JPH06505672A - 流水による腐食及び水垢を減少させるための磁気による水活性化方法及びその装置 - Google Patents

流水による腐食及び水垢を減少させるための磁気による水活性化方法及びその装置

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JPH06505672A JP4505979A JP50597992A JPH06505672A JP H06505672 A JPH06505672 A JP H06505672A JP 4505979 A JP4505979 A JP 4505979A JP 50597992 A JP50597992 A JP 50597992A JP H06505672 A JPH06505672 A JP H06505672A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 流水による腐食及び水垢を減少させるための磁気による水活性化方法及びその装 置 発側の分野 本発明は、腐食或いは水垢にさらされた表面上を流れ去る水に対して施される磁 気作用により、水溶液中の塩分による腐食及び水垢を減少させる方法およびその 装置に関する。
発明の背景 流水に及ぼす磁界の作用は、水を活性化し、そのため金属表面上の水垢の付着を 防ぎ、付着してしている水垢をも除去することができるものとして既に公知であ る。この効果は、流水に対して働く磁気作用が少数の「活性」中心部を形成し、 この中心部が結晶核として作用し、この結晶核において水垢は主に微粒状に分離 し、その後分散した状態を維持するという事実のためと考えられている。活性中 心部の有効性は一定期間、最長48時間保持される。腐食に対する金属表面の保 護は石灰の薄い保護膜を形成する「活性」水により維持される一方、石灰石の形 成が阻止されたり、或いは現実の表面付着物が除去されるものと思われる。水の この物理的処理方法は化学添加剤なしで行われるが、流水の量と流水に作用する 磁界の数、配置、及び強度とを細心に相互調整することが必要である。この調整 に相応しい方法と装置は例えばドイツ国実用新案第89 13 274号に開示 されているが、本発明ではこの開示を引用してとり入れている。この装置におい ては、管をらせん状に流れる水が磁界にさらされる。
実際には、この先行技術の方法は基本的には利用可能であるが、時として、所要 の結果を十分に生み出さないことが分った。
即ち、具体的に言えば、この装置は水垢を不十分にしか阻止、或いは除去しない 場合が多い。本発明はこの不具合を解決するためになされたものである。本発明 は、この目的を達成するためには、磁気処理により十分に活性化した水を、水垢 から保護され、水垢の形成が防止されるべき表面に、十分に激しく接触させなけ ればならないという発見に基づいてなされたものである。
発明の概略 本発明の方法および装置の目的は、磁気処理装置から出た後、水が処理を施され る物質の表面を出来る限り高い流速でかつ出来る限り直接的に洗い流すという特 徴により、所要の目的を達成するための磁気処理水の有効性を高めることにある 。水の容量のうち可能な限り最大部分が処理される表面に接触することが望まし い。もし「活性」水が例えば管やタンク内で一時的に停滞していると、比較的短 時間のうちに少なくとも部分的に活性水の有効性が失われる。本発明によれば、 所要の効果は、少なくとも停滞した水の一部分を循環ポンプで吸水し、補助回路 を介して磁気処理装置へ再循環させ、再び該装置を通過させ、そのため水は初め の有効性を再び獲得するという特徴により確実に達成される。
このような方法と装置により低コストでかつ低圧力損失で、出来る限り高い流速 と処理される表面を激しく洗い流すことを達成するためには、水流を処理される べき管の表面に対向するらせん路に導き、更により大きなタンクへ導き、再循環 され、磁気処理を施された水の部分流を処理されるべき壁面及び/又は加熱素子 の表面に向ってノズルを介して注ぐことが好都合であることが明らかとなった。
