JPH0450895Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 この考案は、液体原料を気化し、反応装置に送
つて所要の反応を行なわせるために用いられる原
料供給装置に関するものである。

従来の技術 これまで一般的に使用されている、液体原料を
気化して反応器に供給するための原料供給装置を
第３図について説明すると、イは原料タンクであ
つて、原料液ロを気化するためのヒーターハで被
包されている。この原料タンクイの上部空間ニに
は気化した原料ガスが満され、反応装置に通ずる
配管ホには開閉弁ヘ、自動開閉弁ト、質量流量制
御装置（マスフローコントローラ）チが介設さ
れ、自動開閉弁トと質量流量制御装置チとの間に
は自動開閉弁リを有するパージガス導入用の管ヌ
が接続されている。自動開閉弁リは自動開閉弁ト
と連動し原料ガス供給中は自動開閉弁トが開で自
動開閉弁リが閉となつて原料ガスを反応装置に流
し、原料供給をしていないときは自動開閉弁トが
閉で、自動開閉弁リが開となつて配管中にパージ
ガスである窒素ガスなどを流して配管保護のため
のパージを行なうようになつている。

この装置を作動するには、ヒーターハにより原
料液を加熱し、次いで自動開閉弁リを閉じ自動開
閉弁トを開いて、質量流量制御装置チによりガス
送給量を必要量に制御しながら供給する。供給終
了後は自動開閉弁リを開いて配管内をパージす
る。

ところで、例えば目的は異なるが光フアイバー
用母材の製造の場合などにおいては１つの反応装
置に複数の多重管バーナを有するものが普通であ
り、この場合、これら各バーナには原料ガスを
別々に供給しなければならない。しかし、上記第
４図の装置を各別に所要数備えることは装置全体
が大型となり製造コストも高価となる不利がある
ことから近時、第４図に示すように原料タンクイ
と自動開閉弁ト…との間に原料ガスを一定圧に保
持して貯溜するガス溜りヌを形成し、このガス溜
りヌを緩衝室として各バーナルに接続し１つの原
料タンクから均等な供給が行なわれるようにした
装置も開発されている（例えば特開昭61−254242
号公報）。

考案が解決しようとする問題点 しかし、上記従来の装置では、ヒーターハによ
り原料タンクイ内の温度が原料の沸点以上となつ
た場合、あるいは沸点以下であつてもタンク内の
上部空間ニが減圧状態であつた場合は、急激な沸
騰により生じる液泡あるいは液泡飛沫を伴う過飽
和蒸気が配管ホ内まで吹き上つて質量流量制御装
置の流量誤差等を生じやすく、最終製品の品質低
下を招くおそれがある。また第４図の場合では、
ヘの部分で気体ガス流と還液液流が衝突し、安定
なガス供給が行えない。

この考案の目的は、原料液が激しく沸騰した場
合でも液沫が反応装置や配管に導入されることが
なく、しかも気化タンクから流出後再び凝縮して
液状となつた原料ガスを円滑に気化タンクに還流
させることができ、常に安定な状態で原料ガスを
反応装置に供給しうる原料供給装置を提供するこ
とである。

問題点を解決するための手段 この考案者らは、反応装置に液体から発生させ
た原料ガスを安定に供給しうる装置を開発するた
めに鋭意研究を重ねた結果、原料タンク内の液体
原料が液体のまま上方に押し上げられるのを抑制
するために原料タンク内を多孔板で上下に仕切つ
て、上部に衝撃部分を形成するとともに、この多
孔板を任意の傾斜表面に形成して、板面に生じる
凝縮液を常に気化タンク内に還流させればよいこ
とを見出し、この知見に基づいてこの考案をなす
に至つた。

すなわち、この考案は、原料液を収容して加熱
気化する原料タンクと、気化された原料ガスを開
閉弁および流量制御機構を介して反応装置に導く
配管を備えた装置において、上記原料タンク２
は、その内部を適所に小孔１４を点設した任意の
傾斜表面からなる仕切り板１５を介して下部を気
化タンク部分１６、上部を緩衝タンク部分１７に
分割形成されている原料供給装置を提供するもの
である。

