JP3071273B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3071273B2
JP3071273B2 JP30218991A JP30218991A JP3071273B2 JP 3071273 B2 JP3071273 B2 JP 3071273B2 JP 30218991 A JP30218991 A JP 30218991A JP 30218991 A JP30218991 A JP 30218991A JP 3071273 B2 JP3071273 B2 JP 3071273B2
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line
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

【0001】この発明は、メモリIC等に用いて好適な
デコーダ回路に関する。
[0001] The present invention relates to a decoder circuit suitable for use in a memory IC or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3は、従来の半導体記憶装置の一例を
示す回路図である。この図において、1はデータを記憶
するメモリセルである。このメモリセル1は、例えば、
記憶するデータの内容に応じてディプレッションか、
もしくはエンハンスメントのNチャンネルMOSトラ
ンジスタを形成し、該メモリセルがアレイ状に配設され
てメモリセルアレイ(符号なし)が構成される。このよ
うなメモリセルアレイを形成する各トランジスタのゲー
ト端子には、図示されていないワード線が接続されてお
り、該ワード線には所定のメモリセルを指定するロウ側
アドレス信号が供給される。すなわち、このロウ側アド
レス信号は、メモリセルアレイ「行」を指定するよう
になっている。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device . In this figure, reference numeral 1 denotes a memory cell for storing data. This memory cell 1 is, for example,
Depletion type or depending on the content of the data to be stored,
Or forming an N-channel MOS transistor of the enhancement type, the memory cells are arranged in array form
Thus, a memory cell array (without sign) is configured . The gate terminals of the transistors forming such a memory cell array, is connected to a word line which is not shown, the row-side address signal for designating the predetermined memory cell is supplied to the word line . That is, the low-side address signals is adapted to specify a "row" of the memory cell array.

【0003】2,2はセレクトトランジスタであり、そ
のゲート端子にはそれぞれセレクト線SL1,SL2が
接続される。このセレクト線SL1,SL2には、ビッ
ト線B1,B2を選択するコラム側アドレス信号が供給
され、該アドレス信号に応じてメモリセルアレイの
「列」が選択される。3は上述したロウ側アドレス信号
およびコラム側アドレス信号によって指定されたメモリ
セルのデータを読み出し、OUT端子から出力するセン
サアンプである。このセンサアンプ3の構成例を図4に
示す。
Reference numerals 2 and 2 denote select transistors, and select lines SL1 and SL2 are connected to their gate terminals, respectively. To the select lines SL1 and SL2, a column address signal for selecting the bit lines B1 and B2 is supplied .
"Column " is selected. Reference numeral 3 denotes a sensor amplifier that reads data from a memory cell specified by the above-described row-side address signal and column-side address signal and outputs the data from an OUT terminal. FIG. 4 shows a configuration example of the sensor amplifier 3.

【0004】図4において、4cは駆動トランジスタ4
aとインバータ4bとから構成されるレベルシフト回路
である。このレベルシフト回路4cは、上述したロウ側
アドレス信号およびコラム側セレクト信号によって指定
されたメモリセルの接続状況に応じたレベルを発生し、
これをセンス線Sに出力する。50はリファレンス回路
であり、正電源電圧+Vddから所定の基準レベル電圧
を生成し、これをリファレンス線Rに出力する。6は差
動アンプであり、上記リファレンス線Rとセンス線Sと
に供給される信号を差動増幅して出力する。
In FIG. 4, reference numeral 4c denotes a driving transistor 4
a and a level shift circuit composed of an inverter 4b. The level shift circuit 4c generates a level according to the connection state of the memory cell specified by the row address signal and the column select signal described above,
This is output to the sense line S. Reference numeral 50 denotes a reference circuit which generates a predetermined reference level voltage from the positive power supply voltage + Vdd, and outputs this to the reference line R. Reference numeral 6 denotes a differential amplifier, which differentially amplifies signals supplied to the reference line R and the sense line S and outputs the amplified signal.

