JPH0648503Y2 - 反射型実物投影機 - Google Patents

反射型実物投影機

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JPH0648503Y2
JPH0648503Y2 JP1988153442U JP15344288U JPH0648503Y2 JP H0648503 Y2 JPH0648503 Y2 JP H0648503Y2 JP 1988153442 U JP1988153442 U JP 1988153442U JP 15344288 U JP15344288 U JP 15344288U JP H0648503 Y2 JPH0648503 Y2 JP H0648503Y2
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JP
Japan
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projection
light
mirror
projection mirror
stage
Prior art date
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JP1988153442U
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JPH0273623U (ja
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律生 古賀
蔵人 原
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Plus Corp
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Plus Corp
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は反射型実物投影機にかかり、詳しくは、原稿等
の被投影物を光源により投影用ミラーを介して照射し、
その反射光を前記投影用ミラー及び投影レンズを介して
投影面に結像させる反射型実物投影機に関する。
(従来の技術) 従来、実物投影機としては、ガラス等からなるステージ
上に載置された被投影物を光源により直接照射するもの
が一般的であるが、最近では、被投影物を均一に照射す
る必要性等から、光源からの光を投影用ミラーによって
一旦反射させた後に被投影物に照射する方式のものが提
供されてきている。このような構造の実物投影機として
は、例えば、実開昭61−11148号公報に示される反射型
実物投影機が挙げられ、この実物投影機では、被投影物
に対する照度ムラが一応解消されて一様の明るさを有す
る投影像が得られている。
(考案が解決しようとする課題) しかしながら、上記実開昭61−11148号公報記載の反射
型実物投影機では、投影用ミラーに対して投影レンズ寄
りの対向位置に光源が配置されており、光源からの光は
投影用ミラーにより反射してステージ及び被投影物をそ
のほぼ鉛直方向から照射することになる。この場合、照
射光による被投影物等からの反射光は正規反射(鏡面反
射)によってほぼ鉛直方向に戻り、この正規反射光が投
影用ミラーを介して投影レンズに入射することになり、
これが投影像にボケを生じさせる、いわゆるハレーショ
ンの原因となっていた。
本考案は上記問題点を解決するために提案されたもの
で、その目的とするところは、光源を投影用ミラーの対
向位置に配置した場合においても、投影用ミラーを介し
てステージ側に照射された光をステージにより拡散さ
せ、被投影物からの乱反射光のみを取り出すことによっ
てハレーションのない鮮明な投影像を得るようにした反
射型実物投影機を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本考案は、光源と、この光源
からの照射光を反射させる投影用ミラーと、この投影用
ミラーによる反射光が透過し、かつ被投影物を載置可能
なステージと、前記被投影物からの反射光を前記投影用
ミラーを介し集光して前記被投影物の投影像を外部の投
影面に結像させる投影レンズとを備え、前記光源が前記
投影用ミラーに対向する位置に配置された反射型実物投
影機において、前記ステージは、前記投影用ミラー側の
面に正規反射を防止するための反射防止膜を備えると共
に、被投影物が載置される側の面に前記投影用ミラーか
らの反射光を拡散させる光拡散面を備え、この光拡散面
を介した前記被投影物からの乱反射光のみを前記投影用
ミラーを介して前記投影レンズに入射させるものであ
る。
(作用) 本考案によれば、投影用ミラーの対向位置に設けられた
光源からの光が投影用ミラーにより反射され、ステージ
の下方からこのステージに照射される。このとき、ステ
ージの被投影物載置側の面を若干粗面に形成して光拡散
面としておくことにより、投影用ミラーからの照射光は
適度に拡散されてステージ上の被投影物に照射され、か
つ、被投影物から反射して拡散された後、投影用ミラー
に入射する。
これにより、投影用ミラーに入射する光は、光拡散面が
ない場合におけるステージまたは被投影物からの正規反
射光を除いた乱反射光のみとなり、投影レンズに正規反
射光が入射しないため、前記被投影物の投影像には正規
反射光に起因するハレーションが生じない。
特に、ステージの被投影物が載置される側の面に光拡散
面を形成すれば、この光拡散面と被投影物とが重合して
密着するので両者の間で乱反射光が散乱することがな
く、被投影物の解像度に支障をきたす心配もない。この
場合、ステージの反対側の面に反射防止膜をコーティン
グすることにより、このステージからの正規反射光が投
影用ミラーを介して投影レンズに入射するのを有効に防
止することができる。
(実施例) 以下、図に沿って本考案の一実施例を説明する。第1図
及び第2図は本考案にかかる実物投影機の内部構成を示
したものである。これらの図において、1は直方体状の
ケーシングであり、その内部前方下端部にはハロゲンラ
ンプ等の光源2が設けられている。なお、この実施例で
は第1図及び第2図に実線にて示すように光源2を1個
設けることを予定しているが、投影像を一層明るくした
い場合には、同図に破線で示すように必要に応じて数を
増やしてもよい。
光源2の後方には、光源2からの光を上方に反射させ、
かつ被投影物からの反射光を投影レンズ5方向に反射さ
せるための投影用ミラー3が光源2に対向して設けられ
ている。この投影用ミラー3は、水平面に対してほぼ45
°傾斜して配置されている。
一方、ケーシング1の上面で投影用ミラー3の上方に
は、投影用ミラー3からの反射光が透過するステージ4
が設けられている。このステージ4は、投影するべき原
稿や若干の厚さを有する立体物等の被投影物(図示せ
ず)を載置可能な所定の大きさを有しており、詳しくは
第3図に示す如く形成されている。
すなわち、ステージ4は、ガラス基板4Aと、その上面つ
まり被投影物の載置面に形成された粗面状の光拡散面4B
と、基板4Aの下面つまり投影用ミラー3側の面にコーテ
ィングにより形成された反射防止膜4Cとからなってい
る。
ここで、光拡散面4Bの条件としては、ガラス基板4Aを透
過した投影用ミラー3からの照射光が拡散されて被投影
物に照射され、この被投影物からの反射光が拡散されて
ガラス基板4A方向に戻ることにより、照射光による被投
影物からの正規反射光が投影用ミラー3に入射しないよ
うな粗面を有することが必要である。換言すれば、この
光拡散面4Bを設けることにより、被投影物からの乱反射
光のみが投影用ミラー3に入射するようにする。
更に、光拡散面4Bの目が粗すぎる場合、この面上に載置
される被投影物が密着せず、光拡散面4Bと被投影物の表
面との隙間で乱反射光が散乱することによって投影用ミ
ラー3上に被投影物の像がぼけるため、光拡散面4Bの粗
さは一定の制約を受ける。考案者等の実験によれば、#
1200〜#2000程度の砂目の粗面とすることにより、投影
用ミラー3からの照射光が適度に拡散されて被投影物か
らの正規反射光が投影用ミラー3に入射せず、また、被
投影物の像がぼけずに何ら支障なく投影用ミラー3上に
結像することが判明している。
一方、反射防止膜4Cは、これを設けない場合にガラス基
板4Aの下面からの正規反射光が投影用ミラー3に入射す
るおそれがあるため、これを防止するためのものであ
る。
再び第1図及び第2図において、ケーシング1の前面に
は、投影用ミラー3からの反射光を集光する投影レンズ
5が設けられ、このようにして実物投影機の全体が構成
されている。
次に、この実施例の作用を説明する。光源2からの光は
投影用ミラー3により反射してステージ4及び被投影物
をほぼ鉛直方向から照射する。すなわち、第2図に示す
ように、光源2の虚像がステージ4の直下に設けられて
いるのと等価な状態になり、被投影物はその全面にわた
って下方から均一に照明されることになる。
ステージ4に入射した照射光は、反射防止膜4Cによって
ガラス基板4Aの下面からの正規反射が防止されると共
に、前記照射光はガラス基板4Aを透過し、光拡散面4Bに
より拡散されて被投影物に照射される。そして、被投影
物からの反射光は再び光拡散面4Bにより拡散されてガラ
ス基板4A及び反射防止膜4Cを透過し、投影用ミラー3に
入射する。この間、被投影物と投影用ミラー3との間で
はステージ4の光拡散面4Bを介して照射光が入反射する
ことになるので、投影用ミラー3には正規反射光が除去
された被投影物からの乱反射光のみが入射する。かかる
乱反射光は、投影用ミラー3によりほぼ水平方向に反射
して投影レンズ5により集光され、投影レンズ5の焦点
によって決まる外部の投影面に被投影物に投影像が結像
されることになる。
そして、投影レンズ5には光源2からの正規反射光が入
射しないため、投影像にハレーションを生じるおそれが
なく、また、光拡散面の粗さを適度なものとすることに
よって当映像の解像度も実用上、十分な程度に維持する
ことができる。
(考案の効果) 以上詳述したように本考案によれば、光源を投影用ミラ
ーの対向位置に配置した場合においても、投影用ミラー
を介してステージ側に照射された光をステージの被投影
物載置側の面に設けた光拡散面により拡散させて正規反
射光を除去し、被投影物からの乱反射光のみを取り出す
ようにしたので、ハレーションのない鮮明な投影像を得
ることができる。また、ステージの投影用ミラー側の面
に反射防止膜を形成することにより、ステージからの正
規反射光が投影用ミラーを介して投影レンズに入射する
のを防止することができる。更に、光拡散面及び反射防
止膜を有するステージはその製造が簡単であると共に、
既存の反射型実物投影機のステージのみを交換して本考
案にかかる実物投影機を実現することが可能であるか
ら、極めて経済的である等の効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図は本考案の一実施例を示すもので、
第1図は内部構成を示す平面図、第2図は同じく側面
図、第3図はステージの説明図である。 1…ケーシング、2…光源 3…投影用ミラー、4…ステージ 4A…ガラス基板、4B…光拡散面 4C…反射防止膜、5…投影レンズ

