカルボニルフエニル)、等または1−アリール(
例えば、1−フェニル、1−p−クロロフエニル、■−
p一エトキシカルボニルフェニノレ)等)または1−ア
ルキルー3−アリール(例えば、1−エチル−3−フエ
ニル、1−n−ヘフチル3−フエニル−等)誘導体、ロ
ーダミン核(例えば、2−チオー2,4−チアゾリジン
ジオン系)、例えばローダミン、3−アルキルローダミ
ン(例えば3−エチルローダミン、3−了りルローダミ
ン等)、3−カルボキシ−アルキルロータミン、例えば
、3−(2−カルボキシエチル)ローダミン、3−(4
−カルボキシブチル)ローダミン等)、3−スルホアル
キルローダミン(例えば、3−(2スルホエチル)ロー
ダミン、3−(3−スルホプ口ピル)ローダミン、3−
(4−スルホブチル)ローダミン等)または3−アリ−
ルロータミン(例えば3−フエニルロータミン等)等;
2(3H)一イミダゾ〔1,2−α〕ピリドン核;2フ
ラノン核(例えば3−シアノー4−フェニル2(5H)
フラノン);チオフエン−3−オン1,1−ジオキサイ
ド核(例えばベンゾ〔b〕チオフエン−3(2H)一オ
ン−1,1−ジオキサイド);5,7−ジオキソー6,
7−ジヒドロ5−チアゾロ〔3,2−α〕ピリミジン核
(例えば5,7−ジオキソ−3−フェニル−6,7−ジ
ヒドロ−5−チアゾロ〔3,2−α〕ピリミジン等);
2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン核(例えば、
2−チオー2,4−オキサゾリジンジオン、3−(2−
スルホエチル)−2−チオ2,4−オキサゾリジンジオ
ン、3−(4−スルホブチル)−2−チオー2,4−オ
キサゾリジンジオン、3−(3−カルボキシプロビル)
−2チオ−2,4−オキサゾリジンジオン等);チアナ
フテノン核(例えば、2−(2H)一チアナフテノン等
);2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核(例えば
、2−チオ−2.5(3H,4H)チアゾールジオン系
)(例えば、3−エチル2−チオー2,5−チアゾリジ
ンジオン等);2,4−チアゾリジンジオン核(例えば
、2,4−チアゾリジンジオン、3−エチル−2,4−
チアゾリジンジオン、3−フエニル−2,4−チアゾリ
ジンジオン、3−α−ナフチル−2,4−チアゾリジン
ジオン等);チアゾリジオン核(例えば、4−チアゾリ
ジオン、3−エチル−4−チアゾリジオン、3−フエニ
ル−4−チアゾリジオン、3−α−ナフチル−4−チア
ゾリジオン等);2チアゾリン−4−オン系、例えば、
2−エチルメルカプト−2−チアゾリン−4−オン、2
−アルキルーフエニルアミノー2−チアゾリン−4−オ
ン、2−ジフエニルアミノ−2−チアゾリン−4−オン
等);2−イミノ−4−オキサゾリジノン(例えば、プ
ソイドヒダントイン)核;2,4イミダゾリジンジオン
(ヒダントイン)系(例えば、2,4−イミダゾリジン
ジオン、3−エチル−2,4−イミダゾリジンジオン、
3−フエニルー2,4−イミダゾリジンジオン、3−α
−ナフチル−2,4−イミダゾリジンジオン、1,3ジ
エチル−2,4−イミダゾリジンジオン、1エチル−3
−フエニル−2,4−イミダゾリジンジオン、1−エチ
ル−2−α−ナフチル、1−2,4−イミダブりジンジ
オン、1,3−ジフエニル2,4−イミダゾリジンジオ
ン等);2−チオー2,4−イミダゾリジンジオン(す
なわち、2チオヒダントイン)核(例えば、2−チオ−
2、4−イミダゾリジンジオン、3−エチノレ−2−チ
オー2,4−イミダゾリジンジオン、3−(4−スルホ
ブチル)−2−チオー2,4−イミダゾリジンジオン、
3−(2−カルボキシエチル)−2−チオー2,4−イ
ミダゾリジンジオン、3−フエニルー2チオー2,4−
イミダゾリジンジオン、3−αナフチル−2−チオ−2
,4−イミダブりジンジオン、1,3−ジエチル−2−
チオ−2,4−イミタソリジンジオン、1−エチル−3
−フエニル2−チオー2,4−イミダゾリジンジオン、
1エチル−3−α−ナフチル−2−チオ−2,4イミダ
ブりジンジオン、1,3−ジフエニル2−チオー2.4
−2.4−イミダゾリジンジオン等;2−イミダブリン
−5−オン核(例えば、2−プロビルメルカプト−2−
イミダゾリンー5オン等); nは1ないし4の正の整数である; mは1ないし3の正の整数である; gは1ないし2の正の整数である; R16とR17はシアノ基、エステル基、例えば、エト
キシカルボニル、メトキシカルボニル等またはアルキル
スルホニル基、例えば、エチルスルホニル、メチルスル
ホニル等を各々表わす;Lは次の一般式を有するメチン
結合を表わすここにおいて、Tは水素、1ないし4個の
炭素原予を有する低級アルキルまたはフエニルのような
アリールであり、例えば−CH一,−C(CH3)C(
C6H5)一等である; R10とR12は、各々、水素原子、アルキル基(好ま
しくは1ないし4個の炭素原子の低級アルキル)、例え
ば、メチル、エチル、プロビル、イソプロビル、ブチル
、デシル、ドデシル等またはアリール基、例えばフエニ
ル、トリル、ナフチル、メトキシフエニル、クロロフエ
ニル、ニトロフエニル等を表わす; X一は酸アニオン、例えばクロライド、プロマイド、ヨ
ーデイド、パークロレート、テトラフルオロボーレイト
、スルファメート、チオシアネート、p一トルエンスル
ホネート、メチルサルフエート等を表わす; Gはアニリノ基またはアリール基、例えば、フエニル、
ナフチル、ジアルキルアミノフエニル、トリル、クロロ
フエニル、ニトロフエニル、アニリノビニル等を表わす
: R15は、アルキレン鎖に1ないし8個の炭素原子を有
するアルキレンオキシ基(但し、アルキレンジオキシ基
とアリーレンビスアルコキシ基を含む)、例えばエチレ
ンオキシ、トリメチレンオキシ、テトラメチレンオキシ
、プロピリデンオキシ、エチレンジオキシ、フエニレン
ビスエトキシ等である; RSは(1)アルキル基(但し、置換アルキルを含む)
(好ましくは、1ないし4個の炭素原子を有する低級ア
ルキル)例えば、メチル、エチル、プロビル、イソプロ
ビル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、デシル、ド
デシル、アルアルキル(例えばベンジル)、スルホアル
キル(例えばβ−スルホエチル、ω−スルホエチル、ω
−スルホブチル、ω−スルホプロピル)または(2)ア
シル基、例えばここにおいてR12は、アルキル(但し
、置換アルキルを含む)またはアリール基、例えばメチ
ル、フエニル、ナフチル、プロビル、ベンジル等である
上記一般式においては、Q2は好ましくはピリジン、イ
ンドールまたはキノリン核を完成するものである。
本発明の範囲に包含される代表的な光酸化剤としては次
の化合物を挙げることができる:1.3−エチル−1′
−メトキシオキサ−2′−ピリドカルボシアニンパーク
