JP3379970B2 - Semiconductor storage device - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、2系統のチップセレクト信号の信号変化により内部
回路がアクティブまたは非アクティブ状態に制御される
半導体記憶装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2は、従来の半導体記憶装置を示すブ
ロック図であり、1は行アドレス入力、2は行アドレス
入力1を増幅または反転するための行アドレス・バッフ
ァ、3は行アドレス入力1に与えられた行アドレス信号
を復号化するための行アドレス・デコーダ、4は列アド
レス入力、5は列アドレス入力4を増幅または反転する
ための列アドレス・バッファ、6は列アドレス入力4に
与えられた列アドレス信号を復号化する列アドレス・デ
コーダ、7は情報を記憶するメモリセルがマトリクス状
に配列されたメモリセルアレイ、8はマルチプレクサ、
9は小振幅の読み出し電圧を感知増幅するセンスアン
プ、10はセンスアンプ9の出力をさらに半導体記憶装
置の外部に取り出すレベルまで増幅するための出力デー
タ・バッファ、11は読み出しデータ出力端子、12は
書き込みデータ入力端子、13は書き込みデータ入力1
2に与えられた信号を増幅するための入力データ・バッ
ファ、14はチップ選択入力端子、15は読み出し/書
き込み制御入力端子、16はチップ選択/非選択とデー
タ読み出し/書き込みモードに応じてセンスアンプ9,
出力データ・バッファ10,書き込みデータ・バッファ
13などを制御する読み出し/書き込み制御回路であ
る。
【0003】また、図3は図2の半導体記憶装置のメモ
リセルとその周辺部とを示した回路図であり、ここで
は、簡単のためにメモリセルアレイとして2行2列の構
成のものを示している。図において、20aと20b,
21aと21bとはそれぞれ対応するビット線対、22
と23は行アドレス・デコーダ3の出力点に接続された
ワード線、24a,24b,24c,24dは、ワード
線22,23とビット線対20a,20b及びビット線
対21a,21bとの交点にそれぞれ配置されたメモリ
セル、25a,25bと26a,26bはそれぞれ一端
が電源電位18に、他端がビット線20a,20b,2
1a,21bにそれぞれ接続されたビット線負荷、27
a,27b,28a,28bは図2で示した列アドレス
・デコーダ6の出力信号がゲートに入力され、ドレイ
ン,ソースがそれぞれビット線対20a,20bと21
a,21bとに接続され、図2で示すマルチプレクサ8
を構成するトランスファ・ゲートである。尚、図中図2
と同一符号は同一または相当する部分を示している。
【0004】また、図4は、図3におけるメモリセル2
4の回路構成を示す図であり、図4(a) は高抵抗負荷型
NMOSメモリセルを示し、図4(b) はCMOS型メモ
リセルを示している。図において、41a,41bはド
レインが記憶ノード45a,45bにそれぞれ接続さ
れ、ゲートが互いに他方のドレインに接続され、ソース
がアース19に接続されたNチャネルのドライバ・トラ
ンジスタ、42a,42bはドレインまたはソースが記
憶ノード45a,45bに、ゲートがワード線22また
は23に、ソースまたはドレインがビット線20(20
a,20b)または21(21a,21b)にそれぞれ
接続されたNチャネルのアクセス・トランジスタ、43
a,43bは一端が電源電位18に、他端が記憶ノード
45a,45bにそれぞれ接続された負荷抵抗、44
a,44bはドレインが記憶ノードに、ゲートが互いに
他方のドレインに、ソースが電源電位18に接続された
Pチャネル・トランジスタである。
【0005】以下、上記半導体記憶装置の動作を説明す
る。図5は、上記半導体記憶装置の動作タイミングを示
す図であり、図において、AINはアドレス入力、AOUT
はアドレス・バッファ出力、WLはワード線、I/Oは
I/O線、SAOUT はセンスアンプ出力、DOUT はデー
タ出力を示している。
【0006】例えば、メモリセル24aを選択する場
合、行アドレス入力1から選択すべきメモリセル24a
が位置する行に対応した行アドレス信号が入力され、メ
モリセル24aが接続されたワード線22が選択レベル
(例えば、Highレベル)になり、他のワード線23
は非選択レベル(例えばLowレベル)になる。同様に
ビット線の選択も、アドレス入力4から選択すべきメモ
リセル24aとメモリセル24cに接続されたビット線
対20a,20bとが位置する列に対応する列アドレス
信号が入力され、そのビット線対20a,20bに接続
されたトランスファ・ゲート27a,27bのみが導通
し、選択されたビット線20a,20bのみがI/O線
対29a,29bに接続され、他のビット線21a,2
1bは非選択となり、I/O線対29a,29bから切
り離される。
【0007】次に、選択されたメモリセル24aの読み
出し動作について説明する。今、図4に示すメモリセル
の記憶ノード45aがHighレベルで、記憶ノード4
5bがLowレベルにあるとする。この時、メモリセル
の一方のドライバ・トランジスタ41aは非導通状態に
あり、他のドライバ・トランジスタ41bは導通状態に
あり、ワード線22はHighで選択された状態にある
ため、メモリセルのアクセス・トランジスタ42a,4
2bはともに導通状態となり、電源電位18→ビット線
負荷25b→ビット線20b→アクセス・トランジスタ
42b→ドライバ・トランジスタ41b→接地19の経
路にはこれらの経路を流れる直流電流が発生し、もう一
方の経路である電源電位18→ビット線負荷25a→ビ
ット線20a→アクセス・トランジスタ42a→ドライ
バ・トランジスタ41a→接地19の経路にはドライバ
・トランジスタ41aが非導通にあるため、直流電流は
流れない。そして、この時、直流電流の流れない方のビ
ット線20aの電位は、ビット線負荷トランジスタ25
a,25b,26a,26bのしきい値電圧をVthとす
ると、“電源電位−Vth”となり、また、直流電流の流
れる方のビット線20b の電位は、ドライバ・トランジ
スタ41b,アクセス・トランジスタ42bとビット線
負荷25bとの導通抵抗で抵抗分割され、“電源電位−
Vth”からΔVだけ電位が低下し、“電源電位−Vth−
ΔV”になる。ここで、ΔVはビット線振幅と呼ばれ、
通常50mV〜500mV程度であり、ビット線負荷の
大きさにより調節される。そして、このビット線振幅Δ
Vは、トランスファ・ゲート27a,27bを介してI
/O線29a,29bに現れ、センスアンプ9で増幅さ
れ、さらに出力バッファ10で増幅され、データ出力1
1として読み出される。なお、入力データ・バッファ1
3は、読み出しの場合には、読み出し/書き込み制御回