【0005】上記構成による半導体記憶装置では、次の
ようにしてデータの読み出しがなされる。すなわち、メ
モリセルアレイの所定のメモリセルにアクセスする際に
は、まず、コラム側アドレス信号によりビット線B1,
B2のいずれかを選択してメモリセル1からなるメモリ
セルアレイの「列」を指定すると共に、この指定された
ビット線に接続されるメモリセル1からなるメモリセル
アレイの「行」がロウ側アドレス信号により指定され
る。そして、こうして指定されたメモリセルがデータを
保持してる場合、センサアンプ3は出力端OUTから
「H」レベルの信号(データ「1」)を出力し、一方、
当該メモリセルがデータを保持していない場合には出力
端OUTから「L」レベルの信号(データ「0」)を出
力する。
In the semiconductor memory device having the above configuration, data is read out as follows. That is, when accessing a predetermined memory cell of the memory cell array, first, the bit line by the column-side address signals B1,
Select one of B2 and the memory comprising the memory cell 1
A "column" of a cell array is designated, and a memory cell comprising a memory cell 1 connected to the designated bit line
A "row" of the array is specified by a row address signal. When the specified memory cell holds data, the sensor amplifier 3 outputs an “H” level signal (data “1”) from the output terminal OUT.
When the memory cell does not hold data, an “L” level signal (data “0”) is output from the output terminal OUT.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した
導体記憶装置においては、外部から供給されるコラム側
アドレス信号に応じて行われるビット線の切り換えに伴
い、次のような問題が生じていた。以下、これについて
図5および図6を参照し、説明する。まず、図5に示す
ように、ビット線B1とビット線B2との切り換え期間
をT1,T2,T3とし、これら期間T1〜T3でメモ
リセル1からなるメモリセルアレイの「列」を指定する
コラム側アドレス信号が供給され、各タイミングで読み
出されるデータの期待値をそれぞれ「1」,「1」,
「1」とする。
By the way, the above-mentioned half
In the conductive memory device , the following problem has occurred with the switching of the bit line performed according to the column address signal supplied from the outside. Hereinafter, this will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 5, the switching period between the bit line B1 and the bit line B2 is T1, T2, T3, and the columns T1 to T3 designate the "column" of the memory cell array including the memory cells 1 in these periods. An address signal is supplied, and expected values of data read at each timing are set to “1”, “1”,
Let it be "1".

【0007】この時、期間T1,T3でビット線B2が
選択され、期間T2でビット線B1が選択されると、こ
の期間T1,T3ではビット線B1がレベルVssにデ
ィスチャージされ、一方、期間T2ではビット線B2が
レベルVssにディスチャージされる。なお、このレベ
ルVssとは、上記メモリセルを構成するトランジスタ
のソース端子の電位レベルを指している。
At this time, when the bit line B2 is selected in the periods T1 and T3 and the bit line B1 is selected in the period T2, the bit line B1 is discharged to the level Vss in the periods T1 and T3, while the period T2 , The bit line B2 is discharged to the level Vss. Note that the level Vss indicates the potential level of the source terminal of the transistor included in the memory cell.

【0008】このように、ビット線の切り換えに応じて
ディスチャージがなされると、このデコーダ回路の節点
Aでは、図5に示すレベル変化が現れる。すなわち、ビ
ット線が切り換えられた場合には、図6に示すように、
センサアンプ3におけるセンス線Sのレベルがディスチ
ャージにより一旦リファレンス線Rレベルより下がり、
その後チャージされて「H」レベルに移行する。そし
て、センサアンプ3は、センス線Sのレベルがリファレ
ンス線Rのレベルより低下した場合、「L」レベルと認
識してしまう。
As described above, when the discharge is performed in accordance with the switching of the bit line, the level change shown in FIG. 5 appears at the node A of the decoder circuit. That is, when the bit line is switched, as shown in FIG.
The level of the sense line S in the sensor amplifier 3 temporarily drops below the reference line R level due to discharge,
Thereafter, it is charged and shifts to the “H” level. When the level of the sense line S is lower than the level of the reference line R, the sensor amplifier 3 recognizes the level as the “L” level.