ロレート 2.1′一エトキシー3−エチルオキサー2′−ピリド
カルボシアニンテトラフルオロボレート33′一エチル
−1−メトキシ−2−ピリドチアシアニンヨーデイド 4.1−エトキシー3′一エチル−2−ピリドチアシア
ニンテトラフルオロボレート 5.1−ペンジルオキシ−3′一エチル−2−ピリドチ
アシアニンヨーテ゛イド 6.3′一エチル−1−メトキシ−2−ピリドチア力ル
ポシアニンヨーデイド 7.1−エトキシー3′一エチル−2−ピリドチア力ル
ポシアニン テトラフルオロボレート8.無水−3′一
エチル−1−(3−スルホプロポキシ)−2−ピリドチ
アヵルポシアニンハイド口オキサイド 9.1−ペンジルオキシ−3′一エチル−2−ピリドチ
ア力ルポシアニン パークロレート 10. 3’一エチル−1−メトキシ−2−ピリドチア
力ルポシアニン パークロレート 11.1−メトキシ−1,3.3−}リメチルインド−
2′−ピリドカルポシアニンピクレート12. 3’一
エチル−1−メトキシ−4′,5′−ベンゾ2−ピリド
チアカルポシアニン パークロレート 13.1−エトキシー3′一エチル−4′,5′一ベン
ゾ2−ピリドチアカルポシアニン テトラフルオ口ボレ
ート 14 1−エトキシー3−エチルオキサー2′一カルポ
シアニン テトラフルオロボレート 15. 1’一エトキシ−3−エチルチア−2′−シア
ニン テトラフルオロボレート 16. 1’一エトキシー3−エチルケアー2′一カル
ポシアニン テトラフルオロボレート 17. 1’一エトキシー3−エチルチア−27−ジカ
ルポシアニン テトラフルオ口ボレート 18.1−メトキシ−3′−メチル−2−ピリドチアゾ
リノ力ルポシアニン パークロレート 19. 3’一エチル−1−メトキシ−4−ピリドチア
シアニン ノ々−ク口レート 20. 3’一エチル−1−メトキシ−4−ピリドチア
力ルポシアニン パークロレート 21.1−エトキシー3−エチル−4,5−ペンゾチア
−2′一カルポシアニン テトラフルオロボレート 22.2−β−アニリノビニル−1−メトキシピリジニ
ウムp−t−ルエンスルホネート 23,1−エチル−1−メトキシー4,5−ペンゾチア
−4′−カルポシアニン パークロレート24.1−メ
トキシ−2−メチルピリジニウムpトルエンスホネート 25.1−メトキシー4−メチルピリジニウムpトルエ
ンスホネート 26.無水−2−メチル−1−(3−スルホプロポキシ
)ピリジニウム ハイド口オキサイド27,1−エトキ
シ−2−メチルピリジニウム テトラフルオロボレート 詔.1−ペンジルオキシ−2−メチルピリジニウム ブ
ロマイド 29.1−エトキシ−2−メチルキノリウム テトラフ
ルオロボレート 30. 1 , 1−エチレンジオキシビスピリジニウ
ムジブロマイド 31. 1 . 1 − t−リメチレンジオキシビス
ピリジニウム ジブロマイド 32. 1 . 1−7トラメチレンジオキシビス(2
メチルピリジニウム)ジブロマイド 33. 1 . 1−7トラメチレンジオキシビス(4
メチルピリジニウム)ジブロマイド 34. 1 . 1−アトラメチレンジオキシビスピリ
ジニウム ジブロマイド 35. 1 . 1−ヘノタメチレンジオキシビスピリ
ジニウム ジブロマイド 36.1−アセトキシー2−(4−ジメチルアミノスチ
リル)ヒリジニウム パークロレート37.1−ペンゾ
イルオキシ−2−(4−ジメチルアミノスチリル)ピリ
ジニウム パーク口レート 38. 1 . 3−ジエチル−5−〔(1−メトキシ
2(LH)一ピリジリデン)エチリデン〕一2−チオバ
ルビル酸 39.3−エチル−5−((1−メトキシー2(IH)
一ピリジリデン)エチリデン〕ローダミン 40. 1 . 3−ジエチル−5−((1−メトキシ
ー2(IH)−ピリジリデン)エチリデン〕一バルビツ
ル酸 41、l(3.3−ジシアノアルキリデン)−1メトキ
シー1,2−ジヒドロピリジン 42.2−((1−メトキシー2(IH)一ピリジリデ
ン)一エチリデン〕ベンゾ(b)一チオフエンー3(2
H)一オン−1,1−ジオキサイド 43,3−ジアノー5−((1−メトキシ−2(IH)
一ピリジリデン)エチリデン〕−4−フエニルー2(5
H)一フラノン 44,N一エトキシ−2−ピコリニウム ヨーデイド 45.N一エトキシー2−ピコリニウム へキサフルオ
ロホスフエート 46.N−メトキシー2−アニリノビニルピリジニウム
パラトルエン スルホネート 感光性要素は、このようなロイコ色素と光酸化剤とから
、通常の方法によりーすなわち、発色形成剤と光酸化剤
の分散体または溶液をバインダ一と一緒にブレンドし、
この感光性組或物から塗布、含浸または自己支持性層を
形成させてーこれをつくることができる。
この組成物に加えられうるバインダーは、ロイコ色素と
光酸化剤との混合物を支持体に接着させる働きをする物
質である。
このバインダーは、また組戒物の溶液を濃厚にする働き
をも有しており、この働きは、特定の用途に対しては望
ましいことである。
本発明の組成物に使用するのに適した代表的なバインダ
ーとしては、次のものを挙げることができる:スチレン
ーブタジエン コポリマー;シリコン樹脂;スチレンー
アルキド樹脂;シリコンーアルキド樹脂;ソーヤーアル
キド樹脂;ポリ(ビニルクロライド);ポリ(ビニリデ
ンクロライド);ビニリデンクロライドアクリロニトリ
ルコポリマー;ポリ(ビニルアセテート);ビニルアセ
テートビニルクロライド コポリマー;ポリ(ビニルア
セクール)、例えばポリ(ビニルプチラール):ポリア
クリル酸エステルおよびポリメタクリル酸エステル、例
えばポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(n−プチル
メタクリレート)、ポリ(インブチルメタクリレート)
等;ポリスチレン、ニトロ化ポリスチレン;ポリメチル
スチレン;イソブチレンポリマー;ポリエステル、例え
ハホリ(エチレンアルカリールオキシアルキレンテレフ
タート);フェノールホルムアルデヒド樹脂;ケトン樹
脂;ポリアミド;ポリカーポネート;ポリチカーボネー
ト;ポリ(エチレングリコールコーヒドロキシエトキシ
フエニルプロパンテレフタレート);ビニルハロアリレ
ートとビニルアセテートのコポリマー、例えばポリ(ビ
ニルーmプロモベンゾエート−コービニルアセテート)
;エチルセルローズ、ポリ(ビニルアルコール)、セル
ロースアセテート、硝酸セルロース、塩素化ゴム、ゼラ
チン等。
この型の樹脂をつくる方法は、公知であり、例えば、ス
チレンーアルキド樹脂の場合については、米国特許第2
,3 6 1,0 1 9号および同第2,2 5 8
,4 2 3号に記載されている方法に従ってこれを製
造することができる。
使用に適する型の適当な樹脂としては、バイテル(V;
tel)PE− 1 0 1、サイマツク(Cymac
)、ピコパール( Piccopale ) 1 0
0,サラン( S aran )F−220、レクサ