路16によりI/O線対29a,29bを駆動させず、
一方、書き込みの場合には、Lowデータを書き込む側
のビット線の電位を強制的に低電位に引き下げ、他方の
ビット線の電位を高電位に引き上げるように構成されて
いる。例えば、メモリセル24aに反転データを書き込
む場合は、データ入力バッファ13によって一方のI/
O線29aをLowレベルに、他方のI/O線29b を
Highレベルにし、そして、一方のビット線20aを
Lowレベルに、他方のビット線20b をHighレベ
ルにして書き込み動作が行われる。一方、この半導体記
憶装置は、他のシステムからの2系統のチップセレクト
信号を受けて上述した内部回路が動作するようになって
おり、これらの信号変化を上記チップセレクト入力14
に伝えるCS(チップセレクト)バッファ回路とともに
ICチップ上に配置されている。
【0008】図6は、上記CSバッファ回路を備えた半
導体記憶装置のICチップ上での回路の配置状態を模式
的に示した図である。図において、51はICチップ、
52a,52bはそれぞれCS2バッファ,/CS1バ
ッファ、53a,53bはチップ長辺に沿う配線であ
り、図2と同一符号は同一または相当する部分を示して
いる。
【0009】また、図7は、図6に示すCSバッファ回
路の回路構成を示す図であり、図において、図6と同一
符号は同一部分を示しており、60,61,63,64
はノード、62はNORゲート、65はNANDゲー
ト、66はNOTゲートであり、NORゲート62とイ
ンバータ66d,66e,66fにより図6に示す/C
S1バッファ52bが構成され、インバータ66a,6
6b,66cとNANDゲート65により図6に示すC
S2バッファ52aが構成される。
【0010】尚、図6中、読み出し/書き込み制御回路
16とチップセレクト入力端子14は1つであるが、こ
れは/CS1バッファ52bからのチップセレクト出力
に対応するものであり、CS2バッファ52aの近傍に
は該CS2バッファ52aに対応する読み出し/書き込
み制御回路とチップセレクト入力端子(ともに図示せ
ず)とが設けられており、/CS1バッファ52b,C
S2バッファ52aのチップセレクト出力、即ち、/C
SA,/CSBが何れもLowレベルの時に内部回路が
アクティブとなり上述した読み出し/書き込み動作が行
われるようになっている。
【0011】以下、このCSバッファ回路の動作につい
て、/CS1がLow,CS2がLowからHighレ
ベルに変化する場合を例にとって説明する。今、/CS
1,CS2が何れもLowレベルにあり、この状態で
は、/CS1バッファ52b,CS2バッファ52aの
出力はともにHighレベルにあり、イネーブル状態に
ある。そして、ノード60のCS2に入る信号がLow
からHighレベルに変化すると、インバータ66a,
66b,66cを通って、チップ長辺であるノード53
bがHighからLowレベルに変化する。この時、/
CS1の入力がLowレベルのため、NORゲート62
によって、ノード63がHighレベルになり、インバ
ータ3段(インバータ66d,66e,66f)を通っ
て、/CSAにはLowレベルが出力される。そして、
この/CSAのLowレベルの信号はチップセレクト入
力端子14から読み出し/書き込み制御回路16に入力
される。一方、/CSBの出力は、ノード60からノー
ド53b、ノード64,ノード53aを通ってNAND
ゲート65に到達したHighレベルの信号とノード6
1からNANDゲート65に到達したHighレベルの
信号とによりLowレベルとなり、NANDゲート65
の近傍にある上記読み出し/書き込み制御回路16と同
様の図示しない動作制御回路のチップセレクト入力端子
に入力される。そして、これら2つのLowレベルのチ
ップセレクト出力により、内部回路がアクティブ状態と
なる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】従来の2系統のチップ
セレクト信号によって内部回路がアクティブ或いは非ア
クティブ状態に制御される半導体記憶装置では、チップ
セレクト信号を受けるCSバッファ回路が上記のように
構成されており、ノード60のCS2バッファに入る信
号がLow→Highに変化した時、/CS1バッファ
からCS2バッファに入る/CS1バッファの内部信号
は、チップ長辺であるノード53a,53bを一往復し
てCS2バッファに入るため、CS2バッファの出力の
変化、即ち、/CSBの信号レベルの変化は、/CS1
バッファの出力の変化、即ち/CSAの信号レベルの変
化より遅くなり、その結果、/CS1バッファとCS2
バッファの両出力に対するアクセスタイムやライトリカ
バリ等のタイミングマージンに差が生ずるという問題点
があった。
【0013】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、2系統のチップセレクト信号の
信号変化が同等に内部回路に伝わり、これら両信号に対
するアクセスタイムやライトリカバリ等のタイミングマ
ージンを等しくできる半導体記憶装置を得ることを目的
とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の半導体記憶装置は、半導体記憶装置を搭載する半導体
チップ(51)上の互いに離間した位置に配設され、外
部から入力される第1のチップセレクト信号(CS2)
および第2のチップセレクト信号(/CS1)の信号変
化を半導体チップ(51)の内部回路に伝達する第1
(75,76,77,74,80)および第2のバッフ
ァ回路(81,78,71,73,79)と、該離間し
た位置に配設された第1(75,76,77,74,8
0)および第2のバッファ回路(81,78,71,7
3,79)を互いに接続する第1(A)および第2の配
線(70)とを備え、前記第1のバッファ回路(75,
76,77,74,80)は、前記第1のチップセレク
ト信号(CS2)が入力されるとともに、前記第1のチ
ップセレクト信号(CS2)に応じて第1の信号(76
の出力)を出力し、前記第1のチップセレクト信号(C
S2)が選択状態(H)であるとき、前記第1の信号
(76の出力)を第1の状態(H)とする第1の入力回
路(75,76)と、前記第1の信号(76の出力)お
よび前記第1の配線(A)を介して後述する第2の信号
(78の出力)が入力され、前記第1の信号(76の出
力)および前記第2の信号(78の出力)に応じて第3
の信号(/CSB)を出力し、前記第1の信号(76の
出力)が前記第1の状態(H)で、かつ前記第2の信号
が第2の状態(L)であるとき、前記第3の信号(/C
SB)を選択状態(L)とする第1の論理回路(77,
74,80)とを有し、前記第2のバッファ回路(8
1,78,71,73,79)は、前記第2のチップセ
レクト信号(/CS1)および前記第2の配線(70)
