JPH0636582A - Read circuit - Google Patents

Read circuit

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JPH0636582A
JPH0636582A JP19378892A JP19378892A JPH0636582A JP H0636582 A JPH0636582 A JP H0636582A JP 19378892 A JP19378892 A JP 19378892A JP 19378892 A JP19378892 A JP 19378892A JP H0636582 A JPH0636582 A JP H0636582A
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JP
Japan
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inverter
column
output
column line
transistor
Prior art date
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Application number
JP19378892A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiko Nagatomo
雅彦 長友
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Oki Micro Design Miyazaki Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Oki Micro Design Miyazaki Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0636582A publication Critical patent/JPH0636582A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a read circuit having a ROM with a small chip size without failing in high speed read. CONSTITUTION:An inverter 40 is formed by a pM0S transistor Q38 and an nMOS transistor Q39, the source of the pMOS transistor Q38 is connected to the output node 24 of internal generated source 33. Thus, when an input signal Yn is an L, the pMOS transistor Q38 is turned ON, and the nMOS transistor Q39 is turned OFF and then a VBH is outputted. Further, when the input is an H, the pMOS transistor Q38 is turned OFF, and the nMOS transistor Q39 is turned ON and then GND is outputted. Further, the column line GL of a memory matrix 37 is connected to the output of the inverter 40 directly. Thus, two nMOS transistors arranged on the column line necessary usually are unnecessitated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はリード・オンリ・メモリ
(ROM)、特にイレーザブル・プログラマブル・リー
ド・オンリ・メモリ(EPROM)における読出し回路
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a read circuit in a read only memory (ROM), and more particularly in an erasable programmable read only memory (EPROM).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の読み出し回路として、た
とえば特開平1−130398に記載されたものがあ
る。この公報に記載されているように、ROMのメモリ
セル方式であるXセル方式は、2ビット同時読み出し方
式である。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a reading circuit of this type, there is one described in, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1-130398. As described in this publication, the X cell method, which is a memory cell method of ROM, is a 2-bit simultaneous read method.

【0003】具体的には、Xセル方式における列ライン
は同じ行で選択される一対のメモリセルのソースが接続
され、この一対のメモリセルのドレインはこの列ライン
と隣接する。Xセル方式では、2つのビットラインにそ
れぞれ接続されているため、1つの列ラインを選択する
ことで、この一対のメモリセルを同時に選択出来る。こ
のため、この方式では少なくとも2本のデータバスが必
要となる。
Specifically, the column lines in the X cell system are connected to the sources of a pair of memory cells selected in the same row, and the drains of the pair of memory cells are adjacent to the column lines. In the X-cell method, since each bit line is connected to two bit lines, by selecting one column line, this pair of memory cells can be selected simultaneously. Therefore, this method requires at least two data buses.

【0004】図2にXセル方式における従来の読出し回
路の実施例を示す。図中、一点鎖線で囲まれたメモリマ
トリックス37において、列ラインGLと、ビットライ
ンBLは交互に配置されている。2次元に展開された各
メモリセルMCは、列ラインGLとビットラインBL間
に配置されている。すなわち、メモリセルMCは、ソー
スが列ラインGLに、ドレインがビットラインBLに接
続され、ゲートが行ラインX0 ,X1 …Xn のいずれか
に接続される。
FIG. 2 shows an embodiment of a conventional read circuit in the X cell system. In the figure, in the memory matrix 37 surrounded by the alternate long and short dash line, the column lines GL and the bit lines BL are arranged alternately. Each memory cell MC developed two-dimensionally is arranged between the column line GL and the bit line BL. That is, in the memory cell MC, the source is connected to the column line GL, the drain is connected to the bit line BL, and the gate is connected to any of the row lines X 0 , X 1 ... X n .

【0005】ここで行ラインXは行アドレスのデコード
信号であり、行デコーダ34により1本だけが選択され
る。また,列ラインGLの選択信号Y1 ,Y2 ...
は、列デコーダ35による列アドレスのデコード信号で
あり、列ラインGLとGND間に接続されたMOSトラ
ンジスタQG のゲートに選択的に接続される。
Here, the row line X is a decode signal of a row address, and only one line is selected by the row decoder 34. In addition, the selection signals Y 1 , Y 2 , . . .
Is a decoded signal of the column address by the column decoder 35, and is selectively connected to the gate of the MOS transistor Q G connected between the column lines GL and GND.

