JPH0642930A - リード高さ測定方法および装置 - Google Patents

リード高さ測定方法および装置

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JPH0642930A
JPH0642930A JP4102596A JP10259692A JPH0642930A JP H0642930 A JPH0642930 A JP H0642930A JP 4102596 A JP4102596 A JP 4102596A JP 10259692 A JP10259692 A JP 10259692A JP H0642930 A JPH0642930 A JP H0642930A
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JP
Japan
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laser light
scanning
sub
lead
light
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Withdrawn
Application number
JP4102596A
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English (en)
Inventor
Takehiko Maeda
武彦 前田
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH0642930A publication Critical patent/JPH0642930A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体素子のリードを測定するための移動にか
かるむだ時間を省く。 【構成】レーザ光源1から射出されたレーザ光2は、ポ
リゴンミラー3により一方向に走査され、投光レンズ4
によりレーザ光は収束され平行に走査される。そのレー
ザ光2aは、投光レンス4と半導体素子11の一端のリ
ード12の間に位置する透明な平行平板5で、光路を平
行移動される。平行平板5の回転角度を回転機構6によ
り副走査コントローラ16で制御する。透明な平行平板
5を透過したレーザ光2bがリード12で反射して得ら
れたレーザ光2cをシリンドルカルレンズ7とシリンド
リカルレンズ8で一次元センサ9に集光する。一次元セ
ンサ9からの出力信号と副走査コントローラ16からの
出力信号から高さ補正回路17で高さ信号を演算する。
そのため、従来のリード高さ測定装置における半導体素
子の対辺のリードを測定するための移動にかかるむだ時
間を省くことができ、測定時間を短縮できる。また、構
成もコンパクトになるので、装置全体を小型化できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リード高さ測定方法お
よび装置、特に、半導体素子のリード形状のリード高さ
測定方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子のリードの平坦度を測定する
ための従来のリード高さ測定装置は、半導体素子の下方
からリードにレーザ光を走査し、走査線内における反射
ビームスポットの位置変化を検出して高さを測定し、半
導体素子または高さ測定光学系のいずれか一方を機械的
に移動させリードの高さを測定するように構成されてい
る。
【0003】次に従来のリード高さ測定装置について図
面を参照して詳細に説明する。図3は従来のリード高さ
測定装置の一例の構成を示す斜視図である。図3に示す
リード高さ測定装置は、レーザ光2を出射するレーザ光
源1と、レーザ光2を一方向に走査するポリゴンミラー
3と、走査されたレーザ光2を集光して半導体素子11
のリード12の斜角よりレーザ光2aを平行に走査する
投光レンズ4と、レーザ光2aがリード12で反射して
得られたレーザ光2cの走査方向と凸面の母線の方向を
平行にして設けられたシリンドリカルレンズ7と、レー
ザ光2cがシリンドリカルレンズ7を通過して得られた
レーザ光2dの走査方向と凸面の母線の方向を直角にし
て設けられたシリンドリカルレンズ8と、レーザ光2d
がシリンドリカルレンズ8で集光して得られたビームス
ポット2eを受光してその位置を検出する一次元センサ
9とから構成される高さ測定光学系15と、一次元セン
サ9の出力信号から高さ信号を演算する受光位置演算回
路13と、高さ測定光学系15を移動させる高さ測定光
学系移動機構14とで構成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のリード
高さ測定装置は、半導体素子のリードの高さを測定する
ためには半導体素子または高さ測定光学系のいずれか一
方を機械的にリードの長さ分以上に高精度に移動させる
必要があるので、半導体素子の一変のリード高さを測定
するのに高精度ステージが必要となり、装置が大きくな
れとともに高価になるという欠点があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のリード高さ測定
方法は、リーザ光源からレーザ光を出射し、前記レーザ
光をミラーにより一方向に走査し、前記走査されたレー
ザ光を投光レンズで集光すると同時に平行にした後にレ
ーザ光の走査平面内でレーザ光と直行する回転軸まわり
に回転する透明な平行平板を投下させて半導体素子のリ
ードに斜角より照射し、前記リードからの反射光を複数
のシリンドリカルレンズと一次元センサからなる受光光
学系で受光し、前記一次元センサの出力信号と前記平行
平板の回転角度を制御する副走査コントローラの出力信