【0009】この結果、センサアンプ3は、読み出すべ
きデータが「1」であるにもかかわらず、上記誤動作に
よりノイズとなる誤データ「0」を出力してしまうとい
う問題がある。しかも、こうしたノイズは、図6に示す
ように、ビット線の切り換わり後、センサアンプ3にお
ける内部ディレイTdを伴って現れるため、真のデータ
を読み出すまでに時間を要し、こうしたことがアクセス
タイムの遅れに由来していた。この発明は上述した事情
に鑑みてなされたもので、ノイズとなる誤データ発生を
防止でき、かつ、アクセス時間をも短縮できる半導体記
憶装置を提供することを目的としている。
As a result, there is a problem that the sensor amplifier 3 outputs erroneous data "0" which becomes noise due to the above-mentioned malfunction, although the data to be read is "1". In addition, as shown in FIG. 6, such noise appears along with the internal delay Td in the sensor amplifier 3 after the switching of the bit line, so that it takes time to read the true data, which is the access time. Came from a delay. The present invention has been made in view of the above circumstances, it is possible to prevent erroneous data generated as noise, and the semiconductor SL can be shortened even access time
It is intended to provide storage devices .

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明は、メモリセル
がアレイ状に配設されて各ビット線にそれぞれ接続され
てなるメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの
を指定するコラム側アドレス信号に応じて前記各ビット
線のいずれかを選択する第1の選択手段と、電源と入力
端との間に接続される駆動トランジスタと、前記入力端
からの入力信号を入力し前記駆動トランジスタのゲート
に出力するインバータとからなり、前記駆動トランジス
タとインバータとの接続点から、ロウ側アドレスおよび
コラム側セレクト信号によって指定されたメモリセルの
接続状況に応じたレベル信号をセンス線に出力するレベ
ルシフト回路と、電源電圧から所定の基準レベル電圧を
生成し、この基準レベル電圧をリファレンス線に出力す
るリファレンス回路と、前記センス線と前記リファレン
ス線とに供給される各々の信号を差動増幅して出力する
差動アンプとからなり、前記第1の選択手段により選択
されたビット線に接続する前記メモリセルアレイの内、
所定のメモリセルのデータを読み出すセンサアンプと
備えた半導体記憶装置において、前記第1の選択手段に
よって選択されたビット線以外の全ビット線を選択する
第2の選択手段と、前記センサアンプと同一構成のダミ
ーアンプからなり、前記第2の選択手段によって選択さ
れた前記全ビット線をプルアップし、前記第2の選択手
段によって選択された前記全ビット線に接続されたメモ
リセルが保持するデータに応じた電圧を供給する電圧供
給手段とを具備することを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a memory cell.
Are arranged in an array and connected to each bit line.
A memory cell array composed of Te, during the first selection means for selecting one of the bit lines according to a column side address signal for designating a column <br/> of said memory cell array, a power input end A driving transistor to be connected, and an inverter for inputting an input signal from the input terminal and outputting the signal to the gate of the driving transistor. From a connection point between the driving transistor and the inverter, a row-side address and a column-side select signal are used. A level shift circuit that outputs a level signal according to a connection state of a specified memory cell to a sense line, a reference circuit that generates a predetermined reference level voltage from a power supply voltage, and outputs the reference level voltage to a reference line; A differential amplifier that differentially amplifies and outputs each signal supplied to the sense line and the reference line; Rannahli, among the memory cell array connected to the bit line selected by said first selection means,
A sensor amplifier for reading data of a predetermined memory cell
A semiconductor memory device comprising: a second selection unit that selects all bit lines other than the bit line selected by the first selection unit; and a dummy amplifier having the same configuration as the sensor amplifier, and Pulling up all of the bit lines selected by the selection means , the second selection means
Note connected to all bit lines selected by the stage
Voltage supply means for supplying a voltage corresponding to the data held by the recell .

【0011】[0011]

【作用】上記構成によれば、第2の選択手段が第1の選
択手段によって選択されたビット線以外の全ビット線を
選択すると共に、電圧供給手段が、前記第2の選択手段
によって選択された全ビット線に対して、前記全ビット
線に接続されたメモリセルが保持するデータに応じた
定電圧を供給し、ビット線切り換わり時に発生するビッ
ト線のレベル低下を防止する。
According to the above arrangement, the second selecting means selects all the bit lines other than the bit lines selected by the first selecting means, and the voltage supply means selects the second selecting means.
For all bit lines selected by said all bits
A constant voltage is supplied according to the data held by the memory cells connected to the line to prevent a bit line level from being lowered when the bit line is switched.

