JPH064613B2 - 光学活性δラクトン化合物 - Google Patents
光学活性δラクトン化合物Info
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- JPH064613B2 JPH064613B2 JP1250225A JP25022589A JPH064613B2 JP H064613 B2 JPH064613 B2 JP H064613B2 JP 1250225 A JP1250225 A JP 1250225A JP 25022589 A JP25022589 A JP 25022589A JP H064613 B2 JPH064613 B2 JP H064613B2
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- JP
- Japan
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- compound
- lactone
- group
- optically active
- lactone compound
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はアクチノボリンやバクトボリン等のδラクトン
系抗生物質の母核をなす式（９） （式中＊は不斉炭素を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物を製造する際の
中間体に関する。
系抗生物質の母核をなす式（９） （式中＊は不斉炭素を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物を製造する際の
中間体に関する。
（従来の技術及び発明が解決しようとする課題） 上記式（９）で表わされるδラクトン化合物の製造に関
しては、ラセミ体についてはR.Cordova等（Tetrahedron
Lett.,25,2945(1984)），K.M.Pietrusiewicz等（J.Or
g.Chem.,53,2837(1988)）が報告しているが光学活性体
についてはK.Mori等（Tetrahedron.,41,5295(1985)）が
知られているのみである。
しては、ラセミ体についてはR.Cordova等（Tetrahedron
Lett.,25,2945(1984)），K.M.Pietrusiewicz等（J.Or
g.Chem.,53,2837(1988)）が報告しているが光学活性体
についてはK.Mori等（Tetrahedron.,41,5295(1985)）が
知られているのみである。
光学純度の高い該化合物を容易に収率よく得る方法は未
だ知られていない。
だ知られていない。
（課題を解決するための手段） 本発明者は上記の点に鑑み、効率よく，ラセミ化を起す
ことなく簡単な反応経路で、収率よくδラクトン化合物
を得る目的で鋭意検討した結果、下記反応経路（II）に
従い、光学活性δラクトン化合物（６）から光学純度の
高い光学活性δラクトン化合物（９）が容易に得られる
ことを見出した。
ことなく簡単な反応経路で、収率よくδラクトン化合物
を得る目的で鋭意検討した結果、下記反応経路（II）に
従い、光学活性δラクトン化合物（６）から光学純度の
高い光学活性δラクトン化合物（９）が容易に得られる
ことを見出した。
反応経路（II） 本発明はこの反応経路（II）において得られる中間体を
提供するものである。
提供するものである。
すなわち、本発明は 一般式（Ａ） （Ｘは水酸基、フェニルチオ基若しくは−ＯＲ１を、Ｙ
は水素原子若しくは−ＣＯ２Ｒ３を表わす。Ｒ１はベン
ジル基、Ｒ３は低級アルキル基を表わし、＊は不斉炭素
を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物（Ａ）を提供す
るものである。
は水素原子若しくは−ＣＯ２Ｒ３を表わす。Ｒ１はベン
ジル基、Ｒ３は低級アルキル基を表わし、＊は不斉炭素
を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物（Ａ）を提供す
るものである。
一般式（Ａ）及び一般式（６）で表わされる化合物にお
けるＲ１としては容易に脱離可能な保護基であるベンジ
ル基がよく、またＲ３としては、メチル，エチル，プロ
ピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチル，ペンチル基
等炭素数１〜５の低級アルキル基が挙げられる 本発明の化合物（Ａ）は化合物（６）から合成され、化
合物（６）は、反応経路（Ｉ）に従って、グリシジルエ
ーテル（２）から合成される。
けるＲ１としては容易に脱離可能な保護基であるベンジ
ル基がよく、またＲ３としては、メチル，エチル，プロ
ピル，イソプロピル，ブチル，ｔ−ブチル，ペンチル基
等炭素数１〜５の低級アルキル基が挙げられる 本発明の化合物（Ａ）は化合物（６）から合成され、化
合物（６）は、反応経路（Ｉ）に従って、グリシジルエ
ーテル（２）から合成される。
すなわち、光学活性なα，β不飽和δラクトン化合物
（６）は、既に本発明者らにより開示された方法（有機
合成化学協会誌45巻，1157頁(1987)）によりグリシジル
エーテル（２）から、反応経路（Ｉ）に示すようにして
製造することができる。
（６）は、既に本発明者らにより開示された方法（有機
合成化学協会誌45巻，1157頁(1987)）によりグリシジル
エーテル（２）から、反応経路（Ｉ）に示すようにして
製造することができる。
反応経路（Ｉ） 反応経路（Ｉ）においてＲ１は前記と同一のものを表わ
す。またＲ２はｎ−ブチル，イソブチル，ｔ−ブチル，
メチルなどの低級アルキル基を表わす。
す。またＲ２はｎ−ブチル，イソブチル，ｔ−ブチル，
メチルなどの低級アルキル基を表わす。
以下詳細反応経路（IIａ），（IIｂ）に従って、この化