を介して前記第1の信号(76の出力)が入力されると
ともに、前記第2のチップセレクト信号(/CS1)お
よび前記第1の信号(76の出力)に応じて第2の信号
(78の出力)を出力し、前記第2のチップセレクト信
号(/CS1)が選択状態(L)であるとき、前記第1
のチップセレクト信号(CS2)の状態によらず前記第
2の信号(78の出力)を前記第2の状態(L)とする
第2の入力回路(81,78)と、前記第2の信号(7
8の出力)および前記第2の配線(70)を介して前記
第1の信号(76の出力)が入力され、前記第1の信号
(76の出力)および前記第2の信号(78の出力)に
応じて第4の信号(/CSA)を出力し、前記第1の信
号(76の出力)が前記第1の状態(H)で、かつ前記
第2の信号(78の出力)が前記第2の状態(L)であ
るとき、前記第4の信号を選択状態(L)とする第2の
論理回路(71,73,79)とを有し、前記第3(/
CSB)および第4の信号(/CSA)がともに選択状
態(L)であるとき、前記内部回路が活性化する、よう
にしたものである。
【0015】
【作用】この発明においては、上述のように構成したこ
とにより、ともに選択状態となることで内部回路を活性
化する第3,第4の信号を生成するための第1,第2の
信号を生成する際に、第1,第2のチップセレクト信号
の他に第2,第1の信号を用いる構成とし、この第2,
第1の信号を伝達する第1,第2の配線の電気的な長さ
がほぼ同等であるため、2つのバッファ回路にそれぞれ
入力されたチップセレクト信号の信号レベルの変化を同
等に内部回路に伝えることができる。
【0016】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1は、この発明の一実施例による半導体記憶装
置のCSバッファ回路の回路構成を示す図であり、図に
おいて、71,75,76,77,78,79,80は
インバータ、B,72はノード、73,74はNORゲ
ート、81はNANDゲート、A,70はチップ長辺に
沿う配線であり、NANDゲート81,インバータ7
1,78,79及びNORゲート73から/CS1バッ
ファが構成され、インバータ75,76,77,80及
びNORゲート74からCS2バッファが構成され、図
中/CS1,CS2は、それぞれ/CS1バッファに入
力される入力信号,CS2バッファに入力される入力信
号を示し、/CSA,/CSBは、それぞれ/CS1バ
ッファの出力信号,CS2バッファの出力信号を示して
いる。
【0017】そして、この半導体装置では、図6に示し
た従来の半導体記憶装置と同様に、上記/CS1バッフ
ァとCS2バッファとからなるCSバッファ回路がチッ
プ上の2つの動作制御回路のチップセレクト入力端子の
近傍に配置するようにチップ上に形成されている。尚、
CSバッファ回路部以外の回路は図6に示す従来の半導
体記憶装置と同様の構成からなっている。
【0018】以下、このCSバッファ回路の動作を説明
する。下記表1はこのCSバッファ回路の真理表であ
り、/CS1,CS2のそれぞれの信号レベルと、これ
らの信号レベルに対応する配線A,ノードBのレベル及
び/CSA,/CSBのレベルを示したもので、CS2
がHighレベル,/CS1がLowレベルの時、/C
SAと/CSBが共にLowレベルになり、このLow
レベルの2つの信号がそれぞれチップセレクト入力から
内部回路に入力された時に、内部回路がアクティブ状態
になって動作することを示している。
【0019】
【表1】
【0020】次に、/CS1,CS2の信号レベルが変
化する場合の動作について説明する。ここでは、/CS
1がLowレベルのままで、CS2がLowレベルから
Highレベルに変化する場合を例にとって説明する。
【0021】信号レベルが変化する前は下記の表2の上
段の欄に示すように、/CS1,CS2は共にLowレ
ベル、配線AはLowレベル,ノードBはHighレベ
ル、/CSA,/CSBは共にHighレベルにあり、
チップセレクト動作がディスエーブル状態になってい
る。
【0022】そして、CS2に入力されるチップセレク
ト信号がLow→Highレベルに変化すると、インバ
ータ75,76を通り、配線70はLow→Highに
なる。そして/CSAの信号変化は以下のように変化す
る。即ち、チップ長辺である配線70を通り、インバー
タ71でノード72がHigh→Lowレベルとなり、
NORゲート73で、このLowレベルと配線AのLo
wレベル(この配線Aは信号変化前と同じレベルであ
る)とでCSVssがHighレベルになる。そして、イ
ンバータ79により/CSAはHighからLowに変
化する。一方、/CSBは以下のように変化する。配線
70からインバータ77を1段通り、ノードBがHig
h→Lowに変化する。そして、NORゲート74で、
このLowレベルと配線AのLowレベル(この配線A
は信号変化前と同じレベル)とでCSVccがHighレ
ベルとなり、インバータ801段で出力はHigh→L
owに変化する。そして、/CSAと/CSBが何れも
Lowレベルになると、/CSAと/CSBが入力され
た内部回路は、信号変化前のディスエーブル状態からア
クティブ状態に変化する。
【0023】
【表2】
【0024】尚、CS2がHighレベルのままで、/
CS1がHighレベルからLowレベルに変化する場
合、及び、CS2がLowレベルからHighレベル,
/CS1がHighレベルからLowレベルに変化する
場合も、それぞれ上記表2の中段の欄,下段の欄に示さ
れるように、上記と同様に/CSAと/CSBが何れも
Lowレベルになり、/CSAと/CSBを受ける内部
回路のチップセレクト動作が信号変化前のディスエーブ
ル状態からアクティブ状態に変化する。
【0025】このような本実施例の半導体記憶装置で
は、チップ長辺を走る信号、即ち、配線Aを走る信号
が、/CS1,CS2の信号レベルの変化に関係なく、
/CS1の信号レベルがアクティブの時にアクティブと
なるようにCSバッファ回路を構成しているので、/C
S1,CS2の信号レベルの変化は、チップ長辺を一往
復することなく、/CSA,/CSBに伝えることがで
き、その結果、2系統のチップセレクト信号の信号変化
を同等に内部回路に伝えることができ、これらの信号に
対するアクセスタイムやライトリカバリ等のタイミング
マージンに差を生ずることなく、内部回路をアクティブ
状態から非アクティブ状態、またはその逆に制御するこ
とができる。
【0026】尚、上記実施例では、/CS1バッファ5
2bとCS2バッファ52aを繋ぐノードがチップ長辺
方向に配置された装置について説明したが、チップセレ
クト入力端子の位置に応じて、/CS1バッファ52b
とCS2バッファ52aとを繋ぐノードが他の部分に配
置された場合も、上記実施例と同様の効果を得ることが
