JPH0637403A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

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Publication number
JPH0637403A
JPH0637403A JP21101792A JP21101792A JPH0637403A JP H0637403 A JPH0637403 A JP H0637403A JP 21101792 A JP21101792 A JP 21101792A JP 21101792 A JP21101792 A JP 21101792A JP H0637403 A JPH0637403 A JP H0637403A
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JP
Japan
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semiconductor laser
gold
film
tin
laser element
Prior art date
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Pending
Application number
JP21101792A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kimio Shigihara
君男 鴫原
Toshitaka Aoyanagi
利隆 青柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0637403A publication Critical patent/JPH0637403A/en
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  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor laser device having stable monitor currents, which are hardly changed with time, and high reliability by preventing the protrusion of gold-tin solder formed at the time of the temperature rise of die bonding to the rear of a semiconductor laser element by a gold film formed outside a tin film on the sub-mount side. CONSTITUTION:A gold film 7, a tin film 8 and a gold film 9 are formed in sandwich structure on the underside of a sub-mount 2 and a gold film II, a tin film 10 and a gold film 13 on a semiconductor-laser element 3 placing section on the top face of the sub-mount 2. Gold films 11, 12, 13 are formed outside the semiconductor-laser element 3 placing section on the top face of the sub- mount 2. The tin films 8, 10 form gold-tin solder among the tin films 8, 10 and the gold films 7, 9, 11, 13 at the time of the temperature rise of die bonding. However, since the area of the tin film 10 is made smaller than that of a semiconductor laser element 3 and the area of gold-tin solder after the completion of die bonding is also made smaller than that of the semiconductor laser element 3, only the gold films 12 appear on the rear 1 of the semiconductor laser element 3, thus preventing the protrusion of gold-tin solder.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は半導体レーザ装置に関
し、特にハンダ材の移動や変質を防ぐことにより半導体
レーザ装置を高信頼性化することに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser device, and more particularly to improving the reliability of a semiconductor laser device by preventing movement and deterioration of a solder material.

【0002】[0002]

【従来の技術】図11は例えば文献(生和義人,池田健
志著“集積形位相同期半導体レーザ”,三菱電機技報,
Vol.60, No.12, pp.27-31,1986)に示された従来の半導
体レーザ装置を示す斜視図であり、図において、1は銀
ブロック、102はシリコン(Si)サブマウント、3
は半導体レーザ素子、4は半導体レーザ素子の発光部、
105aと105bはAuSiハンダのはみ出し部、6
は金線である。
2. Description of the Related Art FIG. 11 shows, for example, "Integrated phase-locked semiconductor laser" written by Yoshito Iwakazu and Takeshi Ikeda, Mitsubishi Electric Technical Report,
Vol.60, No.12, pp.27-31, 1986) is a perspective view showing a conventional semiconductor laser device, in which 1 is a silver block, 102 is a silicon (Si) submount, 3
Is a semiconductor laser device, 4 is a light emitting portion of the semiconductor laser device,
105a and 105b are the protruding portions of AuSi solder, 6
Is a gold wire.

【0003】次に組立方法について説明する。Siサブ
マウント102の上面および下面にあらかじめ金メッキ
が施されてある。銀ブロック1上にSiサブマウント1
02を,さらに半導体レーザ素子3を順次載置する。次
に半導体レーザ素子3上に適切な荷重を加えて、420
℃程度に加熱する。このようにするとSiサブマウント
102の上面及び下面のAuメッキのAuとSiサブマ
ウントのSiが反応してAuSi共晶ハンダが形成さ
れ、該ハンダによりSiサブマウント102が銀ブロッ
ク1上に、半導体レーザ素子4がSiサブマウント10
2上にダイボンドされる。このAuSi共晶ハンダは4
20℃程度の温度で液相(体)となり、かつダイボンド
時に荷重が加えられているので、ダイボンドを終了して
常温に戻すとAuSiハンダのはみ出し部105a,1
05bができている。
Next, the assembling method will be described. The upper surface and the lower surface of the Si submount 102 are plated with gold in advance. Si submount 1 on silver block 1
02, and the semiconductor laser device 3 is sequentially mounted. Next, an appropriate load is applied on the semiconductor laser element 3 to 420
Heat to about ℃. By doing so, Au of Au plating on the upper surface and the lower surface of the Si submount 102 reacts with Si of the Si submount to form AuSi eutectic solder, and the Si submount 102 is formed on the silver block 1 by the solder. Laser element 4 is Si submount 10
It is die-bonded on 2. This AuSi eutectic solder is 4
Since the liquid phase (body) is formed at a temperature of about 20 ° C. and the load is applied at the time of die bonding, when the die bonding is completed and the temperature is returned to room temperature, the protruding portions 105a, 105a of the AuSi solder are formed.
05b is made.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体レーザ装
置は以上のように作製されているので、半導体レーザ素
子の発光部4がサブマウント102側にあるように組み
立てるジャンクション−ダウン(J−down)組立
時、後面からでる光が前記AuSiハンダのはみ出し部
105aによって散乱されるという問題があった。さら
にこのハンダ材がマイグレーション等により経時変化を
するため、後面から出る光をフォトダイオードで受けて
モニタ電流とする際、このモニタ電流が経時変化してし
まうという問題があった。
Since the conventional semiconductor laser device is manufactured as described above, the junction-down (J-down) is assembled so that the light emitting portion 4 of the semiconductor laser element is on the submount 102 side. At the time of assembly, there is a problem that light emitted from the rear surface is scattered by the protruding portion 105a of the AuSi solder. Further, since this solder material changes with time due to migration or the like, there is a problem that when the light emitted from the rear surface is received by the photodiode and used as a monitor current, the monitor current changes with time.

【0005】第1の発明は上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、ダイボンド中にサブマウント
側に形成されるハンダが半導体レーザ素子の下面の面積
よりも大きくなることを防止して、後面から出射する光
がハンダによって散乱することのない高信頼性の半導体
レーザ装置を得ることを目的とする。
The first invention is made to solve the above problems, and prevents the solder formed on the submount side during die bonding from becoming larger than the area of the lower surface of the semiconductor laser device. Then, an object is to obtain a highly reliable semiconductor laser device in which the light emitted from the rear surface is not scattered by the solder.

