JPH0640585Y2 - 脱ガス槽のシ−ル装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〈考案の目的〉 産業上の利用分野 本考案は脱ガス槽のシール装置に係り、詳しくは、脱ガ
ス槽のランス挿入口をシールするシール装置をランスと
一緒に昇降するよう、脱ガス槽などの設備から分離して
構成するのにも拘らず、ランス挿入口が完全にシールで
きる脱ガス槽のシール装置に係る。

従来の技術 真空脱ガス設備において、槽本体１内に酸素等を吹込む
ランス挿入口には、第２図に示すように、ランスシール
部４が設けられている。ランス３がこのランスシール部
４を通過するときに、槽本体１内に大気中の空気が吸い
込まない構造になっている。この理由は槽本体内は真空
に保持しなければならないからである。

しかし、酸素吹き等の操業の場合、毎回ランスをランス
シール部の挿入口を通過させて槽本体内を昇降させるた
め、以下のような問題が発生する。

１）ランスに地金等の付着物があった場合には、ランス
が無理してランスシール部を通過することになり、ラン
スシール部が破損する。

２）ランスに曲がり変形が発生した場合、ランスをラン
スシール部を通過させて挿入することができなくなる。

３）ランスシール部の破損によって、空気吹込みのため
のランス挿入口近傍の煉瓦が損耗し、上蓋の寿命が短か
くなる。

４）操業中に槽本体上での点検、補修が必要とない、安
全上の問題がある。

５）ランスシール部のメンテナンスに手がかかり、メン
テナンスコストを上昇させる。

考案が解決しようとする問題点 本考案はこれらの問題点の解決を目的とし、具体的に
は、シール装置からランスを全長にわたって抜くことな
くシール装置とランスとは一緒に昇降するのにも拘ら
ず、ランス挿入口のところを完全にシールできる脱ガス
槽のシール装置を提供する。

〈考案の構成〉 問題点を解決するための手段ならびにその作用 本考案に係るシール装置は、脱ガス設備でランスが通過
して昇降するランス挿入口附近に脱ガス装置から分離し
た状態で設けられてランスの突起に引掛けられてランス
とともに昇降するシール装置において、真空脱ガス設備
側に水冷構造の受け台を設けると共にこの受け台上に下
部フランジを設ける一方、シール装置には、下部フラン
ジに対応整合する上部フランジ、この上部フランジと一
体に設けられ内面にシール材を具える一次シール金物、
この一次シール金物の上に取付けられ、内面にシール材
を具える二次シール金物、ならびに一次シール金物の下
面に取付けられて突起又はランス上の付着地金に係合す
る地金取りを設け、更に、上部フランジと下部フランジ
との間に固定することなくＯ−リングを介在させて成る
ことを特徴とする。

すなわち、上記の従来例の問題点はランスをランス挿入
口、つまり、シール装置のランス挿入口を通過させ昇降
させることによって発生する。

この点、本考案に係るシール装置は、ランスの突起部に
引掛けられてランスと一緒に昇降し、ランスはシール装
置のランス挿入口を通過して抜き出さない。このため、
本考案によると、上記問題点が解決できる。

このところを具体的に示すと、次の通りである。

シール装置は、上部フランジ、一次シール金物、二次
シール金物、ならびに地金取りから成って、この上部フ
ランジが脱ガス槽本体側の下部フランジに整合し、これ
らフランジ間にＯ−リングを介在させて成って、脱ガス
槽本体から分離できる構造になっている。このため、ラ
ンス上に取付けた突起物にシール装置が引掛かり、ラン
スと一緒に上昇するため、上記問題はない。

槽本体とのシールは、槽本体側の下部フランジとシー
ル装置の上部フランジの間にＯ−リングを介在させてシ
ールし、ボルト等で固定しないで自由にしておくよう、
構成している。

したがって、シール装置は突起部との係合により分離上
昇し、この間のシールも上下のフランジとＯ−リングに
よって完全に達成できる。

シール装置では、一次シール金物の下面に地金取りが
設けられているため、ランスの突起物より上方で付着し
た地金などは取り去ることができない。取り去ることが
できなくとも、これに引掛けて、ランスと一緒に上昇さ
せることができる。