合物（６）より本発明の化合物（Ａ）を合成する方法を
詳細に説明する。
合物（６）より本発明の化合物（Ａ）を合成する方法を
詳細に説明する。
詳細反応経路（IIａ） 詳細反応経路（IIｂ） ａ）δラクトン化合物Ａの合成 光学活性α，β不飽和δラクトン化合物（６）に不活性
溶媒、例えばテトラヒドロフラン，エチレングリコール
ジメチルエーテル，トルエン，ジメチルホルムアミドな
どの溶媒中シアノ酢酸エステル（式ＣＨ２（ＣＮ）ＣＯ
２Ｒ３中のＲ３は前記と同一のものを表わす。）のアニ
オンを1,4−付加させて化合物（Ａ−１）（Ｘ＝Ｏ
Ｒ１，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を合成し、これから工程１）エ
ステルの加水分解と脱炭酸，工程２）保護基の脱離，工
程３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換を行い、
化合物（Ａ−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）を合成す
る。
溶媒、例えばテトラヒドロフラン，エチレングリコール
ジメチルエーテル，トルエン，ジメチルホルムアミドな
どの溶媒中シアノ酢酸エステル（式ＣＨ２（ＣＮ）ＣＯ
２Ｒ３中のＲ３は前記と同一のものを表わす。）のアニ
オンを1,4−付加させて化合物（Ａ−１）（Ｘ＝Ｏ
Ｒ１，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を合成し、これから工程１）エ
ステルの加水分解と脱炭酸，工程２）保護基の脱離，工
程３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換を行い、
化合物（Ａ−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）を合成す
る。
１）エステルの加水分解と脱炭酸，２）保護基の脱離，
３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換の工程の順
序は１）→２）→３）でも２）→１）→３）でも、２）
→３）→１）でも良い。
３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換の工程の順
序は１）→２）→３）でも２）→１）→３）でも、２）
→３）→１）でも良い。
１），２），３）の工程は各々それ自体公知の方法によ
って行うことができる。
って行うことができる。
工程１）はアルカリあるいは酸触媒を用い、含水溶媒中
で加熱還流して行う。アルカリとしては炭酸ナトリウ
ム，炭酸カリウム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム
などを用いることができる。酸としては硫酸，塩酸，臭
化水素酸，リン酸などの鉱酸あるいは塩化マグネシウ
ム，塩化亜鉛，硫酸銅などのルイス酸を用いることがで
きる。溶媒としては極性溶媒、例えばメタノール，エタ
ノール，イソプロピルアルコール，アセトニトリル，ア
セトン，ジメチルホルムアミド，ジメチルアセトアミド
などが使用できる。
で加熱還流して行う。アルカリとしては炭酸ナトリウ
ム，炭酸カリウム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム
などを用いることができる。酸としては硫酸，塩酸，臭
化水素酸，リン酸などの鉱酸あるいは塩化マグネシウ
ム，塩化亜鉛，硫酸銅などのルイス酸を用いることがで
きる。溶媒としては極性溶媒、例えばメタノール，エタ
ノール，イソプロピルアルコール，アセトニトリル，ア
セトン，ジメチルホルムアミド，ジメチルアセトアミド
などが使用できる。
工程２）の保護基の脱離はパラジウム触媒を用いて水素
化分解あるいは異性化分解の手法が使用できる。水酸基
をフェニルチオ基に変換する工程３）はトリフェニルホ
スフィン，トリ−ｎ−ブチルホスフィン，1,2−ビス
（ジフェニルホスフォ）エタンなどの三級ホスフィンの
存在下ジフェニルスルフィドと原料のアルコールをピリ
ジン，トリエチルアミンなどを溶媒として反応させるこ
とにより達成できる。
化分解あるいは異性化分解の手法が使用できる。水酸基
をフェニルチオ基に変換する工程３）はトリフェニルホ
スフィン，トリ−ｎ−ブチルホスフィン，1,2−ビス
（ジフェニルホスフォ）エタンなどの三級ホスフィンの
存在下ジフェニルスルフィドと原料のアルコールをピリ
ジン，トリエチルアミンなどを溶媒として反応させるこ
とにより達成できる。
また化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＲ１，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）
を工程２）→３）→１）の経路で反応させると化合物
（Ａ−５）（Ｘ＝ＯＨ，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３），（Ａ−６）
（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を経て化合物（Ａ
−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）に導くこともでき
る。
を工程２）→３）→１）の経路で反応させると化合物
（Ａ−５）（Ｘ＝ＯＨ，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３），（Ａ−６）
（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を経て化合物（Ａ
−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）に導くこともでき
る。
