JPH0643810U - Magnetic head - Google Patents
Magnetic headInfo
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- JPH0643810U JPH0643810U JP8368792U JP8368792U JPH0643810U JP H0643810 U JPH0643810 U JP H0643810U JP 8368792 U JP8368792 U JP 8368792U JP 8368792 U JP8368792 U JP 8368792U JP H0643810 U JPH0643810 U JP H0643810U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ラミネート型磁気ヘッドの磁性膜剥離を防止
する。
【構成】 多層磁性膜１２における磁性膜１２ａと絶縁
膜１２ｂとの境界部に、磁性膜成分と絶縁膜成分とを混
合してなる混合層１２ｃを形成し、磁性膜１２ａと絶縁
膜１２ｂとの間に界面をなくすことによって、磁性膜１
２ａと絶縁膜１２ｂとを強固な結び付きとし、接合強度
を向上させたもの。
(57) [Summary] [Purpose] To prevent peeling of the magnetic film of a laminated magnetic head. A mixed layer 12c formed by mixing a magnetic film component and an insulating film component is formed at a boundary portion between the magnetic film 12a and the insulating film 12b in the multilayer magnetic film 12, and the mixed layer 12c is formed between the magnetic film 12a and the insulating film 12b. By eliminating the interface between them, the magnetic film 1
2a and the insulating film 12b are firmly bonded to each other to improve the bonding strength.
Description
【０００１】[0001]
本考案は、磁性膜を用いた磁気ヘッドに関する。 The present invention relates to a magnetic head using a magnetic film.
【０００２】[0002]
従来から、磁性膜を膜付けした一対のコアどうしを対向配置することにより所 定のギャップを形成するようにした磁気ヘッドが、特開平４−１２５８０６号公 報等に提案されている。このような磁性膜を用いた磁気ヘッドにおいて、近年、 磁性膜をトラック幅方向に積層してなる、いわゆるラミネート型の磁気ヘッドが 開発されている。 Conventionally, a magnetic head in which a certain gap is formed by arranging a pair of cores coated with a magnetic film so as to face each other has been proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-125806. As a magnetic head using such a magnetic film, in recent years, a so-called laminate type magnetic head has been developed in which magnetic films are laminated in the track width direction.
【０００３】 このラミネート型の磁気ヘッドでは、例えば図４に示されているように、ギャ ップＧを形成するように対向配置された一対のコア１，１のそれぞれに、トラッ ク幅方向に積層された磁性膜２，２が膜付けされているとともに、それら各磁性 膜２のトラック幅方向の両側に、当該磁性膜２を挟み込むようにして非磁性基板 ３，３が配設されている。上記磁性膜２は、強磁性体からなる磁性膜と、ガラス 等からなる絶縁膜とを重ね合わせたものであり、当該磁性膜２及び上記非磁性基 板３のギャップ形成表面上を、テープが走行するように構成されている。また上 記コア１，１どうしの対向部分に形成されたコイル窓５を通して、記録・再生信 号を入出力させるためのコイル６がコア１に巻回されている。In this laminated magnetic head, for example, as shown in FIG. 4, a pair of cores 1 and 1 arranged to face each other to form a gap G is arranged in the track width direction. The laminated magnetic films 2 and 2 are film-formed, and the non-magnetic substrates 3 and 3 are arranged on both sides of each of the magnetic films 2 in the track width direction so as to sandwich the magnetic film 2 therebetween. . The magnetic film 2 is formed by stacking a magnetic film made of a ferromagnetic material and an insulating film made of glass or the like, and a tape is formed on the gap forming surface of the magnetic film 2 and the non-magnetic substrate 3. It is configured to run. A coil 6 for inputting / outputting a recording / reproducing signal is wound around the core 1 through a coil window 5 formed in a portion where the cores 1 and 1 face each other.