【0006】ビットラインBLは、隣接する列ラインG
Lの選択信号であるYn (n=1,2,...)をゲー
ト入力とする少なくとも1つのMOSトランジスタQB
を介して、異なる2本のデータバスDBのいずれかに接
続される。このとき、隣り合ったビットラインBLは必
ず異なるデータバスに接続される。
The bit lines BL are adjacent to the column lines G.
At least one MOS transistor Q B whose gate input is Y n (n = 1, 2, ...) Which is a selection signal for L
Is connected to one of two different data buses DB. At this time, adjacent bit lines BL are always connected to different data buses.

【0007】符号33は内部生成定電圧源である。定電
圧源33のnMOSトランジスタQ14は、pMOSトラ
ンジスタQ12を負荷とするnMOSトランジスタQ13
よって形成されるインバータの入力ノード24とVCC
の間に接続され、ゲートがこのインバータの出力ノード
25に接続される。
Reference numeral 33 is an internally generated constant voltage source. The nMOS transistor Q 14 of the constant voltage source 33 is connected between the input node 24 of the inverter formed by the nMOS transistor Q 13 whose load is the pMOS transistor Q 12 and V CC, and the gate of which is the output node 25 of this inverter. Connected to.

【0008】低電圧源33において、ノード24とGN
D間には抵抗R1 が接続されている。pMOSトランジ
スタQ12及びnMOSトランジスタQ13,Q14の接続関
係は、電流センス回路36を構成するpMOSトランジ
スタQ17及びnMOSトランジスタQ18,Q20の接続関
係と同じである。
In low voltage source 33, node 24 and GN
A resistor R 1 is connected between D. The connection relationship between the pMOS transistor Q 12 and the nMOS transistors Q 13 and Q 14 is the same as the connection relationship between the pMOS transistor Q 17 and the nMOS transistors Q 18 and Q 20 that form the current sense circuit 36.

【0009】したがって、pMOSトランジスタQ12
nMOSトランジスタQ13のディメンジョン比をpMO
SトランジスタQ17とnMOSトランジスタQ18のディ
メンジョン比を同じにすれば、ノード24に発生する電
位はメモリセルがOFFの読出し時のデータバスDB及
びビットライン電位と定常状態において同じである。抵
抗R1 は、nMOSトランジスタQ14のサブスレッショ
ルド電流によるノード24の電位上昇を防止するための
ものである。
Therefore, the dimension ratio of the pMOS transistor Q 12 and the nMOS transistor Q 13 is set to pMO.
If the S transistor Q 17 and the nMOS transistor Q 18 have the same dimension ratio, the potential generated at the node 24 is the same as the data bus DB and the bit line potential at the time of reading when the memory cell is OFF in the steady state. The resistor R 1 is for preventing the potential of the node 24 from rising due to the subthreshold current of the nMOS transistor Q 14 .

【0010】列ラインGLは内部生成定電圧源によりプ
ルアップされる。すなわち、内部生成定電圧源33とそ
の出力ノード24と各列ライン間には、列ラインGLの
選択信号を入力とするインバータ32の出力信号バーY
1 ,バーY2 ,バーY3 ,...をゲート入力とするn
MOSトランジスタQ9 ,Q10,Q11…が接続される。
The column line GL is pulled up by an internally generated constant voltage source. That is, between the internally generated constant voltage source 33 and its output node 24 and each column line, the output signal bar Y of the inverter 32 which receives the selection signal of the column line GL is input.
1 , bar Y 2 , bar Y 3 ,. . . N as the gate input
The MOS transistors Q 9 , Q 10 , Q 11 ... Are connected.