【0006】第2の発明は上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、ダインボンド中に半導体レー
ザ素子側に形成されるハンダが半導体レーザ素子の下面
の面積よりも大きくなることを防止して、後面から出射
する光がハンダによって散乱することのない高信頼性の
半導体レーザ装置を得ることを目的とする。
The second invention is made to solve the above problems, and the solder formed on the semiconductor laser element side during the dyne bond becomes larger than the area of the lower surface of the semiconductor laser element. It is an object of the present invention to obtain a highly reliable semiconductor laser device in which light emitted from the rear surface is not scattered by solder.

【0007】第3の発明は上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、サブマウント上にあらかじめ
設けられたハンダが、ダイボンドの昇温時に半導体レー
ザ素子の下面の面積よりも大きくなることを防止し、後
面から出射する光がハンダによって散乱することのない
高信頼性の半導体レーザ装置を得ることを目的とする。
A third aspect of the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, in which the solder provided in advance on the submount is larger than the area of the lower surface of the semiconductor laser element when the die bond temperature rises. It is an object of the present invention to obtain a highly reliable semiconductor laser device in which light emitted from the rear surface is prevented from being scattered by solder.

【0008】第4の発明は上記のように問題点を解消す
るためになされたもので、半導体レーザ素子の下面にあ
らかしめ設けられたハンダが、ダンボンドの昇温時に半
導体レーザ素子の下面の面積よりも大きく拡がることを
防止して後面から出射する光がハンダによって散乱する
ことのない高信頼性の半導体レーザ装置を得ることを目
的とする。
A fourth aspect of the present invention is made to solve the above-mentioned problems, and the solder provided on the lower surface of the semiconductor laser element is provided so that the area of the lower surface of the semiconductor laser element is increased when the temperature of the bond is increased. It is an object of the present invention to obtain a highly reliable semiconductor laser device in which the light emitted from the rear surface is prevented from being scattered by the solder by preventing the light from spreading further.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】第1の発明に係る半導体
レーザ装置は、サブマウントと半導体レーザ素子との間
に第1の金膜とスズ膜と第3の金膜とを介挿してダイボ
ンドを行う構成において、上記スズ膜の外側に該スズ膜
と同じ厚さの第2の金膜を設けたものである。
A semiconductor laser device according to a first aspect of the present invention is a die-bonding device in which a first gold film, a tin film and a third gold film are interposed between a submount and a semiconductor laser element. In the configuration for performing, the second gold film having the same thickness as the tin film is provided outside the tin film.

【0010】第2の発明に係る半導体レーザ装置は、サ
ブマウントと半導体レーザ素子との間に第1の金膜とス
ズ膜と第3の金膜とを介挿してダイボンドを行う構成に
おいて、半導体レーザ素子の下面に形成したスズ膜の外
側に前記スズ膜と同じ厚さの第2の金膜を設けたもので
ある。
A semiconductor laser device according to a second aspect of the invention is a semiconductor laser device in which a first gold film, a tin film, and a third gold film are interposed between a submount and a semiconductor laser element to perform die bonding. A second gold film having the same thickness as the tin film is provided outside the tin film formed on the lower surface of the laser element.

【0011】第3の発明にかかる半導体レーザ装置は、
サブマウント上に形成した該サブマウントと半導体レー
ザ素子との間に介挿される金スズハンダの外側に前記金
スズハンダと同じ厚さの第7の金膜を設けたものであ
る。
A semiconductor laser device according to the third invention is
A seventh gold film having the same thickness as that of the gold-tin solder is provided on the outside of the gold-tin solder which is formed on the submount and is interposed between the submount and the semiconductor laser element.

【0012】第4の発明に係る半導体レーザ装置は、半
導体レーザ素子の下面に形成したサブマウントと半導体
レーザ素子との間に介挿される金スズハンダの外側に前
記金スズハンダと同じ厚さの第7の金膜を設けたもので
ある。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device having a seventh embodiment having the same thickness as the gold-tin solder outside a gold-tin solder which is interposed between the submount formed on the lower surface of the semiconductor laser element and the semiconductor laser element. It is provided with a gold film.

【0013】[0013]

【作用】第1の発明におけるサブマウント側のスズ膜の
外側に設けた金膜は、ダイボンドするための昇温時に形
成される金スズハンダが半導体レーザ素子の後面に流れ
出すのを防ぐ作用がある。
The gold film provided on the outer side of the tin film on the submount side in the first aspect of the invention has an effect of preventing gold tin solder formed at the time of temperature rise for die bonding from flowing out to the rear surface of the semiconductor laser element.

【0014】第2の発明における半導体レーザ素子側の
スズ膜の外側に設けた金膜は、ダイボンドするための昇
温時に形成される金スズハンダが半導体レーザ素子後面
に流れ出すのを防ぐ作用がある。
The gold film provided outside the tin film on the semiconductor laser device side in the second aspect of the invention has an action of preventing gold-tin solder formed at the time of temperature rise for die bonding from flowing out to the rear surface of the semiconductor laser device.

【0015】この第3の発明におけるサブマウント上に
形成した金スズハンダの外側に設けた金膜は、ダイボン
ドするための昇温時に、前記金ズズハンダが半導体レー
ザ素子後面に流れ出すのを防ぐ作用がある。
The gold film provided on the outer side of the gold-tin solder formed on the submount according to the third aspect of the present invention has an action of preventing the gold-zu solder from flowing out to the rear surface of the semiconductor laser device at the time of temperature rise for die bonding. .

【0016】第4の発明における半導体レーザ素子の下
面に形成した金スズハンダの外側に設けた金膜は、ダイ
ボンドするための昇温時に、前記金スズハンダが半導体
レーザ素子後面に流れ出すのを防ぐ作用がある。
The gold film provided on the outer side of the gold-tin solder formed on the lower surface of the semiconductor laser element in the fourth invention has an action of preventing the gold-tin solder from flowing out to the rear surface of the semiconductor laser element at the time of temperature rise for die bonding. is there.

