JPH0636592A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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Publication number
JPH0636592A
JPH0636592A JP20957792A JP20957792A JPH0636592A JP H0636592 A JPH0636592 A JP H0636592A JP 20957792 A JP20957792 A JP 20957792A JP 20957792 A JP20957792 A JP 20957792A JP H0636592 A JPH0636592 A JP H0636592A
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JP
Japan
Prior art keywords
redundant
cell
normal
memory cell
bit line
Prior art date
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Pending
Application number
JP20957792A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyoyasu Akai
清恭 赤井
Nobuyuki Kokubo
信幸 小久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH0636592A publication Critical patent/JPH0636592A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor memory in which access time is not delayed even when a redundant circuit is used. CONSTITUTION:When a redundant row is selected, a signal making a normal cell block as disable is not outputted, a state in which both a redundant cell 55 and a normal cell 24 are selected is made. Also, caused by that an area of a redundant memory cell is larger than that of a normal memory cell, correct data of the redundant memory cell 55 is outputted to a bit line even when the redundant memory and a defective normal memory cell are doubly selected. Consequently, access time at the time of selecting the normal cell after the redundant circuit is used becomes high speed, wiring is reduced, and the circuit can be simplified.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、特に冗長回路において冗長ロウが選択されたとき、
通常セルブロックをディスエーブルにする信号は用いず
冗長セルを通常セルより大きくすることで、不良である
通常セルと冗長セルがマルチ選択された状態でも冗長セ
ルの正しいデータが出力されるような冗長メモリセルを
備えた半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, when a redundant row is selected in a redundant circuit,
Redundant cells can be output correctly even if multiple defective normal cells and redundant cells are selected by not using the signal that disables the normal cell block. The present invention relates to a semiconductor memory device including a memory cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は従来の半導体記憶装置の一例を示
すブロック図である。図において、1は行アドレスデー
タ入力、2は行アドレス入力1を増幅または反転するた
めの行アドレス・バッファ、3は行アドレス入力1に与
えられた行アドレス信号を復号化するための行アドレス
・デコーダ、4は列アドレスデータ入力、5は列アドレ
ス入力4を増幅または反転するための列アドレス・バッ
ファ、6は列アドレス入力4に与えられた列アドレス信
号を復号化するための列アドレス・デコーダである。7
は情報を記憶するメモリセルがマトリクス状に配列され
たメモリセルアレイ、8はマルチプレクサ、9は小振幅
の読みだし電圧を感知増幅するセンスアンプ、10はセ
ンスアンプ9の出力を更に半導体記憶装置の外部に取り
出すレベルまで増幅するための出力データ・バッファ、
11は読みだしデータ出力、12は書き込みデータ入
力、13は書き込みデータ入力12に与えられた信号を
増幅するための入力データ・バッファである。14はチ
ップ選択入力、15は読みだし/書き込み制御入力、1
6はチップ選択/非選択とデータ読みだし/書き込みモ
ードに応じてセンスアンプ9、出力データ・バッファ1
0、書き込みデータ・バッファ13などを制御する読み
だし/書き込み制御回路である。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a block diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device. In the figure, 1 is a row address data input, 2 is a row address buffer for amplifying or inverting the row address input 1, 3 is a row address buffer for decoding the row address signal given to the row address input 1. Decoder 4, column address data input, 5 column address buffer for amplifying or inverting column address input 4, 6 column address decoder for decoding column address signal provided to column address input 4 Is. 7
Is a memory cell array in which memory cells for storing information are arranged in a matrix, 8 is a multiplexer, 9 is a sense amplifier that senses and amplifies read-out voltage of a small amplitude, and 10 is an output of the sense amplifier 9 which is further external to the semiconductor memory device. Output data buffer for amplification to the level to be taken out to
Reference numeral 11 is a read data output, 12 is a write data input, and 13 is an input data buffer for amplifying a signal given to the write data input 12. 14 is a chip selection input, 15 is a read / write control input, 1
6 is a sense amplifier 9 and an output data buffer 1 according to chip selection / non-selection and data read / write mode
0, a read / write control circuit for controlling the write data buffer 13 and the like.