本発明の方法は、冷水及び温水共に有効であり、更に、例えば空調施設、冷却塔 、及び蒸気発生装置や連続流動ガスヒータに用いることができる。各々のケース における前提条件としては、単に、流動性の磁気処理水が水垢、或いは腐食から 保護されるべき金属、セラミック材、又はプラスチックの表面を流れるというこ とだけである。
タンク又はボイラ内に埋め込まれたヒータから水垢をとり除くためには、先端が 閉じ、加熱素子のクラスターの方向に内方に向かう複数の孔を有するらせん管を 用いることが効果的である。タンク中で容器を加熱素子の下に吊り下げ、磁気処 理水により分離した表面付着物を集収することも有益である。
次に本発明を、下記図面に概略的に示した以下の実施例に従って更に説明する。
図1は、本発明の流水管内部の構成を示す。
図2は、家庭用配水管システムにおける本発明の構成図を示す。
図3は、本発明の装置を備えた冷水タンクの縦断面図である。
図4は、図3のタンクの横断面図である。
図5は、本発明の偏向装置を備えた熱湯ボイラを示す。
図6は、本発明の偏向装置を備えた小型熱湯ボイラを示す。
図7は、本発明の偏向装置を備えた蒸気発生装置を示す。
図8は、本発明の偏向装置を備えた空気清浄器(冷却塔湿潤室)を示す。
図9は、本発明の装置を備えた連続流動ガスヒータを示す。
図面中、類似の構成要素、類似の効果を有する構成要素には発明の説明 図1は、冷水または温水管システムにおける本発明の使用を概略的に示したもの である。まず水は、例えばドイツ国実用新案第89 13 274号に記載の方 法で組み立てられた磁気処理装置1の中で処理される。明確化のために、処理装 置1は流水管2と分離して示している。流水管2は通常の方法で、例えばねじ込 み筒により密封されて処理装置に接続されている。
流水管2内には好ましくは二重らせん状のシート材から成る本発明にかかる偏向 装置3が配設されており、シート材の外径は流水管の内径よりも幾分小さく、管 内で4水がうける圧力損失ができるだけ低くなるような寸法に設定されている。
らせん形状は管2内の水流に放射状成分を付与し、遠心効果により水は管の内壁 により激しく運ばれ、単なる軸流の場合よりも長い距離にわたり管の内壁に接触 する。その結果、磁気処理水が水垢を防止する効力が高まる。しかしながら管が 金属製の場合、望ましい耐腐食性薄膜保護層が流水管2の内壁に形成される。望 ましいらせん状水流は略20cm長のらせん状偏向素子3を離れた後も維持され る。従って、所望の効果は隣接した管部分でも生じる。必要に応じて、略20c m長の管の後に、本発明の偏向素子3を更に追加して管に組み込み、磁気処理水 の有効性を更に高めることもできる。
図2は家庭用配水管システムにおける本発明の構成を概略的に示したものである 。給水管4に浸入した水はまず磁気処理装置1を経由して、可能であれば本発明 の偏向素子3が組み込まれている流水管2を通り、水栓部6まで延びている管5 に配水される。各々の管は例えば多階の住居用建物ではかなりの長さを有するこ とができ、原則的として水は管から連続的には摂取されない。しかしもし水が長 時間管の中に停滞したり、遅い速度でしか流れない場合、磁気処理水の有効性は この水垢の形成を防止するほど大きくはないので、水垢が管の内壁に形成される ことがある。本発明によれば、この有効性は分岐管7が水栓部6に隣接する水栓 管5から分岐するという特徴により高められる。集合的本管の形状の分岐管7は 水を循環ポンプ8の入口へ導き、該ポンプ8は水を磁気処理装置1に戻す。この ようにして、磁気処理水の連続的流動が管システム全体を通じて維持され、水垢 の形成が防止される。もし通常の場合よりも実質的に大量の水が一時的に蛇口か ら流れ出る場合、図示されていない手段により第2の磁気処理装置1aが自動的 に並列に接続可能となる。
