JPH06348012A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPH06348012A
JPH06348012A JP13435993A JP13435993A JPH06348012A JP H06348012 A JPH06348012 A JP H06348012A JP 13435993 A JP13435993 A JP 13435993A JP 13435993 A JP13435993 A JP 13435993A JP H06348012 A JPH06348012 A JP H06348012A
Authority
JP
Japan
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group
substituent
sulfonium
general formula
diphenyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP13435993A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasumasa Toba
泰正 鳥羽
Takeo Yamaguchi
岳男 山口
Madoka Yasuike
円 安池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】光に対して有効かつ高感度な光重合性組成物を
提供することを目的とする。 【構成】ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有
する化合物、光重合開始剤としてスルホニウムまたはオ
キソスルホニウム化合物およびスチリル色素を含むこと
を特徴とする光重合性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光重合性組成物に関す
る。さらに詳しくは、ラジカル重合可能なエチレン性不
飽和結合を有する化合物を活性線の露光により短時間に
重合させ、例えば、インキ、感光性印刷板、フォトレジ
スト、ダイレクト刷版材料、製版用プルーフ材料、ホロ
グラム材料、封止剤、接着剤、光造形材料等の分野にお
いて良好な物性を持った硬化物を得るための光重合性組
成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、さまざまなスルホニウムおよびオ
キソスルホニウム化合物をカチオン重合用の開始剤とし
て用いる例が多数報告されており、これについては例え
ば、ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用
と市場」、79頁(1989年、シーエムシー)、市村
国宏監修、「新・光機能性高分子の応用」(1988
年、シーエムシー)や、J.V.Crivello著、
「Advances inPolymer Scien
ce」、第62巻、Initiators−Poly−
Reactions−Optical Activit
y、(1984年、Springer−Verlag)
等にまとめられている。
【0003】例えば、特開平2−196812号にはベ
ンジルスルホニウムを含んだ重合性組成物が、特公昭6
3−2081号にはトリフェニルスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェートを含んだ重合性組成物が、特開昭5
9−140203号にはトリアリールおよびジアリール
スルホニウム化合物を含んだ重合性組成物が、ヨーロッ
パ特許第35969号にはオキソスルホニウム化合物等
を含んだ重合性組成物が、特公平3−55483号には
テトラベンゾポルフィリンを増感剤に用いた各種スルホ
ニウム化合物およびオキソスルホニウム化合物等を含ん
だ重合性組成物が開示されている。
【0004】これらの成書や特許に報告されているスル
ホニウム化合物およびオキソスルホニウム化合物は、い
ずれもそのアニオン部がBF4 、PF6 、SbF6 、S
bCl6 、ClO4 等の無機系アニオンもしくはトリフ
ルオロメチル硫酸、p−トルエンスルホネート等のスル
ホン酸もしくはカルボン酸等の有機酸のアニオンから構
成されている。これらのスルホニウム化合物およびオキ
ソスルホニウム化合物は、いずれもそのスルホニウムカ
チオンの炭素−硫黄結合部分が熱および/または光エネ
ルギーを与えることにより分解してラジカルおよび/ま
たはカチオンを発生し、この作用で該重合性組成物を重
合すると考えられている。
【0005】一方、有機ホウ素アニオン(ボレート)を
有する錯体を、重合性組成物の重合開始剤として用いる
例が開示されている。例えば、特開平2−4804号な
らびに特開平2−3460号には金属ボレート錯体を含
む重合性組成物が、USP第4343891号にはアン
モニウムボレート錯体を含む重合性組成物が、特開昭6
2−143044号には陽イオン染料−ボレート錯体を
含む光重合性組成物が開示されている。これら有機ホウ
素アニオンを有する錯体は、いずれもボレートアニオン
部の炭素−ほう素結合部分が熱および/または光エネル
ギーを与えることにより分解してラジカルを発生し、こ
の作用で該重合性組成物を重合すると考えられている。
【0006】近年、有機ホウ素アニオンを有する錯体の
対カチオンにヨードニウムカチオンを重合性組成物の重
合開始剤として用いる例として、特開平2−16645
1号にはジアリールヨードニウムテトラアリールボレー
トを含む重合性組成物が、特開平2−157760号お
よび特開平3−704号にはジアリールヨードニウムア
ルキルトリアリールボレートを含む重合性組成物が開示
されている。また、有機ホウ素アニオンを有する錯体の
対カチオンにスルホニウムカチオンを重合性組成物の重
合開始剤として用いる例として、USP第356745
3号記載のジチオリウムテトラフェニルボレートを含ん
だ重合性組成物が、特開平2−157760号にはジア
リールおよびトリフェニルスルホニウムブチルトリフェ
ニルボレートを含んだ重合性組成物が開示されている。
【0007】本発明で目的とする産業上の利用分野にお
いて、従来の技術で開示した光重合性組成物の問題点を
以下に挙げる。
【0008】まず、特開平2−196812号、特公昭
63−2081号、特開昭59−140203号、ヨー
ロッパ特許第35969号ならびに特公平3−5548
3号に記載されている各種スルホニウム化合物およびオ
キソスルホニウム化合物を含んだ光重合性組成物は、い
ずれもそのアニオン部がBF4 、PF6 、SbF6 、S
bCl6 、ClO4 等の無機系アニオンもしくはトリフ
ルオロメチル硫酸、p−トルエンスルホネート等のスル
ホン酸もしくはカルボン酸等の有機酸のアニオンから構
成されている。しかし、これらのアニオン自身はラジカ
ル発生には寄与しないため、感度的に不十分である。
【0009】また、特開平2−4804号、特開平2−
3460号、USP第4343891号、特開昭62−
143044号に記載されている各種有機ホウ素アニオ
ンを有する錯体を含んだ光重合性組成物は、いずれもそ
のカチオン自身はラジカル発生には寄与せず、感度的に
不十分である。
【0010】また、特開平2−166451号およびU
SP第3567453号に記載されている各種有機ホウ
素アニオンを有する錯体を含んだ光重合性組成物は、い
ずれもアニオンの構造がテトラアリールボレートである
が、このような構造のアニオンは効率よくラジカルを発
生せず、感度的に不十分である。 さらに、特開平2−
157760号および特開平3−704号に記載されて
いるジアリールヨードニウムアルキルトリアリールボレ
ートを含んだ光重合性組成物は、熱的に不安定であり保
存安定性が良くないという問題が挙げられる。
【0011】また、特開平2−157760号に記載さ
れているジアリールおよびトリフェニルスルホニウムブ
チルトリフェニルボレートを含んだ光重合性組成物は、
これらジアリールおよびトリフェニルスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレートの還元電位が低いため、効率よ
くラジカルを発生せず、感度的に不十分である。そこ
で、これらの諸問題を解決できる光重合開始剤ならびに
光重合性組成物の開発が望まれていた。
【発明が解決しようとする課題】
【0012】本発明の目的は、光エネルギーを与えるこ
とにより活性なラジカルを生成させ、ラジカル重合可能
なエチレン性不飽和結合を有する化合物を短時間に重合
させうる、高感度な光重合性組成物を提供することにあ
る。高感度が必要な感光性印刷版材料、ダイレクト刷版
材料、プルーフ材料、フォトレジスト、ホログラム材料
や、インキ、封止剤、接着剤、粘着剤、粘接着剤等の分
野で、有用な光重合性組成物を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発
明に至った。即ち、本発明は、ラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和結合を有する化合物、光重合開始剤として
スチリル色素および下記一般式(1)で表されるスルホ
ニウムおよびオキソスルホニウム錯体を含むことを特徴
とする光重合性組成物に関する。
【0014】一般式(1)
【化5】
【0015】(ただしR1 およびR2 は置換基を有して
もよいアリール基を、R3 は置換基を有してもよいアル
キル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有
してもよい脂環基、置換基を有してもよいアルケニル
基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有し
てもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリール
オキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換
基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよ
いアミノ基より選ばれる基を、R4 は酸素原子もしくは
孤立電子対を、R5 、R6 、R7 およびR8 はそれぞれ
独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有
してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニ
ル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有
してもよい脂環基より選ばれる基を示し、R5 、R6
7 およびR8 全てが同時に置換基を有してもよいアリ
ール基となることはない。)
【0016】先ずはじめに光重合開始剤のうち一般式
(1)で表されるスルホニウムまたはオキソスルホニウ
ム錯体について説明する。一般式(1)のR1 およびR
2 は置換基を有してもよいアリール基であり、例えば、
フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、
ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等が挙げ