【0017】[0017]

【実施例】実施例1 以下この第1の発明の一実施例(請求項1に相当)を図
について説明する。図1において、1は例えば銀からな
るブロック、2はサブマウントであり、これには従来例
におけるSiサブマウントも使用が可能であるが、例え
ばこれよりさらに絶縁性が高く、熱伝導率の高いcBN
(cubic Boron Nitride),ダイヤモンド,SiC,Cu
W,AlN等を用いることができる。3は半導体レーザ
素子、4は半導体レーザ素子の発光部、6は金線であ
る。上記銀ブロック1の上には金膜7,スズ膜8,金膜
9のサンドイッチ構造を介してサブマウント2が配置さ
れている。ここで上記サブマウントとしては、従来例に
おけるSiサブマウントは通常その上に金メッキをして
おり、温度を上げると金シリコンのハンダができてしま
い、本発明における金スズハンダを形成するようにはで
きないので、本発明には適さない。
Embodiment 1 An embodiment (corresponding to claim 1) of the first invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, 1 is, for example, a block made of silver, and 2 is a submount. For this, the Si submount in the conventional example can also be used, but for example, it has higher insulation and higher thermal conductivity. cBN
(Cubic Boron Nitride), diamond, SiC, Cu
W, AlN or the like can be used. Reference numeral 3 is a semiconductor laser element, 4 is a light emitting portion of the semiconductor laser element, and 6 is a gold wire. A submount 2 is arranged on the silver block 1 with a sandwich structure of a gold film 7, a tin film 8 and a gold film 9 interposed therebetween. Here, as the above-mentioned submount, the Si submount in the conventional example is usually gold-plated thereon, and when the temperature is raised, solder of gold silicon is formed, and the gold-tin solder of the present invention cannot be formed. Therefore, it is not suitable for the present invention.

【0018】上記サブマウント2の上面には第1の金膜
11が形成され、第1の金膜11の上面でかつ半導体レ
ーザ素子3が載置される部分に半導体レーザ素子の下面
の面積と等しいか、より小さい領域、例えばレーザチッ
プの厚さ100μm,チップ面積300μm×500μ
mの場合、その前端側からチップ面積の約9割を占める
領域で第1のスズ膜10が形成され、その他の部分には
第2の金膜12が形成され、第1のスズ膜10と第2の
金膜12の上に第3の金膜13が形成され、第3の金膜
13の上には半導体レーザ素子3が載置されている。1
4,15は半導体レーザの表面電極である。本装置は、
昇温することにより第1のスズ膜10とその上下の金膜
11,13とで金スズ系のハンダが形成されることによ
り半導体レーザ素子3がサブマウント2上にダイボンド
されるようになっている。また図2は図1をA−A′で
切ったときの断面図、さらに図3は昇温してダイボント
した後の半導体レーザ装置の正面図、図4はその断面図
である。
A first gold film 11 is formed on the upper surface of the submount 2, and the area of the lower surface of the semiconductor laser element is equal to the upper surface of the first gold film 11 and the portion where the semiconductor laser element 3 is mounted. Equal or smaller area, for example, laser chip thickness 100 μm, chip area 300 μm × 500 μ
In the case of m, the first tin film 10 is formed in a region occupying about 90% of the chip area from the front end side, and the second gold film 12 is formed in the other portion, and the first tin film 10 and The third gold film 13 is formed on the second gold film 12, and the semiconductor laser element 3 is mounted on the third gold film 13. 1
Reference numerals 4 and 15 are surface electrodes of the semiconductor laser. This device
By increasing the temperature, the first tin film 10 and the gold films 11 and 13 above and below the first tin film 10 form gold-tin solder, whereby the semiconductor laser element 3 is die-bonded onto the submount 2. There is. 2 is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 1, FIG. 3 is a front view of the semiconductor laser device after the temperature is elevated and die bonding is performed, and FIG. 4 is a sectional view thereof.

【0019】次に組立方法および作用について説明す
る。サブマウント2の下面には金膜7,スズ膜8,金膜
9のサンドイッチ構造が設けられている。またサブマウ
ント2の上面の半導体レーザ素子3が載置される部分に
も金膜11,スズ膜10,金膜13のサンドイッチ構造
が設けられている。一方、サブマウント2の上面の半導
体レーザ素子が載置される部分の外側は、金膜11,1
2,13で構成されている。つまりスズ膜10がその両
側部の金膜12およびさらにその上下の金膜11,13
で囲まれていることになる。スズ膜8,10とその上下
の金膜7,9,11,13の厚さはダイボンドの昇温時
に金スズハンダが形成されるような厚さに設定される。
Next, the assembling method and operation will be described. On the lower surface of the submount 2, a sandwich structure of a gold film 7, a tin film 8 and a gold film 9 is provided. Further, a sandwich structure of the gold film 11, the tin film 10 and the gold film 13 is also provided on the upper surface of the submount 2 where the semiconductor laser element 3 is mounted. On the other hand, on the outer surface of the upper surface of the submount 2 where the semiconductor laser element is mounted, the gold films 11 and 1
It is composed of 2 and 13. That is, the tin film 10 is composed of the gold films 12 on both sides of the tin film 10 and the gold films 11 and 13 above and below the gold film 12.
Will be surrounded by. The thicknesses of the tin films 8 and 10 and the gold films 7, 9, 11 and 13 above and below the tin films 8 and 10 are set so that gold tin solder is formed when the temperature of the die bond is raised.

【0020】図3に示すように、半導体レーザ素子上面
から適切な荷重を加え、かつ水素,窒素等のガスを流し
つつ280℃以上の温度、例えば350℃程度に昇温す
ると、金とスズの重量比が80:20のときの合金の融
点が280℃であるので、スズ膜8,10はその上下の
金膜7と9,11と13との間で金スズハンダを形成し
て、半導体レーザ素子3とサブマウント2間、及びサブ
マウント2と銀ブロック1間をダイボンドする。
As shown in FIG. 3, when an appropriate load is applied from the upper surface of the semiconductor laser element and the temperature is raised to 280 ° C. or higher, for example, about 350 ° C. while flowing gas such as hydrogen and nitrogen, gold and tin are separated. Since the melting point of the alloy when the weight ratio is 80:20 is 280 ° C., the tin films 8 and 10 form gold-tin solder between the gold films 7 and 9 and 11 and 13 above and below the tin film 8 and 10 to form the semiconductor laser. The element 3 and the submount 2 and the submount 2 and the silver block 1 are die-bonded.

【0021】図2に示すように、スズ膜10は半導体レ
ーザ素子3よりもその面積が小さいので、ダイボンド終
了後の金スズハンダ16aも半導体レーザ素子3よりも
面積が小さくなる。このため図4に示すように、半導体
レーザ素子3の後面は金膜12のみが現れ、金スズハン
ダのはみ出しはない。このため後面から出射される光は
ハンダで散乱されることなくモニタのホトダイオードに
入るので、経時変化の少ない高信頼性の半導体レーザ装
置が実現できる。
As shown in FIG. 2, since the tin film 10 has a smaller area than the semiconductor laser element 3, the area of the gold-tin solder 16a after die bonding is smaller than that of the semiconductor laser element 3. Therefore, as shown in FIG. 4, only the gold film 12 appears on the rear surface of the semiconductor laser element 3, and gold tin solder does not protrude. For this reason, the light emitted from the rear surface enters the photodiode of the monitor without being scattered by the solder, so that a highly reliable semiconductor laser device with little change over time can be realized.

