JPH0636476Y2 - 有機金属供給用恒温槽 - Google Patents
有機金属供給用恒温槽Info
- Publication number
- JPH0636476Y2 JPH0636476Y2 JP3986189U JP3986189U JPH0636476Y2 JP H0636476 Y2 JPH0636476 Y2 JP H0636476Y2 JP 3986189 U JP3986189 U JP 3986189U JP 3986189 U JP3986189 U JP 3986189U JP H0636476 Y2 JPH0636476 Y2 JP H0636476Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- container
- heated
- organic metal
- flow rate
- Prior art date
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- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、半導体製造装置の反応室に半導体層形成用
の有機金属を供給する有機金属供給用恒温槽に関するも
のである。
の有機金属を供給する有機金属供給用恒温槽に関するも
のである。
半導体の製造工程においては、反応室内に配設したウエ
ハーの表面に、有機金属ガスを吹き付けることにより半
導体層を形成することが行われており、このような有機
金属は、低温に加熱保持された容器内に液状で収容さ
れ、高温に設定された流量制御系を備えた配管を介して
上記反応室に気化ガスとして送り込まれるようになつて
いる。すなわち、上記有機金属は、高温によつて分解し
やすい性質を有しているため、40〜70℃の低い温度に設
定された容器内に液状で収容され、気化ガスとして反応
室に送り込まれる際には、80℃程度の温度に設定された
流量制御系で加熱され再液化を防止されるとともに、そ
の流量を適正状態にされて反応室に送られるようになつ
ている。このように、上記容器と流量制御系とは、設定
温度が異なるため、これらの保温は、それぞれ適正温度
に設定された別々の恒温槽内に配設することによつて行
うか、または、１個の恒温槽内に双方を配設し、容器は
恒温槽に設けられた加熱手段のみで加熱し、流量制御系
はさらに、バンドヒータ等で高温に加熱することにより
行われている。
ハーの表面に、有機金属ガスを吹き付けることにより半
導体層を形成することが行われており、このような有機
金属は、低温に加熱保持された容器内に液状で収容さ
れ、高温に設定された流量制御系を備えた配管を介して
上記反応室に気化ガスとして送り込まれるようになつて
いる。すなわち、上記有機金属は、高温によつて分解し
やすい性質を有しているため、40〜70℃の低い温度に設
定された容器内に液状で収容され、気化ガスとして反応
室に送り込まれる際には、80℃程度の温度に設定された
流量制御系で加熱され再液化を防止されるとともに、そ
の流量を適正状態にされて反応室に送られるようになつ
ている。このように、上記容器と流量制御系とは、設定
温度が異なるため、これらの保温は、それぞれ適正温度
に設定された別々の恒温槽内に配設することによつて行
うか、または、１個の恒温槽内に双方を配設し、容器は
恒温槽に設けられた加熱手段のみで加熱し、流量制御系
はさらに、バンドヒータ等で高温に加熱することにより
行われている。
しかしながら、上記方法のうち、前者では、恒温槽を２
個必要とし、装置が大掛かりになるとともに高価につく
という問題を有している。また、後者では、流量制御系
の加熱手段の発熱が、容器の温度に影響するため、容器
および流量制御系のそれぞれを精度よく温度制御するこ
とが難しいという問題がある。
個必要とし、装置が大掛かりになるとともに高価につく
という問題を有している。また、後者では、流量制御系
の加熱手段の発熱が、容器の温度に影響するため、容器
および流量制御系のそれぞれを精度よく温度制御するこ
とが難しいという問題がある。
この考案は、このような事情に鑑みなされたもので、１
個の恒温槽内に、容器および流量制御系を適正温度に保
持した状態で配設することのできる有機金属供給用恒温
槽の提供をその目的とする。
個の恒温槽内に、容器および流量制御系を適正温度に保