できる。
【0027】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、2系
統のチップセレクト信号の一方及び第2のバッファの内
部信号に基づいて第1のチップセレクト出力を内部回路
に伝える第1のバッファと、2系統のチップセレクト信
号の他方及び第1のバッファの内部信号を入力とし、上
記2系統のチップセレクト信号の他方が、第1のチップ
セレクト出力をアクティブとすべきレベルである時、上
記第1のバッファへの内部信号が上記第1のチップセレ
クト出力をアクティブとすべき信号レベルとなるように
構成した第2のバッファとからCSバッファ回路を構成
したので、2系統のチップセレクト入力のそれぞれの信
号変化を同等に内部回路に伝えることができ、その結
果、両信号に対するアクセスタイムやライトリカバリ等
のタイミングマージンを等しくでき、不要な遅延時間を
生ずることなく内部回路の動作状態を高速に制御できる
効果がある。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, in which an internal circuit is controlled to be active or inactive by a signal change of a two-system chip select signal. It concerns the device. 2. Description of the Related Art FIG. 2 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device, wherein 1 is a row address input, 2 is a row address buffer for amplifying or inverting the row address input 1, and 3 is a row address buffer. A row address decoder for decoding a row address signal applied to a row address input 1, a column address input 4, a column address buffer 5 for amplifying or inverting the column address input 4, and a column address buffer 6. A column address decoder for decoding a column address signal applied to the input 4; a memory cell array 7 in which memory cells for storing information are arranged in a matrix; 8 a multiplexer;
Reference numeral 9 denotes a sense amplifier for sensing and amplifying a small-amplitude read voltage, 10 denotes an output data buffer for amplifying the output of the sense amplifier 9 to a level that is further taken out of the semiconductor memory device, 11 denotes a read data output terminal, and 12 denotes Write data input terminal, 13 is write data input 1
2, an input data buffer for amplifying the signal given to 2, a chip select input terminal 14, a read / write control input terminal 15, and a sense amplifier 16 according to chip select / non-select and data read / write mode. 9,
The read / write control circuit controls the output data buffer 10, the write data buffer 13, and the like. FIG. 3 is a circuit diagram showing a memory cell of the semiconductor memory device shown in FIG. 2 and its peripheral portion. Here, for simplicity, a memory cell array having a two-row and two-column structure is shown. ing. In the figure, 20a and 20b,
21a and 21b are corresponding bit line pairs, respectively.
And 23 are word lines connected to the output point of the row address decoder 3, and 24a, 24b, 24c and 24d are at the intersections of the word lines 22 and 23 with the bit line pairs 20a and 20b and the bit line pairs 21a and 21b. One end of each of the arranged memory cells 25a, 25b and 26a, 26b is at the power supply potential 18, and the other end is at the bit line 20a, 20b, 2b.
Bit line loads connected to 1a and 21b, 27
The gates a, 27b, 28a and 28b receive the output signal of the column address decoder 6 shown in FIG. 2 and have their drain and source connected to bit line pairs 20a, 20b and 21 respectively.
a, 21b and the multiplexer 8 shown in FIG.
