JPH0634838A - 光導波路間の光結合構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ３軸以上の高精度な位置合せを不要とし、か
つ端面同志を直接結合させる際の反射もどり光の影響を
除去することができる光導波路間の光結合構造を提供す
る。 【構成】 コア７及びクラッド層８を有する第３の光導
波路を可撓性を有するフィルムで形成し、この第３の光
導波路のコア７の両端部と第１および第２の光導波路の
コア１，４とをそれぞれ接触させて第１および第２の光
導波路間を結合したものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光導波路間の光結合構造
に関し、光通信装置等において別々の基板上に形成され
た光導波路間を光学的に結合する場合に用いて有用なも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来技術において別々の基板上に形成さ
れた光導波路間を結合させる光結合構造は、図７に示す
ように、光導波路の端面を直接結合させる方法が一般的
である。図中、１は第１の光導波路のコア、２は第１の
光導波路のクラッド層、３は第１の光導波路のコア１お
よびクラッド層２が形成されている基板、４は第２の光
導波路のコア、５は第２の光導波路のクラッド層、６は
第２の光導波路のコア４およびクラッド層５が形成され
ている基板を示す。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述の如き従来技術に
係る光導波路間の光結合構造において、第１の光導波路
のコア１と第２の光導波路のコア４とを結合効率良く直
接結合させるためには、各々の光導波路の端面を３次元
的に位置合わせするだけでなく、各々の光導波路のなす
角度を制御して光軸方向を一致させることが必要であ
り、その位置合わせが困難である。このように、従来の
光結合構造では、別々の基板に形成された光導波路同士
の光結合に３次元的な位置合わせと角度調整という３軸
以上の高精度な位置合わせが必要であり、光結合が困難
であるという欠点がある。また第１の光導波路からの光
信号が第２の光導波路端面で反射して反射もどり光の影
響を受け易くなるという問題がある。

【０００４】本発明は、上記従来技術に鑑み、上述の如
き３軸以上の高精度な位置合せを不要とし、かつ端面同
士を直接結合させる際の反射もどり光の影響を除去する
ことができる光導波路間の光結合構造を提供することを
目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の構成は、第１の基板上に形成された第１の光導波路
と第２の基板上に形成された第２の光導波路との間を、
可撓性を有し、しかもフィルム構造である第３の基板上
に形成された第３の光導波路を介して光学的に結合する
光結合構造であって、第３の光導波路の両端部の幅が第
１および第２の光導波路の幅と等しく、かつ第３の光導
波路の両端部が第１および第２の光導波路の両端部と各
々接触することを特徴とする。

【０００６】

【作用】上記構成の本発明によれば、可撓性を有するフ
ィルム状の第３の光導波路を第１および第２の光導波路
の長手方向の面の一部に接触させて第１および第２の光
導波間を結合させることにより、フィルムの柔軟性が利
用でき、第１と第２の光導波路の高さ方向の位置合わせ
および第１と第２の光導波路が形成されている平面のな
す角の位置合わせが不要となり、従来の端面同士の直接
結合に比べて大幅に位置合わせ作業を短縮できる。また
光導波路同士の光結合に端面同士を直接結合させないこ
とにより、反射もどり光の影響を防ぐことができる。

【０００７】

【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づき詳細に説
明する。

【０００８】図１はストリップ型光導波路を対象とした
本発明の第１の実施例を示す断面図である。同図中、１
は第１の光導波路のコア、２は第１の光導波路のクラッ
ド層、３は第１の光導波路のコア１およびクラッド層２
が形成されている基板、４は第２の光導波路のコア、５
は第２の光導波路のクラッド層、６は第２の光導波路の
コア４およびクラッド層５が形成されている基板、７は
第３の光導波路のコア、８は第３の光導波路のクラッド
層、９は第３の光導波路のコア７およびクラッド層８が
形成されている第３の基板である。