ン(Lexun) 1 0 5およびレクサン(Lex
an) 1 4 5の商品名で市販されているものを挙
げることができる。
使用しうるその他の種類のバインダーには、例えばパラ
フィン、ミネラルワックス等がある。
本発明の実施に利用されるバインダーのうち、その好ま
しいものはポリ(ビニルアセクール)、ポリアミド、ま
たはポリエステルである。
特に好ましいバインダー組成物については、Arces
iトRaunerの共同発明による、現在係属中の米国
特許出願第397,179号(1973年9月14日出
願)に記載されている。
こういったバインダーは、少なくとも0.20の固有粘
度を有し、且つ、架橋部位を与えつる第1のジカルボン
酸から誘導される繰り返し単位を98ないし55モル係
(但し、ポリエステルの全部の酸単位を基準とする)お
よび、次の一般式の第2のジカルボン酸から誘導される
繰り返し単位を2ないし45φ(但し、ポリエステルの
全部の酸単位を基準とする)有するエステル繰り返し単
位から実質的になる架橋可能ポリマーである; 式中、 Wはカルボニル基である; nとmは整数でこれらの合計は Qは次の式で定義される; 1に等しい; げは次の式で定義される: Y1は芳香族基である; Y2は、芳香族基または1ないし.12個の炭素原子を
有するアルキル基である;そして Mは可溶性カチオンである。
一般に、こういったコポリエステルは、一種または数種
の多価アルコールと少なくとも2種類のカルボン酸(こ
れらの各々には少なくとも2個の縮合部位を有するもの
とする)との縮合によりつくられる。
カルボン酸の少なくとも1個には非芳香族のエチレン様
不飽和部位を少なくとも1つ有しており、一方、残りの
カルボン酸には、可溶性スルホネート置換体を含んでい
る。
ここで用いられる「非芳香族のエチレン様不飽和」には
、脂胞族および脂環式部分の炭素一炭素二重結合が含ま
れる。
アミド基はエステル基よりはむしろ結合基としてこれを
用いることができる、ということが、勿論、認められて
いる。
これの変った形のものは、アミノアルコール、ジアミン
またはアミノ酸の存在下で縮合させることによって容易
に得られる。
カルボン酸は遊離酸の形か、または官能基の誘導体の形
(例えば酸無水物、低級アルキルエステルまたは酸ハロ
ゲン化物)でこれを縮合させることができる8 好ましい形において、繰り返し単位(1)は、1962
年4月17田こ発行された米国特許第3,0 3 0,
2 0 8号に記載されている型の感光性単位である。
このような繰り返し単位には、少なくとも2個の縮合部
位をもっており、このうちの少なくとも一つは芳香族核
に直接結合した次の一般式から誘導される。
式中のR18は、例えば、化合物が遊離酸のときはヒド
ロキシル基、化合物が酸無水物のときは、オキシ原子結
合、化合物が酸ハロゲン化物のときは、ハロゲン原子、
化合物がエステルの形のときは、アルコキシ基である。
基Aを有する繰り返し単位(1)は、好ましくはケイ皮
酸およびその誘導体からつくられる。
このような化合物は、次の一般式で一般に定義されるこ
とができる。
式中、 R18は前に定義されたものと同じである。
R19は一種または数種のアルキル、アリール、アルア
ルキル、アルコキシ、二トロ、アミノ、アクリルもしく
はカルボキシ基または水素もしくはハロゲン原子を表わ
し、少なくとも1個の縮合部位を与えるために選ばれる
感光性基Aの濃度を増加させるために、特定の好ましい
形においては、R15は一般式(4)の少なくとも1個
の別の基を与えるように選ばれる。
繰り返し単位(1)をつくる好ましい化合物は、p−フ
エニレンジアクリル酸またはこれの誘導体である。
別の有用な化合物については、上記の米国特許第3,0
3 0,2 0 8号に記載されている。
繰り返し単位1をつくるのに用いられるさらに別の化合
物については、Laaksoの米国特許第3,7 0
2,7 6 5号(1972年11月4日発行)および
アレン(A11en)の米国特許第3,622,320
号に記載されている。
別の好ましい形においては、繰り返し単位(1)は、次
の一般式を有するジカルボン酸からこれをつくることが
できる。
式中、R20は、アルキリデン、アリアルキリデンもし
くは複素環基またはこれらの誘導体を表わし、そしてR
18は前記で定義したものと同じである。
一般式(C)に相当し、本発明の実施に特に有用なジカ
ルボン酸の例としては、シンナミリデンマロン酸、2−
ブチリデンマロン酸、3−ベンチリデン70ン酸、o−
ニトロシンナミリデンマロン酸、ナフチルアリリデンマ
ロン酸、2−フルフリリデンエチリデンマロン酸、N−
メチルピリジリデン−2−エチリデンマロン酸、N−メ
チルーキノリデンー2−エチリデンマロン酸、N−メチ
ルベンゾチアソリリデン−2−エチリデンマロン酸等お
よびこれらの酸の誘導体を挙げることができる。
このような酸については、米国特許第3fi74,74
5号に詳細に記載されている。
さらに別の好ましい形においては、繰り返し単位(1)
は、次の一般式を有するムコン酸またはこの官能基の誘
導体からこれをつくることができる。
式中、R18は前記で定義したものと同じである。
そして、R21は水素原子またはメチル基である。
ムコン酸の例としては、トランス、トランスームコン酸
;シス、トランスームコン酸;シス、シスームコン酸;
α,α′−シス、トランスージメチルムコン酸、および
α,α′−シス、シスージメチルムコン酸を挙げること
ができる。
繰り返し単位1をつくるのに有用なこういったおよびそ
の他のムコン酸化合物は、米国特許第3,6 1 5,
4 3 4号に詳細に記載されている。
さらに別の好ましい形においては、繰り返し単位(1)
は、不飽和炭素環式ジカルボン酸またはこれらの誘導体
からこれをつくることができる。
式中、R18は前記で定義したものと同じである。
そして、Z1は不飽和、橋状または非橋状炭素環式核(
代表的には、6ないし7個の炭素原子のもの)をつくる
のに必要な原子群を表わす。
このような炭素環式核は、置換されていてもまた、置換
されていなくてもよい。
特に適した酸単位は、4−シクロヘキセン−1,2−ジ
カルボン酸、5−ノンボルネン−2,3ージカルボン酸
、ヘキサクロロ−5(2:2:1:]ビシクロへプテン
−2,3−ジカルボン酸等である。
このような酸については、カナダ特許824,096号
に詳細に記載されている。
(E)を含んでいる繰り返し単位は、また、シクロへキ
サジエンジカルボン酸およびこれの誘導体からこれをつ
くることができる。
このような化合物は、次の一般式により一般にこれを表
わすことができる。
式中、各R2 2は、水素原子、■ないし12個の炭素
原子を有する枝分れもしくは直鎖状のアルキル基もしく
は環状構造(例えば、メチル、エチル、プロビル、イソ
プロビル、ブチル、t−ブチル、アミル、ネオペンチル
、シクロヘキシル等)またはアリール基(ただし単核ま