以下、第１図を中心として本考案について具体的に説明
する。

まず、第１図は本考案に係るシール装置の一部を断面で
詳細に示す縦断面図である。

第１図において、符号１は真空脱ガス装置の槽本体を示
す。槽本体１の上部、とくに蓋部材には受け台12が設け
られ、受け台12上には後記のように本考案に係るシール
装置がセットされる。すなわち、受け台12は水冷構造に
構成され、この水冷構造によって、後記のフランジ５の
変形を防止し、フランジ５ならびにそれに対応するフラ
ンジ５′の間に介挿されるＯ−リング６を保護する。

次に、この水冷構造の受け台12上にシール装置がのせら
れる。このシール装置は一次シール金物７、二次シール
金物８および地金取り11を具え、後記の上部フランジ
５′は一次シール金物７と一体に構成されている。

一次および二次シール金物７、８の内側にはそれぞれシ
ール材９、10が内蔵され、これらシール材９、10によっ
てランス３の表面との間隙がシールされる。

一方、受け台12の上には、下部フランジ５が設けられ、
この下部フランジ５は上部フランジ５′と整合され、こ
の間にＯ−リング６によってシールされるが、このとこ
ろは固定することなくそのまま自由にしておく。

以上の通りにシール装置を構成し、このシール装置は槽
本体１から分離してランス３と一体に昇降、とくに、上
昇できるよう、構成される。

すなわち、ランス３の表面には、このシール装置のとこ
ろより下側の表面に突起物13を複数個設ける。ランス３
を上昇させると、この突起13にシール装置の地金取り11
（逆円錐台形状に構成される）が引掛かり、ランスと一
体となって持上げられる。このため、ランス３は全長に
わたって無理にシール装置を通過することがないため、
それによって生ずる前記問題点は回避できる。

また、シール装置は槽本体１と分離して単に組合わされ
て構成されているため、ランス３の突起物13より上部で
地金付着や変形が生じたときにも、これら付着地金や変
形が突起物13と同様に地金取り11に衝突し、それによっ
てシール装置が持上げられる。

〈考案の効果〉 以上説明したように、本考案はシール装置側に、一次な
らびに二次シール金物、地金取りならびに上部フランジ
が設けられ、脱ガス槽本体上に水冷構造の受け台を介し
て下部フランジが設けられ、上部フランジと下部フラン
ジを整合させ、この間にＯ−リングを介設して成るもの
である。このため、 一対のフランジとＯ−リングによって槽本体との間で
はシールされ、ランスとの間は一次、二次シール金物の
シール材によってシールされるため、脱ガス操業中にリ
ークする事がなく、処理を中断することがない。

ランスがシール装置のランス挿入口を通過して挿入す
ることが無く、酸素吹き等本来の目的が達成できる。

リークが全く無くなり、挿入口近傍の煉瓦の異常損耗
が防止でき、上蓋の寿命が延びる。

シール装置やシール材のメンテナンスが大巾に減少す
る。

操業中に脱ガス槽上で点検する必要が無くなり、安全
上の問題も解決される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係るシール装置の縦断面図、第２図は
従来のシール装置を示す説明図である。 符号１……槽本体 ２……ランス昇降、旋回装置 ３……ランス ４……ランスシール部 ５……フランジ ６……Ｏ−リング ７……一次シール金物 ８……二次シール金物 ９……シール材 10……シール材 11……地金取り 12……水冷構造の受け台 13……突起物

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】脱ガス設備でランスが通過して昇降するラ
   ンス挿入口附近に前記脱ガス装置から分離した状態で設
   けられてランスの突起に引掛けられてランスとともに昇
   降するシール装置において、 前記真空脱ガス設備側に水冷構造の受け台を設けると共
   にこの受け台上に下部フランジを設ける一方、前記シー
   ル装置には、前記下部フランジに対応整合する上部フラ
   ンジ、この上部フランジと一体に設けられ内面にシール
   材を具える一次シール金物、この一次シール金物の上に
   取付けられ、内面にシール材を具える二次シール金物、
   ならびに前記一次シール金物の下面に取付けられて前記
   突起又はランス上の付着地金に係合する地金取りを設
   け、更に、前記上部フランジと前記下部フランジとの間
   に固定することなくＯ−リングを介在させて成ることを
   特徴とする脱ガス槽のシール装置。