【０００９】コア１とコア４、およびクラッド層２とク
ラッド層５は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやＳｉ等から成る
第１および第２の基板３，６上に各々スピンコート・キ
ュアした後、コア１，４については反応性エッチング等
により矩形構造とする。コア１，４およびクラッド層
２，５の厚さは各々数ミクロン〜５０ミクロン程度、コ
ア幅は数ミクロン〜５０ミクロン程度である。

【００１０】コア７はコア１，４と、またクラッド層８
はクラッド層２，５と屈折率の等しいポリイミド系有機
材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミクロン
〜５０ミクロン程度、コア幅はおおよそ数ミクロン〜５
０ミクロン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムで
ある。このコア７は必要に応じて数ミクロン以下の薄い
光導波路クラッド層で覆われていても良い。かくして、
本実施例に係る第３の光導波路は第１および第２の光導
波路と同幅で、可撓性を有するものなっている。

【００１１】本実施例に係る第３の光導波路の形成は、
例えば図示していないシリコンウエハ上に光導波路コア
層およびクラッド層をスピンコート・キュアし、光導波
路コア形成用のマスクをリフトオフ法等により形成した
後、コア７を上述と同様の方法にて形成し、光導波路ク
ラッドとシリコン基板の界面を剥離すことにより得られ
る。クラッド層８は、さらにアクリル等の第３の基板９
を接着するが、この基板９は必要に応じて省略すること
も可能である。

【００１２】本実施例においては、まずコア１とコア７
の長手方向（ｘ，ｚ軸方向）を図示していない位置合わ
せ装置により位置合わせした後、コア７をコア１の長手
方向の面の一部に完全に接触させる。接触後は必要に応
じて紫外線硬化型の接着剤で固定する。この場合、接着
剤の屈折率はクラッド層２，８と等しくする。同様の方
法にてコア７とコア４を接触させることにより、第１お
よび第２の光導波路を結合させることができる。

【００１３】図２は本発明の第２の実施例を示す断面図
である。同図中、１は第１の光導波路のコア、２は第１
の光導波路のクラッド層、３は第１の光導波路のコア１
およびクラッド層２が形成されている基板、４は第２の
光導波路のコア、５は第２の光導波路のクラッド層、６
は第２の光導波路のコア４およびクラッド層５が形成さ
れている基板、７は第３の光導波路のコア、８は第３の
光導波路のクラッド層、９は第３の光導波路コア７およ
びクラッド層８が形成されている第３の基板、１０ａ，
１０ｂは第３の光導波路コア上に形成された突起を示
す。コア１とコア４、およびクラッド層２とクラッド層
５は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料等の光導
波路材料から成り、アルミナやＳｉ等から成る基板３，
６上に各々スピンコート・キュアした後、コア１，４に
ついては反応性エッチング等にて矩形構造とする。コア
１，４およびクラッド層２，５の厚さは各々数ミクロン
〜５０ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜５０ミクロ
ン程度である。

【００１４】コア７はコア１，４と、またクラッド層８
はクラッド層２，５と屈折率の等しいポリイミド系有機
材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミクロン
〜５０ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜５０ミクロ
ン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムである。

【００１５】突起１０ａ，１０ｂは、コア７上に形成し
てあり、このコア７と同一の屈折率、幅、厚みから成
り、その長手方向の寸法はコア１からコア７への、また
コア７からコア４への光パワー移行が最大となる長さ
（−完全結合長）に構成してある。なお、突起１０ａ，
１０ｂは必要に応じて数ミクロン以下の薄い光導波路ク
ラッドで覆われていても良い。

【００１６】かくして、本実施例に係る第３の導波路は
第１及び第２の導波路と同幅で、可撓性を有するととも
に突起１０ａ，１０ｂを有するものとなっている。

【００１７】本実施例に係る第３の光導波路の形成は、
例えば図示していないシリコンウエハ上に光導波路コア
層およびクラッド層をスピンコート・キュアし、光導波
路コア形成用のマスクをリフトオフ法等により形成した
後、突起部用光導波路層および突起部形成用マスクを同
様の方法にて形成し、続いて反応性イオンエッチング等
により突起１０ａ，１０ｂとコア７を同時に形成した
後、光導波路クラッドとシリコン基板の界面を剥離する
ことにより得られる。クラッド層８は、さらにアクリル
等の第３の基板９を接着するが、この基板９は必要に応
じて省略することも可能である。