化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＲ１，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）から
化合物（Ａ−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）への変換
の具体例を以下に示すが、製法はこの具体例に限られる
ものではない。
化合物（Ａ−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）への変換
の具体例を以下に示すが、製法はこの具体例に限られる
ものではない。
化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＢｎ，Ｂｎはベンジル基を示
す。Ｙ＝ＣＯ２Ｃ２Ｈ５）を塩化マグネシウムとジメチ
ルアセトアミド中で加熱し、加水分解・脱炭酸し、シリ
カゲルカラムクロマログラフィーで分離，精製し、化合
物（Ａ−２）（Ｘ＝ＯＢｎ，Ｙ＝Ｈ）のトランス体，シ
ス体を各々得ることができる。このものをパラジウム触
媒を用い、水素化分解し、化合物（Ａ−３）（Ｘ＝Ｏ
Ｈ，Ｙ＝Ｈ）とし、トリ−ｎ−ブチルホスフィン，ジフ
ェニルスルフィドとピリジン中で反応させて化合物（Ａ
−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）を得る。
す。Ｙ＝ＣＯ２Ｃ２Ｈ５）を塩化マグネシウムとジメチ
ルアセトアミド中で加熱し、加水分解・脱炭酸し、シリ
カゲルカラムクロマログラフィーで分離，精製し、化合
物（Ａ−２）（Ｘ＝ＯＢｎ，Ｙ＝Ｈ）のトランス体，シ
ス体を各々得ることができる。このものをパラジウム触
媒を用い、水素化分解し、化合物（Ａ−３）（Ｘ＝Ｏ
Ｈ，Ｙ＝Ｈ）とし、トリ−ｎ−ブチルホスフィン，ジフ
ェニルスルフィドとピリジン中で反応させて化合物（Ａ
−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）を得る。
本発明の化合物Ａは前記反応経路（II）に従って、光学
活性δラクトン化合物（９）とすることができる。以下
順に説明する。
活性δラクトン化合物（９）とすることができる。以下
順に説明する。
ｂ）ヘミアセタール化合物（７）の合成 化合物（Ａ−４）（Ｘ＝ＳＣ６Ｈ５，Ｙ＝Ｈ）をジイソ
ブチルアルミニウムハイドライドなどの水素化アルミニ
ウム試剤で還元するとヘミアセタール（７−１）が得ら
れる。反応はテトラヒドロフラン，エチレングリコール
ジメチルエーテル，ジオキサンなどの不活性溶媒中、０
〜−80°の低温で行う。化合物（７−２）（Ｘ′＝Ｈ）
は化合物（７−１）（Ｘ′＝−ＳＣ６Ｈ５）をラネーニ
ッケルを用いて還元することにより得られる。
ブチルアルミニウムハイドライドなどの水素化アルミニ
ウム試剤で還元するとヘミアセタール（７−１）が得ら
れる。反応はテトラヒドロフラン，エチレングリコール
ジメチルエーテル，ジオキサンなどの不活性溶媒中、０
〜−80°の低温で行う。化合物（７−２）（Ｘ′＝Ｈ）
は化合物（７−１）（Ｘ′＝−ＳＣ６Ｈ５）をラネーニ
ッケルを用いて還元することにより得られる。
ｃ）カルボン酸エステル化合物Ｂの合成 化合物（７−１）を一般式Ｒ３ＯＣＯＣＨ＝ＰＺＲ
４（８）で表わされるｐ−イリド（式（８）でＺは酸
素，（ＯＲ３）２または（Ｃ６Ｈ５）２を、Ｒ４はＯＲ
３またはＣ６Ｈ５を、Ｒ３は前記と同一のものを表わ
す。）と反応させて化合物（Ｂ−１）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ＝
ＣＨ，Ｘ′＝ＳＣ６Ｈ５）を得る。化合物（Ｂ−１）か
ら化合物（Ｃ−２）（Ｘ′＝Ｈ）へは工程４）二重結合
の還元，工程５）フェニルチオ基の還元，工程６）ニト
リルの加水分解，工程７）δラクトン環への閉環の４つ
の工程を行うことにより達成できる。尚、化合物（７−
２）（Ｘ′＝Ｈ）を原料とした場合は工程５）は必要な
い。
４（８）で表わされるｐ−イリド（式（８）でＺは酸
素，（ＯＲ３）２または（Ｃ６Ｈ５）２を、Ｒ４はＯＲ
３またはＣ６Ｈ５を、Ｒ３は前記と同一のものを表わ
す。）と反応させて化合物（Ｂ−１）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ＝
ＣＨ，Ｘ′＝ＳＣ６Ｈ５）を得る。化合物（Ｂ−１）か
ら化合物（Ｃ−２）（Ｘ′＝Ｈ）へは工程４）二重結合
の還元，工程５）フェニルチオ基の還元，工程６）ニト
リルの加水分解，工程７）δラクトン環への閉環の４つ
の工程を行うことにより達成できる。尚、化合物（７−
２）（Ｘ′＝Ｈ）を原料とした場合は工程５）は必要な
い。
この４つの工程は工程７）のまえに工程６）を行う事を
除き、各々独立しており、どの順序で行ってもよい。ま
た４），５）の工程、６），７）の工程を同時に行うこ
ともできる。各々の工程はそれ自体公知の方法により行
うことができる。すなわち、工程４）二重結合の還元は
亜鉛−酢酸あるいはパラジウム，白金，ラネーニッケル
等による接触水素化により行うことができ、工程５）の
フェニルチオ基の還元はラネーニッケルによる接触還元
で達成できる。工程６）のニトリルの加水分解は塩酸，
硫酸，臭化水素酸などの鉱酸を用いるか水酸化ナトリウ
ム，水酸化カリウムなどの塩基を用いて含水溶媒中で加
熱すれば達成できる。また工程７）のδラクトン環への
閉環はニトリルの加水分解で生じたカルボン酸を酸処理
すれば達成できる。これらの各工程を適宜選択すれば望
ましい生成物を選択的に得ることができる。
除き、各々独立しており、どの順序で行ってもよい。ま
た４），５）の工程、６），７）の工程を同時に行うこ
ともできる。各々の工程はそれ自体公知の方法により行
うことができる。すなわち、工程４）二重結合の還元は
亜鉛−酢酸あるいはパラジウム，白金，ラネーニッケル
等による接触水素化により行うことができ、工程５）の