たは多核アリール基を含む、例えばフエニル、ナフチル
等)である。
このアルキル基およびアリール基は、縮合反応の妨害と
ならないような置換基、例えばハロゲン、二トロ、アリ
ール、アルコキシ、アリールオキシ等、で置換されてい
てもよい;R18は前記で定義したものと同じである。
そして、カルボニル基は、互に、シクロへキサジエン核
に対してメタまたはバラ位で結合しており、好ましくは
バラ位で結合している。
特に適したシクロヘキサジエンジカルボン酸単位として
は、1,3−シクロへキサジエン−1,4−ジカルボン
酸;1,3−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボン
酸;1,3−シクロへキサジエン−1,2−ジカルボン
酸、1,5シクロへキサジエン−1,4−ジカルボン酸
;1,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボン酸
およびこのようなジカルボン酸のアルキレートおよびア
リーレート誘導体を挙げることができる。
このような酸およびこれらの官能基の誘導体については
、ベルギー特許第7 5 4,8 9 2号ニ詳細に記
載されている。
架橋前においては、アルカリ水溶液に溶けるフイルム形
成性コポリマーを与える第2の繰り返し単位(II)は
、芳香族ジカルボン酸類またはこれらの誘導体(ただし
、ジスルホンアミド基一すなわち、SO2一N−SO2
基、ここにおいて、アミド基の窒素原子には、別の置換
基として可溶性のカチオンを含む−を含む)からこれを
つくることができる。
こういった芳香族ジカルボン酸類は、次の一般式で特徴
づけられるものが好ましい。
式中、 R18は前記で定義されたものと同じである;mとnは
、合わせて1になる整数である;Qは次の式で定義され
る; Q′は次の式で定義される; ¥1は、芳香族基であり、例えばアリーレン基(例えば
フエニレン、ナフクレン等)またはアリーリデン基(例
えばフエネニル、06H3;ナフチリデンC10H5等
)である; ¥2はアルキル基または芳香族基、例えばアリールアル
カリールまたはアルアルキル基一ただし、アルキル部分
には1ないし12個の炭素原子を含む、好ましくは、■
ないし6個の炭素原子を含むである;そして Mは可溶性のカチオン、好ましくは一端のカチオン、例
えばアルカリ金属またはアンモニウムカチオン、である
繰り返し単位(II)をつくるのに用いられる好ましい
化合物としては、次のものを挙げることができ句Q 3,3′−〔(ナトリウムーイミノ)ジスルホニル〕ジ
安息香酸; 3,3′一〔(リチウムーイミノ)ジスルホニル〕ジ安
息香酸: 4.4’−((リチウムーイミノ)ジスルホニル〕ジ安
息香酸: 4.4’−C(ナトリウムーイミノ)ジスルホニル〕ジ
安息香酸; 4.4’−((カリウムーイミノ)ジスルホニル〕ジ安
息香酸: 3.4’ 一((リチウム−イミノ)ジスルホニル〕ジ
安息香酸: 3.4’−((ナトリウムーイミノ)ジスルホニル〕ジ
安息香酸: 5−(4−j7ロロナフト−1−イルスルホニル(ナト
リウムーイミノ)スルホニノレ〕イソフタル酸: 4.4’−((カリウムーイミノ)一ジスルホニル〕ジ
ナフトエ酸; 5−(p−トリル−スルホニル−(カリウムイミノ)一
スルホニル〕イソフタル酸: 4−(p−トリルースルホニル−(ナトリウムーイミノ
)一スルホニル)−1 . 5−−}−7タレンージカ
ルボン酸; 5−(n−へキシルスルホニル−(リチウムイミノ)一
スルホニル)〕−イソフタル酸;2−〔フエニルスルホ
ニルー(カリウムーイミノ)一スルホニル〕テレフタル
酸 およびこれらの官能基の誘導体。
こういったおよびその他のジヵルボン酸で、こういった
縮合コポリマーの繰り返し単位(n)をつくるのに有用
なものについては、米国特許第3,5 4 6,1 8
0号に記載されている。
好ましい形においては、こういった縮合コポリマーは、
繰り返し単位(I)を98ないし55モル%そして繰り
返し単位(n)を2ないし45モル%含んでいる(ただ
し、これらのモル%は存在する全部の酸単位に基づくも
のとする)。
特に好ましい形においては、繰り返し単位(I)がコポ
リマーの97ないし85モル%であり、一カ、繰り返し
単位(It)が3ないし15モル%である(ただし、存
在する全部の酸単位に基づくものとする)。
ジカルボン酸繰り返し単位(I)および(II)は、そ
れぞれ架橋や溶解性をよくするためのものであるが、こ
のほかに、縮合ポリマーの酸単位を完或させるための繰
り返し単位(l[)をこれらの縮合ポリマーに加えるこ
とができる。
このましい形においては、こういった繰り返し単位は、
次の一般式で定義されるジカルボン酸またはこれらの誘
導体からこれをつくることができる。
式中、R18は前記で定義したものと同じであり、Dは
二価の炭化水素基である。
Dは好ましくは、アリーレン基またはアルキレン基であ
る。
繰り返し単位(II)は、好ましくは、3ないし20個
の炭素原子を有する一種または数種のカルボン酸または
この官能基の誘導体の形をとる。
繰り返し単位(I)をつくるのに有用な芳香族ジカルボ
ン酸のうち好ましいものは、フクル酸、例えばフタル酸
、イソフタル酸およびテレフタル酸である。
脂肪族ジカルボン酸の代表的なものとしては、マロン酸
、コハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、ア
ゼライン酸、セバシン酸およびその他の高級ジカルボン
酸を挙げることができる。
繰り返し単位(II)は、縮合コポリマーを可溶性にす
るわけでもなくまた架橋するのでもないから、これらは
、勿論、任意である。
もしこれを含む場合には、これらは、コポリマーの43
モル%まで含むことができる(ただし、存在する全部の
酸単位を基準とする)。
繰り返し単位(1)、(I[)および(1)は、カルボ
ン酸またはこの官能基の誘導体と縮合しうる2個の官能
基を有する化合物から誘導される繰り返し単位(イ)に
よって縮合コポリマーにこれを結合させることができる
好ましい形においては、繰り返し単位(IV)は、次の
一般式の、一種または数種のジオール類からこれをつく
ることができる。
(J) HO−R23−OH 式中、R2 3は、約2ないし12個の炭素原子を有す
る二価の有機基であるのが一般であり、そしてこのもの
は、水素原子と炭素原子を有し、場合によつではエーテ
.ル酸素原子を有することもある。
R23の代表的な好ましいものとしては、炭化水素基、
例えば、直鎖および枝分れのアルキレン基(例えばエチ
レン、トリメチレン、ネオペンチレンなど)、シクロア
ルキレン基(例えば、シクロヘキシレン)、シクロアル
キレンビスアルキレン基(例えば1,4−シクロヘキシ
レンジメチレン)およびアリーレン基(例えばフエニレ
ン)並びに炭化水素一オキシー炭化水素基(例えばアル
キレンーオキシーアルキレン、アルキレンーオキシシク