【０００４】 このとき上記磁性膜２は、図５に示されているような多層磁性膜から構成され ており、センダスト合金（Fe−Si−Al）等の強磁性材料からなる磁性膜２ａと、 ガラス材（SiO2）等からなる絶縁膜２ｂとを重ね合わせた組が、トラック幅方向 に向かって複数組積層されている。このような多層磁性膜は、スパッタリングや イオンビームスパッターあるいは蒸着等により形成されるものであり、上記非磁 性基板３に対して、まず磁性膜２ａが形成され、その上から絶縁膜２ｂが形成さ れており、この磁性膜２ａと絶縁膜２ｂとの積層工程が交互に繰り返されること によって、記録トラック幅と同等の膜幅を有する多層磁性膜が形成されるように なっている。At this time, the magnetic film 2 is composed of a multilayer magnetic film as shown in FIG. 5, and includes a magnetic film 2a made of a ferromagnetic material such as sendust alloy (Fe—Si—Al), A plurality of sets in which the insulating film 2b made of a glass material (SiO 2 ) or the like is overlapped are laminated in the track width direction. Such a multilayer magnetic film is formed by sputtering, ion beam sputtering, vapor deposition, or the like. First, the magnetic film 2a is formed on the non-magnetic substrate 3, and then the insulating film 2b is formed thereon. By alternately repeating the lamination process of the magnetic film 2a and the insulating film 2b, a multilayer magnetic film having a film width equivalent to the recording track width is formed.
【０００５】[0005]
ところがこのような多層磁性膜を膜付けした従来の磁気ヘッドにおいては、磁 性膜２ａと絶縁膜２ｂの間に界面が発生しており、その界面から剥離を生じるお それがある。すなわち磁性膜２ａと絶縁膜２ｂとの間の接合強度は、膜形成時に おける両者間の物理的強度に基づくものであり、成膜条件によって決定される。 従って従来における多層磁性膜の膜付け構造では、磁性膜２ａに生じている応力 や、ヘッドの熱処理あるいは種々加えられる加工等に伴う応力によって、磁性膜 ２ａと絶縁膜２ｂとの界面に剥離を生じ易いという問題がある。 However, in the conventional magnetic head having such a multilayer magnetic film formed thereon, an interface occurs between the magnetic film 2a and the insulating film 2b, and peeling may occur from the interface. That is, the bonding strength between the magnetic film 2a and the insulating film 2b is based on the physical strength between the two when the film is formed, and is determined by the film forming conditions. Therefore, in the conventional film attachment structure of the multilayer magnetic film, peeling occurs at the interface between the magnetic film 2a and the insulating film 2b due to the stress generated in the magnetic film 2a or the stress associated with the heat treatment of the head or various processings applied. There is a problem that it is easy.
【０００６】 そこで本考案は、多層磁性膜における磁性膜と絶縁膜の接合強度を、容易に向 上させることができるようにした磁気ヘッドを提供することを目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic head capable of easily improving the bonding strength between a magnetic film and an insulating film in a multilayer magnetic film.
【０００７】[0007]
上記目的を達成するため本考案は、ギャップを境にして両側にコアを対向配置 してなる磁気ヘッドにおいて、上記コアは、磁性膜と絶縁膜とを重ね合わせた組 をトラック幅方向に複数組積層してなる多層磁性膜を有し、この多層磁性膜にお ける磁性膜と絶縁膜との境界面に、磁性膜成分と絶縁膜成分とを混合してなる混 合層を設けた構成を有している。 In order to achieve the above object, the present invention provides a magnetic head in which cores are opposed to each other with a gap as a boundary. It has a multilayer magnetic film formed by stacking, and a mixed layer formed by mixing a magnetic film component and an insulating film component is provided on the interface between the magnetic film and the insulating film in this multilayer magnetic film. Have
【０００８】[0008]
このような構成を有する手段においては、多層磁性膜における磁性膜と絶縁膜 との境界部に、磁性膜成分と絶縁膜成分との混合層が形成されているため、従来 のような界面が形成されることはなく、磁性膜と絶縁膜とが強固に結び付いて両 者の接合強度が向上されるようになっている。 In the means having such a structure, since the mixed layer of the magnetic film component and the insulating film component is formed at the boundary between the magnetic film and the insulating film in the multilayer magnetic film, a conventional interface is formed. Instead, the magnetic film and the insulating film are tightly connected to each other to improve the bonding strength between the two.
【０００９】[0009]
【実施例】 以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。 本考案にかかる磁気ヘッド全体の構造は、図４に示した従来の磁気ヘッドと基 本的には同様であるので説明を省略するが、非磁性基板に膜付けされた多層磁性 膜の積層構造が、例えば図１に示されているように構成されている。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The structure of the entire magnetic head according to the present invention is basically the same as that of the conventional magnetic head shown in FIG. 4, and a description thereof will be omitted. However, a laminated structure of a multilayer magnetic film formed on a non-magnetic substrate is omitted. Is configured, for example, as shown in FIG.