フェニルチオ基の還元はラネーニッケルによる接触還元
で達成できる。工程６）のニトリルの加水分解は塩酸，
硫酸，臭化水素酸などの鉱酸を用いるか水酸化ナトリウ
ム，水酸化カリウムなどの塩基を用いて含水溶媒中で加
熱すれば達成できる。また工程７）のδラクトン環への
閉環はニトリルの加水分解で生じたカルボン酸を酸処理
すれば達成できる。これらの各工程を適宜選択すれば望
ましい生成物を選択的に得ることができる。
例えば化合物（Ｂ−１）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ′＝
ＳＣ６Ｈ５）を亜鉛−酢酸で還元すると化合物（Ｂ−
２）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ２ＣＨ２，Ｘ′＝ＳＣ６Ｈ５）が得
られ、化合物（Ｂ−１）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ′＝
ＳＣ６Ｈ５）をラネーニッケルで還元するとフェニルチ
オ基の還元と二重結合の還元が同時におこり、化合物
（Ｂ−３）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ２ＣＨ２，Ｘ′＝Ｈ）が得ら
れる。
ＳＣ６Ｈ５）を亜鉛−酢酸で還元すると化合物（Ｂ−
２）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ２ＣＨ２，Ｘ′＝ＳＣ６Ｈ５）が得
られ、化合物（Ｂ−１）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ′＝
ＳＣ６Ｈ５）をラネーニッケルで還元するとフェニルチ
オ基の還元と二重結合の還元が同時におこり、化合物
（Ｂ−３）（Ｄ−Ｅ；ＣＨ２ＣＨ２，Ｘ′＝Ｈ）が得ら
れる。
ｄ）δラクトン化合物Ｃの合成 上記化合物（Ｂ−３）のニトリル基を水酸化ナトリウム
存在下、エタノール中加熱還流して加水分解し、生じた
カルボン酸を塩酸で処理してδラクトン化合物（Ｃ−
２）（Ｘ′＝Ｈ，Ｒ３＝Ｈ）とし、低級アルコールと酸
触媒存在下で反応させるか、ジアゾメタンと反応させエ
ステル化して化合物（Ｃ−２）（Ｘ′＝Ｈ）とする。工
程５）のフェニルチオ基の還元は化合物（Ｂ）から
（Ｃ）への変換の際行う代りに化合物（Ｃ）から（９）
への変換の際に行っても良い。この場合は化合物（Ｂ）
から（Ｃ）への工程４）を亜鉛−酢酸もしくはパラジウ
ムや白金による水素化で行い、工程６），７）を前述の
方法で行って化合物（Ｃ−１）（Ｘ′＝ＳＣ６Ｈ５）を
得、これをラネーニッケルで水素化し、化合物（Ｃ−
２）（Ｘ′＝Ｈ）としたのち最後の分子内縮環反応を行
う。
存在下、エタノール中加熱還流して加水分解し、生じた
カルボン酸を塩酸で処理してδラクトン化合物（Ｃ−
２）（Ｘ′＝Ｈ，Ｒ３＝Ｈ）とし、低級アルコールと酸
触媒存在下で反応させるか、ジアゾメタンと反応させエ
ステル化して化合物（Ｃ−２）（Ｘ′＝Ｈ）とする。工
程５）のフェニルチオ基の還元は化合物（Ｂ）から
（Ｃ）への変換の際行う代りに化合物（Ｃ）から（９）
への変換の際に行っても良い。この場合は化合物（Ｂ）
から（Ｃ）への工程４）を亜鉛−酢酸もしくはパラジウ
ムや白金による水素化で行い、工程６），７）を前述の
方法で行って化合物（Ｃ−１）（Ｘ′＝ＳＣ６Ｈ５）を
得、これをラネーニッケルで水素化し、化合物（Ｃ−
２）（Ｘ′＝Ｈ）としたのち最後の分子内縮環反応を行
う。
ここで得られたδラクトン化合物（Ａ），ヘミアセター
ル化合物（７），カルボン酸エステル化合物（Ｂ）及び
δラクトン化合物（Ｃ）はいずれも文献未記載の新規化
合物であり、次に述べる光学純度の高いδラクトン化合
物（９）を製造する上で重要な中間体である。
ル化合物（７），カルボン酸エステル化合物（Ｂ）及び
δラクトン化合物（Ｃ）はいずれも文献未記載の新規化
合物であり、次に述べる光学純度の高いδラクトン化合
物（９）を製造する上で重要な中間体である。
ｅ）δラクトン化合物（９）の合成 化合物（Ｃ−２）（Ｘ′＝Ｈ）の分子内縮環反応は不活
性溶媒、例えばテトラヒドロフランやエチレングリコー
ルジメチルエーテル，ｔ−ブタノール，ジメチルホルム
アミドなどを用い、カリウム−ｔ−ブトキシド，水素化
ナトリウム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウムなどの
塩基と反応させて公知の目的物質，光学活性δラクトン
化合物（９）を光学純度よく高収率で得る事ができる。
性溶媒、例えばテトラヒドロフランやエチレングリコー
ルジメチルエーテル，ｔ−ブタノール，ジメチルホルム
アミドなどを用い、カリウム−ｔ−ブトキシド，水素化
ナトリウム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウムなどの
塩基と反応させて公知の目的物質，光学活性δラクトン
化合物（９）を光学純度よく高収率で得る事ができる。
（発明の効果） 本発明の光学活性化合物はδラクトン系抗生物質の母核
をなす化合物を製造する際の中間体として重要な化合物
であって、この化合物を用いることにより光学純度の高
いδラクトン化合物（９）を効率よく製造することがで
きる。
をなす化合物を製造する際の中間体として重要な化合物
であって、この化合物を用いることにより光学純度の高
いδラクトン化合物（９）を効率よく製造することがで
きる。
（実施例） 以下具体例を実施例にもとづき、述べる。
実施例１ 化合物（Ａ−１）の合成 （Ｂｎはベンジル基，Ｅｔはエチル基を表わす。
以下同じ。） アルゴン気流下、シアノ酢酸エチルエステル1.24g(11m
M)を鉱油でけんだくした60ｗ／ｗ％の水素化ナトリウム
440mg(11mM)のテトラヒドロフラン15ｍけんだく液中
に氷冷下で加え10分間室温で攪拌した。次にＳ体のα，
β不飽和δラクトン（６）2.0g(9,17mM)のテトラヒドロ