【0022】実施例2 以下この第2の発明の一実施例(請求項3に相当)を図
について説明する。図5において、半導体レーザ素子3
の下面に第4の金膜20が形成され、該第4の金膜20
の下面には該半導体レーザ素子3の面積と等しいか、よ
り小さい領域で、かつ該半導体レーザ素子3の前端面側
に第2のスズ膜19が形成され、その他の部分には第5
の金膜21が形成され、第2のスズ膜19と第5の金膜
21の下面には第6の金膜18が形成され、第6の金膜
18の下に表面に金膜17を形成したサブマウント2が
設けられ、昇温することにより第2のスズ膜19とその
上下の金膜18,20とで金スズ系のハンダが形成され
て半導体レーザ素子3がサブマウント2上にダンボンド
されてなる構成を有するものである。
Embodiment 2 An embodiment (corresponding to claim 3) of the second invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 5, the semiconductor laser device 3
A fourth gold film 20 is formed on the lower surface of the
A second tin film 19 is formed on the lower surface of the semiconductor laser element 3 in an area equal to or smaller than the area of the semiconductor laser element 3 and on the front end surface side of the semiconductor laser element 3, and in the other portion, a fifth tin film 19 is formed.
Gold film 21 is formed, the sixth gold film 18 is formed on the lower surfaces of the second tin film 19 and the fifth gold film 21, and the gold film 17 is formed on the surface under the sixth gold film 18. The formed submount 2 is provided, and the temperature of the second tin film 19 and the gold films 18 and 20 above and below the second tin film 19 form gold-tin solder, so that the semiconductor laser element 3 is placed on the submount 2. It has a configuration in which it is bonded.

【0023】図5に示すように、スズ膜19は金膜18
と金膜20で挟まれた構造になっている。またそれらの
膜厚はダイボンドのための昇温時に金スズハンダを構成
するような膜厚に設定されている。図6は図5の構造を
B−B′で切ったときの断面図である。スズ膜19が半
導体レーザ素子3の後端面まで達しておらず、途中で切
れていて半導体レーザ素子3下面の面積よりも前記スズ
膜19の面積が小さくなっているのが特徴である。また
サブマウント2とブロック1間の膜構成は第1の発明の
一実施例と同様である。
As shown in FIG. 5, the tin film 19 is a gold film 18.
It has a structure sandwiched by the gold film 20. Further, the film thicknesses thereof are set so that gold-tin solder is constituted at the time of temperature rise for die bonding. FIG. 6 is a sectional view of the structure of FIG. 5 taken along the line BB '. The tin film 19 does not reach the rear end surface of the semiconductor laser element 3 and is cut in the middle, so that the area of the tin film 19 is smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser element 3. The film structure between the submount 2 and the block 1 is similar to that of the first embodiment of the invention.

【0024】本実施例の組立方法においては、ダイボン
ドのために半導体レーザ素子上面から適切な荷重を加え
つつ、水素や窒素等のガスを流して280℃以上の温
度、例えば350℃程度まで昇温するとスズ膜19,8
はその上下の金膜18と20との間で,また金膜7,9
との間で金スズハンダを形成し、これによりダイボンド
が行われる。従って、本実施例2においても、上記実施
例1と同様、後面から出射される光はハンダで散乱され
ることなくモニタのホトダイオードに入るので、経時変
化の少ない高信頼性の半導体レーザ装置が実現できる。
In the assembling method of this embodiment, a suitable load is applied from the upper surface of the semiconductor laser device for die bonding, and a gas such as hydrogen or nitrogen is flown to raise the temperature to 280 ° C. or higher, for example, to about 350 ° C. Then tin film 19,8
Between the gold films 18 and 20 above and below the gold film 7, 9
Gold tin solder is formed between the two, and thereby die bonding is performed. Therefore, also in the second embodiment, as in the first embodiment, the light emitted from the rear surface enters the photodiode of the monitor without being scattered by the solder, so that a highly reliable semiconductor laser device with little change over time is realized. it can.

【0025】実施例3 以下この第3の発明の一実施例(請求項5に相当)を図
について説明する。図7において、サブマウント2の上
面の半導体レーザ素子3が載置される部分に、半導体レ
ーザ3の下面の面積と等しいか、より小さい領域に金ス
ズハンダ膜22bが形成され、かつその他の部分に第7
の金膜23が形成され、金スズハンダ膜22b上に半導
体レーザ素子3が載置されてダイボンドされてなる構成
を有する。本実施例では、サブマウント2はその下面に
もあらかじめ設けた金スズハンダ膜22aを有し、該金
スズハンダ膜22aにより銀ブロック1上にマウントさ
れている。図8は図7の構造をC−C′で切って見たと
きの断面図である。
Embodiment 3 An embodiment (corresponding to claim 5) of the third invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 7, a gold tin solder film 22b is formed in a region on the upper surface of the submount 2 where the semiconductor laser element 3 is mounted, in a region equal to or smaller than the area of the lower face of the semiconductor laser 3, and in other regions. 7th
Is formed, and the semiconductor laser element 3 is placed on the gold-tin-solder film 22b and die-bonded. In this embodiment, the submount 2 also has a gold tin solder film 22a provided in advance on the lower surface thereof, and is mounted on the silver block 1 by the gold tin solder film 22a. FIG. 8 is a sectional view of the structure of FIG. 7 taken along the line CC ′.

【0026】図8に示すように、金スズハンダ22bの
面積は半導体レーザ素子3の下面の面積よりも小さくな
っている。また前記金スズハンダ22bは同じ厚さの金
膜23で囲まれているので、温度を280℃以上の温度
に昇温し金スズハンダ22bを溶融させてレーザ素子3
のダンホンドを行う時に前記金スズハンダ22bが半導
体レーザ素子3の後面にはみ出すことがない。よって半
導体レーザ素子3後端面から出射する光が金スズハンダ
で散乱されることがないので、経時変化の少ない安定な
モニタ電流を有する,高信頼性の半導体レーザ装置が得
られる。
As shown in FIG. 8, the area of the gold-tin solder 22b is smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser element 3. Further, since the gold-tin solder 22b is surrounded by the gold film 23 having the same thickness, the temperature is raised to a temperature of 280 ° C. or higher to melt the gold-tin solder 22b to melt the laser element 3
The gold tin solder 22b does not stick out to the rear surface of the semiconductor laser element 3 when performing the dun-bonding. Therefore, since the light emitted from the rear end face of the semiconductor laser element 3 is not scattered by the gold-tin solder, a highly reliable semiconductor laser device having a stable monitor current with little change over time can be obtained.