Is a transfer gate. Incidentally, FIG.
The same reference numerals indicate the same or corresponding parts. FIG. 4 shows a memory cell 2 shown in FIG.
4 is a diagram showing a circuit configuration of FIG. 4, wherein FIG. 4 (a) shows a high resistance load type NMOS memory cell and FIG. 4 (b) shows a CMOS type memory cell. In FIG., 41a, 41b has a drain connected to a storage node 45a, 4 5 b, a gate connected to the other of the drain from each other, the driver transistor of N-channel having its source connected to ground 19, 42a, 42b are The drain or source is connected to the storage nodes 45a and 45b, the gate is connected to the word line 22 or 23, and the source or drain is connected to the bit line 20 (20).
a, 20b) or 21 (21a, 21b) respectively, an N-channel access transistor 43,
a and 43b are load resistors each having one end connected to the power supply potential 18 and the other end connected to the storage nodes 45a and 45b, respectively.
Reference numerals a and 44b denote P-channel transistors each having a drain connected to the storage node, a gate connected to the other drain, and a source connected to the power supply potential 18. Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device will be described. FIG. 5 is a diagram showing the operation timing of the semiconductor memory device. In the figure, A IN indicates an address input, and A OUT indicates an address.
Represents an address buffer output, WL represents a word line, I / O represents an I / O line, SA OUT represents a sense amplifier output, and D OUT represents a data output. For example, when selecting the memory cell 24a, the memory cell 24a to be selected from the row address input 1 is selected.
Is input, the word line 22 to which the memory cell 24a is connected is set to the selected level (for example, High level), and the other word line 23 is set.
Becomes a non-selection level (for example, Low level). Similarly, when selecting a bit line, a column address signal corresponding to a column in which a pair of bit lines 20a and 20b connected to the memory cell 24a and the memory cell 24c to be selected is input from the address input 4, and the bit line is input. Only the transfer gate 27a, 27b connected to the pair 20a, 20b conducts, only the selected bit line 20a, 20b is connected to the I / O line pair 29a, 29b, and the other bit lines 21a, 2b
1b is deselected and disconnected from the I / O line pair 29a, 29b. Next, the read operation of the selected memory cell 24a will be described. Now, when the storage node 45a of the memory cell shown in FIG.
5b is at the low level. At this time, one driver transistor 41a of the memory cell is in a non-conductive state, the other driver transistor 41b is in a conductive state, and the word line 22 is in a state selected by High. Transistors 42a, 4
2b are turned on, a DC current flowing through these paths is generated in the path of power supply potential 18 → bit line load 25b → bit line 20b → access transistor 42b → driver transistor 41b → ground 19, and the other Since the driver transistor 41a is non-conductive in the path of the power supply potential 18 → the bit line load 25a → the bit line 20a → the access transistor 42a → the driver transistor 41a → the ground 19, no DC current flows. At this time, the potential of the bit line 20a where no DC current flows is set to the bit line load transistor 25a.
a, 25b, 26a, when the threshold voltage of 26b and V th, "supply potential -V th" becomes, also, the potential of the bit line 20b towards the flow of direct current, driver transistor 41b, the access transistor 42b and the resistance of the bit line load 25b.
"Potential is lowered from only ΔV," V th power supply potential -V th -
ΔV ”. Here, ΔV is called a bit line amplitude,
Usually, it is about 50 mV to 500 mV, and is adjusted according to the magnitude of the bit line load. Then, this bit line amplitude Δ
V is applied to I through transfer gates 27a and 27b.
/ O lines 29a and 29b, amplified by the sense amplifier 9, further amplified by the output buffer 10, and output data 1
Reads as 1. The input data buffer 1
3 indicates that in the case of reading, the I / O line pair 29a, 29b is not driven by the read / write control circuit 16;
On the other hand, in the case of writing, the potential of the bit line on which Low data is to be written is forcibly lowered to a low potential, and the potential of the other bit line is raised to a high potential. For example, when writing inverted data in the memory cell 24a, one I / O
The write operation is performed by setting the O line 29a to a low level, setting the other I / O line 29b to a high level, setting one bit line 20a to a low level, and setting the other bit line 20b to a high level. On the other hand, in this semiconductor memory device, the above-described internal circuit operates in response to two systems of chip select signals from another system.
Together with a CS (chip select) buffer circuit to be transmitted to the IC chip. FIG. 6 is a diagram schematically showing an arrangement state of circuits on an IC chip of a semiconductor memory device having the CS buffer circuit. In the figure, 51 is an IC chip,
Reference numerals 52a and 52b denote CS2 buffers and / CS1 buffers, respectively, and reference numerals 53a and 53b denote wirings along the longer sides of the chip. The same reference numerals as those in FIG. 2 denote the same or corresponding parts. FIG. 7 is a diagram showing a circuit configuration of the CS buffer circuit shown in FIG. 6, in which the same reference numerals as those in FIG. 6 denote the same parts, and reference numerals 60, 61, 63, 64
Is a node, 62 is a NOR gate, 65 is a NAND gate, 66 is a NOT gate, and / C shown in FIG. 6 is provided by the NOR gate 62 and inverters 66d, 66e, 66f.
An S1 buffer 52b is formed, and inverters 66a, 6
6b and 66c and the NAND gate 65, the C shown in FIG.