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】光源と、この光源からの照射光を反射させ
    る投影用ミラーと、この投影用ミラーによる反射光が透
    過し、かつ被投影物を載置可能なステージと、前記被投
    影物からの反射光を前記投影用ミラーを介し集光して前
    記被投影物の投影像を外部の投影面に結像させる投影レ
    ンズとを備え、前記光源が前記投影用ミラーに対向する
    位置に配置された反射型実物投影機において、 前記ステージは、前記投影用ミラー側の面に正規反射を
    防止するための反射防止膜を備えると共に、被投影物が
    載置される側の面に前記投影用ミラーからの反射光を拡
    散させる光拡散面を備え、この光拡散面を介した前記被
    投影物からの乱反射光のみを前記投影用ミラーを介して
    前記投影レンズに入射させることを特徴とする反射型実
    物投影機。
JP1988153442U 1988-11-25 1988-11-25 反射型実物投影機 Expired - Lifetime JPH0648503Y2 (ja)

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JPH0273623U JPH0273623U (ja) 1990-06-05
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS594532U (ja) * 1982-06-29 1984-01-12 富士通株式会社 プロジエクタ
JPS6111148U (ja) * 1984-06-22 1986-01-23 マックス株式会社 反射型投影機の照明装置

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JPH0273623U (ja) 1990-06-05

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