られ、これらの基の水素原子はさらに他の置換基で置換
されていても良く、そのような置換基としては、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等の
ハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブト
キシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオ
キシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基、アセトキシ基、ベンゾイルオキ
シ基等のエステル基、アセチル基、イソブチリル基、ア
クリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基、フ
ェナシル基等のアシル基、メチルチオ基、tert−ブ
チルチオ基等のアルキルチオ基、フェニルチオ基、p−
トリルチオ基等のアリールチオ基、メチルアミノ基、シ
クロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジ
ノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−
トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチ
ル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル
基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル
基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等の
アリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホル
ミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トル
エンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ト
リフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチル
シリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルア
ンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェ
ニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
【0017】また一般式(1)のR3 は、置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール
基、置換基を有してもよい脂環基、置換基を有してもよ
いアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、
置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有しても
よいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル
チオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基
を有してもよいアミノ基より選ばれる基であり、具体的
には、置換基を有してもよいアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル基、
アセトニル基、フェナシル基、サリチル基、アニシル
基、シアノメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル
基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、メンチル基、ピナニル基等が、置換基を有し
てもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、p
−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、ア
ンスリル基、フェナントリル基等が、置換基を有しても
よい脂環基としては、例えば、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、1−シク
ロヘキセニル基等が、置換基を有してもよいアルケニル
基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、1
−ブテニル基、3,3−ジシアノ−1−プロペニル基等
が、置換基を有してもよいアルキニル基とは、例えば、
エテニル基、1−プロピニル基、2−tert−ブチル
エテニル基、2−フェニルエテニル基等が、置換基を有
してもよいアルコキシ基とは、例えば、メトキシ基、t
ert−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が、置換基を
有してもよいアリールオキシ基としては、例えば、フェ
ノキシ基、p−トリルオキシ基、p−フルオロフェノキ
シ基、p−シアノフェノキシ基等が、置換基を有しても
よいアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、
エチルチオ基、ブチルチオ基等が、置換基を有してもよ
いアリールチオ基としては、例えば、フェニルチオ基、
p−トリルチオ基、p−シアノフェニルチオ基等が、置
換基を有してもよいアミノ基としては、例えば、アミノ
基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シクロヘキシ
ルアミノ基、アニリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基
等が挙げられ、これらの基の水素原子はさらに他の置換
基で置換されていても良く、そのような置換基として
は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ter
t−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−
トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基、アセトキシ基、ベンゾ
イルオキシ基等のエステル基、アセチル基、イソブチリ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリ
ル基、フェナシル基等のアシル基、メチルチオ基、te
rt−ブチルチオ基等のアルキルチオ基、フェニルチオ
基、p−トリルチオ基等のアリールチオ基、メチルアミ
ノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、
ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ
基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル
基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のア
ルキル基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、ク
メニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル
基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ
基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、
p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シア
ノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ト
リメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリ
メチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、
ジフェニルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシル
ホスホニウミル基、フェニルヨードニウミル基等が挙げ
られる。
【0018】また、一般式(1)のR4 は酸素原子もし
くは孤立電子対のいずれかであり、R4 が酸素原子のば
あい本発明のオキソスルホニウム錯体に該当し、R4
孤立電子対のばあい本発明のスルホニウム錯体に該当す
ることになる。
【0019】さらに、一般式(1)におけるボレートア
ニオン上の置換基R5 、R6 、R7およびR8 におい
て、置換基を有してもよいアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル
基、ベンジル基等が、置換基を有してもよいアリール基
としては、例えば、フェニル基、p−トリル基、キシリ
ル基、メシチル基、クメニル基、p−メトキシフェニル
基、ナフチル基、2,4−ビス(トリフルオロメチル)
フェニル基、p−フルオロフェニル基、p−クロロフェ
ニル基、p−ブロモフェニル基等が、置換基を有しても
よいアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プ
ロペニル基、1−ブテニル基等が、置換基を有してもよ
いアルキニル基としては、例えば、エテニル基、2−t
ert−ブチルエテニル基、2−フェニルエテニル基等
が、置換基を有してもよい脂環基としては、例えば、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、
ボルニル基、1−シクロヘキセニル基等が挙げられるが
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0020】従って、一般式(1)におけるR1 〜R8
は上に示した基をどのように組み合わせてもかまわない
が、その還元電位が、電気化学的測定において−1.3
eV以上の値を示すスルホニウム錯体またはオキソスル
ホニウム錯体であることが必要である。尚、本明細書に
おける「還元電位」とは、参照電極として飽和カロメル
電極(SCE)に対する値を指す。
【0021】本発明のスルホニウム錯体またはオキソス
ルホニウム錯体が、電気化学的測定においてその還元電
位が−1.3eV以上の値を示すか否かは、ポーラログ
ラフィーやサイクリックボルタンメトリー等の電気化学
的測定方法によって容易に決定することができる。ま
た、いくつかのスルホニウム化合物の還元電位はジャー
ナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー
(J.Am.Chem.Soc.)、第106巻、41
21頁(1984年)、ジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカル・ソサエティー(J.Am.Chem.So
c.)、第111巻、1328頁(1989年)やJ.
