JPH063938U - ウェーハ保持具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体製造装置に於けるウェーハ保持具に於い
てウェーハの汚染を防止するウェーハ保持具を提供す
る。 【構成】ウェーハ保持部を略Ｔ字状に形成し、ウェーハ
１０を中心部と周辺部とで支持すると共に該ウェーハを
周辺部で吸着可能とし、ウェーハを周辺部で吸着するこ
とでウェーハの汚染を防止する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は半導体製造装置に於いて、ウェーハを移送する場合にウェーハを保持 する保持具に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

半導体製造装置内部、或は半導体製造装置のユニット間でのウェーハの移載は ウェーハ移載機によって行われる。該ウェーハ移載機は１枚のウェーハに対応す る１つのウェーハ保持具を具備し、該ウェーハ保持具によりウェーハの把持、離 脱が可能になっている。前記ウェーハ移載機はウェーハの移載元でウェーハ保持 具によりウェーハを把持し、該ウェーハ保持具でウェーハを把持した状態でウェ ーハを移動し、移載先でウェーハの離脱を行うものである。

【０００３】 従来のウェーハ保持具を、図３〜図５で説明する。

【０００４】 ウェーハ保持具１は上プレート２とスペーサ３と下プレート４を気密に重合さ せたものであり、図示される様に前記スペーサ３は中央部が刳り貫かれており、 前記ウェーハ保持具１の中央部に空隙５が形成されている。

【０００５】 前記上プレート２の先端側には所要数の吸着孔６が穿設されており、該吸着孔 ６は前記空隙５に連通する。又、基端側には吸引孔７が穿設され、該吸引孔７も 前記吸着孔６と同様前記空隙５に連通している。

【０００６】 下プレート４の基端側には前記吸引孔７の位置対応して吸引孔８が穿設され、 該吸引孔８は前記空隙５に連通している。

【０００７】 該ウェーハ保持具１はホルダ９を介して図示しない移載機本体に支持されてお り、該ホルダ９は図示しない真空源に接続され、該ホルダ９、前記吸引孔７，８ を介して前記空隙５は真空引きされる様になっている。

【０００８】 ウェーハ１０はウェーハ保持具１の先端側に載置され、載置された状態で前記 吸引孔７，８により真空引きされ、吸着孔６によりウェーハ１０は吸着され、該 ウェーハ１０はウェーハ保持具１に保持される。

【０００９】

【考案が解決しようとする課題】

上記した従来のウェーハ保持具ではウェーハを中央部で吸着する構造である為 、ウェーハ中央の吸着部が汚染されることがあり、又ウェーハが汚染された場合 更に汚染部分からパーティクルが前記ウェーハ保持具上に落下し２次的な汚染を 引き起こすことがあった。

【００１０】 本考案は斯かる実情に鑑み、ウェーハの汚染を防止するウェーハ保持具を提供 しようとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】

本考案は、ウェーハ保持部を略Ｔ字状に形成し、ウェーハを中心部と周辺部と で支持すると共に該ウェーハを周辺部で吸着可能としたことを特徴とするもので ある。

【００１２】

【作用】

ウェーハを中心部と周辺部とで支持すると共にウェーハの周辺部を吸着して安 定に保持し、又ウェーハの周辺部で吸着するのでウェーハの汚染が防止される。

【００１３】

【実施例】

以下、図面に基づき本考案の一実施例を説明する。

【００１４】 本実施例に係るウェーハ保持具１１は略十字状をしており、この十字の腕部１ １ｂに吸着孔１２が穿設されている。

【００１５】 該ウェーハ保持具１１を詳述する。

【００１６】 略十字状をした基板１４の基部１４ａから基板１４の腕部１４ｂに沿って略Ｔ 字状の溝１５を刻設し、該溝１５の基端位置に吸引孔１６を穿設する。ここで、 前記腕部１４ｂは載置されるウェーハ１０の周辺に沿う様に屈曲した形状となっ ている。

【００１７】 前記基部１４ａと腕部１４ｂとの形状に合致した上プレート１７を前記基板１ ４に気密に重合させる。基部１４ａと上プレート１７との重合により、前記溝１ ５は真空引きに於ける流路となる。該上プレート１７には前記吸着孔１２が所要 数（本実施例では片側２箇所）穿設されており、該吸着孔１２は前記溝１５に連 通する。又、上プレート１７の前記吸引孔１６と対応した位置に吸引孔１８を穿 設する。

【００１８】 前記基板１４の先端部に中心部上プレート１９を重合する。該中心部上プレー ト１９の板厚は前記上プレート１７と同一とし、該上プレート１７と前記中心部 上プレート１９とで同一平面が形成される様にする。

【００１９】 ウェーハ保持具１１の基部はホルダ（図示せず）に保持され前記溝１５は前記 吸引孔１６，１８、ホルダを介して図示しない真空源に接続されている。

【００２０】 斯かるウェーハ保持具１１のウェーハ保持部は略Ｔ字状となり、ウェーハ１０ の中心が前記中心部上プレート１９の中心となる様に、又前記腕部１１ｂがウェ ーハ１０の周辺部となる様に、ウェーハ１０をウェーハ保持具１１に載置する。 更に、ウェーハ１０をウェーハ保持具１１に載置した状態では、ウェーハ１０の 周辺部よって前記吸着孔１２が閉塞される様になっている。

【００２１】 而して、前記真空源により前記溝１５の内部を真空引きすると前記吸着孔１２ によって前記ウェーハ１０の周辺部が吸着されて保持される。又、ウェーハ１０ は中心部と周辺部で支持されているので、保持状態が安定であり、更にウェーハ １０がウェーハ保持具１１に接しているのは、中心の極限られた部分と周辺部に 限定される。従って、ウェーハの汚染の可能性は著しく低減される。

【００２２】 尚、上記実施例では腕部１１ｂを屈曲させた形状としたが、直線状の形状であ っても、円弧状の形状であってもよい。更に、中心部上プレート１９はウェーハ １０の中心、又は中心近傍を点以上の面積で支持すればよいので中心部上プレー ト１９の形状は自在に変更することができ、又中心部上プレート１９の形状を点 状としウェーハとの接触面積を著しく少なくすることができる。

【００２３】

【考案の効果】

以上述べた如く本考案によれば、ウェーハを周辺で吸着して保持するので、ウ ェーハの汚染を低減し得、又ウェーハからのパーティクルの落下によるウェーハ 保持具の汚染を防止し得、ウェーハの２次汚染を防止することができると共にウ ェーハを中心部と周辺部とで保持するので安定であるという優れた効果を発揮す る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を示す平面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ矢視図である。

【図３】従来例の分解斜視図である。

【図４】同前従来例の平面図である。

【図５】図４のＢ−Ｂ矢視図である。

【符号の説明】

１０ ウェーハ １１ ウェーハ保持具 １２ 吸着孔 １５ 溝 １７ 上プレート １９ 中心部上プレート

フロントページの続き (72)考案者 紙谷 健一 東京都港区虎ノ門二丁目３番13号 国際電 気株式会社内 (72)考案者 鈴木 増雄 東京都港区虎ノ門二丁目３番13号 国際電 気株式会社内

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウェーハ保持部を略Ｔ字状に形成し、ウ
   ェーハを中心部と周辺部とで支持すると共に該ウェーハ
   を周辺部で吸着可能としたことを特徴とするウェーハ保
   持具。