【0003】図5は図4の半導体記憶装置のメモリセル
周辺部を示したものである。ここでは簡単のため2行2
列の構成のものを示している。図5において、20a、
20bと21a、21bとはそれぞれ対応するビット線
対であり、22と23は行アドレス・デコーダ3の出力
点に接続されたワード線、24a〜24bはワード線2
2、23とビット線対20a、20b,21a、21b
との交点に配置されたメモリセル、25a、25bと2
6a、26bは一端を電源電位18に、他端をビット線
に接続されたビット線負荷である。27a、27bと2
8a、28bは図4の列アドレス・デコーダ6の出力信
号がゲートに入力され、ドレインまたはソースがそれぞ
れビット線20a、20bと21a、21bに接続さ
れ、図4のマルチプレクサ8を構成するトランスファ・
ゲートである。9はI/O線対29a、29bの電位差
を検出するセンスアンプ、10はセンスアンプ9の出力
を増幅する出力バッファである。
FIG. 5 shows a peripheral portion of a memory cell of the semiconductor memory device of FIG. 2 lines 2 for simplicity
The configuration of columns is shown. In FIG. 5, 20a,
Reference numerals 20b, 21a and 21b are corresponding bit line pairs, 22 and 23 are word lines connected to the output point of the row address decoder 3, and 24a to 24b are word lines 2
2, 23 and bit line pairs 20a, 20b, 21a, 21b
Memory cells, 25a, 25b and 2 arranged at the intersection of
6a and 26b are bit line loads having one end connected to the power supply potential 18 and the other end connected to the bit line. 27a, 27b and 2
The output signals of the column address decoder 6 of FIG. 4 are input to the gates of 8a and 28b, and the drains or sources thereof are connected to the bit lines 20a and 20b and 21a and 21b, respectively.
It is a gate. Reference numeral 9 is a sense amplifier that detects the potential difference between the I / O line pair 29a and 29b, and 10 is an output buffer that amplifies the output of the sense amplifier 9.

【0004】図5のメモリセル24には、例えば図6
(a) に示す高抵抗負荷型NMOSメモリセルや、図6
(b) に示すCMOS型メモリセルが用いられる。図6
(a) 、(b)において、41a、41bはドレインを記憶
ノード45a、46bに、ゲートを互いに他方のドレイ
ンに、ソースを接地に接続したNチャネルのドライバ・
トランジスタ、42a、42bはドレインまたはソース
を記憶ノード45a、45bに、ゲートをワード線22
または23に、ソースまたはドレインをビット線20
a,20bまたは21a,21bに接続したNチャネル
のアクセス・トランジスタ、43a、43bは一端を電
源電位18に、他端を記憶ノード45a、45bに接続
した負荷抵抗、44a、44bはドレインを記憶ノード
45a、45bに、ゲートを互いに他のドレインに、ソ
ースを電源電位18に接続したPチャネル・トランジス
タである。
The memory cell 24 shown in FIG.
The high resistance load type NMOS memory cell shown in FIG.
The CMOS type memory cell shown in (b) is used. Figure 6
In (a) and (b), 41a and 41b are N-channel drivers having drains connected to storage nodes 45a and 46b, gates connected to the other drains, and sources connected to ground.
The transistors 42a and 42b have drains or sources as storage nodes 45a and 45b and gates as the word line 22.
Or 23, the source or drain is connected to the bit line 20
a, 20b or 21a, 21b are N-channel access transistors, 43a, 43b are load resistors connected at one end to the power supply potential 18 and the other ends are connected at the storage nodes 45a, 45b, 44a, 44b are drains at the storage node 45a and 45b, P-channel transistors having gates connected to each other's drains and sources connected to the power supply potential 18.