【００１８】本実施例においては、まずコア１とコア７
の長手方向（ｘ，ｚ軸方向）を図示していない位置合わ
せ装置により位置合わせした後、突起１０ａ，１０ｂを
コア１の長手方向の面の一部に完全に接触させる。接触
後は必要に応じて紫外線硬化型の接着剤で固定する。こ
の場合、接着剤の屈折率はクラッド層２，８と等しくす
る。同様の方法にて突起１０ａ，１０ｂとコア４を接触
させることにより、第１および第２の光導波路を結合さ
せることができる。

【００１９】上述の如き第１及び第２の実施例によれ
ば、可撓性を有するフィルム状の第３の光導波路を第１
および第２の光導波路の長手方向の面の一部に接触させ
て第１および第２の光導波路間を結合させることによ
り、フィルムの柔軟性が利用でき、第１と第２の光導波
路の高さ方向の位置合わせおよび第１と第２の光導波路
が形成されている平面のなす角の位置合わせが不要にな
り、従来の端面同士の直接結合に比べて大幅に位置合わ
せ作業を短縮できる。また光導波路同士の光結合に端面
同士を直接結合させないことにより、反射もどり光の影
響を防ぐことができる。

【００２０】図３は、本発明の第３の実施例を示す断面
図である。同図中、１は第１の光導波路のコア、２は第
１の光導波路のクラッド層、３は第１の光導波路のコア
１およびクラッド層２が形成されている基板、４は第２
の光導波路のコア、５は第２の光導波路のクラッド層、
６は第２の光導波路のコア４およびクラッド層５が形成
されている基板、１７は第３の光導波路のコア、１８は
第３の光導波路のクラッド層、１９は第３の光導波路の
コア１７およびクラッド層１８が形成されている第３の
基板である。

【００２１】コア１とコア４、およびクラッド層２とク
ラッド層５は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやＳｉ等から成る
第１および第２の基板３，６上に各々スピンコート・キ
ュアした後、コア１，４について反応性エッチング等に
より矩形構造とする。コア１，４およびクラッド層２，
５の厚さは各々数ミクロン〜５０ミクロン程度、コア幅
は数ミクロン〜５０ミクロン程度である。

【００２２】コア１７はコア１，４と、また第３のクラ
ッド層１８はクラッド層２，５と屈折率の等しいポリイ
ミド系有機材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々
数ミクロン〜５０ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜
５０ミクロン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルム
である。このコア１７は必要に応じて数ミクロン以下の
薄い光導波路クラッド層で覆われていても良い。かくし
て、本実施例に係る第３の導波路は第１及び第２の導波
路と同幅で、可撓性を有するものとなっている。

【００２３】本実施例に係る第３の光導波路フィルムの
形成は、例えば図示していないシリコンウエハ上に光導
波路コア層およびクラッド層をスピンコート・キュア
し、光導波路コア形成用のマスクをリフトオフ法等によ
り形成した後、コア１７を上述と同様の方法にて形成
し、さらに集束イオンビーム等にてビームの走査領域を
光導波路の深さ方向に順次変化させながらテーパ形状を
作製して、最後に光導波路クラッドとシリコン基板の界
面を剥離することにより得られる。クラッド層８はさら
にアクリル等の基板９を接着するが、この基板９は必要
に応じて省略することも可能である。