図3は本発明の装置を備えた冷水又は温水タンクの縦断面図である。タンク9は 給水管4及び排水管6を備えている。水垢はタンク内で磁気処理装置1を具備し た補助回路により防止される。磁気処理水は装置1から管2を経由してノズル1 0に達する。ノズルはタンクの高さ及び周囲に亘って、互いに並列に互いに水平 及び垂直に等距離に配設され、各々磁気処理水の部分流をタンクの壁に向かって 流し出す。そのため、タンク内では図4に概略的に示したように循環水流が形成 される。循環ポンプ8はタンクから補助管7を通して水を吸出し、磁気処理装置 1へ連続的に供給する。
図5は供給管4及び排水管6を装備した熱湯ボイラ、及び電気接続部が図示され ていない加熱素子11(概略的に示される)のクラスタを概略的に示す。冷水タ ンク(図3)の場合と同様、循環ポンプ8が再循環された磁気処理水の補助回路 を形成し、この回路中で循環ポンプにより吸いこまれた水は、磁気処理装置1及 び管2を経由して偏向素子10及び12に達する。偏向素子10は冷水タンク( 図3)の場合と同様、並列ノズルの集合体であり、ボイラの内壁に向かって並行 に互いに等距離で水を放水し、タンク内に環状水流が形成される(図4)。熱湯 ボイラはらせん管12をも備え、水流の偏向素子として作用し、加熱素子11の クラスタを囲繞している。らせん管は先端部が閉じているが、全長にわたり配設 された孔12aが形成され、熱素子を水垢から保護している。水垢は主に加熱素 子11に形成され磁気処理水により分離されるので、捕捉用オーブンタンク13 が加熱素子11のクラスタの下に設けられ、分離した水垢を捕捉する。このタン ク13は例えば、常閉の側面アクセス孔(図示せず)から洗浄、水垢を除去する ことができる。
図6は、例えば台所用小型熱湯ボイラを示す。装置は給水管4、排水管6、ケー シング15及びガラス製フード16を有する。ガラス製フード16は、実際の熱 湯タンクを形成し、その底部に隣接する部分において、加熱コイル17が水平に 伸び、電気接続部を有する。これらの電気接続部及び熱湯タンクへの給水、及び 該タンクからの排水を行う内部管接続部は図示されていない。ケーシング15内 には、管2を介して溝穴付き放水ノズル18aに接続された磁気処理装置1が収 納されており、放水ノズル18aは偏向素子として作用し、そこから磁気処理水 が水平水流として加熱コイル17上を通過して吸水孔18bへと流れる。循環ポ ンプ8は吸収孔18bを通して水を吸出し、磁気処理装置1を通して再循環させ る。このようにして磁気処理水は再び直接かつ連続水流とし、水垢から保護され るべき面上を通過する。
図7aは、加熱素子11を有する工業用蒸気発生装置を極く単純化し縮尺して示 したものである。加熱素子11は、2つのシェルで形成され電気接続が図示され ないケーシング中に収容されている。加熱素子はタンクの低部に収納された水中 に浸され、水を蒸発させる。蒸気は最上部の管21から引き出される。
水は管4、磁気処理装置1及び被接続管2を経由して蒸気発生装置へ送られる。
加熱素子11を囲繞するらせん管12は管4により供給された水の偏向素子12 として作用する。図5に示した熱湯ボイラの場合と同様、らせん管はその接続さ れていない端部が閉じているが、全長にわたり孔12a(図7b)が形の方向に 流れ出て、加熱素子の周囲を激しく洗浄し、水垢を防止する。蒸気発生装置の上 部に配設されたノズル10は、図示されていない手段により給水管2に接続され 、図5に示した熱湯ボイラ中の同様の符号を付したノズルと同じ目的を果たす。
ノズルは磁気処理水をタンクの内壁に直接的に送りこむ。磁気処理水の循環を維 持するために、タンク20内に収納された水を循環ポンプで連続的に吸出し、管 7によって磁気処理装置1へ再循環させる。水は磁気処理装置から戻り、管2を 通って蒸気発生装置に、具体的にはらせん管12とノズル10へ達する。