【0005】次に動作について、図7の動作タイミング
図を参照しつつ説明する。Ainはアドレス入力、Ao
utはアドレス・バッファ出力、WLはワード線、I/
OはI/O線、SAoutはセンスアンプ出力、Dou
tはデータ出力である。メモリモル24aを選択する場
合には、行アドレス入力1から選択すべきメモリセル2
4aが位置する行に対応した行アドレス信号が入力さ
れ、メモリセル24aが接続されたワード線22が選択
(例えばHigh)レベルになり、他のワード線23は
非選択(例えばLow)レベルにされる。同様にビット
線の選択も列アドレス入力4から選択すべきメモリセル
24aと、そのメモリセル24aが接続されたビット線
対20a、20bとが位置する列に対応した列アドレス
信号が入力され、そのビット線20a、20bに接続さ
れたトランスファ・ゲート27a、27bのみが導通す
るので、選択されたビット線20a、20bのみI/O
線対29a、29bに接続され、他のビット線21a、
21bは非選択となり、I/O線対29a、29bから
切り離される。
Next, the operation will be described with reference to the operation timing chart of FIG. Ain is address input, Ao
ut is an address buffer output, WL is a word line, I /
O is an I / O line, SAout is a sense amplifier output, and Dou
t is a data output. When selecting the memory mol 24a, the memory cell 2 to be selected from the row address input 1 is selected.
A row address signal corresponding to the row in which 4a is located is input, the word line 22 connected to the memory cell 24a is set to a selected (for example, High) level, and the other word lines 23 are set to a non-selected (for example, Low) level. It Similarly, when selecting a bit line, a column address signal corresponding to the column in which the memory cell 24a to be selected and the bit line pair 20a, 20b to which the memory cell 24a is connected are input from the column address input 4 and Since only the transfer gates 27a and 27b connected to the bit lines 20a and 20b are made conductive, only the selected bit lines 20a and 20b are I / O'd.
The other bit line 21a, which is connected to the line pair 29a, 29b,
21b is deselected and disconnected from the I / O line pair 29a, 29b.

【0006】次に選択されたメモリセル24aの読み出
し動作につき説明する。いまメモリセル24aの記憶ノ
ード45aがHighレベルであり、記憶ノード45b
がLowレベルであるとする。この時メモリセル24a
の一方のドライバ・トランジスタ41aは非導通状態に
あり、他方のドライバ・トランジスタ41bは導通状態
にある。ワード線22がHighで選択された状態にあ
るから、メモリセル24aのアクセス・トランジスタ4
2a、42bは共に導通状態にある。従って、Vcc1
8→ビット線負荷25b→ビット線20b→アクセス・
トランジスタ42b→ドライバ・トランジスタ41b→
接地19の経路に直流電流が発生する。しかもう一方の
経路である、電源Vcc18→ビット線負荷25a→ビ
ット線20a→アクセス・トランジスタ42a→ドライ
バ・トランジスタ41a→接地19の経路では、ドライ
バ・トランジスタ41aが非導通であるので直流電流は
流れない。この時直流電流の流れない方のビット線20
aの電位は、ビット線負荷トランジスタ25a、25
b、26a、26bのしきい値電圧をVthとすると、
“電源電位−Vth”となる。また、直流電流の流れる
方のビット線20aの電位は、ドライバ・トランジスタ
41b、アクセス・トランジスタ42bとビット線負荷
25bとの導通抵抗で抵抗分割されて、“電源電位−V
th”からΔVだけ電位が低下し、“電源電位−Vth
−ΔV”になる。ここでΔVはビット線振幅と呼ばれ、
通常50mV〜500mV程度であり、ビット線負荷の
大きさにより調節される。このビット線振幅はトランス
ファ・ゲート27a、27bを介してI/O線29a、
29bに現れ、これをセンスアンプ9により増幅し、さ
らに出力バッファ10で増幅し、データ出力11として
読み出される。なお、読みだしの場合には、入力データ
・バッファ13は読みだし/書き込み制御回路16によ
りI/O線対29a、29bを駆動しないようにできて
いる。書き込みの場合には、Lowデータを書き込む側
のビット線の電位を強制的に低電位に引き下げ、他方の
ビット線の電位を高電位に引き上げることにより書き込
みを行う。例えば、メモリセル24aに反転データを書
き込むには、データ入力バッファ13により一方のI/
O線29aをLowレベルに、他方のI/O線29aを
Highレベルにし、一方のビット線20aをLowレ
ベルに、他方のビット線20aをHighレベルにして
書き込み動作を行う。
Next, the read operation of the selected memory cell 24a will be described. Now, the storage node 45a of the memory cell 24a is at the high level, and the storage node 45b
Is at a low level. At this time, the memory cell 24a
One driver transistor 41a is non-conductive, and the other driver transistor 41b is conductive. Since the word line 22 is in the high-selected state, the access transistor 4 of the memory cell 24a
Both 2a and 42b are in a conductive state. Therefore, Vcc1
8 → bit line load 25b → bit line 20b → access
Transistor 42b → driver transistor 41b →
A direct current is generated in the path of the ground 19. However, in the other path, that is, the power supply Vcc18 → bit line load 25a → bit line 20a → access transistor 42a → driver transistor 41a → ground 19, the driver transistor 41a is non-conductive, so that a direct current flows. Absent. At this time, the bit line 20 on which the direct current does not flow
The potential of a is the bit line load transistors 25a, 25
If the threshold voltage of b, 26a, and 26b is Vth,
It becomes "power supply potential-Vth". Further, the potential of the bit line 20a through which the direct current flows is resistance-divided by the conduction resistances of the driver transistor 41b, the access transistor 42b and the bit line load 25b to obtain "power potential -V
The potential decreases by ΔV from “th”, and “power supply potential−Vth
−ΔV ″, where ΔV is called the bit line amplitude,
It is usually about 50 mV to 500 mV, and is adjusted according to the magnitude of the bit line load. This bit line amplitude is transferred to the I / O line 29a via the transfer gates 27a and 27b.
29b, which is amplified by the sense amplifier 9, further amplified by the output buffer 10, and read as the data output 11. In the case of reading, the read / write control circuit 16 of the input data buffer 13 does not drive the I / O line pair 29a, 29b. In the case of writing, writing is performed by forcibly lowering the potential of the bit line on the side where the low data is written to a low potential and raising the potential of the other bit line to a high potential. For example, in order to write the inverted data to the memory cell 24a, one I /
A write operation is performed by setting the O line 29a to the low level, the other I / O line 29a to the high level, the one bit line 20a to the low level, and the other bit line 20a to the high level.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体記憶装置
は以上のように構成されているが、該従来の半導体記憶
装置は、生産時の歩留まりを向上させるために、さらに
図8に示すような冗長回路を備えている。この冗長回
路、特に冗長Rowメモリセル55を使用するときは、
アドレスデータ50がプログラム回路51をHitする
と該プログラム回路51からNEDR(Normal Element
Disable Row) 信号52が出力される。このNEDR信
号52は、冗長ローカルデコーダ54に入力され冗長R
OWセル55のワード線57を立ち上げると共に、不良
ビットのある通常ROWをディスエーブルとするためデ
コーダバッファ3に入力される。そのためデコーダバッ
ファ3以降はディスエーブル状態のままとなり、通常ロ
ーカルデコーダ53の出力である通常ワード線は選択さ
れず、メモリセルアレイ7も選択されず、ビット線には
冗長セル55からの正しいデータのみが出力される。
The conventional semiconductor memory device is configured as described above, and the conventional semiconductor memory device is further shown in FIG. 8 in order to improve the yield at the time of production. It has a redundant circuit. When using this redundant circuit, especially the redundant Row memory cell 55,
When the address data 50 hits the program circuit 51, the program circuit 51 outputs NEDR (Normal Element).
Disable Row) signal 52 is output. The NEDR signal 52 is input to the redundant local decoder 54 and redundant R
The word line 57 of the OW cell 55 is raised, and at the same time, it is inputted to the decoder buffer 3 in order to disable the normal ROW having a defective bit. As a result, the decoder buffer 3 and the subsequent sections remain disabled, the normal word line that is the output of the normal local decoder 53 is not selected, the memory cell array 7 is not selected, and only the correct data from the redundant cell 55 is stored in the bit line. Is output.

【0008】従来の冗長ROW回路は上記のように構成
されていたため、冗長セルをアクセスした後通常セルを
アクセスすると、冗長プログラム回路51の出力である
NEDR信号が立ち下がる→デコーダ3がイネーブル状
態となる→通常ローカルデコーダ53がイネーブル状態
となる→ワード線が選択される,という動作のシーケン
スが起こることによって、NEDR信号が立ち下がるま
での待ち時間だけ、通常アクセスよりアクセス時間が遅
れることになるという問題点があった。この発明は上記
のような問題点を解消するためになされたもので、冗長
回路を使用してもアクセス時間が遅れることのない半導
体記憶装置を得ることを目的としている。
Since the conventional redundant ROW circuit is configured as described above, when the normal cell is accessed after the redundant cell is accessed, the NEDR signal output from the redundant program circuit 51 falls-> the decoder 3 is enabled. → The normal local decoder 53 is enabled → The word line is selected, so that the access time is delayed from the normal access by the waiting time until the NEDR signal falls. There was a problem. The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to obtain a semiconductor memory device in which access time is not delayed even if a redundant circuit is used.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、冗長ROWを構成するセル回路を、通常セル
を非選択とするNEDR信号を用いて選択するのではな
く、冗長セル,通常セルの両方が選択された状態とし、
このマルチセレクション状態において、冗長セル,不良
である通常セルの両データの合成出力が、冗長セルの正
しいデータと同じとなってビット線に出力されるような
冗長セル構造としたものである。
A semiconductor memory device according to the present invention does not select a cell circuit forming a redundant ROW by using a NEDR signal for deselecting a normal cell, but a redundant cell and a normal cell. Both are selected,
In this multi-selection state, the redundant cell structure is such that the combined output of the redundant cell data and the defective normal cell data becomes the same as the correct data of the redundant cell and is output to the bit line.

【0010】この発明に係る半導体記憶装置は、冗長セ
ルを、通常セルより面積が大きいものとしたものであ
る。この発明に係る半導体記憶装置は、冗長セルを、通
常セルと同じ面積のものを複数設けて構成したものであ
る。
In the semiconductor memory device according to the present invention, the redundant cell has a larger area than the normal cell. A semiconductor memory device according to the present invention is configured by providing a plurality of redundant cells having the same area as that of a normal cell.

【0011】[0011]

【作用】この発明における冗長ROW回路の構成では、
冗長セルを通常セルより面積が大きいものとする等によ
り、マルチセレクション状態において、冗長セル,通常
セルの合成出力として、冗長セルの正しいデータと同じ
ものが出力されるようにしたので、通常セルを非選択と
する信号,及び回路を全く必要とすることがなく、冗長
回路使用時にアクセスタイムが遅れるということがな
い。また通常セルを非選択とする信号を必要としないた
め、回路構成は簡単になり配線も少なくなる。
In the structure of the redundant ROW circuit according to the present invention,
By setting the redundant cell to have a larger area than the normal cell, in the multi-selection state, the same data as the correct data of the redundant cell is output as the combined output of the redundant cell and the normal cell. There is no need for non-selection signals and circuits, and there is no delay in access time when using redundant circuits. Moreover, since a signal for deselecting a normal cell is not required, the circuit configuration is simplified and the wiring is reduced.

【0012】[0012]

【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。 実施例1.図1は、この発明の一実施例による半導体記
憶装置における冗長ROW回路を示し、図2は図1の冗
長セル55と通常セル24によるビット線電位の状態を
模式的に示しており、実線は冗長メモリセルによるビッ
ト線電位を示し、上側のものが冗長セルの記憶内容が
“High”時の電位、下側のものが“Low”時の電
位であり、破線は通常メモリセルによるビット線電位を
示し、同じく上側のものが“High”時、下側のもの
が“Low”時の電位である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Example 1. FIG. 1 shows a redundant ROW circuit in a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 schematically shows a state of bit line potential by the redundant cell 55 and the normal cell 24 of FIG. The bit line potential by the redundant memory cell is shown. The upper one is the potential when the stored content of the redundant cell is "High", the lower one is the potential when "Low", and the broken line is the bit line potential by the normal memory cell. Similarly, the upper one is the potential at "High" and the lower one is the potential at "Low".

【0013】本実施例では、図に示しているように、冗
長メモリセル55の面積を通常メモリセル24の面積よ
りも大きくしている。即ち、冗長メモリセル55のアク
セストランジスタ(図6の42a,42b),ドライバ
トランジスタ(図6の41a,41b)を通常メモリセ
ル24のそれよりも4〜5倍等,レイアウト上で出来る
限り大きくしている。そして本実施例においては、冗長
ワード線57により冗長セル55が選択されたときも、
上記従来の構成における,通常セルブロックをディスエ
ーブルとするNEDR信号52のような信号は出力され
ない。かつ、この冗長セル55が選択されたときは、こ
れに加えて通常ワード線56のうちの、行アドレス入力
1に応じて行デコーダ3により選択された1つの通常ワ
ード線により通常セル24のうちの1つが選択されて、
冗長セル55と通常セル24のマルチセレクション状態
となる。そしてこのマルチセレクション時において、不
良セルである通常セル24のデータが“High”、冗
長セル55のデータが“Low”であり、これらのデー
タがビット線20,21に出力されたとしても、冗長セ
ル55は通常セル24の4〜5倍とその面積が大きいた
め、そのときのビット線電位は、図2の冗長メモリセル
の“Low”データによるbit線電位より若干上がる
だけで(図2に示す通常セルの“Low”データによる
ビット線電位以上に上がることは全くない)、このbi
t線電位がセンスアンプによりやはり“Low”として
検出されるので、該冗長セル55のデータは反転しな
い。一方、冗長セル55のデータが“High”のとき
は通常セル24のデータが“Low”であっても該“H
igh”のデータはビット線負荷を介して電源から直接
供給されるので、通常セルの“Low”のデータにより
影響されることはほとんどなく、bit線から検出され
るデータは“High”となる。また、不良セルである
通常セル24のデータが冗長セル55と同一データであ
る時は、その合成された出力データは冗長セルのデータ
と同じであるため全く問題は生じない。
In this embodiment, as shown in the figure, the area of the redundant memory cell 55 is made larger than that of the normal memory cell 24. That is, the access transistors (42a, 42b in FIG. 6) and the driver transistors (41a, 41b in FIG. 6) of the redundant memory cell 55 are made 4 to 5 times larger than that of the normal memory cell 24 in the layout as much as possible. ing. In the present embodiment, even when the redundant cell 55 is selected by the redundant word line 57,
A signal such as the NEDR signal 52 which disables the normal cell block in the above-mentioned conventional configuration is not output. Further, when the redundant cell 55 is selected, in addition to this, one of the normal word lines 56 is selected from the normal cells 24 by one normal word line selected by the row decoder 3 in response to the row address input 1. One of the
The multi-selection state of the redundant cell 55 and the normal cell 24 is set. At the time of this multi-selection, the data of the normal cell 24 which is the defective cell is "High" and the data of the redundant cell 55 is "Low", and even if these data are output to the bit lines 20 and 21, they are redundant. Since the area of the cell 55 is 4 to 5 times as large as that of the normal cell 24, the bit line potential at that time is slightly higher than the bit line potential due to the "Low" data of the redundant memory cell of FIG. 2 (see FIG. 2). It never rises above the bit line potential due to the "Low" data of the normal cell shown).
Since the t-line potential is also detected as "Low" by the sense amplifier, the data in the redundant cell 55 is not inverted. On the other hand, when the data in the redundant cell 55 is "High", even if the data in the normal cell 24 is "Low",
Since the "high" data is directly supplied from the power supply via the bit line load, it is hardly affected by the "Low" data of the normal cell, and the data detected from the bit line becomes "High". When the data of the normal cell 24, which is a defective cell, is the same as the data of the redundant cell 55, the combined output data is the same as the data of the redundant cell, and no problem occurs.

【0014】このように本実施例によれば、冗長メモリ
セル55と不良である通常メモリセル24とを二重選択
状態としても冗長セルのアクセストランジスタ,ドライ
バトランジスタが通常セルのそれより5〜6倍と大きい
ことによって冗長セルの正しいデータがビット線に出力
されるようにしているため、冗長回路使用後の通常セル
のアクセス時にアクセスタイムが遅れるということがな
い。また通常セルを非選択とする信号を必要としないた
め、回路構成も簡単になり配線も少なくなるという効果
がある。
As described above, according to this embodiment, even when the redundant memory cell 55 and the defective normal memory cell 24 are set in the double selected state, the access transistor and the driver transistor of the redundant cell are 5 to 6 more than those of the normal cell. Since the correct data of the redundant cell is output to the bit line by being twice as large, the access time is not delayed when accessing the normal cell after the redundant circuit is used. Moreover, since a signal for deselecting a normal cell is not required, there is an effect that the circuit configuration is simple and the wiring is reduced.