【００２４】本実施例においては、まずコア１とコア１
７の長手方向（ｘ，ｚ軸方向）を図示していない位置合
わせ装置により位置合わせした後、コア１７を第１のコ
ア１の長手方向の面の一部に完全に接触させる。接触後
は必要に応じて紫外線硬化型の接着剤で固定する。この
場合、接着剤の屈折率はクラッド層２，１８と等しくす
る。同様の方法にてコア１７とコア４を接触させること
により、第１および第２の光導波路を結合させることが
できる。

【００２５】図４は本発明の第４の実施例を示す断面図
である。同図中、１は第１の光導波路のコア、２は第１
の光導波路のクラッド層、３は第１の光導波路のコア１
およびクラッド層２が形成されている基板、４は第２の
光導波路のコア、５は第２の光導波路のクラッド層、６
は第２の光導波路のコア４およびクラッド層５が形成さ
れている基板、１７は第３の光導波路のコア、１８は第
３の光導波路のクラッド層、９は第３の光導波路のコア
１７およびクラッド層１８が形成されている第３の基
板、１０は第３の光導波路コア上に形成された突起を示
す。

【００２６】コア１とコア４、およびクラッド層２とク
ラッド層５は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやＳｉ等から成る
基板３，６上に各々スピンコート・キュアした後、コア
１，４については反応性エッチング等により矩形構造と
する。コア１，４およびクラッド層２，５の厚さは各々
数ミクロン〜５０ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜
５０ミクロン程度である。

【００２７】コア１７はコア１，４と、またクラッド層
１８はクラッド層２，５と屈折率の等しいポリイミド系
有機材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミク
ロン〜５０ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜５０ミ
クロン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムであ
る。

【００２８】突起１０ａ，１０ｂは、コア１７上に形成
しており、このコア７と同一の屈折率、幅、厚みから成
り、その長手方向の寸法はコア１からコア１７への、ま
たコア１７からコア４への光パワー移行が最大となる長
さ（−完全結合長）に構成してある。なお、突起１０
ａ，１０ｂは必要に応じて数ミクロン以下の薄い光導波
路クラッドで覆われていても良い。

【００２９】かくして、本実施例に係る第３の光導波路
は第１および第２の光導波路と同幅で、可撓性を有する
とともに突起１０ａ，１０ｂを有するものとなってい
る。

【００３０】本実施例に係る第３の光導波路の形成は、
例えば図示していないシリコンウエハ上に光導波路コア
層およびクラッド層をスピンコート・キュアし、光導波
路コア形成用のマスクをリフトオフ法等により形成した
後、突起部用光導波路層および突起部形成用マスクを同
様の方法にて形成し、続いて反応性イオンエッチング等
により突起１０ａ，１０ｂとコア１７を同時に形成した
後、光導波クラッドとシリコン基板の界面を剥離するこ
とにより得られる。クラッド層１８は、さらにアクリル
等の基板９を接着するが、この基板９は必要に応じて省
略することも可能である。

【００３１】本実施例においては、まずコア１とコア１
７の長手方向（ｘ，ｚ軸方向）を図示していない位置合
わせ装置により位置合わせした後、コア１７上に形成さ
れた突起１０ａをコア１の長手方向の面の一部に完全に
接触させる。接触後は必要に応じて紫外線硬化型の接着
剤で固定する。この場合、接着剤の屈折率はクラッド層
２，１８と等しくする。同様の方法にてコア１７上に形
成された突起１０ｂと第２の光導波路コア４を接触させ
ることにより、第１および第２の光導波路を結合させる
ことができる。

【００３２】上述の如き第３及び第４の実施例によれ
ば、前述の第１及び第２の実施例と同様の作用に加え、
テーパ部での全反射による光も結合させることができる
ので、その分光結合効率が向上する。

【００３３】図５は本発明の第５の実施例を示す断面図
である。同図中、１は第１の光導波路のコア、２は第１
の光導波路のクラッド層、３は第１の光導波路のコア１
およびクラッド層２が形成されている基板、４は第２の
光導波路のコア、５は第２の光導波路のクラッド層、６
は第２の光導波路のコア４およびクラッド層５が形成さ
れている基板、７は第３の光導波路のコア、８は第３の
光導波路のクラッド層、９は第３の光導波路のコア７お
よびクラッド層８が形成されている第３の基板、２０
ａ，２０ｂは第３の光導波路コア上に形成されたテーパ
状の突起を示す。