ロアルキレンーオキシーアルキレンなどを挙げることが
できる。
こういった縮合コポリマーをつくるのに用いられうる代
表的なジオールとしては、エチレングリコール;ジエチ
レングリコール; 1, 3 −−j’ロパンジオール
;1,4−ブタンジオール;1,5ペンタンジオール;
1,6−ヘキサンジオール;1,7−へブタンジオール
;1,8−オクタンジオール;1,9−ノナンジオール
; 1 ,10−デカンジオール;1,12一ドデ゛カ
ンジオール;ネオペンチルグリコール;1,4−シクロ
ヘキサンメタノール;1,4−ビス(β−ヒドロキシエ
トキシ)シクロヘキサンなどを挙げることができる。
対応するジアミン、必要ならば縮合コポリマーをつくる
際にジオールでこれを置換することができる。
ジオールおよび(または)ジアミンは、単独でまたは混
合物として縮合コポリマーをつくるのに用いることがで
きる。
よく知られているように、縮合によるコポリマーの生或
においては、繰り返し単位(rV)は、存在する繰り返
し単位(I)、(I)および(I)の数の総和に等しい
モル数である。
実際の場合には、繰り返し単位(ff)をつくる反応体
を約10モル%まで過剰に用いるのが好ましい6縮合コ
ポリマーの製造は、当該分野において一般に知られてい
る方法一例えば、前記に引用した特許などに記載されて
いる製造法−によってこれを達成しうる。
代表的な例を挙げると、この縮合コポリマーは、触媒一
例えばチタン酸ブチル、チタニウムイソプロポキシド、
酸化アンチモン、酸化ストロンチウム、酢酸亜鉛など−
の存在下で、反応体を混合してこれをつくる。
加熱温度と加熱時間は、重合度を増加させるのにこれを
用いうる。
代表的には、このような縮合コポリマーが、0.2ない
し1.01 より好ましくは、0.3ないし0.8の固
有粘度を有するのが望ましい。
ロイコ色素、安定剤、バインダーおよび光酸化剤に対し
て不活性な溶剤が、これらの化合物を溶かすのは、普通
、用いられる。
この溶剤でこれらを互に混合して液状媒体の感光性組戒
物をつくり、これを支持体に便利かつ容易に塗布するこ
とができる。
本発明の組成物をつくるのに用いうる溶剤としては次の
ものを挙げることができる。
ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
ジメチルアセトアミドのようなアミド類;メタノール、
エタノール、■−プロパノール、2−プロパノール、ブ
タノールのアルコール類;アセトン、2−ブタノなどの
グリコール類;エチルアセテート、エチルベンゾエート
などのエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル類;メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、ジクロロエタンなどの塩素化脂肪族炭化水素類;
ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類;およびジ
メチルスルホキシド、0−ジクロロベンゼン、ジシアノ
シク口ブタン、1−メチル−2−オキソヘキサメチレン
イミンのようなその他の一般溶剤並びにこれらの溶剤の
混合物。
本発明の組戒物の製造にあたっては、ロイコ色素と光酸
化剤とを重量比で約10:1ないし約1:10の割合で
混合するとよい結果が得られる。
好ましい比は2:1ないし1:2である。
バインダーは、一これを用いる場合には一ロイコ色素と
光酸化剤とを合わせた重量に対して約0.5ないし10
重量部の範囲内でこれを用いることかできる。
組戒物中のロイコ色素と光酸化剤との重量は約1重量%
ないし約99重量%の範囲にある。
好ましい重量範囲は約2重量%ないし約60重量%であ
,る。
組成物は、これを塗布して乾燥させた場合には、その厚
さは、代表的には約0.05ないし10.0ミクロンま
たはそれ以上であることができるが、リングラフ版に対
しては、0.1ないし5.0ミクロン・の厚さが好まし
い。
組戒物を支持体に塗布するに当っては、この組戒物を噴
霧、ブラシュ、ローラーもしくは浸漬コーターによる塗
布、支持体表面に流す、浸漬後取り上げる。
その他の手段で含浸もしくは拡げる。このようにしてつ
くられた要素は真空下室温でまたは加温してこれを乾燥
させる。
この要素は、ついで、活性輻射線の模様に対して露光さ
れ、支持体上に直接画像を形成する。
露光は、密着プリント法、レンスによる投射、反射、複
反射により、画像を有するオリジナルから、またはその
他の公知の力法によりこれを行ないうる。
支持体として適する材料は、塗布組戊物と直接に化学反
応を起こさない各種の材料の中からこれを選ぶことがで
きる。
このような支持体材料としては、繊維をベースにした材
料、例えば紙、ポリエチレン塗布紙、ポリプロピレン塗
布紙、羊皮紙、布など;アルミニウム、銅、マグネシウ
ム、亜鉛などの金属のシートまたは箔;ガラスおよびク
ロム、クロム合金、鋼、銀、金、白金などの金属で塗布
したガラス;合成樹脂および重合体材料、例えばポリ(
アルキルアクリレート)例えばポリ(メチルメタクリレ
ート)、ポリエステルフィルムベースー例えばポリ(エ
チレンテレフタレート)、ポリ(ビニルアセクール)、
ポリアミドー例えばナイロンおよびセルロースエステル
フイルムベースー例えば硝酸セルロース、酢酸セルロー
ス、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロ
ースなどを挙げることができる。
印刷版一特にリソグラフ印刷版一をつくるのに有用な支
持体材料としては、亜鉛、電解処理アルミニウム、砂目
立てしたアルミニウム、銅および特別につくった金属お
よび紙の各支持体;表面を加水分解したセルロースエス
テルフイルム;ポリオレフイン、ポリエステル、ポリア
ミドなどの重合体の支持体を挙げることができる。
このような支持体は、ビニリデンクロライドとアクリル
酸モノマー一例えばアクリロニトリル、アクリル酸メチ
ルなど一のコポリマーおよび不飽和のジカルボン酸、例
えばイクコン酸など;カルボキシメチルセルロース;ゼ
ラチン;ポリアクリルアミド;およびこれらと同類のポ
リマー材料のような公知の下引き層で、−感光性組戒物
を塗布する前に一前もって塗布することができる。
この支持体は、輻射線感光層を通過したあとの露光輻射
線を吸収したり、支持体からの好ましからざる反射を防
ぐために、着色したポリマ一層からなるフィルタ一層ま
たはハレーション防止層を有することもできる。
重合体バインダー、例えば上述してポリマーの一つ、中
の黄色色素は、紫外線輻射線を露光源として用いるとき
には、ハレーション防止層として特に有効である。
架橋可能ポリマーを含んでいる本発明の輻射線に感光す
る要素の露光したものは、輻射線感光層の非露光域を選
択的に溶かす溶液(以下現像液という)で輻射線感光層
をフラツシイング、ソーキング、スワピイングして、ま