【0027】実施例4 以下この第4の発明の一実施例(請求項7に相当)を図
について説明する。図9において、半導体レーザ素子3
の下面に第8の金膜14が形成され、第8の金膜14の
下に該半導体レーザ3の下面の面積と等しいか、より小
さい領域で、かつ半導体レーザ素子の前端面側にある領
域で金スズハンダ24aが形成され、かつその他の部分
に第9の金膜25が形成され、半導体レーザ素子3が該
金スズハンダ24aによりサブマウント2上にダイボン
ドされてなる構成を有するものである。本実施例では、
サブマウント2はその下面にもあらかじめ設けた金スズ
ハンダ膜24bを有し、該金スズハンダ膜24bにより
銀ブロック1上にマウントされている。図10は図9の
構造をD−D′で切って見たときの断面図である。
Embodiment 4 An embodiment (corresponding to claim 7) of the fourth invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 9, the semiconductor laser device 3
An eighth gold film 14 is formed on the lower surface of the semiconductor laser device, and a region under the eighth gold film 14 that is equal to or smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser 3 and is on the front end face side of the semiconductor laser device. The gold-tin-solder 24a is formed on the substrate, the ninth gold film 25 is formed on the other portion, and the semiconductor laser element 3 is die-bonded onto the submount 2 by the gold-tin solder 24a. In this embodiment,
The submount 2 also has a gold tin solder film 24b provided in advance on its lower surface, and is mounted on the silver block 1 by the gold tin solder film 24b. FIG. 10 is a sectional view of the structure of FIG. 9 taken along the line DD ′.

【0028】図9に示すように、金スズハンダ24bの
面積は半導体レーザ素子3下面の面積よりも小さくなっ
ている。また前記金スズハンダ24aは同じ厚さの金膜
25で囲まれているので、温度を280℃以上の温度に
昇温し金スズハンダ24aを溶融させてレーザ素子3の
ダイボンドを行う時に前記金スズハンダ24aが半導体
レーザ素子3の後面にはみ出すことがない。よって半導
体レーザ素子3後端面から出射する光が前記金スズハン
ダ24aで散乱されることがないので、経時変化の少な
い安定なモニタ電流を有する,高信頼性の半導体レーザ
装置が得られる。
As shown in FIG. 9, the area of the gold-tin solder 24b is smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser element 3. Further, since the gold-tin solder 24a is surrounded by the gold film 25 having the same thickness, when the temperature is raised to 280 ° C. or more to melt the gold-tin solder 24a and die-bond the laser element 3, the gold-tin solder 24a is formed. Does not protrude to the rear surface of the semiconductor laser element 3. Therefore, since the light emitted from the rear end face of the semiconductor laser element 3 is not scattered by the gold tin solder 24a, a highly reliable semiconductor laser device having a stable monitor current with little change over time can be obtained.

【0029】なお上記実施例1,実施例2では金膜とス
ズ膜との組合せで金スズハンダを形成する例について述
べているが、ハンダとしては、その他の組合せ、例えば
金膜とシリコン膜とで金シリコンハンダを形成してもよ
い。また、ハンダ膜を囲む膜として金膜を用いている
が、これは金膜に限るものではなく、その他の膜、例え
はチタン膜や白金膜を用いてもよい。また上記実施例
3,実施例4ではハンダ膜として金スズハンダの例を示
しているが、その他のハンダ、例えば鉛スズハンダやイ
ンジウム鉛ハンダを用いてもよい。
In the above-mentioned Examples 1 and 2, an example of forming a gold-tin solder by combining a gold film and a tin film is described, but other combinations such as a gold film and a silicon film can be used as solder. Gold silicon solder may be formed. Further, although the gold film is used as the film surrounding the solder film, this is not limited to the gold film, and another film, for example, a titanium film or a platinum film may be used. Further, in the above-mentioned Embodiments 3 and 4, an example of gold tin solder is shown as the solder film, but other solder such as lead tin solder or indium lead solder may be used.

【0030】実施例5〜8 また上記実施例1〜4では、半導体レーザ素子をサブマ
ウントを介してブロックあるいはステム上にマウントす
る場合について説明したが、上記第1ないし第4の発明
は半導体レーザ素子を直接ブロックあるいはステム上に
マウントする構造においても適用でき、これらが実施例
5〜8であり、請求項2,4,6,8に相当するもので
ある。
Embodiments 5 to 8 In the above Embodiments 1 to 4, the case where the semiconductor laser device is mounted on the block or the stem via the submount has been described. However, the first to fourth inventions are the semiconductor laser devices. It can also be applied to a structure in which an element is directly mounted on a block or a stem, which are Examples 5 to 8 and correspond to claims 2, 4, 6, and 8.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上のように、第1の発明によれば、サ
ブマウントの上面に第1の金膜が形成され、第1の金膜
の上面でかつ半導体レーザ素子が載置される部分に半導
体レーザ素子の下面の面積と等しいか、より小さい領域
で第1のスズ膜が形成され、その他の部分は第2の金膜
が形成され、第1のスズ膜と第2の金膜の上に第3の金
膜が形成され、第3の金膜の上に半導体レーザ素子が載
置され、昇温することにより第1のスズ膜とその上下の
金膜とで金スズ系のハンダが形成されて半導体レーザ素
子がサブマウントにダイボンドされてなる構成とし、ダ
イボンド時にサブマウント側に形成されるハンダが、半
導体レーザ素子の後端面へはみ出さないようにしたの
で、経時変化の少ない安定なモニタ電流を有する,高信
頼性の半導体レーザ装置が得られる効果がある。
As described above, according to the first invention, the first gold film is formed on the upper surface of the submount, and the portion on the upper surface of the first gold film where the semiconductor laser element is mounted. The first tin film is formed in a region which is equal to or smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser device, and the second gold film is formed in the other part, and the first tin film and the second gold film are formed. A third gold film is formed thereon, a semiconductor laser element is mounted on the third gold film, and the first tin film and the gold films above and below the first tin film are heated to raise the gold-tin based solder. Is formed and the semiconductor laser element is die-bonded to the submount, and the solder that is formed on the submount side during die-bonding does not stick out to the rear end face of the semiconductor laser element, so it is stable with little change over time. Highly reliable semiconductor laser with high monitoring current There is an effect that location can be obtained.

【0032】また第2の発明によれば、半導体レーザ素
子の下面に第4の金膜が形成され、第4の金膜の下面に
前記半導体レーザ素子の面積と等しいか、より小さい領
域で、かつ前記と半導体レーザ素子の前端面側に第2の
スズ膜が形成され、その他の部分には第5の金膜が形成
され、第2のスズ膜と第5の金膜の下面に第6の金膜が
形成され、第6の金膜の下にサブマウントが設けられ、
昇温することにより第2のスズ膜とその上下の金膜とで
金スズ系のハンダが形成されて半導体レーザ素子がサブ
マウント上にダンボンドされてなる構成とし、ダイボイ
ド時に半導体レーザ素子の下面に形成されるハンダが、
半導体レーザ素子の後端面側へはみ出さないように構成
したので、安定なモニタ電流を有する,高信頼性の半導
体レーザ装置が得られる効果がある。
According to the second invention, the fourth gold film is formed on the lower surface of the semiconductor laser element, and the lower surface of the fourth gold film has an area equal to or smaller than the area of the semiconductor laser element. A second tin film is formed on the front end face side of the semiconductor laser device, a fifth gold film is formed on the other part, and a sixth tin film is formed on the lower surfaces of the second tin film and the fifth gold film. Gold film is formed, and a submount is provided under the sixth gold film,
When the temperature is raised, the second tin film and the gold films above and below the second tin film are formed to form a gold-tin based solder, and the semiconductor laser element is formed on the submount by a die bond. The solder that is formed is
Since the semiconductor laser element is configured so as not to extend to the rear end face side, there is an effect that a highly reliable semiconductor laser device having a stable monitor current can be obtained.

【0033】また第3の発明によれは、サブマウントの
上面の半導体レーザ素子が載置される部分に半導体レー
ザの下面の面積と等しいか、より小さい領域に金スズハ
ンダ膜が形成され、かつその他の部分に第7の金膜が形
成され、半導体レーザ素子が金スズハンダによりサブマ
ウント上に載置されてダイボンドされてなる構成とし、
あらかじめサブマウント上に設けた金スズハンダが、ダ
イボンド時に半導体レーザ素子の後端面側へはみ出さな
いように構成したので、安定なモニタ電流を有する,高
信頼性の半導体レーザ装置が得られる効果がある。
According to the third aspect of the invention, a gold tin solder film is formed in a region equal to or smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser on a portion of the upper surface of the submount where the semiconductor laser element is mounted, and A seventh gold film is formed on the portion of, and the semiconductor laser element is mounted on the submount by gold tin solder and die-bonded,
Since the gold-tin-solder provided on the submount in advance does not stick out to the rear end face side of the semiconductor laser element during die bonding, a highly reliable semiconductor laser device having a stable monitor current can be obtained. .

【0034】また第4の発明によれば、半導体レーザ素
子の下面に第8の金膜が形成され、第8の金膜の下に半
導体レーザの下面の面積と等しいか、より小さい領域
で、かつ半導体レーザ素子の前端面側にある領域で金ス
ズハンダが形成され、かつその他の部分に第9の金膜が
形成され、半導体レーザ素子が該金スズハンダによりサ
ブマウント上にダイボンドされてなる構成とし、あらか
じめ半導体レーザ装置の下面に設けた金スズハンダが、
ダイボンド時に半導体レーザ素子の後端面側へはみ出さ
ないように構成したので、安定なモニタ電流を有する,
高信頼性の半導体レーザ装置が得られる効果がある。
According to the fourth aspect of the invention, the eighth gold film is formed on the lower surface of the semiconductor laser element, and the area under the eighth gold film is equal to or smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser. In addition, gold tin solder is formed in a region on the front end face side of the semiconductor laser element, and a ninth gold film is formed in the other portion, and the semiconductor laser element is die-bonded onto the submount by the gold tin solder. , Gold tin solder that was previously installed on the bottom surface of the semiconductor laser device,
It has a stable monitor current because it is configured not to protrude to the rear end face side of the semiconductor laser element during die bonding.
There is an effect that a highly reliable semiconductor laser device can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の発明の一実施例(請求項1に相当)によ
る半導体レーザ装置のダンボンド前の正面図。
FIG. 1 is a front view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the first invention (corresponding to claim 1) before the bonding.

【図2】第1の発明の一実施例による半導体レーザ装置
のダイボント前の断面図。
FIG. 2 is a sectional view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the first invention before die bonding.

【図3】第1の発明の一実施例による半導体レーザ装置
のダイボンド後の正面図。
FIG. 3 is a front view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the first invention after die bonding.

【図4】第1の発明の一実施例による半導体レーザ装置
のダイボンド後の断面図。
FIG. 4 is a sectional view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the first invention after die bonding.

【図5】第2の発明の一実施例(請求項3に相当)によ
る半導体レーザ装置のダイボンド前の正面図。
FIG. 5 is a front view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the second invention (corresponding to claim 3) before die bonding.

【図6】第2の発明の一実施例による半導体レーザ装置
のダイボンド前の断面図。
FIG. 6 is a sectional view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the second invention before die bonding.

【図7】第3の発明の一実施例(請求項5に相当)によ
る半導体レーザ装置のダイボンド前の正面図。
FIG. 7 is a front view of a semiconductor laser device according to an embodiment (corresponding to claim 5) of the third invention before die bonding.

【図8】第3の発明の一実施例による半導体レーザ装置
のダンボンド前の断面図。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the third invention before a dang bond.

【図9】第4の発明の一実施例(請求項7に相当)によ
る半導体レーザ装置のダイボンド後の正面図。
FIG. 9 is a front view of a semiconductor laser device according to an embodiment (corresponding to claim 7) of the fourth invention after die bonding.

【図10】第4の発明の一実施例による半導体レーザ装
置のダイボント後の断面図。
FIG. 10 is a sectional view of a semiconductor laser device according to an embodiment of the fourth invention after die bonding.

【図11】従来の半導体レーザ装置を示す斜視図。FIG. 11 is a perspective view showing a conventional semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ブロック(例えば銀) 2 サブマウント(例えばcBN,ダイヤモンド) 3 半導体レーザ素子、 4 半導体レーザ装置の発光部 6 金線 7,9,11 第1の金膜 12 第2の金膜 13 第3の金膜 14,15 半導体レーザの表面電極 17,18,20,21,24,25 金膜 10,19 第1のスズ膜 14,15 半導体レーザの表面電極 16a,16b,22a,22b,24a,24b 金
スズハンダ膜 102 Siサブマウント 104a,105b AuSiハンダのはみ出し部
1 block (eg silver) 2 submount (eg cBN, diamond) 3 semiconductor laser device, 4 light emitting part of semiconductor laser device 6 gold wire 7, 9, 11 first gold film 12 second gold film 13 third Gold film 14,15 Surface electrode of semiconductor laser 17,18,20,21,24,25 Gold film 10,19 First tin film 14,15 Surface electrode of semiconductor laser 16a, 16b, 22a, 22b, 24a, 24b Gold-tin solder film 102 Si submounts 104a, 105b AuSi solder protrusion

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体レーザ素子,前記半導体レーザ素
子を載置するサブマウント,前記サブマウントを載置す
るブロックあるいはステムとを有する半導体レーザ装置
において、 前記サブマウントの上面に第1の金膜が形成され、 前記第1の金膜の上面でかつ半導体レーザ素子が載置さ
れる部分に半導体レーザ素子の下面の面積と等しいか、
より小さい領域で第1のスズ膜が形成され、上記下面の
面積に対応する部分のうちのその他の部分には第2の金
膜が形成され、 前記第1のスズ膜と第2の金膜の上に第3の金膜が形成
され、 前記第3の金膜の上に半導体レーザ素子が載置され、 昇温することにより第1のスズ膜とその上下の金膜とで
金スズ系のハンダが形成されて前記半導体レーザ素子が
前記サブマウント上にダイボンドされてなることを特徴
とする半導体レーザ装置。
1. A semiconductor laser device having a semiconductor laser element, a submount on which the semiconductor laser element is mounted, and a block or a stem on which the submount is mounted, wherein a first gold film is formed on an upper surface of the submount. The area of the lower surface of the semiconductor laser element formed on the upper surface of the first gold film and on which the semiconductor laser element is mounted, or
A first tin film is formed in a smaller region, and a second gold film is formed in the other part of the part corresponding to the area of the lower surface, and the first tin film and the second gold film are formed. A third gold film is formed on the first gold film, and the semiconductor laser element is placed on the third gold film. The semiconductor laser device is characterized in that the solder is formed and the semiconductor laser element is die-bonded onto the submount.
【請求項2】 半導体レーザ素子,前記半導体レーザ素
子を載置するブロックあるいはステムとを有する半導体
レーザ装置において、 前記ブロックあるいはステムの上面に第1の金膜が形成
され、 前記第1の金膜の上面でかつ半導体レーザ素子が載置さ
れる部分に半導体レーザ素子の下面の面積と等しいか、
より小さい領域で第1のスズ膜が形成され、上記下面の
面積に対応する部分のうちのその他の部分には第2の金
膜が形成され、 前記第1のスズ膜と第2の金膜の上に第3の金膜が形成
され、 前記第3の金膜の上に半導体レーザ素子が載置され、 昇温することにより第1のスズ膜とその上下の金膜とで
金スズ系のハンダが形成されて上記半導体レーザ素子が
上記ブロックまたはステム上にダイボンドされてなるこ
とを特徴とする半導体レーザ装置。
2. A semiconductor laser device having a semiconductor laser element and a block or stem on which the semiconductor laser element is mounted, wherein a first gold film is formed on an upper surface of the block or stem, and the first gold film is formed. Is equal to the area of the lower surface of the semiconductor laser element on the upper surface of the semiconductor laser element,
A first tin film is formed in a smaller region, and a second gold film is formed in the other part of the part corresponding to the area of the lower surface, and the first tin film and the second gold film are formed. A third gold film is formed on the first gold film, and the semiconductor laser element is placed on the third gold film. The semiconductor laser device is characterized in that the solder is formed and the semiconductor laser element is die-bonded onto the block or the stem.
【請求項3】 半導体レーザ素子,前記半導体レーザ素
子を載置するサブマウント,前記サブマウントを載置す
るブロックあるいはステムとを有する半導体レーザ装置
において、 前記半導体レーザ素子の下面に第4の金膜が形成され、
前記第4の金膜の下面に前記半導体レーザ素子の下面の
面積と等しいか、より小さい領域で、かつ前記半導体レ
ーザ素子の前端面側に第2のスズ膜が形成され、上記下
面の面積に対応する部分のうちのその他の部分には第5
の金膜が形成され、 前記第2のスズ膜と第5の金膜の下面に第6の金膜が形
成され、 前記第6の金膜の下にサブマウントが設けられ、 昇温することにより第2のスズ膜とその上下の金膜とで
金スズ系のハンダが形成されて前記半導体レーザ素子が
前記サブマウント上にダンボンドされてなることを特徴
とする半導体レーザ装置。
3. A semiconductor laser device having a semiconductor laser element, a submount on which the semiconductor laser element is mounted, and a block or a stem on which the submount is mounted, wherein a fourth gold film is formed on a lower surface of the semiconductor laser element. Is formed,
A second tin film is formed on the lower surface of the fourth gold film in a region equal to or smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser device, and on the front end face side of the semiconductor laser device, and the second tin film is formed on the lower surface. No. 5 for other parts of the corresponding parts
A gold film is formed, a sixth gold film is formed on the lower surfaces of the second tin film and the fifth gold film, a submount is provided under the sixth gold film, and the temperature is raised. Thus, a gold-tin based solder is formed by the second tin film and the gold films above and below the second tin film, and the semiconductor laser element is dumb-bonded onto the submount.
【請求項4】 半導体レーザ素子,前記半導体レーザ素
子を載置するブロックあるいはステムとを有する半導体
レーザ装置において、 前記半導体レーザ素子の下面に第4の金膜が形成され、 前記第4の金膜の下面に前記半導体レーザ素子の面積と
等しいか、より小さい領域で、かつ前記半導体レーザ素
子の前端面側に第2のスズ膜が形成され、上記下面の面
積に対応する部分のうちのその他の部分には第5の金膜
が形成され、 前記第2のスズ膜と第5の金膜の下面に第6の金膜が形
成され、 前記第6の金膜の下にブロックあるいはステムが設けら
れ、 昇温することにより第3のブロック膜とその上下の金膜
とで金スズ系のハンダが形成されて前記半導体レーザ素
子が前記ブロックあるいはステム上にダンボンドされて
なることを特徴とする半導体レーザ装置。