【００３４】コア１とコア４、およびクラッド層２とク
ラッド層５は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやＳｉ等から成る
基板４，６上に各々スピンコート・キュアした後、コア
１，４については反応性エッチング等により矩形構造と
する。コア１，４およびクラッド層２，５の厚さは各々
数ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜５０ミクロン程
度である。

【００３５】コア７はコア１，４と、またクラッド層８
はクラッド層２，５と屈折率の等しいポリイミド系有機
材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミクロン
〜５０ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜５０ミクロ
ン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムである。こ
のコア７は必要に応じて数ミクロン以下の薄い光導波路
クラッドで覆われていても良い。

【００３６】突起２０ａ，２０ｂは、コア７と同一の屈
折率、幅、厚みから成り、コア７上で、しかも第１およ
び第２の光導波路と第３の光導波路との重ね合わせ部近
傍に第１および第２の光導波路と相対向するよう各々形
成されるとともに、第１および第２の光導波路と相対向
していない反対側にテーパを有している。

【００３７】かくして、本実施例に係る第３の光導波路
は第１および第２の光導波路と同幅で、可撓性を有する
とともに突起２０ａ，２０ｂを有するものとなってい
る。

【００３８】本実施例に係る第３の光導波路の形成は、
例えば図示していないシリコンウエハ上に光導波路コア
層およびクラッド層をスピンコート・キュアし、光導波
路コア形成用のマスクをリフトオフ法等により形成した
後、テーパ状突起部用光導波路層およびテーパ状突起部
形成用マスクを同様の方法にて形成し、続いて反応性イ
オンエッチング等によりテーパ形状とする突起２０ａ，
２０ｂとコア７を同時に形成した後、集束イオンビーム
等にてビーム等の走査領域を突起２０ａ，２０ｂの深さ
方向に順次変化させながら突起２０ａ，２０ｂにテーパ
を作製し、最後に光導波路クラッドとシリコン基板の界
面を剥離することにより得られる。クラッド層はさらに
アクリル等の基板９を接着するが、この基板９は必要に
応じて省略することも可能である。

【００３９】本実施例においては、まずコア１とコア７
の長手方向（ｘ，ｚ軸方向）を図示していない位置合わ
せ装置により位置合わせした後、コア７をコア１の長手
方向の面の一部に完全に接触させる。接触後は必要に応
じて紫外線硬化型の接着剤で固定する。この場合、接着
剤の屈折率はクラッド層２，８と等しくする。同様の方
法にてコア７とコア４を接触させることにより、第１お
よび第２の光導波路を結合させることができる。

【００４０】図６は本発明の第６の実施例を示す断面図
である。同図中、１は第１の光導波路のコア、２は第１
の光導波路のクラッド層、３は第１の光導波路のコア１
およびクラッド層２が形成されている基板、４は第２の
光導波路のコア、５は第２の光導波路のクラッド層、６
は第２の光導波路のコア４およびクラッド層５が形成さ
れている基板、７は第３の光導波路コア、８は第３の光
導波路のクラッド層、９は第３の光導波路のコア７およ
びクラッド層８が形成されている第３の基板、１０ａ，
１０ｂは第３の光導波路のコア７上に形成された第１お
よび第２の光導波路と重ね合わせ用の突起、２０ａ，２
０ｂは第３の光導波路のコア７上に形成されたテーパ形
状を有する突起を示す。

【００４１】コア１とコア４、およびクラッド層２とク
ラッド層５は各々屈折率の等しいポリイミド系有機材料
等の光導波路材料から成り、アルミナやＳｉ等から成る
基板３，６上に各々スピンコート・キュアした後、コア
１，４については反応性エッチング等により矩形構造と
する。コア１，４およびクラッド層２，５の厚さは各々
数ミクロン〜５０ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜
５０ミクロン程度である。

