JPH06349676A - マイクロチップコンデンサ - Google Patents

マイクロチップコンデンサ

Info

Publication number
JPH06349676A
JPH06349676A JP5133742A JP13374293A JPH06349676A JP H06349676 A JPH06349676 A JP H06349676A JP 5133742 A JP5133742 A JP 5133742A JP 13374293 A JP13374293 A JP 13374293A JP H06349676 A JPH06349676 A JP H06349676A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
metallized
capacitor
circuit
patterns
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP5133742A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomoyoshi Fukazawa
智好 深沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamagata Ltd
Original Assignee
NEC Yamagata Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Yamagata Ltd filed Critical NEC Yamagata Ltd
Priority to JP5133742A priority Critical patent/JPH06349676A/ja
Priority to US08/253,867 priority patent/US5519233A/en
Publication of JPH06349676A publication Critical patent/JPH06349676A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/66High-frequency adaptations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6605High-frequency electrical connections
    • H01L2223/6611Wire connections
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4847Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
    • H01L2224/48472Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13063Metal-Semiconductor Field-Effect Transistor [MESFET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19041Component type being a capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19042Component type being an inductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19043Component type being a resistor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19102Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device
    • H01L2924/19104Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device on the semiconductor or solid-state device, i.e. passive-on-chip
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30105Capacitance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • H01L2924/30111Impedance matching