フラン溶液５ｍを氷冷下ゆっくり加え、同温で１時間
攪拌した。反応液をジエチルエーテル50ｍで希釈し、
10％塩酸を加え中和し、分液し、有機層を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を
留去すると1,4−付加体（Ａ−１）が黄色油状物質とし
て3.5g得られた。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.32（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝7.1Hz） 2.0（２Ｈ，ｍ） 2.60（２Ｈ，ｍ） 2.90（１Ｈ，ｍ） 3.60（３Ｈ，ｍ） 4.30（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝7.1Hz） 4.56（２Ｈ，ｓ） 4.60（１Ｈ，ｍ） 7.33（５Ｈ，ｓ） ＩＲ(neat) 2940,2250,1740,740,700 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 332（Ｍ＋１），91(100%) 実施例２ 化合物（Ａ−２）の合成 アルゴン気流下、上記1,4-付加体（Ａ−１）3.5gを水10
滴，塩化マグネシウム６水塩1.86g(9.17mM)とジメチル
アセトアミド30ｍ中で170℃，12時間加熱還流し、室
温にもどしたのち、水とジエチルエーテルを加え、抽出
分離し、水層は塩酸で酸性にしたのち酢酸エチルで抽出
した。有機層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下溶媒を留去し、残渣をベンゼン50ｍにとか
し、12時間加熱還流した。次に反応液を減圧下溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、エーテル：ヘキサン（100：１ｖ／ｖ）流出し、3R,
5Sのδラクトン化合物（Ａ−２）を無色油状物質として
1.47g（（６）より62％）得た。更にエーテルで溶出し
て3S,5Sのδラクトン化合物（Ａ−２）185mg（（６）よ
り7.8％）を得た。3R,5Sのδラクトン化合物（Ａ−２）
のデータは次の通りである。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.7〜2.9（７Ｈ，ｍ） 3.65 （２Ｈ，ｄ，Ｊ＝4.4Hz） 4.58 （２Ｈ，ｓ） 4.6 （１Ｈ，ｍ） 7.33 （５Ｈ，ｓ） ＩＲ(neat) 2940,2250,1740,742,700 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 259（Ｍ＋），91（100％） 実施例３ 化合物（Ａ−３）の合成 上記3R,5S体のδラクトン化合物（Ａ−２）1.38g(5.33m
M)を酢酸エチル40ｍにとかし、水酸化パラジウム180m
g，濃塩酸１滴を加え水素ガス雰囲気下室温で３時間攪
拌した。反応液をセライトろ過し、減圧下溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル留分より化合物（Ａ−３）を無色油状物
質として866.7mgを得た。収率96％１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.65〜3.1（８Ｈ，ｍ） 3.78 （２Ｈ，ｍ） 4.57 （１Ｈ，sextet,Ｊ＝4.4Hz） ＩＲ(neat) 3330,2250,1735 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 170（Ｍ＋１），138（100％） 実施例４ 化合物（Ａ−４）の合成 （ｐｈはフェニル基を、Ｂｕはブチル基を表わす。
M)を鉱油でけんだくした60ｗ／ｗ％の水素化ナトリウム
440mg(11mM)のテトラヒドロフラン15ｍけんだく液中
に氷冷下で加え10分間室温で攪拌した。次にＳ体のα，
β不飽和δラクトン（６）2.0g(9,17mM)のテトラヒドロ
フラン溶液５ｍを氷冷下ゆっくり加え、同温で１時間
攪拌した。反応液をジエチルエーテル50ｍで希釈し、
10％塩酸を加え中和し、分液し、有機層を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を
留去すると1,4−付加体（Ａ−１）が黄色油状物質とし
て3.5g得られた。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.32（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝7.1Hz） 2.0（２Ｈ，ｍ） 2.60（２Ｈ，ｍ） 2.90（１Ｈ，ｍ） 3.60（３Ｈ，ｍ） 4.30（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝7.1Hz） 4.56（２Ｈ，ｓ） 4.60（１Ｈ，ｍ） 7.33（５Ｈ，ｓ） ＩＲ(neat) 2940,2250,1740,740,700 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 332（Ｍ＋１），91(100%) 実施例２ 化合物（Ａ−２）の合成 アルゴン気流下、上記1,4-付加体（Ａ−１）3.5gを水10
滴，塩化マグネシウム６水塩1.86g(9.17mM)とジメチル
アセトアミド30ｍ中で170℃，12時間加熱還流し、室
温にもどしたのち、水とジエチルエーテルを加え、抽出
分離し、水層は塩酸で酸性にしたのち酢酸エチルで抽出
した。有機層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下溶媒を留去し、残渣をベンゼン50ｍにとか