図8は、冷却塔湿潤室等として利用される空気洗浄器の概略分解図である。空気 は矢印Fで示した方向に流れ、空間的に離れて平行に並んだ平面薄板22の間の 溝穴22aを経由して濾過室28に達する。空気流は周知の方法でノズルから出 た水により湿潤される。ノズルは薄板に対向して並設されたノズル接続部26上 に構築され、薄板22の方向に水を噴霧し、水でぬらす。従って空気は、霧化さ れた水により、また水を噴霧された薄板22に接触して湿潤される。しかしなが ら本発明によれば、この噴霧水は管2を通ってノズル接続部26に達する以前に 、磁気処理装置■を予め通過している。薄板を流れ落ちた噴霧水は濾過室水だめ 24に集められ、循環ポンプ8により吸水されて管7を通り、磁気処理装置1へ 再び吸い上げられる。
薄板や壁への水垢の付着をより効果的に防止するために、本発明によれば、磁気 処理装置1から出た磁気処理水の流れは管2aと多岐供給管29を経由して互い に並設された薄板22の最頂部に至り、その場で多岐空隙内に到達する。多岐空 隙は薄板の上端部に構築され、水はこの空隙から少な(とも1個の水洗孔23を 経由して各々の薄板近傍に再出現する。磁気処理水はそれから薄板を流れ落ち水 だめ24に至り、薄板を湿潤し、水垢を防止する。
最後に、磁気処理水はノズルを経由して濾過室の壁に至り、これらの壁での水垢 の付着を防止する。ノズル10はフレーム状管25の出口開口であり、クレーム 状管25は略長方形の輪郭を有し、濾過室28の覆いの下にあって側壁、薄板及 び薄板に対向する濾過室の側面に隣接して延びている。図をより明確にするため に、図8においてはフレーム状管25が上方に持ち上げられた状態で示しである 。磁気処理水は磁気処理装置1に接続されている接続管2bを経由して供給され る。一般的装置と同様、濾過室へは大型窓30を通ってアクセスすることが出来 、水垢泥を洗浄、除去することが出来る。
図9は、連続流動ガスヒータを示し、この装置においては供給管4及び接続管4 aを経由して供給された水はまず磁気処理装置lを通り、次にバーナ31によっ て加熱される煙突32を囲繞する加熱コイル2cを通る。更に水は中間容器33 に運ばれ、そこから排水管6へ流される。本発明によれば、この装置には補助回 路が設けられ、この回路が水を中間容器から循環ポンプ8と管7を経由して磁気 処理装置1に、更にそこから加熱コイル2cに再循環させ、そのため、加熱炎が 消火する。但しこの回路による再循環は加熱用水6の排水がない間のみ行われる 。このようにして加熱コイル及び管における水垢の分離がより効果的に防止され る。
上述したように、本発明は単に金属上のみでなく、セラミックやプラスチック上 においても、水による水垢の付着を防止するために、極めて一般的に利用するこ とが出来る。
Fig−3Fig−4 補正書の写しく翻訳文)提出書(特許法第184条の8)平成5年9月20日 1、特許出願の表示 PC”r/EP92100580 2、発明の名称 流水による腐食及び水垢を減少させるための磁気による水活性化方法及びその装 置 3、特許出願人 住 所 ドイツ連邦共和国、デー−6200ヴイースバーデン、アベックシュト ラツセ 34氏 名 グラフ シュトラツフウイツツ ミカエル国 籍 ドイツ 連邦共和国 4、代理人 住 所 〒105 電話03 (3432) 7421 (代)請求の範囲 1、 水中の不純物により生じた、該不純物近傍の表面の腐食及び水垢を減少さ せる方法であって、流水に磁気作用を及ぼすことにより磁気処理水を生成するス テップを包含する方法において、前記磁気処理水をして水溶液による水垢の付着 にさらされている表面上を通過させ、高流速で衝突する水流又は部分流で前記表 面を洗い流す更なる方法のステップが実行されることを特徴とする方法。
2、 磁気処理水をして表面を通過させ該表面を洗い流す前記ステップの間、こ のように使用される前記磁気処理水の少なくとも一部が、再循環回路において新 たな磁気作用を施され、再び新た−な使用のために戻されることを特徴とする請 求の範囲第1項記載の方法。