V.Crivello著、「Advancesin P
olymer Science」、第62巻、Init
iators−Poly−Reactions−Opt
ical Activity、(1984年、Spri
nger−Verlag)およびその引用文献等に掲載
されている。
【0022】本発明の重合開始剤は、その還元電位が−
1.2eV以上の値を示すことが好ましく、その還元電
位が−1.0eV以上の値を示すことがさらに好まし
く、その還元電位が−0.8eV以上の値を示すことが
最も好ましい。この理由を以下に詳しく述べる。
【0023】まず、高感度な光重合性組成物を得るため
には、光重合性組成物中のラジカル重合可能なエチレン
性不飽和結合を有する化合物を、効率よく重合せしめる
ことが必要であり、そのためには光重合性組成物中の光
重合開始剤が光により効率よく分解してラジカルを発生
することが要求される。
【0024】一方、スルホニウム錯体が電気化学的還元
を受けて分解する場合の還元電位と、光化学的な還元電
位とは密接な関係があると考えられており、ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー(J.A
m.Chem.Soc.)、第106巻、4121頁
(1984年)、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミ
カル・ソサエティー(J.Am.Chem.So
c.)、第111巻、1328頁(1989年)やJ.
V.Crivello著、「Advances inP
olymer Science」、第62巻、Init
iators−Poly−Reactions−Opt
ical Activity、(1984年、Spri
nger−Verlag)およびその引用文献の中で指
摘されている。そのため、重合開始剤であるスルホニウ
ム錯体またはオキソスルホニウム錯体を効率よく分解さ
せラジカルを発生させるには、その還元電位を−1.3
eV以上の値にする必要があった。
【0025】この目的を達成するためには、無置換のア
ルキル基や無置換のアリール基の組み合わせからなるス
ルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体では不可
能であり、したがってラジカル重合可能なエチレン性不
飽和結合を有する化合物を効率よく重合せしめることが
困難である。実際、サイクリックボルタンメトリーによ
る実測値では、トリフェニルスルホニウム化合物では、
その還元電位は−1.44eVであるし、ジメチルフェ
ニルスルホニウム化合物では、その還元電位は−1.6
4eVであって、このようなスルホニウムカチオンは、
効率よく電子を受け取り(還元して)、分解してラジカ
ルを発生するとは考えにくい。
【0026】同様に、特開平2−157760号に記載
されているトリフェニルスルホニウム、p−メトキシフ
ェニルジフェニルスルホニウム、ビス(p−クロロフェ
ニル)メチルスルホニウム等のスルホニウム化合物も、
本発明の、還元電位が−1.3eV以上の値を示すスル
ホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体には含まれ
ない。
【0027】一方、一般式(1)のほう素上の置換基に
着目すると、R5 、R6 、R7 およびR8 全てが同時に
置換基を有してもよいアリール基となる構造は、これら
の基とほう素との間の結合が効率的に開裂せず、ラジカ
ルを発生しないので、このような構造は好ましくない。
【0028】一般式(1)において好ましい構造として
は、R3 が置換基を有してもよいアリル基、置換基を有
してもよいベンジル基もしくは置換基を有してもよいフ
ェナシル基のいずれかであり、R5 が置換基を有しても
よいアルキル基であり、R6、R7 およびR8 が置換基
を有してもよいアリール基である構造である。さらに好
ましい構造としては、R3 の置換基を有してもよいアリ
ル基、置換基を有してもよいベンジル基もしくは置換基
を有してもよいフェナシル基の置換基が、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子等のハロゲン基、トロフルオロメチ
ル基、シアノ基、ニトロ基、アセチル基、メトキシカル
ボニル基、ベンゾイル基、フェノキシカルボニル基等の
エステル基、メシル基、ベンゼンスルホニル基、p−ト
ルエンスルホニル基等のスルホニル基等に代表される電
子吸引性基がである構造があげられる。
【0029】この理由として、一般式(1)で示される
スルホニウムまたはオキソスルホニウム錯体のスチリル
色素による光増感分解効率を高めることが要求される
が、R 3 が置換基を有してもよいアリル基、置換基を有
してもよいベンジル基もしくは置換基を有してもよいフ
ェナシル基を導入することによって、これらの基がスル
ホニウムまたはオキソスルホニウムカチオンから優先的
かつ効率的に分解してラジカルを発生すると考えられ、
感度の向上が認められる点があげられる。
【0030】また、R3 がアセトニル基、シアノメチル
基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、ブトキシカルボニルメチル基、3,3−ジシ
アノ−1−プロペニル基、スルホメチル基、メシル基、
p−トルエンスルホニルメチル基、トリメチルアンモニ
ウミルメチル基、ジメチルスルホニウミルメチル基、p
−(ジフェニルスルホニウミル)フェニル基、トリフェ
ニルフェナシルホスホニウミルメチル基、フェニルヨー
ドニウミルエチニル基等も好ましい構造としてあげられ
る。
【0031】したがって本発明の一般式(1)に該当す
るスルホニウムまたはオキソスルホニウム錯体として
は、カチオン部がジフェニルベンジルスルホニウム、ジ
フェニル(p−クロロベンジル)スルホニウム、ジフェ
ニル(p−ブロモベンジル)スルホニウム、ジフェニル
(p−シアノベンジル)スルホニウム、ビス(p−te
rt−ブチルフェニル)ベンジルスルホニウム、ビス
(p−メチルフェニル)(p−クロロベンジル)スルホ
ニウム、ビス(p−メトキシフェニル)(p−ブロモベ
ンジル)スルホニウム、ビス(p−クロロフェニル)
(p−シアノベンジル)スルホニウム、ジフェニルフェ
ナシルスルホニウム、ジフェニル(p−クロロフェナシ
ル)スルホニウム、ジフェニル(p−ブロモフェナシ
ル)スルホニウム、ジフェニル(p−メトキシフェナシ
ル)スルホニウム、ジフェニル(p−シアノフェナシ
ル)スルホニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニ
ル)フェナシルスルホニウム、ビス(p−メトキシフェ
ニル)(p−クロロフェナシル)スルホニウム、ビス
(p−クロロフェニル)(p−ブロモフェナシル)スル
ホニウム、ビス(p−メチルフェニル)(p−メトキシ
フェナシル)スルホニウム、ビス(p−tert−ブチ
ルフェニル)(p−シアノフェナシル)スルホニウム、
ジフェニルアリルスルホニウム、ジフェニル(2−メチ
ル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウ
ム、ジフェニル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2
−プロペニル)スルホニウム、ジフェニル[2−フェニ
ル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペ
ニル]スルホニウム、ビス(p−クロロフェニル)アリ
ルスルホニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニ
ル)(2−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニ
ル)スルホニウム、ビス(p−メチルフェニル)(2−
フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホ
ニウム、ビス(p−メトキシフェニル)[2−フェニル
−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニ
ル]スルホニウム、ジフェニルアセトニルスルホニウ
ム、ジフェニルシアノメチルスルホニウム、ジフェニル
メトキシカルボニルメチルスルホニウム、ジフェニルエ
トキシカルボニルメチルスルホニウム、ジフェニルブト
キシカルボニルメチルスルホニウム、ジフェニルスルホ
メチルスルホニウム、ジフェニルメシルスルホニウム、
ジフェニル−p−トルエンスルホニルメチルスルホニウ
ム、ジフェニル(トリメチルアンモニウミルメチル)ス
ルホニウム、ジフェニル(ジメチルスルホニウミルメチ
ル)スルホニウム、ジフェニル[p−(ジフェニルスル
ホニウミル)フェニル]スルホニウム、ジフェニル(ト
リフェニルフェナシルホスホニウミルメチル)スルホニ
ウム、ジフェニル(フェニルヨードニウミルエチニル)
スルホニウム、ジフェニルベンジルオキソスルホニウ
ム、ジフェニル(p−クロロベンジル)オキソスルホニ
ウム、ジフェニル(p−シアノベンジル)オキソスルホ
ニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ベンジ
ルオキソスルホニウム、ビス(p−メトキシフェニル)
(p−ブロモベンジル)オキソスルホニウム、ビス(p
−クロロフェニル)(p−シアノベンジル)オキソスル
ホニウム、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウム、
ジフェニル(p−クロロフェナシル)オキソスルホニウ
ム、ジフェニル(p−ブロモフェナシル)オキソスルホ
ニウム、ジフェニル(p−メトキシフェナシル)オキソ
スルホニウム、ジフェニル(p−シアノフェナシル)オ
キソスルホニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニ
ル)フェナシルオキソスルホニウム、ビス(p−メトキ
シフェニル)(p−クロロフェナシル)オキソスルホニ
ウム、ビス(p−クロロフェニル)(p−ブロモフェナ
シル)オキソスルホニウム、ビス(p−メチルフェニ
ル)(p−メトキシフェナシル)オキソスルホニウム、
ビス(p−tert−ブチルフェニル)(p−シアノフ
ェナシル)オキソスルホニウム、ジフェニルアリルオキ
ソスルホニウム、ジフェニル(2−メチル−3,3−ジ
シアノ−2−プロペニル)オキソスルホニウム、ジフェ
ニル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニ
ル)オキソスルホニウム、ジフェニル[2−フェニル−
3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニ
ル]オキソスルホニウム、ビス(p−クロロフェニル)
アリルオキソスルホニウム、ビス(p−tert−ブチ
ルフェニル)(2−メチル−3,3−ジシアノ−2−プ
ロペニル)オキソスルホニウム、ビス(p−メチルフェ
ニル)(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペ
ニル)オキソスルホニウム、ビス(p−メトキシフェニ
ル)[2−フェニル−3,3−ビス(メトキシカルボニ
ル)−2−プロペニル]オキソスルホニウム、ジフェニ
ルアセトニルオキソスルホニウム、ジフェニルシアノメ
チルオキソスルホニウム、ジフェニルメトキシカルボニ
ルメチルオキソスルホニウム、ジフェニルエトキシカル
ボニルメチルオキソスルホニウム、ジフェニルブトキシ
カルボニルメチルオキソスルホニウム、ジフェニルスル
ホメチルオキソスルホニウム、ジフェニルメシルオキソ
スルホニウム、ジフェニル−p−トルエンスルホニルメ
チルオキソスルホニウム、ジフェニル(トリメチルアン
モニウミルメチル)オキソスルホニウム、ジフェニル
(ジメチルスルホニウミルメチル)オキソスルホニウ
ム、ジフェニル[p−(ジフェニルスルホニウミル)フ
ェニル]オキソスルホニウム、ジフェニル(トリフェニ
ルフェナシルホスホニウミルメチル)オキソスルホニウ
ム、ジフェニル(フェニルヨードニウミルエチニル)オ
キソスルホニウム等の各スルホニウムおよびオキソスル
ホニウムカチオンと、アニオン部がtert−ブチルト
リエチルボレート、フェニルトリエチルボレート、te
rt−ブチルトリブチルボレート、フェニルトリブチル
ボレート、トリブチルベンジルボレート、ジエチルジブ
チルボレート、メチルトリフェニルボレート、エチルト
リフェニルボレート、プロピルトリフェニルボレート、
イソプロピルトリフェニルボレート、ブチルトリフェニ
ルボレート、sec−ブチルトリフェニルボレート、t
ert−ブチルトリフェニルボレート、ネオペンチルト
リフェニルボレート、アリルトリフェニルボレート、ベ
ンジルトリフェニルボレート、ビニルトリフェニルボレ
ート、エチニルトリフェニルボレート、ブチルトリメシ
チルボレート、ブチルトリ(p−メトキシフェニル)ボ
レート、ブチルトリ(p−フルオロフェニル)ボレー
ト、ブチルトリ(p−クロロフェニル)ボレート、ブチ
ルトリ(p−ブロモフェニル)ボレート、ブチルトリス
[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレ
ート、sec−ブチルトリ(p−メトキシフェニル)ボ
レート、sec−ブチルトリ(p−フルオロフェニル)
ボレート、sec−ブチルトリ(p−クロロフェニル)
ボレート、sec−ブチルトリ(p−ブロモフェニル)
ボレート、sec−ブチルトリス[3,5−ビス(トリ
フルオロメチル)フェニル]ボレート、tert−ブチ
ルトリ(p−メトキシフェニル)ボレート、tert−
ブチルトリ(p−フルオロフェニル)ボレート、ter
t−ブチルトリ(p−クロロフェニル)ボレート、te
rt−ブチルトリ(p−ブロモフェニル)ボレート、t
ert−ブチルトリス[3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニル]ボレート等の各ボレートアニオン等の
ボレートアニオンとの組み合わせより構成されるスルホ
ニウム錯体およびオキソスルホニウム錯体が挙げられ
る。
【0032】したがって本発明の化合物(1)に該当す
るスルホニウム錯体あるいはオキソスルホニウム錯体の
具体例としては、ジフェニルベンジルスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−クロロベン
ジル)スルホニウムブチルトリス(p−メトキシフェニ
ル)ボレート、ジフェニル(p−ブロモベンジル)スル
ホニウムブチルトリス(p−フルオロフェニル)ボレー
ト、ジフェニル(p−シアノベンジル)スルホニウムブ
チルトリフェニルボレート、ビス(p−tert−ブチ
ルフェニル)ベンジルスルホニウムブチルトリス(p−
ブロモフェニル)ボレート、ビス(p−クロロフェニ
ル)(p−シアノベンジル)スルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニル(p−シアノベンジル)ス
ルホニウムフェニルトリブチルボレート、ジフェニル
(p−シアノベンジル)スルホニウムジブチルジフェニ
ルボレート、ジフェニル(p−シアノベンジル)スルホ
ニウムビニルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−
シアノベンジル)スルホニウム−sec−ブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニル(p−シアノベンジル)ス
ルホニウムシクロヘキシルトリフェニルボレート、ジフ
ェニルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ジフェニル(p−クロロフェナシル)スルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−ブロ
モフェナシル)スルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル(p−メトキシフェナシル)スルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−シア
ノフェナシル)スルホニウムシクロヘキシルトリス(p
−メトキシフェニル)ボレート、ビス(p−tert−
ブチルフェニル)フェナシルスルホニウム−sec−ブ
チルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ビス
(p−メトキシフェニル)(p−クロロフェナシル)ス
ルホニウムジブチルジフェニルボレート、ビス(p−ク
ロロフェニル)(p−ブロモフェナシル)スルホニウム
ベンジルトリフェニルボレート、ビス(p−メチルフェ
ニル)(p−メトキシフェナシル)スルホニウム−te
rt−ブチルトリフェニルボレート、ビス(p−ter
t−ブチルフェニル)(p−シアノフェナシル)スルホ
ニウムベンジルトリブチルボレート、ジフェニルアリル
スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル
(2−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)ス
ルホニウム−2−フェニルエチニルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2
−プロペニル)スルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル[2−フェニル−3,3−ビス(メトキ
シカルボニル)−2−プロペニル]スルホニウム−se
c−ブチルトリフェニルボレート、ビス(p−クロロフ
ェニル)アリルスルホニウムフェニルトリエチルボレー
ト、ビス(p−tert−ブチルフェニル)(2−メチ
ル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム
ジ(sec−ブチル)ジフェニルボレート、ビス(p−
メチルフェニル)(2−フェニル−3,3−ジシアノ−
2−プロペニル)スルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ジフェニルアセトニルスルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニルシアノメチルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート、ジフェニルメトキシカル
ボニルメチルスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニルスルホメチルスルホニウムメチルトリス
(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフェニル−p−
トルエンスルホニルメチルスルホニウムジシクロヘキシ
ルジフェニルボレート、ジフェニル(トリメチルアンモ
ニウミルメチル)スルホニウムビス(ブチルトリフェニ
ルボレート)、ジフェニル(トリフェニルフェナシルホ
スホニウミルメチル)スルホニウムビス(ブチルトリフ
ェニルボレート)、ジフェニル(フェニルヨードニウミ
ルエチニル)スルホニウムビス(ブチルトリフェニルボ
レート)、ジフェニルベンジルオキソスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−シアノベン
ジル)オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル(p−シアノベンジル)オキソスルホニ
ウム−sec−ブチルトリフェニルボレート、ジフェニ