【0012】[0012]

【実施例】以下、図面を参照してこの発明の実施例につ
いて説明する。図1はこの発明による一実施例にかかる
半導体記憶装置の構成を示す回路図である。この図にお
いて、図3に示した各部と共通する部分には同一の番号
を付し、その説明を省略する。また、この図に示す半導
体記憶装置が図3に示すものと異なる点は、ビット線B
1,B2の他端にスイッチ動作するセレクトトランジス
タ4,4をそれぞれ直列接続すると共に、これらセレク
トトランジスタ4,4を介して後述するダミーアンプ5
を接続したことにある。以下、こうした構成について説
明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 according to an embodiment according to the invention
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a configuration of a semiconductor storage device . In this figure, parts common to the respective parts shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. In addition, the semiconductor shown in this figure
The point that the body memory device differs from that shown in FIG.
Select transistors 4 and 4 that operate as switches are respectively connected in series to the other ends of the first and second transistors B1 and B2.
Is connected. Hereinafter, such a configuration will be described.

【0013】このセレクトトランジスタ4,4は、前述
したセレクトトランジスタ2,2と同様に動作するもの
であり、セレクト線SL3,SL4に供給されるコラム
側アドレス信号に応じてビット線B1,B2を切り換え
る。このセレクト線SL3,SL4には、セレクトトラ
ンジスタ2,2の切り換え動作と逆になるようにコラム
側アドレス信号が供給される。すなわち、セレクトトラ
ンジスタ2,2がビット線B1(またはB2)を選択す
る場合には、セレクトトランジスタ4,4がビット線B
2(またはB1)を選択するようにコラム側アドレス信
号が供給されるようになっている。
The select transistors 4 and 4 operate in the same manner as the select transistors 2 and 2 and switch the bit lines B1 and B2 in accordance with the column address signals supplied to the select lines SL3 and SL4. . A column address signal is supplied to the select lines SL3 and SL4 so as to reverse the switching operation of the select transistors 2 and 2. That is, when select transistors 2 and 2 select bit line B1 (or B2), select transistors 4 and 4 select bit line B1 (or B2).
The column address signal is supplied so as to select 2 (or B1).

【0014】ダミーアンプ5は、前述したセンサアンプ
3と同一の構成(図4参照)であり、セレクトトランジ
スタ4,4が選択したビット線を一定電位にプルアップ
するものである。つまり、このダミーアンプ5は、セレ
クトトランジスタ4,4がコラム側アドレス信号に応じ
て選択したビット線を一定電位に保っておき、切り換え
時にビット線がディスチャージしてレベルVssに低下
することを防止している。なお、この一定電位とは、例
えば、センサアンプ3が「H」レベルと認識する電位よ
り100mV程度低い電位である。
The dummy amplifier 5 has the same configuration as the sensor amplifier 3 described above (see FIG. 4), and pulls up the bit line selected by the select transistors 4 and 4 to a constant potential. That is, the dummy amplifier 5 keeps the bit line selected by the select transistors 4 and 4 in accordance with the column side address signal at a constant potential, and prevents the bit line from being discharged to the level Vss when switching. ing. The constant potential is, for example, a potential that is about 100 mV lower than the potential that the sensor amplifier 3 recognizes as the “H” level.

【0015】次に、上記構成による半導体記憶装置の読
み出し動作について図2を参照し、説明する。なお、こ
の動作説明では、図2に示すように、セレクトトランジ
スタ2,2によってなされるビット線B1とビット線B
2との切り換え期間をT1,T2,T3とし、これら期
間T1〜T3でメモリセル1からなるメモリセルアレイ
の「列」を指定するコラム側アドレス信号が供給され、
これら各タイミングで読み出されるデータの期待値をそ
れぞれ「1」,「1」,「1」とする。
Next, a read operation of the semiconductor memory device having the above configuration will be described with reference to FIG. In the description of the operation, as shown in FIG. 2, the bit lines B1 and B
2 is defined as T1, T2, and T3, and the memory cell array including the memory cells 1 is used in these periods T1 to T3.
Column address signal that specifies the “column” of
The expected values of the data read at each of these timings are “1”, “1”, and “1”, respectively.

