JPH0646588B2 - 低電圧放電型イグナイタプラグ用半導体 - Google Patents

低電圧放電型イグナイタプラグ用半導体

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JPH0646588B2
JPH0646588B2 JP63245762A JP24576288A JPH0646588B2 JP H0646588 B2 JPH0646588 B2 JP H0646588B2 JP 63245762 A JP63245762 A JP 63245762A JP 24576288 A JP24576288 A JP 24576288A JP H0646588 B2 JPH0646588 B2 JP H0646588B2
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JP
Japan
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semiconductor
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igniter plug
discharge type
less
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隆博 鈴木
祐紀 出岡
昇 青木
修造 松村
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NGK Spark Plug Co Ltd
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NGK Spark Plug Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01TSPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
    • H01T13/00Sparking plugs
    • H01T13/52Sparking plugs characterised by a discharge along a surface

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  • Spark Plugs (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ジェットエンジンやガスタービンエンジン
などの点火に用いられる低電圧放電型イグナイタプラグ
に使用する半導体に関する。
[従来の技術] ジェットまたは他の内燃式エンジンの点火器として、中
心電極と接地電極との間の火花放電間隙にホットプレス
焼結された環状の半導体を配置し、放電電圧を低下させ
た低電圧放電型イグナイタプラグが使用されている。こ
の半導体としてアメリカ合衆国特許第3558959号
公報に、炭化珪素(SiC)とアルミナ(Al
とを主体として、ホットプレスにより焼結された構成が
開示されている。この半導体は、主に高温状態および燃
料浸潤状態において、高エネルギ火花放電をおこなった
ときの火花耐久性の向上を目的として開発されている。
[発明が解決しようとする課題] しかるに、今日のジェットエンジン、ガスタービンエン
ジンにおいては、安全性のため、エンジン着火後のたと
えば20kg/cm2以上の高圧力下でも、イグナイタプラグ
を作動させることがある。こうした高圧力下では、イグ
ナイタの半導体の消耗は上記特許に記載された組成の炭
化珪素およびアルミナのホットプレス焼結体において
も、著しく進行することが多発する。
この発明の目的は、炭化珪素とアルミナとをホットプレ
ス焼結した構成において、高圧力下で使用されたとき、
高エネルギーの火花放電に対し、もっとも耐久性の良好
な低電圧放電型イグナイタプラグ用半導体を提供するこ
とにある。
[課題を解決するための手段] この発明は上記目的達成のため、平均粒径が5ミクロン
以下である炭化珪素71重量%以上80重量%以下と、
平均粒径が1ミクロン以下であるアルミナ20重量%以
上29重量%以下とをバインダーとともに混練し、所定
の形状に成型したのち、焼成温度1800℃以上、焼成
圧力200kg/cm2以上でホットプレス焼結するという技
術的手段を採用した。
[作用および発明の効果] この発明の構成によると、炭化珪素は平均粒径が5ミク
ロン以下、アルミナは平均粒径が1ミクロン以下の原料
を用いている。この原料の粒径が微細であることによ
り、半導体の組織が緻密かつ均質化できる。また、この
微細な粒径の原料を上記割合で混合し、上記の如く高い
焼成温度および焼成圧力でホットプレス焼結している。
これにより理論密度が1に近く、粒子の配列が整列的で
欠陥部が小さな半導体が得られる。よって半導体の組織
は強靱であり、高圧力下で火花放電に晒されたとき欠損
する粒子は微細かつ少数ですみ、1回の衝撃で飛散する
半導体の量が低減できる。
[実施例] この発明にかかる低電圧放電型イグナイタプラグ用半導
体を図とともに説明する。
第1図において、100は低電圧放電型イグナイタプラ
グの先端部の断面を示す。1は筒状の主体金具であり、
先端(図示下端)部11の内周は先細のテーパ状に形成
され、さらにその先端は径小(直径6.4mm)で軸方向
長さの円筒面12となっている。2は中心電極であり、
その先端部21は径大(直径4.0mm)に形成され、主
体金具1の軸心に配されている。3は本発明にかかる円
環状半導体であり、先端側外周は前記主体金具1の内周
に対応したテーパに形成され、内周は中心電極の先端部
21が嵌め込まれる寸法に設定されている。この半導体
3は、主体金具1と中心電極2との環状間隙30の先端
部に嵌め込まれている。またこの環状間隙30には、半
導体3の後端面に当接して筒状の絶縁体4が配されてい
る。
前記主体金具の先端円筒面12と中心電極の先端部21
との間の環状間隙10は火花放電間隙となっており、半
導体3の先端面31はこの放電間隙に面した沿面となっ
ている。この低電圧放電型イグナイタプラグ100は、