ル(p−シアノベンジル)オキソスルホニウムシクロヘ
キシルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフ
ェニルフェナシルオキソスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート、ジフェニル(p−クロロフェナシル)オキ
ソスルホニウム−sec−ブチルトリス(p−フルオロ
フェニル)ボレート、ビス(p−tert−ブチルフェ
ニル)フェナシルオキソスルホニウムオクチルトリス
(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフェニルアリル
オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフ
ェニル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペ
ニル)オキソスルホニウム−tert−ブチルトリフェ
ニルボレート、ジフェニルメトキシカルボニルメチルオ
キソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル(トリメチルアンモニウミルメチル)オキソスルホ
ニウムビス(ブチルトリフェニルボレート)、ジフェニ
ル(トリフェニルフェナシルオキソホスホニウミルメチ
ル)オキソスルホニウムビス(ブチルトリフェニルボレ
ート)等が挙げられるが本発明はこれらの例に限定され
るわけではない。
【0033】次に、本発明の光重合開始剤のうちスチリ
ル色素について説明する。本発明において好適に使用さ
れるスチリル色素として、一般式(2)ないし(4)で
表されるスチリル色素を挙げることができる。
【0034】一般式(2)
【化6】
【0035】一般式(3)
【化7】
【0036】一般式(4)
【化8】
【0037】(式中、R9、R10およびR11はそれぞれ
独立に、置換基を有しても良いアルキル基または置換基
を有しても良いアラルキル基を示し、Xは、酸素原子、
硫黄原子、セレン原子、NH基、CH=CH基、または
C(CH32基を示し、かつXはN−R9とともに、縮
合ベンゼン環をさらに有していても良い5員環または6
員環を形成し、Yは、ハロゲン、NO3、BF4、P
6、AF6、ClO4、SbF6、CF3SO3、CH3
3またはCH364SO3を示し、nは1または2の
整数を示す。)
【0038】このようなスチリル色素の具体例として次
に挙げる化合物を例示することができる。2−(p−ジ
メチルアミノスチリル)−1−エチルピリジニウムヨー
ダイド、2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−
1,3−ブタジエニル]−1−エチルピリジニウムヨー
ダイド、2−{[5,5−ジメチル−3−(p−ジメチ
ルアミノスチリル)−2−シクロヘキセン−1−イリデ
ン]メチル}−1−エチルピリジニウムパークロレー
ト、2−{[5,5−ジメチル−3−[4−(p−ジメ
チルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−2−
シクロヘキセン−1−イリデン]メチル}−1−エチル
ピリジニウムパークロレート、2−{[4−(p−ジメ
チルアミノスチリル)−2H−ベンゾピラン−2−イリ
デン]メチル}−1−エチルピリジニウムパークロレー
ト、2−{[4−[4−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)−1,3−ブタジエニル]−2H−ベンゾピラン−
2−イリデン]メチル}−1−エチルピリジニウムパー
クロレート、4−(p−ジメチルアミノスチリル)−1
−エチルピリジニウムヨーダイド、4−[4−(p−ジ
メチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−1
−エチルピリジニウムヨーダイド、4−{[5,5−ジ
メチル−3−(p−ジメチルアミノスチリル)−2−シ
クロヘキセン−1−イリデン]メチル}−1−エチルピ
リジニウムパークロレート、4−{[5,5−ジメチル
−3−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3
−ブタジエニル]−2−シクロヘキセン−1−イリデ
ン]メチル}−1−エチルピリジニウムパークロレー
ト、4−{[4−(p−ジメチルアミノスチリル)−2
H−ベンゾピラン−2−イリデン]メチル}−1−エチ
ルピリジニウムパークロレート、4−{[4−[4−
(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニ
ル]−2H−ベンゾピラン−2−イリデン]メチル}−
1−エチルピリジニウムパークロレート、2−(p−ジ
メチルアミノスチリル)−3−メチルベンゾオキサゾリ
ウムヨーダイド、2−[4−(p−ジメチルアミノフェ
ニル)−1,3−ブタジエニル]−3−メチルベンゾオ
キサゾリウムヨーダイド、2−(p−ジエチルアミノス
チリル)−3−メチルベンゾオキサゾリウムヨーダイ
ド、2−(p−ジュロリジルスチリル)−3−エチルベ
ンゾオキサゾリウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメ
チル−3−(p−ジメチルアミノスチリル)−2−シク
ロヘキセン−1−イリデン]メチル}−3−メチルベン
ゾオキサゾリウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメチ
ル−3−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,
3−ブタジエニル]−2−シクロヘキセン−1−イリデ
ン]メチル}−3−メチルベンゾオキサゾリウムヨーダ
イド、2−{[4−(p−ジメチルアミノスチリル)−
2H−ベンゾピラン−2−イリデン]メチル}−3−エ
チルベンゾオキサゾリウムテトラフルオロボレート、2
−{[4−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−
1,3−ブタジエニル]−2H−ベンゾピラン−2−イ
リデン]メチル}−3−エチルベンゾオキサゾリウムテ
トラフルオロボレート、2−(p−ジメチルアミノスチ
リル)−3−メチルナフト[2,1−d]オキサゾリウ
ムヨーダイド、2−[4−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)−1,3−ブタジエニル]−3−メチルナフト
[2,1−d]オキサゾリウムヨーダイド、2−
{[5,5−ジメチル−3−(p−ジメチルアミノスチ
リル)−2−シクロヘキセン−1−イリデン]メチル}
−3−メチルナフト[2,1−d]オキサゾリウムヨー
ダイド、2−{[4−(p−ジメチルアミノスチリル)
−2H−ベンゾピラン−2−イリデン]メチル}−3−
エチルナフト[2,1−d]オキサゾリウムテトラフル
オロボレート、5,5−ジクロロ−2−{[5,5−ジ
メチル−3−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−
1,3−ブタジエニル]−2−シクロヘキセン−1−イ
リデン]メチル}−3−メチルベンゾオキサゾリウムパ
ークロレート、2−(p−ジメチルアミノスチリル)−
3−エチルベンゾチアゾリウムヨーダイド、2−[4−
(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニ
ル]−3−エチルベンゾチアゾリウムヨーダイド、2−
(p−ジメチルアミノスチリル)−3−ベンジルベンゾ
チアゾリウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメチル−
3−(p−ジメチルアミノスチリル)−2−シクロヘキ
セン−1−イリデン]メチル}−3−メチルベンゾチア
ゾリウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメチル−3−
[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタ
ジエニル]−2−シクロヘキセン−1−イリデン]メチ
ル}−3−メチルベンゾチアゾリウムヨーダイド、2−
{[4−(p−ジメチルアミノスチリル)−2H−ベン
ゾピラン−2−イリデン]メチル}−3−エチルベンゾ
チアゾリウムテトラフルオロボレート、2−{[4−
[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタ
ジエニル]−2H−ベンゾピラン−2−イリデン]メチ
ル}−3−エチルベンゾチアゾリウムテトラフルオロボ
レート、2−(p−ジメチルアミノスチリル)−3−メ
チルナフト[2,1−d]チアゾリウムヨーダイド、2
−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブ
タジエニル]−3−メチルナフト[2,1−d]チアゾ
リウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメチル−3−
(p−ジメチルアミノスチリル)−2−シクロヘキセン
−1−イリデン]メチル}−3−メチルナフト[2,1
−d]チアゾリウムヨーダイド、2−{[4−(p−ジ
メチルアミノスチリル)−2H−ベンゾピラン−2−イ
リデン]メチル}−3−エチルナフト[2,1−d]チ
アゾリウムテトラフルオロボレート、5,5−ジクロロ
−2−{[5,5−ジメチル−3−[4−(p−ジメチ
ルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−2−シ
クロヘキセン−1−イリデン]メチル}−3−メチルベ
ンゾチアゾリウムパークロレート、2−(p−ジメチル
アミノスチリル)−3−エチルベンゾセレナゾリウムヨ