3、前記再循環回路における水流は連続的に維持されることを特徴とする請求の 範囲第2項記載の方法。
4、磁気処理水をして表面を通過させ該表面を洗い流す前記工程において、前記 磁気処理水の流速は、複数の部分水流を発生する偏向要素により、磁気処理水に より洗い流されるべき前記表面に関連して増加されることを特徴とする請求の範 囲第1項乃至第3項のいずれかに記載の方法。
5、磁気処理水をして表面を通過させ、該表面を洗い流す前記工程の前に、前記 磁気処理水を水流経路に配設された少なくとも

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.水中の不純物により生じた、該不純物近傍の表面の腐食及び水垢を減少させ る方法であって、流水に磁気作用を及ぼすことにより磁気処理水を生成するステ ップを包含する方法において、前記磁気処理水をして水溶液による水垢の付着に さらされている表面上を通過させ、実際上可能な限り直接的に、かつ実際上可能 な限り速い流速で前記表面を洗い流す更なる方法のステップが実行されることを 特徴とする方法。
  2. 2.磁気処理水をして表面を通過させ該表面を洗い流す前記ステップの間、この ように使用される前記磁気処理水の少なくとも一部が、再循環回路において新た な磁気作用を施され、再び新たな使用のために戻されることを特徴とする請求の 範囲第1項記載の方法。
  3. 3.前記再循環回路における水流は連続的に維持されることを特徴とする請求の 範囲第2項記載の方法。
  4. 4.磁気処理水をして表面を通過させ該表面を洗い流す前記工程において、前記 磁気処理水の流速は、複数の部分水流を発生する偏向要素により、磁気処理水に より洗い流されるべき前記表面に関連して増加されることを特徴とする請求の範 囲第1項乃至第3項のいずれかに記載の方法。
  5. 5.磁気処理水をして表面を通過させ、該表面を洗い流す前記工程の前に、前記 磁気処理水を水流経路に配設された少なくとも1つの偏向要素によって、少なく とも1つのらせん流として流れさせ、その後該らせん流は、磁気処理水をして水 溶液による水垢の付着にさらされた表面上を通過させる前記工程の間、前記表面 を洗い流すために継続すること特徴とする請求の範囲第1項乃至第3項のいずれ かに記載の方法。
  6. 6.磁気処理水をして表面を通過させ、該表面を洗い流す前記工程において、前 記磁気処理水は少なくとも1つのノズルによって、タンク壁に向かい水平又は垂 直に通過させられ、次に該壁に沿って通過させられることを特徴とする請求の範 囲第1項乃至第4項のいずれかに記載の方法。
  7. 7.前記磁気処理水は、湾曲したタンク壁と水平に又は垂直に接触しながららせ ん流として通過させられ、少なくとも1つのノズルによってそのタンク壁の湾曲 の方向に通過させられることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第4項のいずれ かに記載の方法。
  8. 8.前記磁気処理水は上方から少なくとも1つのノズルを経由して、一連の薄板 上にまで通過させられることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第4項のいずれ かに記載の方法。
  9. 9.前記磁気処理水は中空積層体内に設けられた1つ以上の溝穴を通って、該薄 層体の外壁の内部からその外側へ流れることを特徴とする請求の範囲第8項記載 の方法。
  10. 10.前記磁気処理水の前記部分流は、先端部が閉じ、タンク内に配設された管 状加熱素子のクラスタ内部に配設されたらせん管内の開口部を経由して、管状加 熱素子の表面上に向けられることを特徴とする請求の範囲第4項記載の方法。