し、12時間加熱還流した。次に反応液を減圧下溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、エーテル：ヘキサン（100：１ｖ／ｖ）流出し、3R,
5Sのδラクトン化合物（Ａ−２）を無色油状物質として
1.47g（（６）より62％）得た。更にエーテルで溶出し
て3S,5Sのδラクトン化合物（Ａ−２）185mg（（６）よ
り7.8％）を得た。3R,5Sのδラクトン化合物（Ａ−２）
のデータは次の通りである。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.7〜2.9（７Ｈ，ｍ） 3.65 （２Ｈ，ｄ，Ｊ＝4.4Hz） 4.58 （２Ｈ，ｓ） 4.6 （１Ｈ，ｍ） 7.33 （５Ｈ，ｓ） ＩＲ(neat) 2940,2250,1740,742,700 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 259（Ｍ＋），91（100％） 実施例３ 化合物（Ａ−３）の合成 上記3R,5S体のδラクトン化合物（Ａ−２）1.38g(5.33m
M)を酢酸エチル40ｍにとかし、水酸化パラジウム180m
g，濃塩酸１滴を加え水素ガス雰囲気下室温で３時間攪
拌した。反応液をセライトろ過し、減圧下溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル留分より化合物（Ａ−３）を無色油状物
質として866.7mgを得た。収率96％１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.65〜3.1（８Ｈ，ｍ） 3.78 （２Ｈ，ｍ） 4.57 （１Ｈ，sextet,Ｊ＝4.4Hz） ＩＲ(neat) 3330,2250,1735 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 170（Ｍ＋１），138（100％） 実施例４ 化合物（Ａ−４）の合成 （ｐｈはフェニル基を、Ｂｕはブチル基を表わす。
以下同じ。） アルゴン気流下、上記化合物（Ａ−３）50mg（0.296m
M），ジフェニルジスルフィド193mg（0.888mM），トリ
−ｎ−ブチルフォスフィン0.22ｍ（0.888mM)をピリジ
ン２ｍに加え、室温で12時間攪拌する。反応液を酢酸
エチル30ｍで希釈し、10％塩酸で洗浄し、次いで飽和
硫酸銅水溶液，飽和重曹水，飽和食塩水の順に洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エー
テル留分より、フェニルスルフィド（Ａ−４）71mg(92
%)を得た。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.85〜2.75（７Ｈ，ｍ） 2.94 （１Ｈ，dd，Ｊ＝14.5,9.0Hz） 3.30 （１Ｈ，dd，Ｊ＝14.5,5.8Hz） 4.45 （１Ｈ，tt，Ｊ＝9.0,5.8Hz） 7.30 （５Ｈ，ｍ） ＩＲ(neat) 2930,2250,1740,740,695 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 261（Ｍ＋），123（100％） 合成例 化合物（７−１）の合成 アルゴン気流下、上記フェニルスルフィド（Ａ−４）98
4mg(3.77mM）のテトラヒドロフラン溶液25ｍに−30℃
攪拌下ジイソブチルアルミニウムハイドライドの２Ｍト
ルエン溶液２ｍ（4mM)をゆっくり加え、−30℃で10分
間攪拌した。反応液に10％ＮａＯＨ水溶液を少量加え、
室温で２時間攪拌し、セライトろ過した後、減圧下溶媒
を留去し、ヘミアセタール（７−１）986mgを得た。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.5〜1.9（４Ｈ，ｍ） 2.2〜2.5（２Ｈ，ｍ） 2.7 （１Ｈ，ｍ） 2.9〜3.6（２Ｈ，ｍ） 3.7〜4.4（１Ｈ，ｍ） 5.0〜5.4（１Ｈ，ｍ） 7.2〜7.45（５Ｈ，ｍ） ＩＲ(neat) 3400,2910,2250,745,695 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 263（Ｍ＋），124（100％） 化合物（Ｂ−１）の合成 アルゴン気流下、上記ヘミアセタール（７−１）986mg
(3.75mM)の塩化メチレン溶液20ｍにトリフェニルフォ
スフィンのエトキシカルボニルメチルイリド3.9g(11.25
mM)を加え、室温で15時間攪拌する。反応液を減圧下溶
媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、エーテル：ヘキサン（３：１ｖ／ｖ）留分より
５−シアノメチル−７−ヒドロキシ−８−フェニルチオ
オクタ−２−エノイックアシッドエチルエステル（Ｂ−
１）を1.03g(82%)無色油状物質として得た。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.29 （３Ｈ，ｔ，Ｊ＝7.1Hz） 1.60 （２Ｈ，ｍ） 2.0〜2.7（５Ｈ，ｍ） 2.68 （１Ｈ，dd，Ｊ＝13.9,8.8Hz） 3.15 （１Ｈ，dd，Ｊ＝13.9,3.7Hz） 3.70 （１Ｈ，ｍ） 4.90 （２Ｈ，ｑ，Ｊ＝7.1Hz） 5.90 （１Ｈ，ｄ，Ｊ＝15.6Hz） 6.80 （１Ｈ，dt，Ｊ＝15.6,7.1Hz） ＩＲ(neat) 3450,2910,2250,1910,1650,740,690 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 333（Ｍ＋），124（100％） 化合物（Ｂ−３）の合成 （Ｍｅはメチル基を表わす。以下同じ。） 上記化合物（Ｂ−１）87mg(0.26mM)のエタノール１ｍ
溶液にラネーニッケル0.6mMのエタノール溶液0.6ｍを
加え、90℃で20分加熱還流した後、反応液をセライトろ