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Microwave Amplifiers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】マイクロチップコンデンサの電極が分割されて
いて各電極に接続される負荷インピーダンスがバラツキ
を生じた場合、電極間の相互干渉を抑制し回路を安定動
作させる。 【構成】薄膜抵抗4とマイクロストリップライン5によ
りウイルキンソン型の合成回路を構成し、第一のメタラ
イズパターン2の各パターン間のアイソレーションを向
上し、かつ第一のメタライズパターン2と第二のメタラ
イズパターン3との間をマイクロストリップライン5で
接続する事により、ボンディング線に比較し回路定数の
安定化が図られ、第一のメタライズパターン2間の相互
干渉によるトランジスタの不安定動作を抑制する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はマイクロチップコンデン
サに関し、特にマイクロ波トランジスタの内部整合回路
の回路素子として使用されるマイクロチップコンデンサ
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のマイクロチップコンデンサの一例
を示す図4を参照すると、このコンデンサは、誘電体基
板1の主表面にメタライズパターン8を1個又は2個以
上配置し、かつ主裏面が全面メサライズされた構造とな
っていた。
【0003】従来のマイクロチップコンデンサの他の例
として示す図5を参照すると、このコンデンサは、誘電
体基板1の主表面に第一のメタライズパターン2を1個
又は2個以上配置し、第二のメタライズパターン3を第
一のメタライズパターン2の複数個に対し1個の割合で
配置し、かつ主裏面を全面メタライズされた構造となっ
ていた。
【0004】次に、動作について説明すると、図4と図
5とのコンデンサはともに平行平板コンデンサとして機
能し、特に図5は第一と第二のメタライズパターンによ
り一つの有電体内で2種類のコンデンサ容量を有するも
のである。
【0005】上記マイクロチップコンデンサ(図5)が
マイクロ波トランジスタの内部整合回路の回路定数とし
て用いられる図6を参照すると、マイクロ波トランジス
タ6のトランジスタチップとマイクロチップコンデンサ
の第一のメタライズパターン2との間、及びマイクロチ
ップコンデンサ上の第一,第二のメタライズパターン
2,3間は、ボンディング線7で接続される。
【0006】図6の等価回路を示す図7の回路図を参照
すると、マイクロチップコンデンサの第一のメタライズ
パターン2と第二のメタライズパターン3は、それぞれ
キャパシタンスC1,C2として機能し、各ボンディン
グ線7はインダクタンスL1とL2として機能する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のマイク
ロチップコンデンサにおいて、各電極パターンに接続さ
れるボンディング線7とマイクロ波トランジスタ6の内
部インピーダンスのバラツキが生じた場合、各電極に接
続される負荷インピーダンスが各電極間でアンバランス
となり、それらが相互干渉を起こしてマイクロ波トラン
ジスタの異常発振などの動作不安定を生じる問題点があ
った。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のマイクロチップ
コンデンサの構成は、第一のメタライズパターンと第二
のメタライズパターンの2種の電極を有し、第一のメタ
ライズパターンが2つ以上に分割され、第一のメタライ
ズパターン2個に対して第二のメタライズパターン1個
が対となる電極構造を有しており、第一のメタライズパ
ターンの隣合わせた2個が薄膜抵抗体で互いに接続さ
れ、かつ第一のメタライズパターンと第二のメタライズ
パターン間がマイクロストリップラインで接続されてい
ることを特徴とする。
【0009】
【実施例】本発明の一実施例のマイクロチップコンデン
サを示す図1を参照すると、このコンデンサは、誘電体
基板1の主表面に第一のメタライズパターン2を4個、
第二のメタライズパターン3を第一のメタライズパター
ン2の2個に対して1個の割合で配置し、又第一のメタ
ライズパターン2の2個1組を薄膜抵抗4で互いに接続
し、第一のメタライズパターン2の2個と第二のメタラ
イズパターン3の1個との組合せで、各々をマイクロス
トリップライン5で接続した。
【0010】次に、このマイクロチップコンデンサをマ
イクロ波トランジスタの内部整合回路の回路素子に使用
した例を示す図2を参照すると、マイクロ波トランジス
タ6と、本実施例のマイクロチップコンデンサの第一の
メタライズパターン2との間は、ボンディング線7で各
々接続されている。
【0011】図2の等価回路を示す図3を参照すると、
上述のボンディング線7はFETチップ10のゲートに
接続されたインダクタンスLとして働き、第一のメタラ
イズパターン2と第二のメタライズパターン3はそれぞ
れキャパシタンスC1とC2として働く。所定長のマイ
クロストリップライン5は誘導性素子であり、インダク
タンスと同等の働きを有し、インダクタンスL,キャパ
シタンスCの2段回路として機能する。薄膜抵抗4は抵
抗Rとなる。
【0012】このコンデンサの動作を図2で説明する
と、一般にボンディング線7のインダクタンスは組立上
かなりのバラツキが発生し、またマイクロ波トランジス
タ6の内部インピーダンスもチップ面内においてバラツ
キがある。従って、マイクロチップコンデンサの第一の
メタライズパターン2に接続される負荷インピーダンス
はメタライズパターン間でアンバランスを生じることに
なり、マイクロストリップライン5と薄膜抵抗4を通し
て第一のメタライズパターン間で信号の流れを生じる。
【0013】しかし、本実施例のマイクロチップコンデ
ンサでは、マイクロストリップライン5を通して流れる
信号と薄膜抵抗4を通して流れる信号とが打ち消し合う
様に、マイクロストリップライン5と薄膜抵抗4とがウ
イルキンソン型の合成回路を構成している為、パターン
間のアイソレーションを高くとる事が可能となり、パタ
ーン間の相互干渉を抑制する効果を有する。
【0014】また、第一のメタライズパターン2と第二
のメタライズパターン3との間の接続をボンディング線
7を使用せず、マイクロストリップライン5を使用して
いる為に、インダクタンスのバラツキが極めて小さく、
第一及び第二パターン間のバランスを保つ働きがある。
【0015】即ち、ボンディング線7による回路定数値
のバラツキを軽減し、各電極間の負荷インピーダンスの
アンバランスを防ぐ。
【0016】図2に示すマイクロ波トランジスタで1電
極当りのゲート幅が2mmのC帯MESFETの場合、
内部インピーダンスは6GHzにおいて約10Ω程度で
あるが、薄膜抵抗値を10Ωとする事により、従来のマ
イクロチップコンデンサに対し、アイソレーションで8
dB改善され、−19.2dBとれる事がシミュレーシ
ョンにより確認された。
【0017】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明は、第一のメ
タライズパターン間を薄膜抵抗で接続し、かつ第一のメ
タライズパターンと第二のメタライズパターン間を接続
するマイクロストリップラインとを構成する事で、第一
のメタライズパターンと第二のメタライズパターン間の
アイソレーションを高くし、またマイクロストリップラ
インを使用してインダクタンスのバラツキを小さくし、
各メタライズパターン間のバランスを確保する事によっ
て、第一のメタライズパターンの各パターン間での相互
干渉を抑制し、マイクロ波トランジスタの発振などの不
安定動作を抑制する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の斜視図である。
【図2】この実施例をマイクロ波トランジスタの内容整
合回路に使用した例の斜視図である。
【図3】図2の等価回路を示す回路図である。
【図4】従来のマイクロチップコンデンサの一例の斜視
図である。
【図5】従来のマイクロチップコンデンサの他の例の斜
視図である。
【図6】従来のマイクロチップコンデンサをマイクロ波
トランジスタの内部整合回路に使用した例の斜視図であ
る。
【図7】図6の等価回路を示す回路図である。
【符号の説明】
1 誘電体基板 2 第一のメタライズパターン 3 第二のメタライズパターン 4 薄膜抵抗 5 マイクロストリップライン 6 マイクロ波トランジスタ 7 ボンディング線 8 メタライズパターン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 誘電体基板上に第一のメタライズパター
    ンと第二のメタライズパターンとを設け、前記第一のメ
    タライズパターンが2つ以上に分割され、前記第一のメ
    タライズパターン2個に対して前記第二のメタライズパ
    ターン1個が対となる電極構造のマイクロチップコンデ
    ンサにおいて、前記第一のメタライズパターン2個が互
    いに薄膜抵抗体で接続され、前記第一のメタライズパタ
    ーンと前記第二のメタライズパターンとの間がマイクロ
    ストリップラインで接続されたことを特徴とするマイク
    ロチップコンデンサ。
  2. 【請求項2】 前記第一のメタライズパターンには、ボ
    ンディング線を介して電界効果トランジスタが接続され
    ている請求項1記載のマイクロチップコンデンサ。
JP5133742A 1993-06-04 1993-06-04 マイクロチップコンデンサ Withdrawn JPH06349676A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5133742A JPH06349676A (ja) 1993-06-04 1993-06-04 マイクロチップコンデンサ
US08/253,867 US5519233A (en) 1993-06-04 1994-06-03 Microchip capacitor and thin film resistor as circuit elements in internal impedance matching circuit of microwave transistor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5133742A JPH06349676A (ja) 1993-06-04 1993-06-04 マイクロチップコンデンサ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06349676A true JPH06349676A (ja) 1994-12-22