  11. 11.前記磁気処理水の前記部分流は、先端部が閉じ、タンク内に配設された平 板状加熱素子のクラスタ内部に配設されたらせん管内の開口部を経由して、平板 状加熱素子の表面上に向けられることを特徴とする請求の範囲第4項記載の方法 。
  12. 12.前記磁気処理水の前記部分流は、先端部が閉じ、内部において、少なくと も1つの管状加熱素子を囲繞するらせん管の開口部を経由して、前記少なくとも 1つの管状加熱素子の表面に向けられることを特徴とする請求の範囲第4項記載 の方法。
  13. 13.前記磁気処理水の前記部分流は、先端部が閉じ、内部において、少なくと も1つの平板状加熱素子を囲繞するらせん管の開口部を経由して、前記少なくと も1つの平板状加熱素子の表面上に通過させられることを特徴とする請求の範囲 第4項記載の方法。
  14. 14.磁気処理水により洗い流されるべき表面は、該磁気処理水が流れる管の内 壁であることを特徴とする請求の範囲第5項記載の方法。
  15. 15.水の不純物により該不純物にさらされた表面上の腐食及び水垢を減少させ る装置であって、管内をらせん状に流れる水を磁界の作用にかける処理装置を含 んでなる装置において、更に、前記磁気処理装置から1つの水流又は多数の部分 流の形で出てきた水を水の不純物にさらされた前記表面に直接導き、各水流を前 記表面に衝突させ該表面上を流れ去るように構成され実装されている偏向装置を 含むことを特徴する装置。
  16. 16.水の不純物にさらされた前記表面は冷水管(2)の内壁により形成され、 且つ前記磁気処理水の水流を前記管の軸心に対してらせん状に前記管の壁に沿っ て流れさせる複数の偏向装置(3)を含み、該偏向装置は前記管の内部に又は該 管に隣接して軸方向に配設されていることを特徴とする請求の範囲第15項記載 の装置。
  17. 17.前記偏向装置は複数のノズル(10)で構成され、各ノズルは前記磁気処 理水の水流の一部をタンク(9)の内壁に沿って略接線方向に向かわせ、該装置 はタンク(9)から水を吸水するために実装され、かつ前記タンク(9)から水 を吸い出すように取り付けられ、該タンクからの水を前記磁気処理装置(1)を 通って連続的に再循環させるために接続された循環ポンプ(8)を含むことを特 徴とする請求の範囲第15項記載の冷水タンクに用いられる装置。
  18. 18.タンク内に配設された加熱素子(11)のクラスタを有する水加熱装置に 用いられる装置であって、前記偏向装置はらせん管(12)の形状を有し、該ら せん管内に前記磁気処理水を導いて流れさせ、該らせん管の先端部は閉じ、かつ 全長にわたって孔(12a)が形成され、前記加熱素子(11)のクラスタは前 記らせん管によって囲繞され、前記らせん管の孔(12a)はそこから出た前記 磁気処理水の水流が隣接する前記加熱素子(11)に向けられるように構成、配 置され、更に、前記タンクから前記磁気処理装置(1)に再循環される水を連続 的に供給する循環ポンプ(8)を含むことを特徴とする水加熱装置に用いられる 請求の範囲第15項記載の装置。
  19. 19.タンク内に配設された加熱素子(12)の複数のクラスタを有する水加熱 装置に用いられる装置であって、複数の偏向装置は各々らせん管(12)の形状 を有し、該らせん管の先端部は閉じ且つ孔(12a)が形成され、これらの孔内 に前記磁気処理水を導いて流れさせ、かつ前記孔は前記らせん管全長にわたって 配設され、加熱素子(11)の前記各クラスタは前記らせん管の1つによって囲 繞され、前記孔(12a)はそこから出た前記磁気処理水の水流が隣接する前記 加熱素子(11)に向けられるように構成、配置され、更に、前記タンクから前 記磁気処理装置(1)に再循環される水を連続的に供給する循環ポンプ(8)を 含むことを特徴とする水加熱装置に用いられる請求の範囲第15項に記載の装置 。