The S2 buffer 52a is configured. [0010] In FIG. 6, the read / write control circuit 16 and the chip selector transfected input terminal 14 is the one, which is intended to correspond to the chip select outputs from / CS 1 buffer 52 b, C in the vicinity of S 2 buffer 52 a
Read / write corresponding to the C S 2 buffer 52a is
Only control circuit and chip select input terminal (both shown
And / CS1 buffer 52b, C
The chip select output of the S2 buffer 52a, ie, / C
When both SA and / CSB are at the low level, the internal circuit is activated and the above-described read / write operation is performed. Hereinafter, the operation of the CS buffer circuit will be described by taking as an example a case where / CS1 changes from Low and CS2 changes from Low to High level. Now, / CS
1 and CS2 are both at the Low level. In this state, the outputs of the / CS1 buffer 52b and the CS2 buffer 52a are both at the High level and are in the enabled state. Then, the signal input to CS2 of the node 60 is Low.
From the high level to the low level, the inverters 66a,
The node 53, which is the long side of the chip, passes through 66b and 66c.
b changes from High to Low level. At this time,/
Since the input of CS1 is at the low level, the NOR gate 62
As a result, the node 63 goes high, and the low level is output to / CSA through the three inverter stages (inverters 66d, 66e, 66f). And
The / CSA Low level signal is input from the chip select input terminal 14 to the read / write control circuit 16. On the other hand, the output of / CSB is output from the node 60 through the node 53b, the node 64, and the node 53a to the NAND.
High level signal reaching gate 65 and node 6
1 to a low level in response to a high-level signal that has reached the NAND gate 65, and the NAND gate 65
Is input to a chip select input terminal of an operation control circuit (not shown) similar to the read / write control circuit 16 in the vicinity of. The internal circuit is activated by these two low-level chip select outputs. In a conventional semiconductor memory device in which an internal circuit is controlled to be active or inactive by two systems of chip select signals, the CS buffer circuit receiving the chip select signal is as described above. When the signal entering the CS2 buffer at the node 60 changes from Low to High, the internal signal of the / CS1 buffer enters the CS2 buffer from the / CS1 buffer, and the internal signal of the / CS1 buffer passes through the nodes 53a and 53b which are the longer sides of the chip. to enter the back and forth CS2 buffers, the change in the output of the C S2 buffer, i.e., / CSB change in the signal level of, / CS1
The change in the output of the buffer, that is, the change in the signal level of / CSA, results in the / CS1 buffer and CS2
There is a problem that a difference occurs in the access time for both outputs of the buffer and the timing margins such as write recovery. The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems. Signal changes of two chip select signals are equally transmitted to an internal circuit, and access time and write recovery for these two signals are performed. It is an object of the present invention to obtain a semiconductor memory device capable of equalizing a timing margin. According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device having a semiconductor memory device mounted thereon.
The chips (51) are arranged at positions separated from each other, and
Chip select signal (CS2) input from the section
And a signal change of the second chip select signal (/ CS1).
First to transmit the modification to the internal circuit of the semiconductor chip (51)
(75, 76, 77, 74, 80) and a second buffer
Circuit (81, 78, 71, 73, 79)
(75, 76, 77, 74, 8)
0) and the second buffer circuit (81, 78, 71, 7).
(A) and a second arrangement for connecting
Line (70), the first buffer circuit (75,
76, 77, 74, and 80) receive the first chip select signal (CS2) and receive the first signal (76 ) in response to the first chip select signal (CS2).
Of the first chip select signal (C).
When S2) is in the selected state (H) , the first signal
(Output of 76) to a first state (H) , a first input circuit (75, 76), and the first signal (output of 76) and the first signal (76).
And a second signal to be described later via the first wiring (A).
(The output of 78) is input and the first signal (the output of 76) is input.
Force) and a third signal according to the second signal (output of 78).
And outputs the first signal (/ CSB).
Output) is in the first state (H) and the second signal
Is in the second state (L), the third signal (/ C
SB) to be in the selected state (L).
74, 80) and the second buffer circuit (8
1, 78, 71, 73, 79) are the second chip select signal (/ CS1) and the second wiring (70).
Together with said first signal (output of 76) is input via the second signal in response to the second chip select signal (/ CS1) and said first signal (output of 76)
(Output of 78) , and when the second chip select signal (/ CS1) is in the selected state (L) , the first
A second input circuit to the chip select signal (CS2) state to the second regardless of the signal (78 output) of the second state (L) (81,78), said second signal (7
8) and the first signal (output of 76) is input via the second wiring (70), and the first signal
(The output of 76) and the second signal (the output of 78 ) to output a fourth signal (/ CSA), and the first signal (the output of 76) is in the first state (H). When the second signal (output of 78) is in the second state (L) , the second logic circuit (71 ) sets the fourth signal to the selected state (L). , 73, 79), and the third (/
CSB) and the fourth signal (/ CSA) are both selected.
In the state (L), the internal circuit is activated.
It was made . According to the present invention, the configuration as described above is provided.
Activates the internal circuit when both are selected
First and second signals for generating third and fourth signals
When generating a signal, the first and second chip select signals
And a configuration using the second and first signals.
Electrical length of first and second wirings for transmitting the first signal
Are substantially equal to each other, so that a change in the signal level of the chip select signal input to each of the two buffer circuits can be equally transmitted to the internal circuit. An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a CS buffer circuit of a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention. In the drawing, reference numerals 71, 75, 76, 77, 78, 79, and 80 denote inverters , and Nodes 73 and 74 are NOR gates, 81 is a NAND gate , and A and 70 are on the long side of the chip.