号から各リードの高さを演算するころを特徴とする。
【0006】また、本発明のリード高さ測定装置は、第
1のレーザ光を出射するレーザ光源と、前記第1のレー
ザ光を一方向に走査するミラーと、前記走査された第1
のレーザ光を集光すると同時に平行にした第2のレーザ
光で半導体素子のリードを斜角より照射して走査する投
光レンズと、前記投光レンズと前記半導体素子のリード
の間に位置し前記第2のレーザ光の走査平面内で前記第
2のレーザ光と直行する回転軸まわりに回転し前記第2
のレーザ光を透過させる透明な平行平板と、前記平行平
板を回転軸回りに回転させる回転機構と、前記回転機構
を制御する副走査コントローラと、前記透明な平行平板
を透過した第3のレーザ光が前記リードで反射して得ら
れた第4のレーザ光の走査方向と凸面の母線の方向を平
行にして設けられた第1のシリンドリカルレンズと、前
記第4のレーザ光が前記第1のシリンドカルレンズを透
過して得られた第5のレーザ光の走査方向と凸面の母線
の方向を直角にして設けられた第2のシリンドリカルレ
ンズと、前記第5のレーザ光が前記第2のシリンドリカ
ルレンズで集光して得られたビームスポットを受光して
その位置を検出する一次元センサと、前記一次元センサ
上の受光位置を求める受光位置演算回路と、前記副走査
コントローラからの出力信号から副走査位置を求める副
走査位置演算回路と、前記受光位置演算回路の出力信号
と前記副走査位置演算回路の出力信号から高さ信号を演
算する高さ補正回路とを含んで構成される。
【0007】
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
して詳細に説明する。
【0008】図1は本発明の一実施例を示す斜視図であ
る。図1に示すリード高さ測定装置は、レーザ光2を出
射するレーザ光源1と、レーザ光2を一方向に走査する
ポリゴミラー3と、走査さたレーザ光2を集光して半導
体素子11のリード12の斜め下方45°より平行にレ
ーザ光2aとして走査する投光レンズ4と、投光レンズ
4と半導体素子11のリード12の間に位置しレーザ光
2aの走査平面内でレーザ光2aと直行する回転軸まわ
りに回転できる透明な平行平板5と、平行平板5を回転
軸回りに回転させる回転機構6と、回転機構6を制御す
る副走査コントローラ16と、透明な平行平板5を透過
したレーザ光2bがリード12で反射して得られたレー
ザ光2cの走査方向と凸面の母線の方向を平行にして設
けられたシリンドルカルレンズ7と、レーザ光2cがシ
リンドリカルレンズ7を透過して得られたレーザ光2d
の走査方向と凸面の母線の方向を直角にして設けられた
シリンドリカルレンズ8と、レーザ光2dがシリンドリ
カルレンズ8で集光して得られたビームスポット2eを
受光してその位置を検出する一次元センサ9と、一次元
センサ9からの出力信号から一次元センサ9上の受光位
置を求める受光位置演算回路13と、副走査コントロー
ラ16からの出力信号から副走査位置を求める副走査位
置演算回路10と、受光位置演算回路13の出力信号と
副走査位置演算回路10の出力信号から高さ信号を演算
する高さ補正回路17とから構成される。
【0009】次に、本実施例の動作について図2を用い
て説明する。図2は本実施例に示す投光レンズ4から半
導体素子11のリード12までの幸路図である。投光レ
ンズ4によりレーザ光2aは収束され平行に走査され
る。レーザ光2aは、投光レンズ4と半導体素子11の
リード12の間に位置する透明な平行平板5によりxだ
け元の光路よりずれた位置に走査される。このxは、次
式より求められる。
【0010】 x=√2dsin(θ−θ′)/cosθ′ sinθ′=sinθ/n ここで、θは平行平板5の法線方向とレーザ光2aとの
なす角度、dは平行平板5の厚さ、nは平行平板5の屈
折率である。よって、透明な平行平板5の走査平面内で
レーザ光2aと直行する回転軸まわりに回転機構6で回
転させることにより2次元の光学的走査を行うことがで
きる。例えば、2mm厚のBK7を平行平板として使っ
た場合、θを−45°から45°まで回転させると走査
位置を約1.9mm移動させることができる。
【0011】また、走査位置をxだけ副走査方向に移動
させることによって一次元センサ9から得られる信号は
x=0の位置に比べx/2だけ低く出力される。したが
って、副走査コントローラ16からの回転角度信号から
副走査位置xを副走査位置演算回路10で求め受光位置
演算回路13から求めた高さデータから高さ補正回路で
x/2だけ減算し、高さ補正を行い、高さ信号を求め
る。
【0012】
【発明の効果】本発明のリード高さ測定装置は、半導体
素子のリードを測定するために光学系全体を機械的に移
動する代わりに、投光レンズと半導体素子のリードの間
に位置する透明な平行平板により透明な平行平板への入
射角に応じた距離だけ元の光路よりずれた位置に走査さ
れるような構成にし、その副走査の位置を求め高さ信号
を補正する構成にしたので、半導体素子のリードを測定
するための高精度なステージが不要となり、また構成も
コンパクトになるので、装置全体を小型化できるという
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の構成を示す斜視図である。
【図2】図1に示す実施例の動作を説明するための光路
図である。
【図3】従来のリード高さ測定装置の構成を示す斜視図
である。
【符号の説明】
1 レーザ光源 2 レーザ光 2a〜e レーザ光 3 ポリゴンミラー 4 投光レンズ 5 平行平板 6 回転機構 7 シリンドリカルレンズ 8 シリンドリカルレンズ 9 一次元センサ 10 副走査位置演算回路 11 半導体素子 12 リード 13 受光位置演算回路 14 移動機構 15 高さ測定光学系 16 副走査コントローラ 17 高さ補正回路