実施例 次にこの考案の実施例を図面について説明する
と、第１図に示すように全体は１つの恒温槽１に
収容されている。原料タンク２は、内面あるいは
外面にヒーター３を有するとともに、その頂部は
自動開閉弁４、自動開閉弁５を介して一方側をパ
ージガスの管路６に接続され、他方側は複数列に
分岐して、それぞれ質量流量制御装置７，７、自
動開閉弁８，８′を介して反応装置の所要のバー
ナに接続されている。また原料タンク２内は調節
弁９を介して原料液チヤージの管路１０に接続さ
れており、この調節弁９は荷重変換器１１の検知
により原料タンクの重量が一定以下になると自動
的に開かれ原料液を補給するようになつている。
なお、１２は原料タンク２内の液温をヒーター３
と連動して一定に保つための測温抵抗体、１３は
原料タンクのドレインである。

ここまでは、従来の装置と同様であるが、この
考案においては前記したように原料タンク２の内
部が、任意の傾斜面よりなり、かつ適所に小孔１
４を有する仕切板１５を介してそれぞれ下半部を
気化タンク部分１６、上半部を緩衝タンク部分１
７に区画されている。

第２図Ａ〜Ｄは上記原料タンク２に設けられた
仕切板１５の各例を示すものであつて、第２図Ａ
においては、仕切板１５は第１図に示されたもの
と同じく角形のタンク内に上方に突出する曲面あ
るいは円筒上タンク内に上方に張り出す球面に形
成され、この仕切板１５にはタンク側壁に近い周
縁に沿つて一列の小孔１４…が点設されている。
次に第２図Ｂは仕切板１５は下方に弯曲する凹曲
面あるいは凹球面に形成され、小孔１４…はこの
板面全面に散設されている。第２図Ｃにおいて
は、仕切板１５は角形あるいは円形タンク内に一
方に傾斜して設けられた傾斜平板として作られ、
その全面に小孔１４…が設けられている。さらに
第２図Ｄに示すものは、第２図Ａのものの上方に
さらに仕切板１５を設けて緩衝タンク部分１７を
２段としたものである。

作用、効果 上記の構造により、チヤージガスの管路１０を
経て原料タンク２に供給された原料は、ヒーター
３の加熱により気化し、気化タンク部分１６から
仕切板１５の小孔１４…を通つて緩衝タンク部分
１７に入つて一定圧力に保たれ、管路を介して自
動開閉弁８を通り前記反応装置のバーナ等、所要
のガス出口に送られるが、原料タンク２内におい
ては、仕切板１５の存在により沸騰などに起因す
る原料ガスの圧力変化がこの仕切板１５に吸収さ
れて質量流量制御装置７の制御は安定される。さ
らに、前記したように急速な沸騰により生じる液
泡や飛沫を伴う蒸気は、この仕切板１５で遮断さ
れて落下するか、または小孔１４…を通過した状
態で仕切板１５上面に止まり上部配管にまで上昇
するおそれがない。このように、この考案におい
ては沸騰により仕切板１５上まで上昇した上記液
体、および上昇した気化ガスのうち冷却により液
化した分は、小孔１４…を通つて気化タンク部分
１６に自然に戻され、しかも、この場合、仕切板
１５は、例えば第２図Ａ〜Ｄに示すように任意の
方向に下降する傾斜面に形成されているから、仕
切板１５上面に液体が残留することがなく、この
ことは液の表面張力によつて小孔１４…が皮膜状
に遮閉されることが防止され、したがつて気化ガ
スの上昇が妨げられず気化タンク部分１６の機能
を最大限に保つことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図はこの考案の実施例を示し、第
１図は全体の系統説明図、第２図Ａ〜Ｄはこの考
案における原料タンクの各例を示す縦断面図、第
３図、第４図はそれぞれ従来装置の一例を示す系
統説明図である。 ２……原料タンク、３……ヒーター、４，５，
８，８′……自動開閉弁、７……質量流量制御装
置、１４……小孔、１５……仕切板、１６……気
化タンク部分、１７……緩衝タンク部分。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 原料液を収容して加熱気化する原料タンクと、
   気化された原料ガスを開閉弁および流量制御機構
   を介して反応装置に導く配管を備えた装置におい
   て、上記原料タンク２は、その内部を適所に小孔
   １４…を点設した任意の傾斜表面からなる仕切り
   板１５を介して下部を気化タンク部分１６、上部
   を緩衝タンク部分１７に分割形成されている原料
   供給装置。