【0016】このような状況において、期間T1ではセ
レクタ線SL2が「H」レベルに設定され、ビット線B
2が選択される(図2に示すSL2の波形参照)。この
時、セレクト線SL3が「H」レベルに設定され、これ
によりビット線B1がダミーアンプ5に接続されて一定
電位に保たれる(図2に示す節点Bの波形参照)。そし
て、この期間T1から次の期間T2に遷移する場合に
は、コラム側アドレス信号に従ってセレクタ線SL1が
「H」レベルに設定されてビット線B1が選択される。
そして、この切り換えと同時にセレクト線SL4が
「H」レベルになり、ビット線B2がダミーアンプ5に
接続される。
In such a situation, in the period T1, the selector line SL2 is set to the "H" level, and the bit line B
2 is selected (see the waveform of SL2 shown in FIG. 2). At this time, the select line SL3 is set to the “H” level, whereby the bit line B1 is connected to the dummy amplifier 5 and is kept at a constant potential (see the waveform of the node B shown in FIG. 2). Then, when transitioning from this period T1 to the next period T2, the selector line SL1 is set to “H” level according to the column address signal, and the bit line B1 is selected.
At the same time as this switching, the select line SL4 goes to “H” level, and the bit line B2 is connected to the dummy amplifier 5.

【0017】したがって、ビット線B1,B2の両者
は、セレクトトランジスタ2、2により切り換えられて
も一定の電位を維持するので、この半導体記憶装置にお
ける節点A(図2参照)では、従来のようにディスチャ
ージされてレベルVssに低下することがない。そし
て、こうしたビット線切り換え後には、前述したロウ側
アドレス信号に対応した所定のメモリセルが読み出され
る。この場合、データ「1」が読み出される。次いで、
期間T3へ遷移する場合でも上述と同様の動作がなさ
れ、このデコーダ回路における節点Aは「H」レベルと
なり、データ「1」が読み出される。
Accordingly, since both bit lines B1 and B2 maintain a constant potential even when switched by select transistors 2 and 2, node A in this semiconductor memory device (see FIG. 2). In this case, discharge does not occur and the voltage does not drop to the level Vss as in the related art. After such bit line switching, a predetermined memory cell corresponding to the above-mentioned row address signal is read. In this case, data “1” is read. Then
Even in the transition to the period T3, the same operation as described above is performed, the node A in this decoder circuit becomes the "H" level, and the data "1" is read.

【0018】このように、上述した実施例においては、
セレクトトランジスタ4,4によって選択されたビット
線がダミーアンプ5により一定電位に保たれるため、デ
コーダ回路における節点Aには、従来のようなディスチ
ャージによるレベル低下が起こらない。この結果、該レ
ベル低下に起因するノイズ発生が防止でき、ひいてはア
クセスタイムの短縮化も達成することが可能になる訳で
ある。
Thus, in the embodiment described above,
Since the bit line selected by the select transistors 4 and 4 is kept at a constant potential by the dummy amplifier 5, the level of the node A in the decoder circuit does not decrease due to discharge as in the related art. As a result, it is possible to prevent the occurrence of noise due to the reduction in the level, and to shorten the access time.

【0019】なお、上述した動作説明では、読み出され
るデータが全て「1」の場合を例にしたが、これは読み
出されるデータが「0」の場合でも同様である。すなわ
ち、ダミーアンプ5によってプルアップされる電位は、
センサアンプ3が「H」レベルと認識するレベルより1
00mV程度低い電位であるから、読み出されるデータ
が「0」の場合に他のビット線がプルアップされていて
も、センサアンプ3により「L」レベルと認識される。
In the above description of the operation, the case where all the data to be read is "1" has been described as an example, but the same applies to the case where the data to be read is "0". That is, the potential pulled up by the dummy amplifier 5 is
1 higher than the level that the sensor amplifier 3 recognizes as “H” level
Since the potential is about 00 mV lower, even if other bit lines are pulled up when the data to be read is “0”, it is recognized as “L” level by the sensor amplifier 3.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、センサアンプが第1の選択手段によって選択された
ビット線に接続するメモリセルアレイの内の所定のメモ
リセルのデータを読み出し、第2の選択手段が第1の選
択手段によって選択されたビット線以外の全ビット線を
選択すると共に、電圧供給手段がセンサアンプと同一構
成のダミーアンプによって第2の選択手段により選択さ
れた全ビット線に対して一定電圧を供給して製造上のば
らつきに影響されることなくビット線切り換わり時に発
生するビット線のレベル低下を防止するので、従来のよ
うなディスチャージによるレベル低下がなくなるため、
ノイズとなる誤データ発生を防止でき、かつ、アクセス
時間も短縮できる。
As described above, according to the present invention, the sensor amplifier is selected by the first selecting means.
A predetermined memory in the memory cell array connected to the bit line
The data of the recell is read out, the second selecting means selects all bit lines other than the bit lines selected by the first selecting means, and the voltage supply means has the same structure as the sensor amplifier.
Field production by supplying a constant voltage to all the bit line selected by the second selection means by forming the dummy amplifier
Since the bit line level drop that occurs at the time of bit line switching is prevented without being affected by fluctuations, the level drop due to the conventional discharge is eliminated.
It is possible to prevent erroneous data from occurring as noise and shorten the access time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明による一実施例の構成を示す回路
図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of an embodiment according to the present invention.