ーダイド、2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)
−1,3−ブタジエニル]−3−エチルベンゾセレナゾ
リウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメチル−3−
(p−ジメチルアミノスチリル)−2−シクロヘキセン
−1−イリデン]メチル}−3−メチルベンゾセレナゾ
リウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメチル−3−
[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタ
ジエニル]−2−シクロヘキセン−1−イリデン]メチ
ル}−3−メチルベンゾセレナゾリウムヨーダイド、2
−{[4−(p−ジメチルアミノスチリル)−2H−ベ
ンゾピラン−2−イリデン]メチル}−3−エチルベン
ゾセレナゾリウムテトラフルオロボレート、2−{[4
−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブ
タジエニル]−2H−ベンゾピラン−2−イリデン]メ
チル}−3−エチルベンゾセレナゾリウムテトラフルオ
ロボレート、2−(p−ジメチルアミノスチリル)−3
−メチルナフト[2,1−d]セレナゾリウムヨーダイ
ド、2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,
3−ブタジエニル]−3−メチルナフト[2,1−d]
セレナゾリウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメチル
−3−(p−ジメチルアミノスチリル)−2−シクロヘ
キセン−1−イリデン]メチル}−3−メチルナフト
[2,1−d]セレナゾリウムヨーダイド、2−{[4
−(p−ジメチルアミノスチリル)−2H−ベンゾピラ
ン−2−イリデン]メチル}−3−エチルナフト[2,
1−d]セレナゾリウムテトラフルオロボレート、5,
5−ジクロロ−2−{[5,5−ジメチル−3−[4−
(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニ
ル]−2−シクロヘキセン−1−イリデン]メチル}−
3−メチルベンゾセレナゾリウムパークロレート、2−
(p−ジメチルアミノスチリル)−1−エチルキノリニ
ウムヨーダイド、2−[4−(p−ジメチルアミノフェ
ニル)−1,3−ブタジエニル]−1−エチルキノリニ
ウムヨーダイド、2−[4−(p−ジメチルアミノフェ
ニル)−1,3−ブタジエニル]−6−ジメチルアミノ
−1−エチルキノリニウムパークロレート、2−
{[5,5−ジメチル−3−(p−ジメチルアミノスチ
リル)−2−シクロヘキセン−1−イリデン]メチル}
−1−エチルキノリウムヨーダイド、2−{[5,5−
ジメチル−3−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)
−1,3−ブタジエニル]−2−シクロヘキセン−1−
イリデン]メチル}−1−エチルキノリウムヨーダイ
ド、2−{[4−(p−ジメチルアミノスチリル)−2
H−ベンゾピラン−2−イリデン]メチル}−1−エチ
ルキノリウムテトラフルオロボレート、2−{[4−
[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタ
ジエニル]−2H−ベンゾピラン−2−イリデン]メチ
ル}−1−エチルキノリウムテトラフルオロボレート、
4−(p−ジメチルアミノスチリル)−1−エチルキノ
リニウムヨーダイド、4−[4−(p−ジメチルアミノ
フェニル)−1,3−ブタジエニル]−1−エチルキノ
リニウムヨーダイド、4−{[5,5−ジメチル−3−
(p−ジメチルアミノスチリル)−2−シクロヘキセン
−1−イリデン]メチル}−1−エチルキノリウムヨー
ダイド、4−{[5,5−ジメチル−3−[4−(p−
ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−
2−シクロヘキセン−1−イリデン]メチル}−1−エ
チルキノリウムヨーダイド、4−{[4−(p−ジメチ
ルアミノスチリル)−2H−ベンゾピラン−2−イリデ
ン]メチル}−1−エチルキノリウムテトラフルオロボ
レート、4−{[4−[4−(p−ジメチルアミノフェ
ニル)−1,3−ブタジエニル]−2H−ベンゾピラン
−2−イリデン]メチル}−1−エチルキノリウムテト
ラフルオロボレート、2−(p−ジメチルアミノスチリ
ル)−1,3,3−トリメチル−3H−インドリウムヨ
ーダイド、2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)
−1,3−ブタジエニル]−1,3,3−トリメチル−
3H−インドリウムヨーダイド、2−{[5,5−ジメ
チル−3−(p−ジメチルアミノスチリル)−2−シク
ロヘキセン−1−イリデン]メチル}−1,3,3−ト
リメチル−3H−インドリウムヨーダイド、2−
{[5,5−ジメチル−3−[4−(p−ジメチルアミ
ノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−2−シクロヘ
キセン−1−イリデン]メチル}−1,3,3−トリメ
チル−3H−インドリウムヨーダイド、2−{[4−
(p−ジメチルアミノスチリル)−2H−ベンゾピラン
−2−イリデン]メチル}−1,3,3−トリメチル−
3H−インドリウムテトラフルオロボレート、2−
{[4−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,
3−ブタジエニル]−2H−ベンゾピラン−2−イリデ
ン]メチル}−1,3,3−トリメチル−3H−インド
リウムテトラフルオロボレート。
【0039】また、本発明の光重合性組成物におけるラ
ジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
とは、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結
合を少なくとも一つ以上を有する化合物であればどのよ
うなものでも良く、モノマー、オリゴマー、ポリマー等
の化学形態を持つものである。これらはただ一種のみ用
いても、目的とする特性を向上するために任意の比率で
二種以上混合した系でもかまわない。
【0040】このようなラジカル重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの
塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニ
トリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、
不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウ
レタン等のラジカル重合性化合物が挙げられるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
【0041】具体的には、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエ
チルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロ
ヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキ
シポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジア
クリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレ
ート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアク
リルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導
体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタ
クリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメ
チルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタ
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフ
ェニル)プロパン等のメタクリル酸誘導体、その他、ア
リルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリア
リルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体等が挙げ
られ、さらに具体的には、山下晋三ら編、「架橋剤ハン
ドブック」、(1981年、大成社)や加藤清視編、
「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」、(198
5年、高分子刊行会)、ラドテック研究会編、「UV・
EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、
シーエムシー)、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技
術」、(1987年、シーエムシー)、遠藤剛編、「熱
硬化性高分子の精密化」、(1986年、シーエムシ
ー)、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブッ
ク」、(1988年、日刊工業新聞社)に記載の市販品
もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性のモ
ノマー、オリゴマー、ポリマーが挙げられる。
【0042】本発明の一般式(1)で表されるスルホニ
ウムおよびオキソスルホニウム錯体の配合量は、前記ラ
ジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
100重量部に対して0.01から30重量部が好まし
く、さらに好ましくは0.1から10重量部である。
【0043】また、本発明のスチリル色素の配合量は、
前記ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する
化合物100重量部に対して0.01から30重量部が
好ましく、さらに好ましくは0.1から10重量部であ
るが、感光膜として基材上に形成した時に、使用する光
源の照射波長における光学密度が2を越えないように、
その配合量を調整する必要が有り、さらに好ましくは光
学密度が1を越えないように調整することが望まれる。
【0044】本発明の光重合性組成物は有機高分子重合
体等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム
板、その他の金属板、ポリエチレンテレフタレート等の
ポリマーフィルムに塗布して使用することが可能であ
る。本発明の光重合性組成物と混合して使用可能なバイ
ンダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α−アル
キルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニルアセタ
ール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン類、ポ
リカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステ
ル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具体的に
は、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、
ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール、
ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監修、「新
・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987
年)や「10188の化学商品」、657〜767頁
(化学工業日報社、1988年)記載の業界公知の有機
高分子重合体があげられる。
【0045】また、本発明の光重合性組成物はさらに感
度向上の目的で他の光重合開始剤と併用することが可能
である。本発明の光重合性組成物と混合して併用可能な
他の光重合開始剤としては、特公昭59−1281号、
特公昭61−9621号ならびに特開昭60−6010
4号記載のトリアジン誘導体、特開昭59−1504号
ならびに特開昭61−243807号記載の有機過酸化
物、特公昭43−23684号、特公昭44−6413
号、特公昭47−1604号ならびにUSP第3567
453号記載のジアゾニウム化合物、USP第2848
328号、USP第2852379号ならびにUSP第
2940853号記載の有機アジド化合物、特公昭36
−22062号、特公昭37−13109号、特公昭3
8−18015号ならびに特公昭45−9610号記載
のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−39162
号、特開昭59−140203号ならびに「マクロモレ
キュルス(Macromolecules)」、第10巻、第1307頁
(1977年)記載のヨードニウム化合物をはじめとす
る各種オニウム化合物、特開昭59−142205号記
載のアゾ化合物、特開平1−54440号、ヨーロッパ
特許第109851号、ヨーロッパ特許第126712
号、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス
(J.Imag.Sci.)」、第30巻、第174頁(1986年)
記載の金属アレン錯体、特開昭61−151197号記
載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリ
ー・レビュー(Coordination Chemistry Review)」、第
84巻、第85〜第277頁(1988年)ならびに特
開平2−182701号記載のルテニウム等の遷移金属
を含有する遷移金属錯体、特開平3ー209477号記
載のアルミナート錯体、特開平2−157760号記載
のホウ酸塩化合物、特開昭55−127550号ならび
に特開昭60−202437号記載の2,4,5−トリ
アリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭59
−107344号記載の有機ハロゲン化合物等があげら
れ、これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン
性不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.
01から10重量部の範囲で含有されるのが好ましい。
【0046】また、本発明の光重合性組成物は保存時の
重合を防止する目的で熱重合防止剤を添加することが可
能である。本発明の光重合性組成物に添加可能な熱重合
防止剤の具体例としては、p−メトキシフェノール、ハ
イドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコー
ル、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等を
あげることができ、これらの熱重合防止剤は、ラジカル
重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100
重量部に対して0.001から5重量部の範囲で添加さ
れるのが好ましい。
【0047】また、本発明の光重合性組成物はさらに重
合を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド
等に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等を添加する
ことが可能である。本発明の光重合性組成物に添加可能
な重合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例え
ば、N−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、
N,N−ジエチルアニリン等のアミン類、USP第44
14312号や特開昭64−13144号記載のチオー
ル類、特開平2−291561号記載のジスルフィド
類、USP第3558322号や特開昭64−1704
8号記載のチオン類、特開平2−291560号記載の
O−アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピリ
ジンチオン類があげられる。
【0048】本発明の光重合性組成物はさらに目的に応
じて、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホ
ネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ
防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白
剤、界面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、帯電防止
剤、磁性体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈
溶剤等と混合して使用しても良い。
【0049】本発明の光重合性組成物は、低圧水銀灯、
中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンラン
プ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光
灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリ
ウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプ
トンイオンレーザ、各種半導体レーザ、YAGレーザ、
発光ダイオード、CRT光源、プラズマ光源等の各種光
源を用いた露光により目的とする重合物や硬化物を得る
ことができる。故に、バインダーその他とともに基板上
に塗布して各種インキ、各種刷版材料、各種プルーフ材
料、フォトレジスト、電子写真、ダイレクト刷版材料、
ホログラム材料等の感光材料やマイクロカプセル等の各
種記録媒体、さらには接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止
剤および各種塗料に応用することが可能である。
【0050】
【作用】本発明で使用される一般式(1)で表されるス
ルホニウムおよびオキソスルホニウム錯体とスチリル色
素の組合わせは、光照射により励起し、その結果一般式
(1)で表されるスルホニウムおよびオキソスルホニウ
ム錯体が分解されることにより、フリーラジカルを発生
し、その結果、前記ラジカル重合可能なエチレン性不飽
和結合を有する化合物を重合するものと考えられる。
【0051】また、スルホニウムまたはオキソスルホニ
ウムカチオン上の置換基を工夫することによって、結晶
性、安定性、種々の有機溶剤に対する溶解性の向上が得