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リーザ光源からレーザ光を出射し、前記
    レーザ光をミラーにより一方向に走査し、前記走査され
    たレーザ光を投光レンズで集光すると同時に平行にした
    後にレーザ光の走査平面内でレーザ光と直行する回転軸
    まわりに回転する透明な平行平板を投下させて半導体素
    子のリードに斜角より照射し、前記リードからの反射光
    を複数のシリンドリカルレンズと一次元センサからなる
    受光光学系で受光し、前記一次元センサの出力信号と前
    記平行平板の回転角度を制御する副走査コントローラの
    出力信号から各リードの高さを演算するころを特徴とす
    るリード高さ測定方法。
  2. 【請求項2】 第1のレーザ光を出射するレーザ光源
    と、前記第1のレーザ光を一方向に走査するミラーと、
    前記走査された第1のレーザ光を集光すると同時に平行
    にした第2のレーザ光で半導体素子のリードを斜角より
    照射して走査する投光レンズと、前記投光レンズと前記
    半導体素子のリードの間に位置し前記第2のレーザ光の
    走査平面内で前記第2のレーザ光と直行する回転軸まわ
    りに回転し前記第2のレーザ光を透過させる透明な平行
    平板と、前記平行平板を回転軸回りに回転させる回転機
    構と、前記回転機構を制御する副走査コントローラと、
    前記透明な平行平板を透過した第3のレーザ光が前記リ
    ードで反射して得られた第4のレーザ光の走査方向と凸
    面の母線の方向を平行にして設けられた第1のシリンド
    リカルレンズと、前記第4のレーザ光が前記第1のシリ
    ンドカルレンズを透過して得られた第5のレーザ光の走
    査方向と凸面の母線の方向を直角にして設けられた第2
    のシリンドリカルレンズと、前記第5のレーザ光が前記
    第2のシリンドリカルレンズで集光して得られたビーム
    スポットを受光してその位置を検出する一次元センサ
    と、前記一次元センサ上の受光位置を求める受光位置演
    算回路と、前記副走査コントローラからの出力信号から
    副走査位置を求める副走査位置演算回路と、前記受光位
    置演算回路の出力信号と前記副走査位置演算回路の出力
    信号から高さ信号を演算する高さ補正回路とを含むこと
    を特徴とするリード高さ測定装置。
JP4102596A 1992-04-22 1992-04-22 リード高さ測定方法および装置 Withdrawn JPH0642930A (ja)

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JP4102596A JPH0642930A (ja) 1992-04-22 1992-04-22 リード高さ測定方法および装置

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JPH0642930A true JPH0642930A (ja) 1994-02-18

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JP (1) JPH0642930A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010025732A (ja) * 2008-07-18 2010-02-04 Mitsutoyo Corp 斜入射干渉計

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990706