Family

ID=15111866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5133742A Withdrawn JPH06349676A (ja) 1993-06-04 1993-06-04 マイクロチップコンデンサ

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5519233A (ja)
JP (1) JPH06349676A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6741144B2 (en) 2001-05-11 2004-05-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd High-frequency semiconductor device
JP2016174068A (ja) * 2015-03-17 2016-09-29 株式会社東芝 並列キャパシタおよび高周波半導体装置
CN111863459A (zh) * 2020-06-28 2020-10-30 华中科技大学 一种贴片式微型滤波电容器的制备方法与应用

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5939739A (en) * 1996-05-31 1999-08-17 The Whitaker Corporation Separation of thermal and electrical paths in flip chip ballasted power heterojunction bipolar transistors
US5841184A (en) * 1997-09-19 1998-11-24 The Whitaker Corporation Integrated emitter drain bypass capacitor for microwave/RF power device applications
US6194774B1 (en) * 1999-03-10 2001-02-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Inductor including bonding wires
US6586309B1 (en) * 2000-04-24 2003-07-01 Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. High performance RF inductors and transformers using bonding technique
CN1335674A (zh) * 2000-06-22 2002-02-13 德克萨斯仪器股份有限公司 一种带有键合引线电感的片上信号滤波器
US6850144B1 (en) * 2001-03-30 2005-02-01 Intel Corporation Coil for use on a substrate
KR100469248B1 (ko) * 2001-12-24 2005-02-02 엘지전자 주식회사 무선통신 모듈용 마이크로 인덕터

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6741144B2 (en) 2001-05-11 2004-05-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd High-frequency semiconductor device
US7030715B2 (en) 2001-05-11 2006-04-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. High-frequency semiconductor device
JP2016174068A (ja) * 2015-03-17 2016-09-29 株式会社東芝 並列キャパシタおよび高周波半導体装置
CN111863459A (zh) * 2020-06-28 2020-10-30 华中科技大学 一种贴片式微型滤波电容器的制备方法与应用
CN111863459B (zh) * 2020-06-28 2021-10-08 华中科技大学 一种贴片式微型滤波电容器的制备方法与应用

Also Published As

Publication number Publication date
US5519233A (en) 1996-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4042952A (en) R. F. power transistor device with controlled common lead inductance
US7495529B2 (en) Phase shift circuit, high frequency switch, and phase shifter
US4479100A (en) Impedance matching network comprising selectable capacitance pads and selectable inductance strips or pads
US5233313A (en) High power field effect transistor amplifier
JPH06349676A (ja) マイクロチップコンデンサ
JPH07297609A (ja) 半導体装置
KR100529581B1 (ko) 초고주파 윌켄슨 전력분배기
KR100228754B1 (ko) 고주파 증폭 집적-회로 장치
JPH0370201A (ja) ローデットライン形移相器
US5656874A (en) High-frequency component and high-frequency circuit
JPH0645810A (ja) マイクロ波増幅器及びその製造方法
US6469331B2 (en) Monolithic integrated circuit with several capacitors forming bypass to ground
JPH10256850A (ja) 半導体装置及び高周波電力増幅器
JPH11340709A (ja) 回路基板およびそれを用いた電子装置
US4786881A (en) Amplifier with integrated feedback network
JPH0653414A (ja) マイクロ波集積回路
JPH04287507A (ja) 電界効果トランジスタ増幅器
JP2000208670A (ja) パッケ―ジ基板およびそれを用いた電子装置
JPH0821803B2 (ja) 高周波トランジスタの整合回路
JPH04296103A (ja) 高周波半導体混成集積回路装置
JPH08298307A (ja) 半導体装置
JPH01173761A (ja) 高周波用トランジスタ
JPS6276658A (ja) マイクロ波半導体装置
JPH03261202A (ja) マイクロ波半導体装置
JP2529778Y2 (ja) マイクロ波集積回路

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20000905