られ、さらに、従来のスルホニウム錯体よりもエチレン
性不飽和結合を有する化合物を含んだ重合性組成物の重
合に対して感度の向上に対し良好な結果を与える。
【0052】
【実施例】以下、実施例にて本発明を詳細にするが、本
発明は下記のみに限定されるものではない。例中、部は
重量部を示す。
【0053】実施例1 ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物としてペンタエリスリトールトリアクリレート100
部、スチリル色素(STY−1)5部、および重合開始
剤としてジフェニルフェナシルスルホニウムブチルトリ
フェニルボレート(SB−1)5部を、バインダー成分
であるポリメチルメタクリレート(PMMA)100部
とともにテトラクロロエタン2500部に溶解し、この
混合物をガラス板上に約2ミクロンの厚さに塗布し、こ
れを60℃の熱風オーブン中で2分間乾燥した後、さら
にこの上に酸素阻害層としてポリビニルアルコール(P
VA)の10%水溶液を塗布した感光板に、1.2mm
のビーム径を持つArイオンレーザーの488nm光を
照射時間を変えて露光しPVA層を剥離除去した後、ト
ルエンにて現像を行った。レーザービームと同等の大き
さのスポット径を与える露光量を感度として表1に示し
た。
【0054】STY−1
【化9】
【0055】SB−1
【化10】
【0056】実施例2 実施例1におけるSTY−1をSTY−2に変えた他は
実施例1と同様の方法で操作した時の感度を表1に示し
た。
【0057】STY−2
【化11】
【0058】実施例3 実施例1におけるSTY−1をSTY−3に変え、Ar
イオンレーザーの514nm光を使用した他は実施例1
と同様の方法で操作した時の感度を表1に示した。
【0059】STY−3
【化12】
【0060】実施例4 実施例3におけるSTY−3をSTY−4に変えた他は
実施例3と同様の方法で操作した時の感度を表1に示し
た。
【0061】STY−4
【化13】
【0062】実施例5 実施例3におけるSTY−3をSTY−5に変えた他は
実施例3と同様の方法で操作した時の感度を表1に示し
た。
【0063】STY−5
【化14】
【0064】実施例6 実施例3におけるSTY−3をSTY−6に変えた他は
実施例3と同様の方法で操作した時の感度を表1に示し
た。
【0065】STY−6
【化15】
【0066】実施例7 実施例3におけるSTY−3をSTY−7に変えた他は
実施例3と同様の方法で操作した時の感度を表1に示し
た。
【0067】STY−7
【化16】
【0068】実施例8 実施例1におけるSTY−1をSTY−8に変え、光源
にHe−Neレーザーの633nm光を使用した他た他
は実施例1と同様の方法で操作した時の感度を表1に示
した。
【0069】STY−8
【化17】
【0070】実施例9 実施例8におけるSTY−8をSTY−9に変えた他は
実施例8と同様の方法で操作した時の感度を表1に示し
た。
【0071】STY−9
【化18】
【0072】
【表1】
【0073】実施例10 実施例2におけるSB−1をSB−2に変えた他は実施
例2と同様の方法で操作した時の感度を表2に示した。
【0074】SB−2
【化19】
【0075】実施例11 実施例2におけるSB−1をSB−3に変えた他は実施
例2と同様の方法で操作した時の感度を表2に示した。
【0076】SB−3
【化20】
【0077】実施例12 実施例2におけるSB−1をSB−4に変えた他は実施
例2と同様の方法で操作した時の感度を表2に示した。
【0078】SB−4
【化21】
【0079】実施例13 実施例2におけるSB−1をSB−5に変えた他は実施
例2と同様の方法で操作した時の感度を表2に示した。
【0080】SB−5
【化22】
【0081】実施例14 実施例2におけるSB−1をSB−6に変えた他は実施
例2と同様の方法で操作した時の感度を表2に示した。
【0082】SB−6
【化23】
【0083】
【表2】
【0084】
【発明の効果】本発明の一般式(1)で表されるスルホ
ニウムおよびオキソスルホニウム錯体とスチリル色素と
の組合わせは、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結
合を有する化合物の光重合開始剤として有効であり、こ
れらを含む光重合性組成物は光エネルギーの付与により
重合、硬化することが可能である。
【0085】したがって、本発明の光重合性組成物は、
低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、
キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドラ
ンプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレ
ーザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレー
ザ、クリプトンイオンレーザ、各種半導体レーザ、YA
Gレーザ、発光ダイオード、CRT光源、プラズマ光源
等の各種光源からの光エネルギーの付与により目的とす
る重合物や硬化物を得ることができる。
【0086】故に、バインダーその他とともに基板上に
塗布して刷版材料、フォトレジスト、電子写真、ダイレ
クト刷版材料、プルーフ材料、ホログラム材料等の感光
板やマイクロカプセル等の心材として用い、各種記録媒
体や接着剤に応用することが可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/038 H01L 21/027

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結
    合を有する化合物、光重合開始剤としてスチリル色素お
    よび一般式(1)で表されるスルホニウムまたはオキソ
    スルホニウム錯体を含むことを特徴とする光重合性組成
    物。一般式(1) 【化1】 (ただしR1 およびR2 は置換基を有してもよいアリー
    ル基を、R3 は置換基を有してもよいアルキル基、置換
    基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい脂
    環基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有
    してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコ
    キシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換
    基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよ
    いアリールチオ基、置換基を有してもよいアミノ基より
    選ばれる基を、R4 は酸素原子もしくは孤立電子対を、
    5 、R6 、R7 およびR8 はそれぞれ独立に、置換基
    を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリ
    ール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を
    有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよい脂環
    基より選ばれる基を示し、R5 、R6 、R7 およびR8
    全てが同時に置換基を有してもよいアリール基となるこ
    とはない。)
  2. 【請求項2】 一般式(1)において、R3 が、置換基
    を有してもよいアリル基、置換基を有してもよいベンジ
    ル基もしくは置換基を有してもよいフェナシル基のいず
    れかであり、R5 が置換基を有してもよいアルキル基で
    あり、R6 、R 7 およびR8 が置換基を有してもよいア
    リール基である請求項1記載の光重合性組成物。
  3. 【請求項3】 スチリル色素が一般式(2)ないし
    (4)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種で
    ある請求項1記載の光重合性組成物。一般式(2) 【化2】 一般式(3) 【化3】 一般式(4) 【化4】 (式中、R9、R10およびR11はそれぞれ独立に、置換
    基を有しても良いアルキル基または置換基を有しても良
    いアラルキル基を示し、Xは、酸素原子、硫黄原子、セ
    レン原子、NH基、CH=CH基、またはC(CH32
    基を示し、かつXはN−R9とともに、縮合ベンゼン環
    をさらに有していても良い5員環または6員環を形成
    し、Yは、ハロゲン、NO3、BF4、PF6、AF6、C
    lO4、SbF6、CF3SO3、CH3SO3またはCH3
    64SO3を示し、nは1または2の整数を示す。) 【0000】
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005075945A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感エネルギー線酸発生剤、酸の発生方法、および感エネルギー線硬化性組成物
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JP2015031760A (ja) * 2013-07-31 2015-02-16 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、酸発生剤、高分子化合物及びレジストパターン形成方法

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