【００４２】コア７はコア１，４と、またクラッド層８
はクラッド層２，５と屈折率の等しいポリイミド系有機
材料等の光導波路材料から成り、厚みは各々数ミクロン
〜５０ミクロン程度、コア幅は数ミクロン〜５０ミクロ
ン程度、クラッド幅は数mm〜cm角のフィルムである。

【００４３】突起１０ａ，１０ｂ，２０ａ，２０ｂはコ
ア７と同一の屈折率、幅で、突起１０ａ，１０ｂの厚み
はコア７と等しく、突起２０ａ，２０ｂの厚みはコア７
の２倍以上に形成してある。また、突起２０ａ，２０ｂ
は第１および第２の光導波路と相対向する位置に形成さ
れ、さらに第１および第２の光導波路と相対向していな
い反対側にテーパを有している。突起１０ａ，１０ｂの
長手方向の寸法はコア１からコア７への、またコア７か
らコア４への光パワー移行が最大となる長さ（＝完全結
合長）である。なお、第３の光導波路コア上に形成され
た突起１０ａ，１０ｂは必要に応じて数ミクロン以下の
薄い光導波路クラッドで覆われても良い。

【００４４】かくして、本実施例に係る第３の光導波路
は第１および第２の導波路と同幅で、可撓性を有すると
ともに突起１０ａ，１０ｂ，２０ａ，２０ｂを有するも
のとなっている。

【００４５】本実施例に係る第３の光導波路フィルムの
形成は、例えば図示していないシリコンウエハ上に光導
波路コア層およびクラッド層をスピンコート・キュア
し、光導波路コア形成用のマスクをリフトオフ法等によ
り形成した後、突起部用光導波路層および突起部形成用
マスクを同様の方法にて形成し、続いて反応性イオンエ
ッチング等により突起１０ａ，１０ｂ，２０ａ，２０ｂ
とコア７を同時に形成し、突起２０ａ，２０ｂについて
は集束イオンビーム等にてビームの走査領域を突起２０
ａ，２０ｂの深さ方向に順次変化させながらテーパを作
製した後、光導波路クラッドとシリコン基板の界面を剥
離することにより得られる。クラッド層８は、さらにア
クリル等の基板９を接着するが、この基板９は必要に応
じて省略することも可能である。

【００４６】本実施例においては、まずコア１とコア７
の長手方向（ｘ，ｚ軸方向）を図示していない位置合わ
せ装置により位置合わせした後、コア７上に形成された
突起１０ａ，１０ｂをコア１の長手方向の面の一部に完
全に接触させる。接触後は必要に応じて紫外線硬化型の
接着剤で固定する。この場合、接着剤の屈折率はクラッ
ド層２，８と等しくする。同様の方法にて第３の光導波
路コア上に形成された突起１０ａ，１０ｂと第２の光導
波路コア４を接触させることにより、第１および第２の
光導波路を結合させることができる。

【００４７】上述の如き第３及び第４の実施例によれ
ば、前述の第１及び第２の実施例と同様の作用に加え、
第３の光導波路面上での第１の光導波路および第２の光
導波路と相対する位置にテーパ形状の突起２０ａ，２０
ｂを設けることにより、第１の光導波路あるいは第２の
光導波路から第３の光導波路へ光パワーが移行しきれな
かった導波路伝播光も光結合することができる。

【００４８】なお、上述の如き第１〜第６の実施例にお
いて、コア７は直線のみで形成されている必要はなく、
曲がり、分岐等の回路が形成されていてもよい。また、
第１の光導波路および第２の光導波路は同一基板上に形
成されていてもよいことは言うまでもない。さらに、光
導波路材料はアクリル系材料（例えばポリメタクリレー
ト）でもよいことは言うまでもない。また、本発明の光
結合構造はストリップ型光導波路の他にリッジ型埋め込
み型導波路にも適用できることは言うまでもない。