【0011】また、ビットラインBLも内部生成定電圧
源33によりプルアップされる。内部生成定電圧源33
は、その出力ノード26と各ビットライン間に抵抗
2 ,R3 が接続されている。この抵抗R2 ,R3 はB
Lの選択非選択に関係なく内部生成定電圧をプルアップ
する。このため、抵抗R2 ,R3 に流せる電流はメモリ
セルMCの電流より十分小さく設定する必要がある。
The bit line BL is also pulled up by the internally generated constant voltage source 33. Internally generated constant voltage source 33
Has resistors R 2 and R 3 connected between the output node 26 and each bit line. These resistors R 2 and R 3 are B
The internally generated constant voltage is pulled up regardless of whether L is selected or not selected. Therefore, the current that can flow in the resistors R 2 and R 3 must be set sufficiently smaller than the current of the memory cell MC.

【0012】読出し動作は、選択されたメモリセルMC
がビットラインBLから流し出す電流量の変化を、電流
センス回路36によってビットライン電圧の変化に変換
し、更に増幅された電圧として出力することにより行わ
れる。
The read operation is performed in the selected memory cell MC
Is converted into a change in bit line voltage by the current sense circuit 36, and is output as an amplified voltage.

【0013】選択メモリセルMCがOFFの場合、ノー
ド28とMOSトランジスタQ17,Q18で形成されるイ
ンバータの出力ノード27の電位差はnMOSトランジ
スタQ20のしきい値となる状態で平衡している。つま
り、nMOSトランジスタQ20はOFFしているため、
ノード29にはVccが出力される。
When the selected memory cell MC is OFF, the potential difference between the node 28 and the output node 27 of the inverter formed by the MOS transistors Q 17 and Q 18 is balanced at the threshold value of the nMOS transistor Q 20 . . That is, since the nMOS transistor Q 20 is off,
Vcc is output to the node 29.

【0014】選択メモリセルMCがONの場合、ノード
28の電位がひき下げられることによってノード27の
電位が上がり、nMOSトランジスタQ20はONとな
る。このため、出力ノード29にはpMOSトランジス
タQ19が流す電流と、nMOSトランジスタQ20とメモ
リセルの直列ON抵抗が平衡した電位(以下VSL)が現
われる。
When the selected memory cell MC is ON, the potential of the node 28 is lowered by lowering the potential of the node 28, and the nMOS transistor Q 20 is turned ON. Therefore, at the output node 29, a current (hereinafter referred to as V SL ) in which the current flowing through the pMOS transistor Q 19 and the series ON resistance of the nMOS transistor Q 20 and the memory cell are balanced appears.

【0015】次にデータバス系の動作を説明する。なお
メモリセルMC1はしきい値がVCCより高く、MC2
MC3 ,MC4 はVCCより低くなる様、データが書込れ
ているものとする。
Next, the operation of the data bus system will be described. The memory cell MC1 has a threshold value higher than V CC and MC 2 ,
MC 3, MC 4 is such that is lower than V CC, the data is assumed has been written.

【0016】まず、X1 信号及びY3 信号がVCCレベル
で、他のX,Y信号はGNDレベルであるとする。この
とき、バーY1 ,バーY2 信号はVCCレベル、バーY3
信号はGNDレベルである。非選択の列ラインGL21
GL23及びビットラインBL22 は、nMOSトランジ
スタQG5,QB6,QB7,QG8がOFF、nMOSトラン
ジスタQ9 ,Q10がONであるため、ノード24及びノ
ード26と同電位になる。
First, it is assumed that the X 1 signal and the Y 3 signal are at the V CC level and the other X and Y signals are at the GND level. At this time, the bar Y 1 and bar Y 2 signals are at the V CC level, the bar Y 3
The signal is at the GND level. Unselected column line GL 21 ,
Since the nMOS transistors Q G5 , Q B6 , Q B7 and Q G8 are OFF and the nMOS transistors Q 9 and Q 10 are ON, the GL 23 and the bit line BL 22 have the same potential as the node 24 and the node 26.

【0017】ノード24及びノード26の電位は前述の
ようにメモリセルOFFの読出し時のビットライン電位
(以下VBH)と同じであるから、列ラインGL21,GL
23及びビットラインBL22の電位はVBHにプルアップさ
れる。
Since the potentials of the node 24 and the node 26 are the same as the bit line potential (hereinafter V BH ) at the time of reading the memory cell OFF, as described above, the column lines GL 21 and GL.
The potentials on 23 and bit line BL 22 are pulled up to V BH .

【0018】次にY3 信号がGNDレベル、Y2 信号が
CCレベルとなり、メモリセルMC4 の読出しに移った
とき、選択された列ラインGL23はnMOSトランジス
タQG8がON、nMOSトランジスタQ10はゲート入力
信号バーY2 がGNDでOFFとなることからGND電
位に遷移する。
Next, when the Y 3 signal becomes the GND level and the Y 2 signal becomes the V CC level and the read operation of the memory cell MC 4 is started, the nMOS transistor Q G8 is ON and the nMOS transistor Q is turned on in the selected column line GL 23. 10 changes to the GND potential because the gate input signal bar Y 2 is turned off by the GND.

【0019】非選択の列ラインGL21はnMOSトラン
ジスタQ9 がON、nMOSトランジスタQG5がOFF
のままであるから、非選択時の電位VBHを維持する。R
2 がメモリセルMC4 のON抵抗より非常に大きく設定
されているため、ビットラインBL22は電流センス回路
36が流し込む電流とメモリセルMC4 が流す電流とが
平衡したところの電位(以下VBL)へ遷移する。これに
より、電流センス回路36の出力29はVSLを出力す
る。
In the non-selected column line GL 21, the nMOS transistor Q 9 is ON and the nMOS transistor Q G5 is OFF.
Therefore , the potential V BH at the time of non-selection is maintained. R
Since 2 is very larger than the ON resistance of the memory cell MC 4, the bit lines BL 22 potential at which the current of the current and the memory cell MC 4 for pouring a current sense circuit 36 flow was equilibrated (hereinafter V BL ). As a result, the output 29 of the current sense circuit 36 outputs V SL .

【0020】次に、X0 信号、Y1 信号がVCCレベル他
の入力信号はGNDレベルとなり、メモリセルMC1
読出しに移った時選択された列ラインGL21はnMOS
トランジスタQG5がON、nMOSトランジスタQ9
OFFするためGND電位に遷移する。非選択となった
GL23はnMOSトランジスタQ10がON、nMOSト
ランジスタQG8がOFFするため、内部生成定電圧源3
3の出力ノード24と電気的に接続され、ノード24の
電位VBHへと遷移する。ビットラインBL22は、メモリ
セルMC1 がONしないため、VBHの電位に遷移する。
これにより、電流センス回路36の出力29はVCCを出
力する。
Next, when the X 0 signal and the Y 1 signal are at the V CC level and the other input signals are at the GND level, the column line GL 21 selected at the time of reading the memory cell MC 1 is nMOS.
Since the transistor Q G5 is turned on and the nMOS transistor Q 9 is turned off, the potential shifts to the GND potential. In the non-selected GL 23, the nMOS transistor Q 10 turns on and the nMOS transistor Q G8 turns off.
3 is electrically connected to the output node 24, and transitions to the potential V BH of the node 24. The bit line BL 22 transitions to the potential of V BH because the memory cell MC 1 is not turned on.
As a result, the output 29 of the current sense circuit 36 outputs V CC .

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】しかし上記構成の回路
では、Xセルにおける高速読出しを実現するために数P
Fに及ぶ列ラインを高速にVBH電位にプルアップ又はG
NDにディスチャージを行なうため、各列ラインごとに
gmの大きなnMOSトランジスタを2つ配置する必要
があった。したがって、メモリセル周辺のパターンが大
きくなり、チップサイズが大型化するという問題点があ
った。
However, in the circuit having the above-mentioned structure, in order to realize high-speed reading in the X cell, several P are required.
A column line extending to F is pulled up to V BH potential at high speed or G
In order to discharge ND, it is necessary to arrange two nMOS transistors having a large gm for each column line. Therefore, there is a problem that the pattern around the memory cell becomes large and the chip size becomes large.

【0022】本発明はこのような従来技術の各列ライン
の両端に配置されたnMOSトランジスタによるチップ
サイズが大きくなるという問題点を除去し、高速読出し
をそこなうことなく、チップサイズの小さいROMの読
出し回路を提供することを目的とする。
The present invention eliminates the problem of increasing the chip size due to the nMOS transistors arranged at both ends of each column line in the prior art, and reads the ROM having a small chip size without impairing the high speed reading. The purpose is to provide a circuit.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、Xセル構造のメモリマトリックスと、こ
のマトリックスの行を選択する第1の選択手段と、列ラ
インと前記列ラインに隣接するビットラインを選択する
第2の選択手段とを有する読み出し回路は、第2の選択
手段より出力された列デコード信号の逆相を出力するイ
ンバータ回路と、少なくとも1つの内部生成定電圧源と
を有し、内部生成低電圧源はインバータに所定の電位を
供給するとともに、このインバータの出力が列ラインに
直接出力される。
In order to solve the above problems, the present invention provides a memory matrix having an X cell structure, a first selecting means for selecting a row of the matrix, a column line and the column line. A read circuit having a second selection unit that selects an adjacent bit line includes an inverter circuit that outputs a reverse phase of the column decode signal output from the second selection unit, and at least one internally generated constant voltage source. The internally generated low voltage source supplies a predetermined potential to the inverter, and the output of the inverter is directly output to the column line.

【0024】[0024]

【作用】本発明によれば、Xセルメモリマトリックス構
成をもつROMにおいて、非選択時、読出し時のビット
ライン電位(VBH)を出力し、選択時にGNDレベルを
出力するインバータにより、列ラインを駆動する。
According to the present invention, in a ROM having an X-cell memory matrix structure, a column line is formed by an inverter which outputs a bit line potential (V BH ) at the time of non-selection and at the time of reading and outputs a GND level at the time of selection. To drive.

【0025】[0025]

【実施例】次に添付図面を参照して本発明による読み出
し回路の実施例を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Now, embodiments of the readout circuit according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0026】図1は、本発明の読み出し回路の実施例を
示す回路図であって、図2と同一部分には同一符号を記
し、重複する説明はここでは省略する。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a read circuit of the present invention. The same parts as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and the duplicated description will be omitted here.

【0027】すなわち、本実施例において、一点鎖線で
囲んだメモリマトリックス37の回路構成は図2に示し
た従来のものと同じである。また、電流センス回路36
−1および36−2、行デコーダ34、列デコーダ3
5、内部生成定電圧源33−1および33−2において
も、従来例と同じ構成要素でできている。
That is, in this embodiment, the circuit configuration of the memory matrix 37 surrounded by the alternate long and short dash line is the same as the conventional one shown in FIG. In addition, the current sense circuit 36
-1 and 36-2, row decoder 34, column decoder 3
5. The internally generated constant voltage sources 33-1 and 33-2 are also made of the same constituent elements as in the conventional example.

【0028】インバータ40−1〜40−2はそれぞ
れ、列アドレスのデコード信号Y1 ,Y2 または
3 ...の逆相の信号バーYA1,バーYA2またはバー
A3を出力するインバータである。これらインバータ4
0は、pMOSトランジスタQ38とnMOSトランジス
タQ39により形成され、pMOSトランジスタQ38のソ
ースは内部生成電源33の出力ノード24に接続されて
いる。
Inverters 40-1 to 40-2 respectively decode column address decode signals Y 1 , Y 2 or Y 3 . . . It is an inverter that outputs a signal YA A1 , YA2 or YA3 having the opposite phase. These inverters 4
0 is formed by a pMOS transistor Q 38 and an nMOS transistor Q 39, and the source of the pMOS transistor Q 38 is connected to the output node 24 of the internally generated power supply 33.

【0029】これにより、入力信号Yn がLの時はpM
OSトランジスタQ38がONし、nMOSトランジスタ
39がOFFすることでVBHが出力される。また、入力
がHの時pMOSトランジスタQ38がOFFし、nMO
SトランジスタQ39がONすることでGNDが出力され
る。
As a result, when the input signal Y n is L, pM
When the OS transistor Q 38 is turned on and the nMOS transistor Q 39 is turned off, V BH is output. When the input is H, the pMOS transistor Q 38 turns off and nMO
GND is output when the S transistor Q 39 is turned on.

【0030】本実施例ではメモリマトリックス37の列
ラインGLは、直接インバータ40の出力と接続されて
いる。このため、従来の回路において内部生成定電源3
3と列ライン間に配置されていたnMOSトランジスタ
9 ,Q10,Q11及び列ラインとGND間に配置されて
いたnMOSトランジスタQG5,QG8...は不要とな
る。
In this embodiment, the column line GL of the memory matrix 37 is directly connected to the output of the inverter 40. Therefore, in the conventional circuit, the internally generated constant power source 3
3 and column lines, and nMOS transistors Q 9 , Q 10 , Q 11 arranged between the column lines and GND, and nMOS transistors Q G5 , Q G8 . . . Is unnecessary.

【0031】次に本実施例の動作を説明するが、動作説
明を簡潔にするため、メモリセルMC1 〜MC4 のデー
タ書込み状態を従来例の動作説明時と同じとしメモリセ
ルMCの選択も全く同じ順番で行なう。また、メモリセ
ルのVt がVCCより高い時のビットライン電位は、従来
例と同じVBHであるとする。さらに、メモリセルMCの
t がVCCより低い時のビットライン電位は、従来例と
同じVBLであるとする。
[0031] Next will be described the operation of the present embodiment, for simplicity of description, the data written state of the memory cells MC 1 to MC 4 also selects the same city memory cell MC at the time of operation described in the prior art Do in exactly the same order. Further, it is assumed that the bit line potential when the V t of the memory cell is higher than V CC is the same V BH as in the conventional example. Further, it is assumed that the bit line potential when V t of the memory cell MC is lower than V CC is the same V BL as in the conventional example.

【0032】ここで信号X1 及び信号Y3 がVCCレベ
ル、他の入力信号はGNDレベルであるとする。このと
きバーYA1,バーYA2はVBHレベル、バーYA3はGND
レベルである。
Here, it is assumed that the signals X 1 and Y 3 are at V CC level and the other input signals are at GND level. At this time, the bars Y A1 and Y A2 are at V BH level, and the bar Y A3 is GND.
It is a level.

【0033】インバータ40−1〜40−3の出力信号
バーYA1,バーYA2,バーYA3はそれぞれ、列ラインG
21〜GL23に直接接続されている。このため、非選択
の列ラインGL及びビットラインBLは、内部生成定電
圧源33−1のノード24と内部生成定電圧源33−2
のノード26と同電位となる。
The output signals bar Y A1 , bar Y A2 , and bar Y A3 of the inverters 40-1 to 40-3 are column lines G, respectively.
It is directly connected to L 21 to GL 23 . Therefore, the non-selected column line GL and the bit line BL are connected to the node 24 of the internally generated constant voltage source 33-1 and the internally generated constant voltage source 33-2.
Of the node 26.

【0034】ノード24及びノード26の電位は、前述
のように選択されたメモリセルMCのVT がVCCより高
い時のビットライン電位と同じであるから、列ラインG
L及びビットラインBLの電位はVBHにプルアップされ
る。
Since the potentials of the node 24 and the node 26 are the same as the bit line potential when V T of the memory cell MC selected as described above is higher than V CC , the column line G
The potentials of L and the bit line BL are pulled up to V BH .

【0035】次にY3 信号がGNDレベルY2 信号がV
CCレベルとなり、MC4 の読出しに移った時、選択され
た列ラインGL23はY2 入力のインバータ40−2の出
力バーYA2がGNDになるためGND電位に遷移する。
非選択の列ラインGL21は、Y1 入力のインバータ40
−1の出力バーYA1は変化しないため、非選択時の列ラ
イン電位VBHを維持する。選択ビットラインBL22は従
来回路と同等の動作を行ない、VBLに遷移する。これに
よって電流センス回路36−1の出力29はVSLを出力
する。
Next, the Y 3 signal is at the GND level and the Y 2 signal is at the V level.
When the level becomes CC and the reading of MC 4 is started, the selected column line GL 23 changes to the GND potential because the output bar Y A2 of the inverter 40-2 of Y 2 input becomes GND.
The non-selected column line GL 21 is connected to the Y 1 input inverter 40.
Since the output bar Y A1 of -1 does not change, the column line potential V BH at the time of non-selection is maintained. The selected bit line BL 22 performs the same operation as the conventional circuit, and transits to V BL . As a result, the output 29 of the current sense circuit 36-1 outputs V SL .