【図2】 同実施例の動作を説明するためのタイムチャ
ート。
FIG. 2 is a time chart for explaining the operation of the embodiment.

【図3】 従来の半導体記憶装置の一例を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of a conventional semiconductor memory device .

【図4】 センサアンプ3の構成を示す回路図。FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a sensor amplifier 3.

【図5】 従来例の動作を説明するためのタイムチャー
ト。
FIG. 5 is a time chart for explaining the operation of the conventional example.

【図6】 従来例を説明するための図。FIG. 6 is a diagram illustrating a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…メモリセル、2…セレクトトランジスタ(第1の選
択手段)、3…センサアンプ(読み出し手段)、4…セ
レクトトランジスタ(第2の選択手段)、5…ダミーア
ンプ(電圧供給手段)、B1,B2…ビット線。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... memory cell , 2 ... select transistor (1st selection means), 3 ... sensor amplifier (reading means), 4 ... select transistor (2nd selection means), 5 ... dummy amplifier (voltage supply means), B1, B2: Bit line.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 メモリセルがアレイ状に配設されて各ビ
ット線にそれぞれ接続されてなるメモリセルアレイと、 前記メモリセルアレイのを指定するコラム側アドレス
信号に応じて前記各ビット線のいずれかを選択する第1
の選択手段と、 電源と入力端との間に接続される駆動トランジスタと、
前記入力端からの入力信号を入力し前記駆動トランジス
タのゲートに出力するインバータとからなり、前記駆動
トランジスタとインバータとの接続点から、ロウ側アド
レスおよびコラム側セレクト信号によって指定されたメ
モリセルの接続状況に応じたレベル信号をセンス線に出
力するレベルシフト回路と、電源電圧から所定の基準レ
ベル電圧を生成し、この基準レベル電圧をリファレンス
線に出力するリファレンス回路と、前記センス線と前記
リファレンス線とに供給される各々の信号を差動増幅し
て出力する差動アンプとからなり、前記第1の選択手段
により選択されたビット線に接続する前記メモリセルア
レイの内、所定のメモリセルのデータを読み出すセンサ
アンプとを備えた半導体記憶装置において、 前記第1の選択手段によって選択されたビット線以外の
全ビット線を選択する第2の選択手段と、 前記センサアンプと同一構成のダミーアンプからなり、
前記第2の選択手段によって選択された前記全ビット線
をプルアップし、前記第2の選択手段によって選択され
た前記全ビット線に接続されたメモリセルが保持するデ
ータに応じた電圧を供給する電圧供給手段とを具備する
ことを特徴とする半導体記憶装置
1. A memory cell array memory cells are connected to respective bit lines are arranged in an array, any of the bit lines according to a column side address signal for designating a column of said memory cell array The first to choose
A driving transistor connected between a power supply and an input terminal;
An inverter for inputting an input signal from the input terminal and outputting the input signal to the gate of the drive transistor; connecting a memory cell specified by a row-side address and a column-side select signal from a connection point between the drive transistor and the inverter; A level shift circuit that outputs a level signal according to a situation to a sense line, a reference circuit that generates a predetermined reference level voltage from a power supply voltage and outputs the reference level voltage to a reference line, the sense line and the reference line And a differential amplifier that differentially amplifies and outputs each of the signals supplied to the memory cell array. The data of a predetermined memory cell in the memory cell array connected to the bit line selected by the first selecting means. And a sensor amplifier for reading the data , wherein the first selecting means A second selection means for selecting all bit lines other than the selected bit line; and a dummy amplifier having the same configuration as the sensor amplifier,
The all bit lines selected by the second selecting means;
Is pulled up and selected by the second selecting means.
Data held by the memory cells connected to all the bit lines.
And a voltage supply means for supplying a voltage corresponding to the data .
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