【００１０】 すなわち図１に示されているように、本実施例における多層磁性膜１２は、磁 性膜１２ａと絶縁膜１２ｂとを重ね合わせた組を、トラック幅方向に複数組積層 してなるものであり、この多層磁性膜１２における磁性膜１２ａと絶縁膜１２ｂ との境界部に、磁性膜成分と絶縁膜成分とを混合してなる混合層１２ｃが設けら れている。That is, as shown in FIG. 1, the multilayer magnetic film 12 in the present embodiment is formed by laminating a plurality of sets in which the magnetic film 12a and the insulating film 12b are superposed in the track width direction. The mixed layer 12c formed by mixing the magnetic film component and the insulating film component is provided at the boundary between the magnetic film 12a and the insulating film 12b in the multilayer magnetic film 12.
【００１１】 このうち磁性膜１２ａとしては強磁性金属、例えばセンダスト合金（Fe−Si− Al）等が用いられているとともに、絶縁膜１２ｂとしてはガラス材（SiO2）等の 非磁性材料が用いられている。これら磁性膜１２ａ、絶縁膜１２ｂ及び混合層１ ２ｃは、公知の薄膜形成技術、例えばスパッタリングやイオンビームスパッター 等によって均一な膜厚となるように形成されるものであり、例えば約０．２μｍ の層厚にわたって形成された絶縁膜層のうち、約０．０５μｍの層厚にわたって 混合層１２ｃが形成されている。このような多層磁性膜１２の膜付け形成方法に ついては後述する。Of these, a ferromagnetic metal such as Sendust alloy (Fe—Si—Al) is used as the magnetic film 12a, and a non-magnetic material such as glass (SiO 2 ) is used as the insulating film 12b. Has been. The magnetic film 12a, the insulating film 12b, and the mixed layer 12c are formed by a known thin film forming technique such as sputtering or ion beam sputtering so as to have a uniform film thickness, for example, about 0.2 μm. Among the insulating film layers formed over the layer thickness, the mixed layer 12c is formed over the layer thickness of about 0.05 μm. A film forming method of such a multilayer magnetic film 12 will be described later.
【００１２】 一方各コアの非磁性基板としては、結晶化ガラスやセラミックス等の非磁性の ヘッド基板材料が用いられている。なおこのような非磁性体が使用されるのは、 例えば３０MHz 付近の高域の周波数の使用を前提とする場合であり、５MHz 程度 の高域までの使用を前提とする場合には、高透磁率を有するフェライト、センダ スト合金等の強磁性材料が使用される。On the other hand, as the non-magnetic substrate of each core, a non-magnetic head substrate material such as crystallized glass or ceramics is used. Such a non-magnetic material is used, for example, when it is premised on the use of a high frequency band of around 30 MHz, and when it is premised on the use up to a high frequency of about 5 MHz. Ferromagnetic materials having magnetic susceptibility such as ferrite and sender alloy are used.
【００１３】 次に、スパッタリング装置を用いた多層磁性膜１２の膜付け形成工程の一例を 述べる。 図２の各図に示されているように、スパッタリング装置２０の内部所定位置に は、センダスト合金（Fe−Si−Al）等の強磁性金属からなるターゲット２１と、 SiO2等の非磁性材料からなるターゲット２２とが対向配置されており、これら両 ターゲット２１，２２の間に、ワークとしての非磁性基板２３を載置するための 回転台２４が配置されている。Next, an example of a film forming process of the multilayer magnetic film 12 using a sputtering apparatus will be described. As shown in each drawing of FIG. 2, a target 21 made of a ferromagnetic metal such as sendust alloy (Fe-Si-Al) and a non-magnetic material such as SiO 2 are provided at predetermined positions inside the sputtering apparatus 20. The target 22 made of is disposed opposite to each other, and the rotary table 24 for mounting the non-magnetic substrate 23 as a work is disposed between the targets 21 and 22.
【００１４】 そしてまず図２（ａ）に示されている位置まで回転台２４が回転され、ワーク すなわち非磁性基板２３が一方のターゲット２１に対面するように回転台２４の 位置が設定される。そして上記ターゲット２１を用いて、非磁性基板２３上に磁 性膜１２ａのみがスパッターされる。First, the rotary table 24 is rotated to the position shown in FIG. 2A, and the position of the rotary table 24 is set so that the workpiece, that is, the non-magnetic substrate 23 faces one of the targets 21. Then, using the target 21, only the magnetic film 12a is sputtered on the non-magnetic substrate 23.