たはその他の処理により、これを現像することができる
現像液は、約9ないし14の範囲のpHを有するアルカ
リ水溶液がその代表例である。
アルカリ金属の水酸化物、リン酸塩、硫酸塩、ケイ酸塩
、炭酸塩さらにはこれらの混合物の可溶性無機塩基性化
合物を添加することによって現像液に塩基性を与えるこ
とができる。
これとは別に、またはこれらの可溶性無機塩基性化合物
と一緒に、アミン類例えばトリエタノールアミン、ジエ
チレンアミン、ジエチルアミノエタノールなど−のよう
な塩基性の可溶性有機化合物を加えることもできる。
好ましい態様においては、この現像液は、水とアルコー
ル混合液を溶剤系として用いる。
水とアルコールの割合は広汎に変えることができるが、
現像液の全容量を基準として、20ないし80容量%、
そしてアルコールが80ないし20容量%の範囲内とす
るのが代表例である。
水の含量を、全容量を基準として40ないし60容量%
の範囲内に納め、溶剤系の残りが実質的にアルコールか
らなっているものが最も好ましい。
現像中に感光性塗布物を化学的に悪い力向に浸さず、ま
た水と使用目的に応じた割合で混知しうるアルコールな
らば、これを単独でまたは組み合せて用いることができ
る。
有用なアルコールの代表的なものとしては、グリセロー
ル、ベンジルアルコール、2−フエノキシエタノール、
1,2プロパンジオール、s,C−ブチルアルコールお
よびアルキレングリコールから誘導される工一テルすな
わちジヒドロキシポリ(アルキレンオキサイド)、例え
ばジヒドロキシポリ(エチレンオキサイド)、ジヒドロ
キシポリ(プロピレンオキサイド)など、を挙げること
ができる。
この現像液には、必要ならば別の添加剤を含むことがで
きる。
例えば、この現像液には、色素および(または)顔料を
含むことができる。
現偉液をリソグラフ版の画像に用いるときには、この現
像液にアンチ・スカミング剤および(または)濁り防止
剤を加えることができる。
この要素は、ついで、それぞれの用途に応じて任意の公
知法によりこれを処理することができる。
例えば、印刷版はこれを減感性にするためにエッチング
処理に付することかできる。
現像した輻射線感光性塗布層がレジスト層を形成すると
ころでは、要素を、代表的には、酸性または塩基性のエ
ッチング液を処理してからプレーテイング浴で処理する
次に本発明の実施例を記載する。
実施例 1 不活性のバインダーを含んでいる焼出し組或物に酸化防
止剤を用いる場合 (4)下記のものから感光性のドープ組成物をつくった
; ベークライト(Bakel ite)XYHL 2
0.0 El(ベークライトはユニオンカーバイドの
登録商標名である。
ベークライ}XYHL は、大体ビニルブチラール基
を80.7重量%、ビニルアルコール基を19重量%お
よびビニルアセテート基を0.3重量%含有するポリ(
ビニルブチラール)樹脂である) N−メトキシー4−メチルピリジニウム p一トルエンスルホネート(焼出し促進剤)トリス(N
,N−ジプロピルアミノフエニル)メタン
0.2g(酸化に対して感応しゃす
いロイコ色素)アセトン 18
0.0ml組成物を溶液にするためにこれを短時間混合
したら、ドープ液は変色し始めた。
1■の安定剤、5,6−イソプロピリデンアスコルビン
酸を10rILeのドープ液に加えた。
この安定剤はドブ液がさらに変色するのを防止するのに
効果的であることが判った。
(B) (A)の実験を5回繰り返した。
但し、(4)で用いた5,6−イソプロピリデンアスコ
ルビン酸ITII9の代りに、次の安定剤の一つを1,
01n9用いた。
(1)2−ヒドロキシ−3−ピペリジノ−5−メチルー
シクロベント−2−エンー1−オン(2)3.4−ジヒ
ドロキシ−5−フエニルー2,5−ジヒドロ−2−フラ
ノン (3)5−イミノー3,4−ジヒドロキシ−2フエニル
ー2,5−ジヒドロフラン (4)2−イソプロビル−4.5.6−トリヒドロキシ
ピリミジン (5)4.5−ジヒドロキシ−1−メチル−2プロビル
−6−ピリミドン これらの安定剤も、それぞれ、ドープ液の変色を防止す
るのに効果的であることが判った。
(C) (A)の実験を11回繰り返した。
但し、5,6イソプロピリデンアスコルビン酸ITn9
の代りに従来から公知の、本発明の範囲外にある次の酸
化防止剤をそれぞれ1m9用いた。
1 p−アミノフェノール 2 ヒドロキノン 3 2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾール4 2,
6−ジーt−ブチルーp−アニソール5 p−メトキシ
フェノール 6 m−ジメチルアミノフェノール 7)トリフエニルスチルベン 8)フロログリシノール 9) N−メチルジフエニラミン 00)尿素 01)へキサメチレンテトラミン 従来から知られているこれらの11種類の酸化防止剤の
うち、p−アミノフェノールだけがドープ液の変色を防
止するのに有効であることが判った。
実施例 2 感光性バインダーを含んでいる焼出し組成物に安定剤を
用いる場合 (4)ジエチルp−フエニレンジアクリレート、ジメチ
ル3,3’ 一((ナトリウムーイミノ)ジスルホニル
〕ジベンゾエードオヨヒ1,4ビス(β−ヒト’oキシ
エトキシ)シクロヘキサンからのポリエステルの製造法 0.007モルのジメチル3.3’−((ナトリウムー
イミノ)ジスルホニル〕ジベンゾエート、0.093モ
ルのジエチルp−フエニレンジアクリレートおよび0,
17モルの1.4−(β−ヒドロキシエトキシ)シクロ
ヘキサンを200l71lの重合フラスコに加えた。
フラスコに付いている枝をコルクで取り付け、さらにこ
のフラスコに、ガラス管を取り付けて、このガラス管を
フラスコ内の物質に達するようにし、これに窒素ガスを
吹き込んで、加熱の第一段階中反応混合物を泡だてた。
この第一加熱段階中に高沸点物質を還流により戻すため
に、このフラスコに、またビグレツクス(Vi gre
ux)カラムを取り付けた。
但し、生じたアルコールはこれを蒸留した。
内容物は、235℃に維持されたシリコン油浴に、フラ
スコを入れることにより、これを融かした。
チタニウムイソプロポキシドを2滴(1/ 7I10こ
の溶融物に加えてから、フラス20 コと内容物を還流下で4時間加熱した。
ビグレツクス力ラム、不活性ガス導入管およびコルクヲ
取り外し、フラスコに付いている枝を2個のドライアイ
スーアセトントラップに直列に連結し、真空系に連通し
た。
三ケ月状の形をしたステンレススチールのかきまぜ機(
但し、バキューム タイトボールジョイントに取り付け
られている)を反応溶融物に入れてポリマーを撹拌する
ようにした。
撹拌しながら圧力を徐々に下げ0.05miHgにし、
この圧力でポリエステルを40分間撹拌し、2個のドラ
イアイストラップに蒸留物を集めてガラス状のこはく色
のポリマーを得た。
(B) 次の成分から感光性組成物をつくった。
(4)でつくったポリエステル 63.0.9