過し、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン（７：１
ｖ／ｖ）留分より化合物（Ｂ−３）37.2mg(63%)を無色
油状物質として得た。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.23 （３Ｈ，ｄ，Ｊ＝6.3Hz） 1.26 （３Ｈ，ｔ，Ｊ＝7.1Hz） 1.4〜1.8（７Ｈ，ｍ） 1.95 （１Ｈ，ｍ） 2.33 （２Ｈ，ｔ，Ｊ＝6.6Hz） 2.48 （２Ｈ，ｄ，Ｊ＝5.4Hz） 3.90 （１Ｈ，ｍ） 4.14 （２Ｈ，ｑ，Ｊ＝7.1Hz） ＩＲ(neat) 3400,2250,1725 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 228（Ｍ＋１），164（100％） 化合物（Ｃ−２）の合成 アルゴン気流下、上記化合物（Ｂ−３）250mg(1.1mM)を
30％水酸化カリウム水溶液１ｍ，エタノール８ｍに
とかし、12時間加熱還流した。反応液にエーテル30ｍ
，水20ｍを加え、抽出分離し、水層に濃塩酸を加え
酸性とし、塩化メチレンで抽出した。有機層をあわせて
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し
た。残渣を塩化メチレンでとかし、ジアゾメタンのエー
テル溶液を加えてメチルエステルとした。これを減圧下
溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、エーテル：ヘキサン（１：１ｖ／ｖ）留分よ
り（Ｃ−２）192.1mg(82%)を無色結晶として得た。
M），ジフェニルジスルフィド193mg（0.888mM），トリ
−ｎ−ブチルフォスフィン0.22ｍ（0.888mM)をピリジ
ン２ｍに加え、室温で12時間攪拌する。反応液を酢酸
エチル30ｍで希釈し、10％塩酸で洗浄し、次いで飽和
硫酸銅水溶液，飽和重曹水，飽和食塩水の順に洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エー
テル留分より、フェニルスルフィド（Ａ−４）71mg(92
%)を得た。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.85〜2.75（７Ｈ，ｍ） 2.94 （１Ｈ，dd，Ｊ＝14.5,9.0Hz） 3.30 （１Ｈ，dd，Ｊ＝14.5,5.8Hz） 4.45 （１Ｈ，tt，Ｊ＝9.0,5.8Hz） 7.30 （５Ｈ，ｍ） ＩＲ(neat) 2930,2250,1740,740,695 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 261（Ｍ＋），123（100％） 合成例 化合物（７−１）の合成 アルゴン気流下、上記フェニルスルフィド（Ａ−４）98
4mg(3.77mM）のテトラヒドロフラン溶液25ｍに−30℃
攪拌下ジイソブチルアルミニウムハイドライドの２Ｍト
ルエン溶液２ｍ（4mM)をゆっくり加え、−30℃で10分
間攪拌した。反応液に10％ＮａＯＨ水溶液を少量加え、
室温で２時間攪拌し、セライトろ過した後、減圧下溶媒
を留去し、ヘミアセタール（７−１）986mgを得た。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.5〜1.9（４Ｈ，ｍ） 2.2〜2.5（２Ｈ，ｍ） 2.7 （１Ｈ，ｍ） 2.9〜3.6（２Ｈ，ｍ） 3.7〜4.4（１Ｈ，ｍ） 5.0〜5.4（１Ｈ，ｍ） 7.2〜7.45（５Ｈ，ｍ） ＩＲ(neat) 3400,2910,2250,745,695 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 263（Ｍ＋），124（100％） 化合物（Ｂ−１）の合成 アルゴン気流下、上記ヘミアセタール（７−１）986mg
(3.75mM)の塩化メチレン溶液20ｍにトリフェニルフォ
スフィンのエトキシカルボニルメチルイリド3.9g(11.25
mM)を加え、室温で15時間攪拌する。反応液を減圧下溶
媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、エーテル：ヘキサン（３：１ｖ／ｖ）留分より
５−シアノメチル−７−ヒドロキシ−８−フェニルチオ
オクタ−２−エノイックアシッドエチルエステル（Ｂ−
１）を1.03g(82%)無色油状物質として得た。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.29 （３Ｈ，ｔ，Ｊ＝7.1Hz） 1.60 （２Ｈ，ｍ） 2.0〜2.7（５Ｈ，ｍ） 2.68 （１Ｈ，dd，Ｊ＝13.9,8.8Hz） 3.15 （１Ｈ，dd，Ｊ＝13.9,3.7Hz） 3.70 （１Ｈ，ｍ） 4.90 （２Ｈ，ｑ，Ｊ＝7.1Hz） 5.90 （１Ｈ，ｄ，Ｊ＝15.6Hz） 6.80 （１Ｈ，dt，Ｊ＝15.6,7.1Hz） ＩＲ(neat) 3450,2910,2250,1910,1650,740,690 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 333（Ｍ＋），124（100％） 化合物（Ｂ−３）の合成 （Ｍｅはメチル基を表わす。以下同じ。） 上記化合物（Ｂ−１）87mg(0.26mM)のエタノール１ｍ
溶液にラネーニッケル0.6mMのエタノール溶液0.6ｍを
加え、90℃で20分加熱還流した後、反応液をセライトろ
過し、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン（７：１
ｖ／ｖ）留分より化合物（Ｂ−３）37.2mg(63%)を無色