【００１５】 次に、図２（ｂ）に示されているように回転台２４の回転を行いつつ、両ター ゲット２１，２２の双方を用いたスパッターが施され、これにより磁性膜成分と 絶縁膜成分とからなる混合層１２ｃが、上述した磁性膜１２ａ上に形成される。 このとき図３に示されているように、混合層１２ｃにおける磁性膜成分と絶縁膜 成分との混合割合（縦軸）は、回転台２４の回転開始からの時間（横軸）に伴っ て変化していき、当初実線のように磁性膜成分が大半であったものから、次第に 破線で示した絶縁膜成分が増大していき、ついには絶縁膜成分のみになる。Next, as shown in FIG. 2B, while rotating the turntable 24, sputtering using both of the targets 21 and 22 is performed, thereby insulating the magnetic film component from the components. A mixed layer 12c composed of film components is formed on the magnetic film 12a described above. At this time, as shown in FIG. 3, the mixing ratio (vertical axis) of the magnetic film component and the insulating film component in the mixed layer 12c changes with the time (horizontal axis) from the start of rotation of the rotary table 24. Initially, the magnetic film components were mostly like the solid lines, but the insulating film components shown by the broken lines gradually increased until finally only the insulating film components were formed.
【００１６】 その後、図２（ｃ）に示されているようにワークすなわち非磁性基板２３が他 方側のターゲット２２に対面するように回転台２４の位置が設定され、上述のよ うにして成形された混合層１２ｃの上から、ターゲット２２による絶縁膜１２ｂ のスパッターが施される。After that, as shown in FIG. 2C, the position of the rotary table 24 is set so that the work, that is, the non-magnetic substrate 23 faces the target 22 on the other side, and the position is set as described above. On the formed mixed layer 12c, the target 22 is used to sputter the insulating film 12b.
【００１７】 ついで再び図２（ｂ）に示されているように、回転台２４の回転を行いつつ、 ターゲット２１，２２の双方によるスパッターが施される。そして上述のように して成形された絶縁膜１２ｂ上に、再び混合層１２ｃが形成される。この混合層 １２ｃにおいても、磁性膜成分と絶縁膜成分との混合割合が時間とともに変化し ていくが、上述した場合とは逆に、当初絶縁膜成分が大半であったものから、次 第に磁性膜成分が増大していき、ついには磁性膜成分のみになる。Then, as shown in FIG. 2B again, while the rotary table 24 is rotated, sputtering is performed by both the targets 21 and 22. Then, the mixed layer 12c is formed again on the insulating film 12b formed as described above. In this mixed layer 12c as well, the mixing ratio of the magnetic film component and the insulating film component changes with time. Contrary to the case described above, since the insulating film component was initially large, The magnetic film component increases and finally becomes only the magnetic film component.
【００１８】 さらに図２（ａ）に示されているように、ワークすなわち非磁性基板２３が、 再びターゲット２１に対面するように回転台２４の位置が設定され、上記混合層 １２ｃの上から、ターゲット２１による磁性膜１２ａのみのスパッターが施され る。Further, as shown in FIG. 2A, the position of the rotary table 24 is set so that the work, that is, the non-magnetic substrate 23 faces the target 21 again, and from the top of the mixed layer 12c, Only the magnetic film 12a is sputtered by the target 21.
【００１９】 このようなスパッターによる積層工程は、サイクル的に所定回数繰り返され、 それによって記録トラック幅と同等の膜幅を有する多層磁性膜１２が形成される 。なお、上述したターゲット２１のみを用いた磁性膜１２のスパッター時、及び ターゲット２２のみを用いた絶縁膜１２ｂのスパッター時には、回転台２４を固 定状態あるいは回転状態のいずれとしても良い。Such a stacking step by sputtering is cyclically repeated a predetermined number of times, whereby the multilayer magnetic film 12 having a film width equivalent to the recording track width is formed. It should be noted that the rotary table 24 may be in either a fixed state or a rotating state during the above-described sputtering of the magnetic film 12 using only the target 21 and during sputtering of the insulating film 12b using only the target 22.
