JPH0650543Y2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
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- JPH0650543Y2 JPH0650543Y2 JP1986131798U JP13179886U JPH0650543Y2 JP H0650543 Y2 JPH0650543 Y2 JP H0650543Y2 JP 1986131798 U JP1986131798 U JP 1986131798U JP 13179886 U JP13179886 U JP 13179886U JP H0650543 Y2 JPH0650543 Y2 JP H0650543Y2
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- JP
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- Expired - Lifetime
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986131798U JPH0650543Y2 (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986131798U JPH0650543Y2 (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6339170U JPS6339170U (US06650917-20031118-M00005.png) | 1988-03-14 |
JPH0650543Y2 true JPH0650543Y2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=31030583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986131798U Expired - Lifetime JPH0650543Y2 (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0650543Y2 (US06650917-20031118-M00005.png) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5372790A (en) * | 1976-12-10 | 1978-06-28 | Hitachi Ltd | Evaporating apparatus by sputtering |
JPS57192267A (en) * | 1981-05-19 | 1982-11-26 | Toshiba Corp | Dry etching apparatus |
-
1986
- 1986-08-27 JP JP1986131798U patent/JPH0650543Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6339170U (US06650917-20031118-M00005.png) | 1988-03-14 |
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