【0036】次にX0 信号、Y1 信号がVCCレベル他の
入力信号がGNDレベルとなり、MC1 の読出しに移っ
た時、選択された列ラインGL21は、Y1 入力のインバ
ータ40−1によりGND電位に遷移する。非選択とな
ったGL23は、Y2 入力のインバータ40−2の出力が
BHへと遷移するのと、同時にGNDからVBHレベルに
遷移する。選択ビットラインBL22はメモリセルMC1
がONしないためVBHレベルに遷移する。これにより電
流センス回路36の出力ノード29はVCCへと遷移す
る。
Next, when the X 0 signal and the Y 1 signal are at the V CC level and the other input signals are at the GND level, and when the operation for reading MC 1 is started, the selected column line GL 21 is connected to the Y 1 input inverter 40-. The transition to the GND potential is caused by 1. GL 23 became unselected, and the output of the inverter 40-2 Y 2 input transitions to V BH, at the same time a transition from GND to V BH level. The selected bit line BL 22 is a memory cell MC 1
Does not turn on , the state transits to V BH level. This causes output node 29 of current sense circuit 36 to transition to V CC .

【0037】図3は図1と図2の読出動作の波形図であ
る。図3より明らかなように、高速読み出しを損なうこ
と無く、各列ラインGLの両端に配置されたnMOSト
ランジスタを不要としている。
FIG. 3 is a waveform diagram of the read operation of FIGS. 1 and 2. As is apparent from FIG. 3, the nMOS transistors arranged at both ends of each column line GL are unnecessary without impairing high-speed reading.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上、詳細に説明した様にこの発明によ
れば従来技術のXセルメモリアレイ構成のデータの読出
しを高速に行なうことを防げずにメモリアレイ周辺のト
ランジスタを1列ラインあたり、2つのトランジスタを
削除することが可能となり、高速読み出しでなおかつ、
チップサイズの縮小化が期待出来る。
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to prevent the high-speed reading of data in the X-cell memory array configuration of the prior art from being prevented, and the transistors in the periphery of the memory array per column line, It becomes possible to remove two transistors, which enables high-speed reading and
It can be expected to reduce the chip size.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にによる読み出し回路の実施例を示す回
路図、
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a read circuit according to the present invention,

【図2】従来の読み出し回路の回路図、FIG. 2 is a circuit diagram of a conventional read circuit,

【図3】図1と図3における動作波形の比較例である。FIG. 3 is a comparative example of operation waveforms in FIGS. 1 and 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

33−1,33−2 内部生成定電圧源 34 行デコーダ 35 列デコーダ 36−1,36−2 電流センス回路 37 メモリマトリクス 40−1〜40−3 インバータ 33-1, 33-2 internally generated constant voltage source 34 row decoder 35 column decoder 36-1, 36-2 current sense circuit 37 memory matrix 40-1 to 40-3 inverter

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Xセル構造のメモリマトリックスと、こ
のマトリックスの行を選択する第1の選択手段と、列ラ
インと前記列ラインに隣接するビットラインを選択する
第2の選択手段とを有する読み出し回路において、 前記第2の選択手段より出力された列デコード信号の逆
相を出力するインバータ回路と、少なくとも1つの内部
生成定電圧源とを有し、 前記内部生成低電圧源は前記インバータに所定の電位を
供給するとともに、このインバータの出力が前記列ライ
ンに直接出力されることを特徴とする読み出し回路。
1. A read comprising a memory matrix of X-cell structure, a first selecting means for selecting a row of the matrix, and a second selecting means for selecting a column line and a bit line adjacent to the column line. The circuit further includes an inverter circuit that outputs a reverse phase of the column decode signal output from the second selection unit, and at least one internally generated constant voltage source, and the internally generated low voltage source is predetermined in the inverter. The read circuit is characterized in that the output of the inverter is directly output to the column line while the potential of is supplied.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6044576A (en) * 1990-08-29 2000-04-04 Hitachi, Ltd. Vacuum processing and operating method using a vacuum chamber
US8105452B2 (en) 2005-11-25 2012-01-31 Tokyo Electron Limited Bonding apparatus and bonding method

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