  20. 20.円筒状タンク内に配設された加熱素子(11)のクラスタを有する水加熱 装置に使用される装置であって、前記磁気処理水の水流の一部を略接線方向に前 記タンクの円筒状壁に向かわせるノズル(10)の形状を有する偏向装置と、先 端部が閉じ、前記加熱素子(11)のクラスタを囲繞し、かつ全長にわたって孔 (12a)が形成されたらせん管形状を有する第2の偏向装置とを含む複数の偏 向装置を前記円筒状タンク内に有し、前記孔(12a)は、そこから出た前記磁 気処理水の水流が隣接する前記加熱素子(11)に向かうように構成、配置され 、更に再循環される水を前記タンクから前記磁気処理装置(1)に連続的に供給 する循環ポンプ(8)を含むことを特徴とする請求の範囲第15項に記載の水加 熱装置に用いられる装置。
  21. 21.前記らせん管によって囲繞された前記加熱素子(11)のクラスタの下方 に配設され、水垢を収集するために先端が開口している捕捉用タンク(13)を 更に含む請求の範囲第18項、第19項又は第20項記載の装置。
  22. 22.ボイラ底部の上に水平に配設された加熱コイル(17)を有する熱湯ボイ ラに用いられる装置であって、前記偏向装置は水洗用溝穴(18a)の形状を有 し、該溝穴は磁気処理水を前記加熱コイル(1)上を流れて循環ポンプ(8)に 接続された吸水溝穴(18b)の方向に向けて流れるようにし、前記吸水溝穴を 経由して吸水された水を前記磁気処理装置(1)に再循環させ、該磁気処理措置 の出口は前記水洗用溝穴(18a)に接続されていることを特徴とする請求の範 囲第15項記載の熱湯ボイラに用いられる装置。
  23. 23.複数の加熱素子(11)を有する蒸気発生装置に使用される装置であって 、複数の偏向装置がらせん管(12)の形状で設けられ、各らせん管は先端部が 閉じ、かつその全長にわたって孔(12a)が形成され、各らせん管は前記蒸気 発生装置のボイラ内に配設された前記加熱素子(11)の1つを囲繞し、前記孔 (12a)はそこから出た前記磁気処理水の水流が隣接する前記加熱素子(11 )に向けて流れるように構成、配置され、更に、水を再循環させるために前記蒸 気発生装置から連続的に吸出し、再循環された水を前記磁気処理装置(1)に供 給するように接線、実装されている循環ポンプ(8)を含むことを特徴とする請 求の範囲第15項記載の蒸気発生装置に用いられる装置。
  24. 24.湿潤用薄板(22)を内部に有する空気清浄器または冷却塔に用いられる 装置であって、前記偏向装置は冷却塔又は空気清浄器の上部内に配置され、かつ ノズル(10)の形状を有し、該ノズルは前記磁気処理水の水流の一部を前記空 気清浄器又は前記冷却塔の内壁上を通り前記湿潤用薄板(22)に沿って流れさ せ、更に、水を前記空気清浄器又は前記冷却塔の水だめ(24)から連続的い吸 出し前記磁気処理装置(1)に再循環させるために接続、実装されている循環ポ ンプ(8)を含むことを特徴とする空気清浄器又は冷却塔に用いられる請求の範 囲第15項記載の装置。
  25. 25.前記湿潤用薄板(22)は孔(22a)を形成された中空偏向要素の形状 を有し、該孔から磁気処理水が出て薄板の外側上を流れることを特徴とする請求 の範囲第24項記載の装置。
  26. 26.湿潤用薄板(22)を有する空気清浄器または冷却塔に用いられる装置で あって、前記偏向装置は冷却塔又は空気清浄器内の上部内に配置され、かつノズ ル(10)の形状を有し、該ノズルは前記磁気処理水の水流の一部を、前記空気 清浄器又は前記冷却塔の前記湿潤用薄板(22)上を通り、該板(22)の上端 部に設けられた水洗用溝穴(23)であって磁気処理水がそこから薄板の外側表 面上を流れ落ちる水洗用溝穴(23)を経由して流れさせ、更に、水を前記空気 清浄器又は前記冷却塔の水だめ(24)から連続的に吸出し前記磁気処理装置( 1)に再循環させるために接続、実装されている循環ポンプ(8)を含むことを 特徴とする空気清浄器又は冷却塔に用いられる請求の範囲第15項記載の装置。
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