【００４９】

【発明の効果】以上実施例とともに具体的に説明したよ
うに、本発明によれば第１の光導波路と第２の光導波路
を可撓性のフィルムから成る第３の光導波路にて結合す
る構成とすることにより、第２の光導波路の高さ方向の
位置合わせおよび第１と第２の光導波路が形成されてい
る平面のなす角の位置合わせが不要になり、従来の端面
同士の直接結合に比べて大幅に位置合わせ作業を短縮で
き、実装コストの低減に有効となる。また、端面同士の
直接結合としないことにより、結合界面での反射もどり
光の光導波路伝播光に対する影響を抑制することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す断面図である。

【図２】本発明の第２の実施例を示す断面図である。

【図３】本発明の第３の実施例を示す断面図である。

【図４】本発明の第４の実施例を示す断面図である。

【図５】本発明の第５の実施例を示す断面図である。

【図６】本発明の第６の実施例を示す断面図である。

【図７】従来技術を示す断面図である。

【符号の説明】

１，４，７ コア ２，５，８ クラッド層 ３，６，９ 基板

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の基板上に形成された第１の光導波
   路と第２の基板上に形成された第２の光導波路との間
   を、可撓性を有し、しかもフィルム構造である第３の光
   導波路を介して光学的に結合する光結合構造であって、 第３の光導波路の両端部の幅が第１および第２の光導波
   路の幅と等しく、かつ第３の光導波路の両端部が第１お
   よび第２の光導波路の両端部と各々接触することを特徴
   とする光導波路間の光結合構造。
2. 【請求項２】 第３の光導波路両端部の表面に第３の光
   導波路と等しい幅で等しい材料の突起を有し、この突起
   が第１および第２の光導波路両端の表面の一部と各々接
   触することを特徴とする請求項１に記載する光導波路間
   の光結合構造。
3. 【請求項３】 第１の基板上に形成された第１の光導波
   路と第２の基板上に形成された第２の光導波路との間
   を、可撓性を有し、しかもフィルム構造である第３の光
   導波路を介して光学的に結合させる光結合構造であっ
   て、 第３の光導波路の両端部は第１および第２の光導波路の
   両端部と各々接触し、しかも第３の光導波路の両端部の
   光導波路の幅が第１および第２の光導波路の幅と等し
   く、かつ第３の光導波路両端が厚み方向にテーパを有す
   ることを特徴とする光導波路間の光結合構造。
4. 【請求項４】 第３の光導波路の両端部の表面に第３の
   光導波路材料と等しい材料で第３の光導波路と等しい幅
   の突起を有し、この突起が第１および第２の光導波路の
   表面の一部と各々接触するようにしたことを特徴とする
   請求項３に記載する光導波路間の光結合構造。
5. 【請求項５】 第１の基板上に形成された第１の光導波
   路と第２の基板上に形成された第２の光導波路との間
   を、可撓性を有し、しかもフィルム構造である第３の光
   導波路を介して光学的に結合する光結合構造であって、 第３の光導波路の両端部は第１および第２の光導波路の
   両端部と各々接触し、しかも第１、第２の光導波路と第
   ３の光導波路との重ね合わせ部近傍における第３の光導
   波路面上に、第３の光導波路と同一の材料で第１および
   第２の光導波路の端面とそれぞれ相対向する第３の光導
   波路と同一幅の突起を設け、しかも突起はその第１およ
   び第２の光導波路と相対向する側と反対側に厚み方向に
   テーパを有することを特徴とする光導波路間の光結合構
   造。
6. 【請求項６】 第３の光導波路の両端部で、しかも第１
   および第２の光導波路との重ね合わせ部に相当する部分
   に、第３の光導波路材料と等しい材料の突起を有し、こ
   の突起は第３の光導波路と等しい幅の突起であることを
   特徴とする請求項５に記載する光導波路間の光結合構
   造。