持した状態で配設することのできる有機金属供給用恒温
槽の提供をその目的とする。
上記の目的を達成するため、この考案の有機金属供給用
恒温槽は、槽内を、断熱板で槽下部と槽上部に仕切り、
上記槽下部内に有機金属を収容する容器およびこの容器
を加熱するための加熱手段を配設し、上記槽上部内に上
記容器から延設され容器内の有機金属を反応室に供給す
る配管およびその配管に設けられた流量制御系を配設
し、上記槽上部の下部側から外部に通気路を延設してそ
の先端を槽上部の上部側に連結し、この通気路内にフア
ンおよび加熱手段を設け、槽上部内の空気を、槽上部の
下部側から通気路内に吸引し、さらに通気路内から槽上
部の上部側に送り戻すような還流にするとともに、その
還流空気を加熱し加熱還流空気で上記流量制御系を加熱
保持するようにしたという構成をとる。
恒温槽は、槽内を、断熱板で槽下部と槽上部に仕切り、
上記槽下部内に有機金属を収容する容器およびこの容器
を加熱するための加熱手段を配設し、上記槽上部内に上
記容器から延設され容器内の有機金属を反応室に供給す
る配管およびその配管に設けられた流量制御系を配設
し、上記槽上部の下部側から外部に通気路を延設してそ
の先端を槽上部の上部側に連結し、この通気路内にフア
ンおよび加熱手段を設け、槽上部内の空気を、槽上部の
下部側から通気路内に吸引し、さらに通気路内から槽上
部の上部側に送り戻すような還流にするとともに、その
還流空気を加熱し加熱還流空気で上記流量制御系を加熱
保持するようにしたという構成をとる。
すなわち、この考案の有機金属供給用恒温槽は、槽内
を、断熱板で、槽下部と槽上部に仕切り、槽下部に有機
金属の容器を収容し、槽上部に配管および流量制御系を
収容するようになつている。そして、上記容器は槽下部
に設けられた加熱手段で低温に加熱保持し、流量制御系
は、フアンの作動によつて槽上部および通気路内を還流
する空気を、通気路内に設けられた加熱手段で加熱し、
この加熱還流空気で加熱保持するようになつている。こ
の際、上記還流空気の流れが、槽上部の下部側から通気
路内に向かい、通気路内の加熱手段を通過したのち、通
気路の上端から槽上部の上部側に流れいくようになるた
め、槽上部で流量制御系を加熱し冷却された温風が槽下
部の上側に流れてくるようになる。したがつて、槽下部
が上記温風による影響を受けにくくなるとともに、槽上
部と槽下部の間に断熱板が配設されているため、槽下部
と槽上部の空間部が遮断され、容器と流量制御系を互い
に異なる適正温度に保持することができるようになる。
を、断熱板で、槽下部と槽上部に仕切り、槽下部に有機
金属の容器を収容し、槽上部に配管および流量制御系を
収容するようになつている。そして、上記容器は槽下部
に設けられた加熱手段で低温に加熱保持し、流量制御系
は、フアンの作動によつて槽上部および通気路内を還流
する空気を、通気路内に設けられた加熱手段で加熱し、
この加熱還流空気で加熱保持するようになつている。こ
の際、上記還流空気の流れが、槽上部の下部側から通気
路内に向かい、通気路内の加熱手段を通過したのち、通
気路の上端から槽上部の上部側に流れいくようになるた
め、槽上部で流量制御系を加熱し冷却された温風が槽下
部の上側に流れてくるようになる。したがつて、槽下部
が上記温風による影響を受けにくくなるとともに、槽上
部と槽下部の間に断熱板が配設されているため、槽下部
と槽上部の空間部が遮断され、容器と流量制御系を互い
に異なる適正温度に保持することができるようになる。
つぎに、この考案を実施例にもとづいて詳しく説明す
る。
る。
第１図および第２図はこの考案の一実施例を示してい
る。すなわち、図において、11は恒温槽の外皮部下部側
を構成する上面が開口した四角箱状の槽下部であり、内
部に有機金属充填容器２が配設されている。上記容器２
は、外周面に温度計３付のバンドヒータ４が巻回されて
おり、このバンドヒータ４の加熱により内部の有機金属
を40〜70℃に保持するようになつている。５は上記恒温
槽の外皮部上部側を構成する縦断面Ｌ字状の筒状槽上部
であり、上記槽下部１の上端に連結され上方に延びる垂
直部5aと、その垂直部5aの上端から反応室（図示せず）
に向かつて水平に延びる水平部5bとで構成されている。
この槽上部５内と上記槽下部１内とは、断熱性を有する
仕切り板６によつて区切られ遮断された状態になつてい
る。また、この槽上部５内には、上記槽下部１内の容器