4. A semiconductor laser device having a semiconductor laser element and a block or stem for mounting the semiconductor laser element, wherein a fourth gold film is formed on a lower surface of the semiconductor laser element, and the fourth gold film is formed. A second tin film is formed on the lower surface of the semiconductor laser device in a region equal to or smaller than the area of the semiconductor laser device and on the front end face side of the semiconductor laser device. A fifth gold film is formed on the portion, a sixth gold film is formed on the lower surfaces of the second tin film and the fifth gold film, and a block or a stem is provided under the sixth gold film. When the temperature is raised, a gold-tin based solder is formed by the third block film and the gold films above and below the third block film, and the semiconductor laser device is dang-bonded on the block or stem. Conductor laser device.
【請求項5】 半導体レーザ素子,前記半導体レーザ素
子を載置するサブマウント,前記サブマウントを載置す
るブロックあるいはステムとを有する半導体レーザ装置
において、 前記サブマウントの上面の半導体レーザ素子が載置され
る部分に半導体レーザの下面の面積と等しいか、より小
さい領域に金スズハンダ膜が形成され、上記下面の面積
に対応する部分のうちのその他の部分に第7の金膜が形
成され、 前記金スズハンダ膜上に半導体レーザ素子が載置されて
該金スズハンダにより上記サブマウント上にダイボンド
されてなることを特徴とする半導体レーザ装置。
5. A semiconductor laser device having a semiconductor laser element, a submount on which the semiconductor laser element is mounted, and a block or a stem on which the submount is mounted, wherein the semiconductor laser element on the upper surface of the submount is mounted. A gold tin solder film is formed in a region equal to or smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser, and a seventh gold film is formed in the other portion of the area corresponding to the area of the lower surface. A semiconductor laser device comprising a semiconductor laser element mounted on a gold-tin solder film and die-bonded onto the submount by the gold-tin solder.
【請求項6】 半導体レーザ素子,前記半導体レーザ素
子を載置するブロックあるいはステムとを有する半導体
レーザ装置において、 前記ブロックあるいはステムの上面の半導体レーザ素子
が載置される部分に半導体レーザの下面の面積と等しい
か、より小さい領域で金スズハンダ膜が形成され、かつ
上記下面の面積に対応する部分のうちのその他の部分に
第7の金膜が形成され、 前記金スズハンダ膜上に前記半導体レーザ素子が載置さ
れて該金スズハンダにより上記ブロックまたはステム上
にダイボンドされてなることを特徴とする半導体レーザ
装置。
6. A semiconductor laser device having a semiconductor laser element and a block or stem for mounting the semiconductor laser element, wherein a lower surface of the semiconductor laser is provided on a portion of the upper surface of the block or stem where the semiconductor laser element is mounted. A gold tin solder film is formed in a region equal to or smaller than the area, and a seventh gold film is formed in the other part of the part corresponding to the area of the lower surface, and the semiconductor laser is formed on the gold tin solder film. A semiconductor laser device, wherein an element is placed and die-bonded onto the block or stem by the gold-tin solder.
【請求項7】 半導体レーザ素子,前記半導体レーザ素
子を載置するサブマウント,前記サブマウントを載置す
るブロックあるいはステムとを有する半導体レーザ装置
において、 前記半導体レーザ素子の下面に第8の金膜が形成され、 前記第8の金膜の下に前記半導体レーザの下面の面積と
等しいか、より小さい領域で、かつ半導体レーザ素子の
前端面側にある領域で金スズハンダ膜が形成され、かつ
上記下面の面積に対応する部分のうちのその他の部分に
第9の金膜が形成され、 前記半導体レーザ素子が上記サブマウント上に載置され
て該金スズハンダにより前記サブマウント上にダイボン
ドされてなることを特徴とする半導体レーザ装置。
7. A semiconductor laser device having a semiconductor laser element, a submount on which the semiconductor laser element is mounted, and a block or a stem on which the submount is mounted, wherein an eighth gold film is formed on a lower surface of the semiconductor laser element. And a gold-tin solder film is formed under the eighth gold film in a region equal to or smaller than the area of the lower surface of the semiconductor laser and on the front end face side of the semiconductor laser device, and A ninth gold film is formed on the other part of the part corresponding to the area of the lower surface, and the semiconductor laser device is mounted on the submount and die-bonded on the submount by the gold-tin solder. A semiconductor laser device characterized by the above.
【請求項8】 半導体レーザ素子,前記半導体レーザ素
子を載置するブロックあるいはステムとを有する半導体
レーザ装置において、 前記半導体レーザ素子の下面に第8の金膜が形成され、 前記第8の金膜の下に前記半導体レーザ素子の下面の面
積と等しいか、より小さい領域で、かつ半導体レーザ素
子の前端面側にある領域で金スズハンダ膜が形成され、
かつ上記下面の面積に対応する部分のうちのその他の部
分に第9の金膜が形成され、 前記半導体レーザ素子が上記ブロックまたはステム上に
載置されて、該金スズハンダにより前記ブロックあるい
はステム上にダイボンドされてなることを特徴とする半
導体レーザ装置。
8. A semiconductor laser device having a semiconductor laser element and a block or stem for mounting the semiconductor laser element, wherein an eighth gold film is formed on a lower surface of the semiconductor laser element, and the eighth gold film is formed. A gold-tin-solder film is formed under the same area as the lower surface of the semiconductor laser device, or in a region smaller than the area, and in a region on the front end face side of the semiconductor laser device,
A ninth gold film is formed on the other part of the part corresponding to the area of the lower surface, the semiconductor laser element is mounted on the block or stem, and the gold tin solder is used to form the gold or tin on the block or stem. A semiconductor laser device characterized in that it is die-bonded to.
【請求項9】 請求項1ないし4のいずれかに記載の半
導体レーザ装置において、 金膜に代えて他の第1種金属膜を用い、スズ膜に代えて
他の第2種金属膜を用いたことを特徴とする半導体レー
ザ装置。
9. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the gold film is replaced with another type 1 metal film, and the tin film is replaced with another type 2 metal film. A semiconductor laser device characterized in that
【請求項10】 請求項5ないし8のいずれかに記載の
半導体レーザ装置において、 金スズハンダ膜に代えて他の合金または混合物ハンダ膜
を用い、金膜に代えて他の金属膜を用いたことを特徴と
する半導体レーザ装置。
10. The semiconductor laser device according to claim 5, wherein another gold alloy film is used instead of the gold-tin solder film, and another metal film is used instead of the gold film. A semiconductor laser device.
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