Along the wiring , the NAND gate 81 and the inverter 7
1,78,79 and the NOR gate 73 / CS1 buffer is configured, the inverter 7 5, 7 6, 7 7, 80 and NOR gate 74 is configured for CS2 buffer, drawing / CS1, CS2, respectively / CS1 An input signal input to the buffer and an input signal input to the CS2 buffer are shown, and / CSA and / CSB indicate an output signal of the / CS1 buffer and an output signal of the CS2 buffer, respectively. In this semiconductor device, similarly to the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 6, a CS buffer circuit composed of the / CS1 buffer and the CS2 buffer has chip select inputs of two operation control circuits on the chip. It is formed on the chip so as to be arranged near the terminal. still,
The circuits other than the CS buffer circuit have the same configuration as the conventional semiconductor memory device shown in FIG. The operation of the CS buffer circuit will be described below. Table 1 below is a truth table of this CS buffer circuit, and shows the signal levels of / CS1 and CS2, the levels of wiring A and node B, and the levels of / CSA and / CSB corresponding to these signal levels. , CS2
Is high level and / CS1 is low level, / C1
Both SA and / CSB become Low level, and this Low
When two signals of the level are input from the chip select input to the internal circuit, the internal circuit is activated and operates. [Table 1] Next, the operation when the signal levels of / CS1 and CS2 change will be described. Here, / CS
An example in which CS2 changes from low level to high level while 1 remains at low level will be described. Before the signal level changes, as shown in the upper column of Table 2 below, / CS1 and CS2 are both Low level, wiring A is Low level, node B is High level, / CSA and / CSB are Low level. Both are at High level,
Chip select operation is disabled. When the chip select signal input to CS2 changes from low to high level, the signal passes through inverters 75 and 76, and the wiring 70 changes from low to high. The signal change of / CSA changes as follows. That is, through the wiring 70 which is the long side of the chip, the node 72 of the inverter 71 goes from High to Low level,
At the NOR gate 73, this Low level and the Lo of the wiring A
At the w level (this wiring A is at the same level as before the signal change), the CSV ss becomes the high level. Then, / CSA is changed from High to Low by the inverter 79. On the other hand, / CSB changes as follows. The node B goes high through the inverter 77 one step from the wiring 70.
It changes from h to Low. Then, at the NOR gate 74,
This Low level and the Low level of the wiring A (this wiring A
Is the same level as before the signal change) and the CSV cc goes to the high level, and the output of the inverter 801 is changed from High to L
ow. When both / CSA and / CSB become Low level, the internal circuit to which / CSA and / CSB are input changes from the disabled state before the signal change to the active state. [Table 2] It should be noted that while CS2 remains at the high level,
If CS1 is changed from the High level to the Low level, and, High level CS2 from Low level,
Even when / CS1 changes from the High level to the Low level, as shown in the middle and lower columns of Table 2 above, / CSA and / CSB both become the Low level as described above. The chip select operation of the internal circuit receiving CSA and / CSB changes from the disabled state before the signal change to the active state. In the semiconductor memory device of the present embodiment, the signal running on the long side of the chip, that is, the signal running on the wiring A is not affected by the change in the signal levels of / CS1 and CS2.
Since the CS buffer circuit is configured to be active when the signal level of / CS1 is active, / C1
Changes in the signal levels of S1 and CS2 can be transmitted to / CSA and / CSB without making one round trip on the long side of the chip. As a result, the signal changes of the two chip select signals are transmitted equally to the internal circuit. Therefore, the internal circuit can be controlled from the active state to the inactive state, or vice versa, without causing a difference in the timing margins such as access time and write recovery for these signals. In the above embodiment, the / CS1 buffer 5
Although the device in which the node connecting CS2b and CS2 buffer 52a is arranged in the direction of the longer side of the chip has been described, the / CS1 buffer 52b
In the case where a node that connects the CS2 buffer and the CS2 buffer 52a is arranged in another part, the same effect as in the above embodiment can be obtained. As described above, according to the present invention, the first chip select output is transmitted to the internal circuit based on one of the two chip select signals and the internal signal of the second buffer. One buffer, the other of the two systems of chip select signals and the internal signal of the first buffer are input, and the other of the two systems of chip select signals is at a level at which the first chip select output should be activated. At this time, the CS buffer circuit is constituted by the internal buffer to the first buffer and the second buffer configured to have the signal level at which the first chip select output should be activated. Each change in the signal of the select input can be transmitted equally to the internal circuit, and as a result, the access time and write recovery time for both signals can be reduced. Thus, there is an effect that the operating state of the internal circuit can be controlled at high speed without causing unnecessary delay time.
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例による半導体記憶装置のC
Sバッファ回路の回路図である。
【図2】この発明の一実施例及び従来の半導体記憶装置
のCSバッファ回路の除く部分のブロック図である。
【図3】図2に示すメモリセルアレイとその周辺部とを
詳細に示した回路図である。
【図4】図3のメモリセルアレイを構成するメモリセル
の回路構成を示す図であり、図4(a) は高抵抗負荷型N
MOSメモリセルの回路図、図4(b) はCMOS型メモ
リセルの回路図である。
【図5】図2に示す半導体記憶装置の動作タイミングを
示す図である。
【図6】従来の半導体記憶装置のICチップ上でかパタ
ーンレイアウトを模式的に示した図である。
【図7】従来の半導体記憶装置のCSバッファ回路の回
路図である。
【符号の説明】
1 行アドレス入力
2 行アドレス・バッファ
3 行アドレス・デコーダ
4 列アドレス入力端子
5 列アドレス・バッファ
6 列アドレス・デコーダ
7 メモリセルアレイ
8 マルチプレクサ
9 センスアンプ
10 出力データ・バッファ
11 読み出しデータ出力端子
12 書き込みデータ入力端子
13 入力データ・バッファ
14 チップ選択入力端子
15 読み出し/書き込み制御入力端子
16 読み出し/書き込み制御回路
18 Vcc
19 アース
20a,20b,21a,21b ビット線
22,23 ワード線
24a,24b,24c,24d メモリセル
25a,25b,26a,26b ビット線負荷
27a,27b,28a,28b トランスファ・ゲ
ート
41a,41b,42a,42b Nチャネルのドラ
イバ・トランジスタ
43a,43b 負荷抵抗
44a,44b PMOSトランジスタ
51 ICチップ
52a CS2バッファ
52b /CS1バッファ
53a 配線
53b 配線
60,61,63,64 ノード
62 NORゲート
65 NANDゲート
66a,66b,66c,66d,66e,66f
インバータ
70 配線
71 インバータ
72 ノード
73,74 NORゲート
75,76,77,78,79,80 インバータ
81 NANDゲート
A 配線
B ノードBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram illustrating a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram of an S buffer circuit. FIG. 2 is a block diagram of an embodiment of the present invention and a portion of a conventional semiconductor memory device excluding a CS buffer circuit. FIG. 3 is a circuit diagram showing in detail a memory cell array shown in FIG. 2 and a peripheral portion thereof; 4 is a diagram showing a circuit configuration of a memory cell constituting the memory cell array of FIG. 3, and FIG.