２の上端から延設された配管７が仕切り板６を貫通して
延びてきており、その先端が、水平部5bの中央部に配設
された流量調節計８の一端に連結されている。そして、
この流量調節計８の他端から反応室に向けて配管９が延
設されている。10は上記垂直部5aの下端部と水平部5bの
他端側下面とを結ぶ断熱性を有するＬ形のダクトであ
り、垂直部5aとの境界部にフアン11が設けられ、コーナ
部にはヒータ12が配設されている。上記フアン11は、第
２図の矢印方向に槽上部５内の空気を還流させるように
なつており、ヒータ12はその還流空気を加熱することに
より、流量調節計８を80℃に加熱保持するようになつて
いる。13,14および15はそれぞれ開閉弁である。
る。すなわち、図において、11は恒温槽の外皮部下部側
を構成する上面が開口した四角箱状の槽下部であり、内
部に有機金属充填容器２が配設されている。上記容器２
は、外周面に温度計３付のバンドヒータ４が巻回されて
おり、このバンドヒータ４の加熱により内部の有機金属
を40〜70℃に保持するようになつている。５は上記恒温
槽の外皮部上部側を構成する縦断面Ｌ字状の筒状槽上部
であり、上記槽下部１の上端に連結され上方に延びる垂
直部5aと、その垂直部5aの上端から反応室（図示せず）
に向かつて水平に延びる水平部5bとで構成されている。
この槽上部５内と上記槽下部１内とは、断熱性を有する
仕切り板６によつて区切られ遮断された状態になつてい
る。また、この槽上部５内には、上記槽下部１内の容器
２の上端から延設された配管７が仕切り板６を貫通して
延びてきており、その先端が、水平部5bの中央部に配設
された流量調節計８の一端に連結されている。そして、
この流量調節計８の他端から反応室に向けて配管９が延
設されている。10は上記垂直部5aの下端部と水平部5bの
他端側下面とを結ぶ断熱性を有するＬ形のダクトであ
り、垂直部5aとの境界部にフアン11が設けられ、コーナ
部にはヒータ12が配設されている。上記フアン11は、第
２図の矢印方向に槽上部５内の空気を還流させるように
なつており、ヒータ12はその還流空気を加熱することに
より、流量調節計８を80℃に加熱保持するようになつて
いる。13,14および15はそれぞれ開閉弁である。
このように構成した結果、開閉弁13,14および15を開け
ると、容器２内の有機金属はガス状になつて、配管７内
を加熱されながら流れていく。そして、流量調節計８で
その流量を適正量に調節されたのち、配管９を通つて反
応室に送られる。この際、フアン11の作動によつて、還
流する空気の流れが図示の矢印方向であるため、槽上部
５内の温度は、流量調節計８側が高温になり、槽下部１
に近づくほど低温になる。したがつて、容器２から吐出
される有機金属は、配管７内を進むにつれて高温になり
途中で液化することを防止され、槽下部１はヒータ12の
発熱の影響を受けにくくなる。また、上記槽上部５と槽
下部１の間は、仕切り板６で遮断されているため、容器
２および流量調節計８をそれぞれ適正温度に保持するこ
とができるようになる。
ると、容器２内の有機金属はガス状になつて、配管７内
を加熱されながら流れていく。そして、流量調節計８で
その流量を適正量に調節されたのち、配管９を通つて反
応室に送られる。この際、フアン11の作動によつて、還
流する空気の流れが図示の矢印方向であるため、槽上部
５内の温度は、流量調節計８側が高温になり、槽下部１
に近づくほど低温になる。したがつて、容器２から吐出
される有機金属は、配管７内を進むにつれて高温になり
途中で液化することを防止され、槽下部１はヒータ12の
発熱の影響を受けにくくなる。また、上記槽上部５と槽
下部１の間は、仕切り板６で遮断されているため、容器
２および流量調節計８をそれぞれ適正温度に保持するこ
とができるようになる。
なお、上記フアン11としては、モータが内蔵された公知
のもので、80℃の温度に耐えるものが使用されており、
ヒータ12としては、フイン付のパイプヒータが使用され
ている。また、流量調節計８には、MFC（マスフローコ
ントローラー）が使用されている。
のもので、80℃の温度に耐えるものが使用されており、
ヒータ12としては、フイン付のパイプヒータが使用され
ている。また、流量調節計８には、MFC（マスフローコ
ントローラー）が使用されている。
以上のように、この考案の有機金属供給用恒温槽は、槽
内を、断熱板で、槽下部と槽上部に仕切つて、互いに異