【0015】実施例2.図3は本発明の第2の実施例に
よる半導体記憶装置における冗長セルのレイアウト法を
示す。
Example 2. FIG. 3 shows a layout method of redundant cells in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【0016】図1の実施例1におけるように、レイアウ
ト上、大きなアクセストランジスタ及びドライバートラ
ンジスタを設ける面積がなく、一つのメモリセルでは冗
長セルのデータが通常セルのデータと合成されたとき反
転することがないようにすることが出来ない場合は、図
3のように通常セル24と全く同じパターンの冗長セル
1〜冗長セル4(55)を同じビット線20,21上に
複数並べ、これらの対応する冗長ワード線1〜冗長ワー
ド線4を同時に選択することにより、等価的に通常セル
の4〜5倍の冗長セルをレイアウトしたのと同じ構成を
得ることができる。従って本実施例においても実施例1
と同様、冗長回路使用後の通常セルのアクセス時にアク
セスタイムが遅れることがない。また通常セルを非選択
とする信号を必要とせず、回路構成が簡単になり、配線
も少なくなるという効果が得られる。
As in the first embodiment of FIG. 1, there is no area for providing a large access transistor and driver transistor in the layout, and in one memory cell, the data in the redundant cell is inverted when it is combined with the data in the normal cell. If it is not possible to eliminate the above, the redundant cells 1 to 4 (55) of the same pattern as the normal cell 24 are arranged on the same bit line 20, 21 as shown in FIG. By simultaneously selecting the redundant word line 1 to the redundant word line 4 to be used, it is possible to equivalently obtain the same configuration as that in which the redundant cells of 4 to 5 times the normal cells are laid out. Therefore, also in this embodiment, the first embodiment
Similarly, the access time is not delayed when accessing the normal cell after the redundant circuit is used. Further, it is possible to obtain an effect that the circuit configuration is simplified and the number of wirings is reduced because a signal for deselecting a normal cell is not required.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、冗長
メモリセルの構成を通常メモリセルより面積を大きく
し、あるいは複数設けることにより、冗長メモリセルと
不良である通常メモリセルとを二重選択状態としても冗
長セルの正しいデータがビット線に出力されるような冗
長メモリセル構造としたので、冗長回路を使用してもア
クセスタイムが遅れることがなく、また通常セルを非選
択とする手段を必要としないため、回路構成が簡単にな
り配線も少なくなるという効果が得られる。
As described above, according to the present invention, the redundant memory cell has a larger area than that of the normal memory cell, or a plurality of redundant memory cells are provided, so that the redundant memory cell and the defective normal memory cell are duplicated. The redundant memory cell structure ensures that the correct data in the redundant cell is output to the bit line even in the double-selected state. Therefore, even if a redundant circuit is used, the access time is not delayed, and the normal cell is not selected. Since no means is required, the circuit configuration is simplified and the number of wirings is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明一実施例による半導体記憶装置におけ
る冗長ROWセルのセル構造を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a cell structure of a redundant ROW cell in a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の実施例における冗長セルと通常セルによ
るビット線電位を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing bit line potentials of a redundant cell and a normal cell in the embodiment of FIG.

【図3】この発明の第2の実施例における冗長ROWセ
ルのレイアウト方法を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a layout method of redundant ROW cells according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の半導体記憶装置の一例の構成を示すブロ
ック図。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of an example of a conventional semiconductor memory device.

【図5】図4の半導体記憶装置のメモリセル周辺部を示
す図。
5 is a diagram showing a memory cell peripheral portion of the semiconductor memory device of FIG. 4;

【図6】高抵抗負荷型NMOSメモリセル(図(a))およ
びCMOS型メモリセル (図(b))を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a high resistance load type NMOS memory cell (FIG. (A)) and a CMOS type memory cell (FIG. (B)).

【図7】図4 の従来の半導体記憶装置の動作タイミング
図。
7 is an operation timing chart of the conventional semiconductor memory device of FIG.