2−(ベンゾイルメチレン)−1−エチルナフトー(1
.2−d)チアゾリン 2.5g2,6−ジーt
−ブチルーp−クレゾール2,5g N−メトキシー4−メチルピリジニウム 1.25g p−トルエンスルホネート ローダミン6G 0.32g2
(N−メチルベンゾチアゾリデン)1.25gメチルジ
チオアセテート トリス(N,N−ジプロピルアミノフ1.25gエニル
)メタン ジクロ口エタン 2500.OrrLl
上記の組戒物は放置しておくと変色しはじめた。
上記の組成物の200rrLlに、0.02,9の2一
ヒドロキシ−3−ピペリジノ−5−メチルーシクロベン
ト−2−エン−1−オンを加えた。
同じ力法で上記の組成物の別の200Tllに0.02
gの5,6−イソプロピリデンアスコルビン酸を加えた
いずれの場合にも、ドープ液はさらに変色するのが防止
された。
上記の感光性組成物3種類を電解処理したアルミニウム
の支持体に、乾燥まで1 0 O rpmの回転速度で
回転塗布した。
このプレートを、相対湿度50%、温度120’Cの条
件で2週間熟成した。
レダクトンを含まない組成物からつくられたプレートは
全体にわたってバイオレット色を呈したが、安定剤を含
む組成物から得られたプレートにはこのような変色の欠
点が現われず、できたてのプレートと同じ色を有してい
た。
実施例 3 感光性バインダーに含まれる焼出し組成物にその他のロ
イコ色素を用いた場合 実施例2を繰り返した。
但し、ドリス(N,Nジプロピルアミノフエニル)メタ
ンの代りに(N,N−ジエチルアミノフエニル)メタン
、トリス(N,N−ジメチルアミノフエニル)メタンお
よびビス(N,N−ジエチルアミノフェニル)(N,N
−ジエチルアミノー0−メチルフェニル)メタンを用い
た。
結果は実施例2で得られたそれと全く同じであった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体、ロイコ色素、光酸化剤および安定剤から戒
    り、該安定剤が 5,6イソプロピリデンアスコルビン酸、2−ヒドロキ
    シ−3−ピペリジノ−5−メチルシクロペント−2−エ
    ンーl−オン、 3 4−ジヒドロキシ−5−フェニルー25ジヒドロ−
    2−フラノン 5−イミノー3,4−ジヒドロキシ−2−フエニ1レー
    2,5−ジヒドロフラン、 2−インプロビル−4,5,6−トリヒドロキシピリジ
    ン、または 4,5−ジヒドロキシ−1−メチル−2−プロビル−6
    −ピリミドン、 であることを特徴とする輻射線への露光により像を焼出
    し形戒する写真要素。
JP50024948A 1974-03-04 1975-02-28 カンコウセイヤキダシヨウソ Expired JPS5836767B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US448177A US3920457A (en) 1974-03-04 1974-03-04 Photographic leuco-dye compositions containing reductones as stabilizers

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS50122929A JPS50122929A (ja) 1975-09-26
JPS5836767B2 true JPS5836767B2 (ja) 1983-08-11

Family

ID=23779300

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50024948A Expired JPS5836767B2 (ja) 1974-03-04 1975-02-28 カンコウセイヤキダシヨウソ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3920457A (ja)
JP (1) JPS5836767B2 (ja)
BE (1) BE826279A (ja)
CA (1) CA1050804A (ja)
FR (1) FR2263533B1 (ja)
GB (1) GB1481898A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6474581A (en) * 1987-09-16 1989-03-20 Suzuki Tatsuya Fraction set

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1516847A (en) * 1974-11-12 1978-07-05 Agfa Gevaert Free-radical photographic material
JPS5265425A (en) * 1975-11-24 1977-05-30 Minnesota Mining & Mfg Image forming composition
US4370401A (en) * 1979-12-07 1983-01-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light sensitive, thermally developable imaging system
US4419437A (en) * 1981-02-11 1983-12-06 Eastman Kodak Company Image-forming compositions and elements containing ionic polyester dispersing agents
DE3717036A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
AU2002222484A8 (en) * 2000-12-12 2012-02-02 Consellation Trid Inc Photolithographic method including measurement of the latent image
FR2939035B1 (fr) * 2008-11-28 2011-01-21 Oreal Utilisation de derives acetaliques de l'acide ascorbique en coloration des fibres keratiniques humaines, composition les comprenant, procede de coloration et dispositif

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2936308A (en) * 1955-06-02 1960-05-10 John E Hodge Novel reductones and methods of making them