【００２０】 このように本実施例では、多層磁性膜１２における磁性膜１２ａと絶縁膜１２ ｂとの境界部に、磁性膜成分と絶縁膜成分とを混合した混合層１２ｃが形成され ているため、従来のような界面が両者間に形成されることはない。したがって磁 性膜１２ａと絶縁膜１２ｂとは相互に強固な結び付きを有することとなり、両者 の接合強度が向上されるようになっている。例えば、磁性膜１２ａにセンダスト 合金（Fe−Si−Al）を用い、絶縁膜１２ｂとしてガラス材（SiO2）を用いる場合 においては、Fe−Si−Al中のSiと、SiO2との結び付きにより、大きな接合強度が 得られるようになっている。As described above, in this embodiment, the mixed layer 12c in which the magnetic film component and the insulating film component are mixed is formed at the boundary between the magnetic film 12a and the insulating film 12b in the multilayer magnetic film 12. , A conventional interface is not formed between them. Therefore, the magnetic film 12a and the insulating film 12b have a strong bond with each other, and the bonding strength between them is improved. For example, a Sendust alloy (Fe-Si-Al) to the magnetic film 12a, in the case of using a glass material (SiO 2) as the insulating film 12b has a Si in Fe-Si-Al, the ties with SiO 2 , A large joint strength can be obtained.
【００２１】[0021]
以上述べたように本考案にかかる磁気ヘッドは、多層磁性膜における磁性膜と 絶縁膜との境界部に、磁性膜成分と絶縁膜成分とを混合してなる混合層を形成し 、磁性膜と絶縁膜との間に従来のような界面をなくすことによって、磁性膜と絶 縁膜との接合強度を向上させたものであるから、磁性膜と絶縁膜との剥離を防止 することができ、ラミネート型磁気ヘッドの信頼性を高めることができるととも に、成膜製造設備等に殆ど手を加えることなく歩留まりを向上させることができ る。 As described above, the magnetic head according to the present invention forms the mixed layer formed by mixing the magnetic film component and the insulating film component at the boundary between the magnetic film and the insulating film in the multilayer magnetic film, By eliminating the conventional interface between the magnetic film and the insulating film, the bonding strength between the magnetic film and the insulating film is improved, so that peeling between the magnetic film and the insulating film can be prevented. The reliability of the laminated magnetic head can be improved, and at the same time, the yield can be improved with almost no change to the film forming / manufacturing equipment.
【図１】本考案の一実施例における多層磁性膜の積層構
造を表した平面拡大説明図である。FIG. 1 is an enlarged plan view showing a laminated structure of a multilayer magnetic film according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１に表した多層磁性膜の製造工程の一例を表
した工程説明図である。FIG. 2 is a process explanatory view showing an example of a manufacturing process of the multilayer magnetic film shown in FIG.
【図３】混合層における成分割合の変化状態を表した線
図である。FIG. 3 is a diagram showing a changing state of a component ratio in a mixed layer.
【図４】一般のラミネート型磁気ヘッドの構造を表した
外観斜視説明図である。FIG. 4 is an external perspective view showing the structure of a general laminated magnetic head.
【図５】従来における多層磁性膜の積層構造を表した平
面拡大説明図である。FIG. 5 is an enlarged plan view showing a laminated structure of a conventional multilayer magnetic film.
１２ 多層磁性膜 １２ａ 磁性膜 １２ｂ 絶縁膜 １２ｃ 混合層 12 multilayer magnetic film 12a magnetic film 12b insulating film 12c mixed layer
Claims (1)
置してなる磁気ヘッドにおいて、 上記コアは、磁性膜と絶縁膜とを重ね合わせた組をトラ
ック幅方向に複数組積層してなる多層磁性膜を有し、 この多層磁性膜における磁性膜と絶縁膜との境界部に、
磁性膜成分と絶縁膜成分とを混合してなる混合層を設け
たことを特徴とする磁気ヘッド。1. A magnetic head in which cores are arranged facing each other on both sides of a gap as a boundary, and the core is a multi-layer formed by stacking a plurality of sets in which a magnetic film and an insulating film are stacked in the track width direction. A magnetic film is provided, and at the boundary between the magnetic film and the insulating film in this multilayer magnetic film,
A magnetic head comprising a mixed layer formed by mixing a magnetic film component and an insulating film component.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8368792U JPH0643810U (en) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8368792U JPH0643810U (en) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | Magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0643810U true JPH0643810U (en) | 1994-06-10 |
Family
ID=13809408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8368792U Pending JPH0643810U (en) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | Magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643810U (en) |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP8368792U patent/JPH0643810U/en active Pending
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