油状物質として得た。１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.23 （３Ｈ，ｄ，Ｊ＝6.3Hz） 1.26 （３Ｈ，ｔ，Ｊ＝7.1Hz） 1.4〜1.8（７Ｈ，ｍ） 1.95 （１Ｈ，ｍ） 2.33 （２Ｈ，ｔ，Ｊ＝6.6Hz） 2.48 （２Ｈ，ｄ，Ｊ＝5.4Hz） 3.90 （１Ｈ，ｍ） 4.14 （２Ｈ，ｑ，Ｊ＝7.1Hz） ＩＲ(neat) 3400,2250,1725 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 228（Ｍ＋１），164（100％） 化合物（Ｃ−２）の合成 アルゴン気流下、上記化合物（Ｂ−３）250mg(1.1mM)を
30％水酸化カリウム水溶液１ｍ，エタノール８ｍに
とかし、12時間加熱還流した。反応液にエーテル30ｍ
，水20ｍを加え、抽出分離し、水層に濃塩酸を加え
酸性とし、塩化メチレンで抽出した。有機層をあわせて
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し
た。残渣を塩化メチレンでとかし、ジアゾメタンのエー
テル溶液を加えてメチルエステルとした。これを減圧下
溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、エーテル：ヘキサン（１：１ｖ／ｖ）留分よ
り（Ｃ−２）192.1mg(82%)を無色結晶として得た。
ｍｐ 72.5〜73℃１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣ３） δ：1.38 （３Ｈ，ｄ，Ｊ＝6.3Hz） 1.1〜2.9（11Ｈ，ｍ） 3.68 （３Ｈ，ｓ） 4.4 （１Ｈ，ｍ） ＩＲ（ＣＨＣ３） 2900,1720 cm-1 ＭＳ ｍ／ｅ 215（Ｍ＋１），74（100％） 化合物（９）の合成 アルゴン気流下、化合物（Ｃ−２）178mg(0.83mM)のテ
トラヒドロフラン溶液２ｍをカリウム−ｔ−ブトキシ
ド289.5mg(2.68mM)のテトラヒドロフランけんだく液８
ｍに室温で加え、更に同温度で10分間攪拌した。反応
液に水20ｍ，エーテル30ｍを加え、抽出分離した。
水層を濃塩酸で酸性とし、塩化メチレンで抽出し、有機
層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、エーテル：ヘキサン（１：５ｖ／ｖ）
留分より化合物（９）106mg(70%)を無色針状晶として得
た。
トラヒドロフラン溶液２ｍをカリウム−ｔ−ブトキシ
ド289.5mg(2.68mM)のテトラヒドロフランけんだく液８
ｍに室温で加え、更に同温度で10分間攪拌した。反応
液に水20ｍ，エーテル30ｍを加え、抽出分離した。
水層を濃塩酸で酸性とし、塩化メチレンで抽出し、有機
層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、エーテル：ヘキサン（１：５ｖ／ｖ）
留分より化合物（９）106mg(70%)を無色針状晶として得
た。
ｍｐ 121〜122℃ (lit.mp120〜121℃，F.H.Stodola,et al.Biochem.J.,9
3,92(1964)) ▲［α］27 D▼+18.1゜（ｃ＝1.03,エタノール） (lit.［α］D+18.2゜（ｃ＝1.15，エタノール，K.Mori,e
t al.Tetrahedron,41,5295(1985))
3,92(1964)) ▲［α］27 D▼+18.1゜（ｃ＝1.03,エタノール） (lit.［α］D+18.2゜（ｃ＝1.15，エタノール，K.Mori,e
t al.Tetrahedron,41,5295(1985))
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（Ａ） （Ｘは水酸基，フェニルチオ基若しくは−ＯＲ１を、Ｙ
は水素原子若しくは−ＣＯ２Ｒ３を表わす。Ｒ１はベン
ジル基、Ｒ３は低級アルキル基を表わし、＊は不斉炭素
を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1250225A JPH064613B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 光学活性δラクトン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1250225A JPH064613B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 光学活性δラクトン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03112975A JPH03112975A (ja) | 1991-05-14 |
| JPH064613B2 true JPH064613B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=17204702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1250225A Expired - Lifetime JPH064613B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 光学活性δラクトン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064613B2 (ja) |
-
1989
- 1989-09-26 JP JP1250225A patent/JPH064613B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03112975A (ja) | 1991-05-14 |
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