FIG. 4B is a circuit diagram of a CMOS memory cell. FIG. 5 is a diagram showing operation timings of the semiconductor memory device shown in FIG. 2; FIG. 6 is a diagram schematically showing a pattern layout on an IC chip of a conventional semiconductor memory device. FIG. 7 is a circuit diagram of a CS buffer circuit of a conventional semiconductor memory device. [Description of Signs] 1 row address input 2 row address buffer 3 row address decoder 4 column address input terminal 5 column address buffer 6 column address decoder 7 memory cell array 8 multiplexer 9 sense amplifier 10 output data buffer 11 read data Output terminal 12 Write data input terminal 13 Input data buffer 14 Chip select input terminal 15 Read / write control input terminal 16 Read / write control circuit 18 V cc 19 Ground 20 a, 20 b, 21 a, 21 b Bit line 22, 23 Word line 24 a , 24b, 24c, 24d Memory cells 25a, 25b, 26a, 26b Bit line loads 27a, 27b, 28a, 28b Transfer gates 41a, 41b, 42a, 42b N-channel driver transistor 43a 43b load resistor 44a, 44b PMOS transistor 51 IC chips 52a CS2 buffer 52 b / CS1 buffer 53a wiring 53b wiring 60,61,63,64 node 62 NOR gates 65 NAND gates 66a, 66b, 66c, 66d, 66e, 66f
Inverter 70 wiring 71 Inverter 72 Nodes 73 and 74 NOR gates 75, 76, 77, 78, 79, 80 Inverter 81 NAND gate A wiring B node
Claims (1)
上の互いに離間した位置に配設され、外部から入力され
る第1のチップセレクト信号および第2のチップセレク
ト信号の信号変化を半導体チップの内部回路に伝達する
第1および第2のバッファ回路と、 該離間した位置に配設された第1および第2のバッファ
回路を互いに接続する第1および第2の配線とを備え、 前記第1のバッファ回路は、 前記 第1のチップセレクト信号が入力されるとともに、
前記第1のチップセレクト信号に応じて第1の信号を出
力し、前記第1のチップセレクト信号が選択状態である
とき、前記第1の信号を第1の状態とする第1の入力回
路と、前記第1の信号および前記第1の配線を介して後述する
第2の信号が入力され、前記第1の信号および前記第2
の信号に応じて第3の信号を出力し、前記第1の信号が
前記第1の状態で、かつ前記第2の信号が第2の状態で
あるとき、前記第3の信号を選択状態とする第1の論理
回路とを有し、 前記第2のバッファ回路は、 前記 第2のチップセレクト信号および前記第2の配線を
介して前記第1の信号が入力されるとともに、前記第2
のチップセレクト信号および前記第1の信号に応じて第
2の信号を出力し、前記第2のチップセレクト信号が選
択状態であるとき、前記第1のチップセレクト信号の状
態によらず前記第2の信号を前記第2の状態とする第2
の入力回路と、 前記第2の信号および前記第2の配線を介して前記第1
の信号が入力され、前記第1の信号および前記第2の信
号に応じて第4の信号を出力し、前記第1の信号が前記
第1の状態で、かつ前記第2の信号が前記第2の状態で
あるとき、前記第4の信号を選択状態とする第2の論理
回路とを有し、 前記第3および第4の信号がともに選択状態であると
き、前記内部回路が活性化する、 ことを特徴とする 半導体記憶装置。(57) [Claims] 1. A semiconductor chip on which a semiconductor memory device is mounted.
Are arranged at a distance from each other on the
A first chip select signal and a second chip select signal
Signal change of the external signal to the internal circuit of the semiconductor chip
First and second buffer circuits, and first and second buffers disposed at the separated positions
And first and second wiring connecting the circuit to each other, said first buffer circuit, together with the first chip select signal is input,
A first input circuit that outputs a first signal in response to the first chip select signal, and sets the first signal to a first state when the first chip select signal is in a selected state; , Will be described later via the first signal and the first wiring.
A second signal is input, and the first signal and the second signal
A third signal is output according to the signal of
In the first state and when the second signal is in the second state
A first logic for setting the third signal to a selected state
And a circuit, said second buffer circuit, the second chip select signal and the second wiring
The first signal is input through the
And outputting a second signal in response to the chip select signal and the first signal. When the second chip select signal is in the selected state, the second signal is output regardless of the state of the first chip select signal. second for the signal and the second state
Of the input circuit and said second signal and through the second wire the first
And outputs a fourth signal in response to the first signal and the second signal. The first signal is in the first state, and the second signal is the second signal. when a second state, and a second logic circuit for the selected state said fourth signal, when the third and fourth signals are both selected
Can, the internal circuit is activated, the semiconductor memory device, characterized in that.
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---|---|---|---|
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- 1991-11-20 JP JP33432291A patent/JP3379970B2/en not_active Expired - Lifetime
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