NL263755A (ja) * 1959-01-16
US3351467A (en) * 1963-10-10 1967-11-07 Horizons Inc Method of fixing photographically exposed oxygen-sensitive free radical photosensitive film
US3582342A (en) * 1966-07-16 1971-06-01 Keuffel & Esser Co Light-sensitive photographic materials
BE756378A (fr) * 1969-09-18 1971-03-01 Eastman Kodak Co Composition et produit photosensibles contenant des photo-oxydants

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6474581A (en) * 1987-09-16 1989-03-20 Suzuki Tatsuya Fraction set

Also Published As

Publication number Publication date
FR2263533B1 (ja) 1979-06-08
JPS50122929A (ja) 1975-09-26
CA1050804A (en) 1979-03-20
DE2509414A1 (de) 1975-09-11
US3920457A (en) 1975-11-18
GB1481898A (en) 1977-08-03
DE2509414B2 (de) 1977-01-20
FR2263533A1 (ja) 1975-10-03
BE826279A (fr) 1975-09-04
AU7873475A (en) 1976-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5153104A (en) Thermally developable light-sensitive layers containing photobleachable sensitizers
US5153105A (en) Thermally developable light sensitive imageable layers containing photobleachable dyes
US3984248A (en) Photographic polymeric film supports containing photobleachable o-nitroarylidene dyes
US3988154A (en) Photographic supports and elements utilizing photobleachable omicron-nitroarylidene dyes
US5187049A (en) Photosensitive thermally developed compositions
USRE28225E (en) Photobleachable dye compositions
US3832212A (en) Heat-sensitive copying systems
US4839274A (en) Novel polymethine dyes and UV absorbers containing a triarylborylisocyano group and imaging compositions containing these dyes
US3745009A (en) Photographic elements and light-absorbing layers
US3102810A (en) Print-out cyanine and styryl dye bases and process of producing litho masters and the like therewith
USRE27925E (en) Photopolymemzation using n-alkoxy heterocyclic initiators
JPS5836767B2 (ja) カンコウセイヤキダシヨウソ
JPH06506784A (ja) リス印刷版
USRE29168E (en) Photographic elements with light absorbing layers
US3988156A (en) Photographic supports and elements utilizing photobleachable o-nitroarylidene dyes
USRE27922E (en) Image-forming elements containing cross- linkable polymer compositions and processes for their use
US3592653A (en) Silver halide emulsions containing pyrrole cyanine dyes
US3574622A (en) Photopolymerization using n-alkoxy heterocyclic initiators
US3615610A (en) Silver halide direct positive emulsions spectrally sensitized with a combination of a desensitizing dye with a 2-phenylindole methine dye
US3649289A (en) Photographic materials
US4028113A (en) Photographic supports and elements utilizing photobleachable O-nitroarylidene dyes
US3923524A (en) Fogged direct positive silver halide emulsions containing photographic sensitizing dyes derived from substituted salicylaldehydes
US3715351A (en) Cyanine dyes containing a cyclopentanone nucleus
USRE28240E (en) Or x or
US3598603A (en) Silver halide emulsions with cyanine dyes containing a 1-cyclohexyl substituted pyrole nucleus