【図8】従来の半導体記憶装置における冗長ROW回路
の模式図。
FIG. 8 is a schematic diagram of a redundant ROW circuit in a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 行アドレス入力 2 行アドレス・バッファ 3 行アドレス・デコーダ 4 列アドレス入力 5 列アドレス・バッファ 6 列アドレス・デコーダ 7 メモリセルアレイ 8 マルチプレクサ 9 センスアンプ 10 出力データ・バッファ 11 読みだしデータ出力 12 書き込みデータ入力 13 入力データ・バッファ 14 チップ選択入力 15 読みだし/書き込み制御入力 16 読みだし/書き込み制御回路 18 Vcc 19 アース 20,21,20a,20b,21a,21b ビット
線 22,23 ワード線 24,24a,24b,24c,25d メモリセル 25a,25b,26a,26b ビット線負荷 27a,27b,28a,28b トランファ・ゲート 41a,41b Nチャネルのドライバ・トランジスタ 42a,42b Nチャネルのアクセス・トランジスタ 43a,43b 負荷抵抗 44a,44b PMOSトランジスタ 50 アドレスデータ 51 冗長プログラム回路 52 NEDR信号 53 通常ローカルデコーダ 54 冗長ローカルデコーダ 55 冗長メモリセル 56 通常ワード線 57 冗長ワード線
1 row address input 2 row address buffer 3 row address decoder 4 column address input 5 column address buffer 6 column address decoder 7 memory cell array 8 multiplexer 9 sense amplifier 10 output data buffer 11 read data output 12 write data input 13 input data buffer 14 chip selection input 15 read / write control input 16 read / write control circuit 18 Vcc 19 ground 20, 21, 20a, 20b, 21a, 21b bit line 22, 23 word line 24, 24a, 24b , 24c, 25d Memory cell 25a, 25b, 26a, 26b Bit line load 27a, 27b, 28a, 28b Transfer gate 41a, 41b N channel driver transistor 42a, 42b N channel Access transistor 43a, 43b load resistance 44a, 44b PMOS transistor 50 address data 51 redundant program circuit 52 NEDR signal 53 normal local decoder 54 redundant local decoder 55 redundant memory cell 56 normal word line 57 redundant word line

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年11月16日[Submission date] November 16, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、冗長ROWを構成するセル回路を、通常セル
を非選択とするNEDR信号を用いて選択するのではな
く、冗長セル,通常セルの両方が選択された状態とし、
このマルチセレクション状態において、不良である通常
セルのデタが、冗長セルの正しいデータと合成され
ット線に出力されるような冗長セル構造としたものであ
る。
A semiconductor memory device according to the present invention does not select a cell circuit forming a redundant ROW by using a NEDR signal for deselecting a normal cell, but a redundant cell and a normal cell. Both are selected,
In this multi-selection state, the data of the normal cell is bad is obtained by a redundant cell structure is output to the correct data and is synthesized bi <br/> Tsu DOO line of redundant cells.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0014】このように本実施例によれば、冗長メモリ
セル55と不良である通常メモリセル24とを二重選択
状態としても冗長セルのアクセストランジスタ,ドライ
バトランジスタが通常セルのそれより倍と大きい
ことによって冗長セルの正しいデータがビット線に出力
されるようにしているため、冗長回路使用後の通常セル
のアクセス時にアクセスタイムが遅れるということがな
い。また通常セルを非選択とする信号を必要としないた
め、回路構成も簡単になり配線も少なくなるという効果
がある。
As described above, according to this embodiment, even when the redundant memory cell 55 and the defective normal memory cell 24 are set to the double selected state, the access transistor and driver transistor of the redundant cell are 4 to 5 times larger than those of the normal cell. Since the correct data of the redundant cell is output to the bit line by being twice as large, the access time is not delayed when accessing the normal cell after the redundant circuit is used. Moreover, since a signal for deselecting a normal cell is not required, there is an effect that the circuit configuration is simple and the wiring is reduced.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 冗長回路を備えた半導体記憶装置におい
て、 冗長ロウが選択されたとき、通常セルブロックをディス
エーブルとする信号が出力されず冗長セルと通常セルと
がともに選択された状態となり、 かつ該両セルの両出力が合成された出力は冗長セルの出
力と論理的に同じであることを特徴とする半導体記憶装
置。
1. In a semiconductor memory device having a redundant circuit, when a redundant row is selected, a signal for disabling a normal cell block is not output and both a redundant cell and a normal cell are selected. A semiconductor memory device characterized in that an output obtained by combining both outputs of the both cells is logically the same as an output of the redundant cell.
【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
て、 冗長セルは通常セルより面積が大きいことを特徴とする
半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the redundant cell has a larger area than the normal cell.
【請求項3】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
て、 冗長セルは通常セルと同じ面積のものが複数設けられて
いることを特徴とする半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a plurality of redundant cells having the same area as a normal cell are provided.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008181634A (en) * 2006-12-26 2008-08-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device
US8243537B2 (en) 2009-07-21 2012-08-14 Fujitsu Limited Semiconductor memory

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