中心電極2を負極として接地電極と中心電極との間に2
キロボルト前後の電圧が印加され、前記火花放電間隙で
高エネルギ放電がなされる。
[試料およびデータ] つぎに示す順序でこの発明にかかる半導体を製造した。
(1)炭化珪素およびアルミナの原料に、バインダーと
してシリカゾル30%溶液2.9重量%、酸化マグネシ
ウム(MgO)0.3重量%、酸化カルシウム0.5重
量%、酸化珪素1.9重量%を添加し、さらに有機バイ
ンダーとして、ポリビニルアルコールを0.5%添加
し、蒸溜水を混ぜて3時間混練した。
(2)これを乾燥後450ミクロン程度に造粒し、この
粉体をスチール製のプレス型にて2t/cm2でプレス成
型した。
(3)つぎにこのプレス成型品をカーボン型に挿入し、
以下の焼成条件でホットプレス焼結した。
(a)昇温速度20℃/分で加熱し、まず1200℃に
なったとき150〜250kg/cm2で加圧する。
(b)その後1700〜1900℃の温度範囲にある所
定温度で30分間その温度を保つ。
(c)その後徐々に冷却し、1400℃以下で圧力を開
放する。
(4)このように焼成した半導体を第1図に示すイグナ
イタプラグ100に組み込み可能な寸法に研磨し、イグ
ナイタプラグを製造した。
(5)このイグナイタプラグを、25kg/cm2の高圧力に
加圧した空間内で、容量放電型エキサイタ(エネルギー
4ジュール)に接続して火花放電による半導体の消耗を
測定した。なお半導体の消耗量は、1000回の火花放
電の後の重量の低減量により評価した。
(ア)平均粒径2ミクロンの炭化珪素と、平均粒径0.
4ミクロンのアルミナとの混合比率をパラメータとした
ときのデータを第2図に示す。焼成温度1850℃、焼
成圧力250kg/cm2とした。
これにより高圧力下では、炭化珪素65重量%以上80
重量%以下と、アルミナ20重量%以上35重量%以下
との混合比率が火花消耗に対して優れていることが分
る。
(イ)炭化珪素と、アルミナとの平均粒径をパラメータ
としたときのデータを第3図に示す。炭化珪素65重量
%、アルミナ35重量%とし、焼成温度1850℃、焼
成圧力250kg/cm2とした。
このグラフにより、平均粒径が5ミクロン以下である炭
化珪素と、平均粒径が1ミクロン以下であるアルミナと
を用いたとき、火花放電に対する耐久性が著しく高いこ
とが証明されている。
(ウ)焼成温度と焼成圧力とをパラメータとしたときの
データを第4図に示す。
平均粒径2ミクロンの炭化珪素65重量%と、平均粒径
0.4ミクロンのアルミナ35重量%との混合比率で、
焼成温度を一定(1850℃)とし、焼成圧力を変化さ
せたときは曲線Aとなり、焼成圧力を一定(250kg/c
m2)とし焼成温度を変化させたときは曲線Bとなる。
焼成温度1800℃以上、焼成圧力200kg/cm2以上で
ホットプレスが焼結されたとき、半導体の消耗量が10
00回の火花放電当たり、0.001g(グラム)以下
と微量に低減する。
[変形例] 半導体3の形状は、イグナイタプラグの構造に応じて、
第5図に示すごとく単純な円環状、その他の形状が選択
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体を用いた低電圧放電型イグナイ
タプラグの先端部の縦断面図、第2図は炭化珪素とアル
ミナとの混合割合を変化させたときの火花放電による半
導体の消耗量を示すグラフ、第3図は炭化珪素とアルミ
ナとの原料の平均粒径を変化させたときの火花放電によ
る半導体の消耗量を示すグラフ、第4図はホットプレス
焼結における焼成温度および焼成圧力を変化させたとき
の火花放電による半導体の消耗量を示すグラフ、第5図
は本発明のイグナイタプラグの他の構造を示す先端部の
断面図である。 図中 100…低電圧放電型イグナイタプラグ、1…筒
状の主体金具、2…中心電極、3…半導体、4…絶縁体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松村 修造 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 (56)参考文献 米国特許3558959(US,A) 英国特許1179365(GB,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】平均粒径が5ミクロン以下である炭化珪素
    71重量%以上80重量%以下と、平均粒径が1ミクロ
    ン以下であるアルミナ20重量%以上29重量%以下と
    をバインダーとともに混練し、所定の形状に成型したの
    ち、焼成温度1800℃以上、焼成圧力200kg/cm2
    上でホットプレス焼結してなる低電圧放電型イグナイタ
    プラグ用半導体。
JP63245762A 1988-09-29 1988-09-29 低電圧放電型イグナイタプラグ用半導体 Expired - Lifetime JPH0646588B2 (ja)

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US07/361,935 US4973877A (en) 1988-09-29 1989-06-05 Low-voltage type igniter plug having semi-conductor structure for use in jet and other internal combustion engines
DE89305957T DE68912258T2 (de) 1988-09-29 1989-06-13 Verfahren zur Herstellung einer halbleitenden Struktur für eine Niederspannungszündkerze.
EP89305957A EP0361644B1 (en) 1988-09-29 1989-06-13 Method of manufacturing a semiconductor body for a low voltage type spark plug

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