なる温度に保持できるようにしているとともに、流量制
御計を加熱保持する加熱還流空気の温度を槽下部に近づ
くほど低温になるようにしている。したがつて、槽下部
および槽上部が互いの熱の影響を受けにくくなり、１個
の恒温槽内に、容器および流量制御計を配設しても、双
方を適正温度に保持することができるようになる。
内を、断熱板で、槽下部と槽上部に仕切つて、互いに異
なる温度に保持できるようにしているとともに、流量制
御計を加熱保持する加熱還流空気の温度を槽下部に近づ
くほど低温になるようにしている。したがつて、槽下部
および槽上部が互いの熱の影響を受けにくくなり、１個
の恒温槽内に、容器および流量制御計を配設しても、双
方を適正温度に保持することができるようになる。
第１図はこの考案の一実施例の斜視図、第２図はその縦
断面図である。 １…槽下部、２…容器、４…バンドヒータ、５…槽上
部、６…仕切り板、7,9…配管、８…流量調節計、10…
ダクト、11…フアン、12…ヒータ
断面図である。 １…槽下部、２…容器、４…バンドヒータ、５…槽上
部、６…仕切り板、7,9…配管、８…流量調節計、10…
ダクト、11…フアン、12…ヒータ
Claims (1)
- 【請求項１】槽内を、断熱板で槽下部と槽上部に仕切
り、上記槽下部内に有機金属を収容する容器およびこの
容器を加熱するための加熱手段を配設し、上記槽上部内
に上記容器から延設され容器内の有機金属を反応室に供
給する配管およびその配管に設けられた流量制御系を配
設し、上記槽上部の下部側から外部に通気路を延設して
その先端を槽上部の上部側に連結し、この通気路内にフ
アンおよび加熱手段を設け、槽上部内の空気を、槽上部
の下部側から通気路内に吸引し、さらに通気路内から槽
上部の上部側に送り戻すような還流にするとともに、そ
の還流空気を加熱し加熱還流空気で上記流量制御系を加
熱保持するようにしたことを特徴とする有機金属供給用
恒温槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3986189U JPH0636476Y2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 有機金属供給用恒温槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3986189U JPH0636476Y2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 有機金属供給用恒温槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02131195U JPH02131195U (ja) | 1990-10-31 |
| JPH0636476Y2 true JPH0636476Y2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=31549139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3986189U Expired - Fee Related JPH0636476Y2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 有機金属供給用恒温槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636476Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999002251A2 (en) * | 1997-07-11 | 1999-01-21 | Advanced Delivery & Chemical Systems, Ltd. | Bulk chemical delivery system |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP3986189U patent/JPH0636476Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02131195U (ja) | 1990-10-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |