JPH063423U - 半導体製造装置の空気清浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体製造装置に吸引される空気を、塵埃のみ
ならず燐或は弗化水素、塩化水素等の汚染物質を除去し
て空気を高度に浄化する。 【構成】微粒子除去用フィルタ１５の上流側にケミカル
フィルタ１７を配設し、ケミカルフィルタより大きな塵
埃を除去すると共に燐或は弗化水素、塩化水素を吸着
し、微粒子除去用フィルタにより微細な塵埃を除去す
る。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、高清浄度が要求される半導体製造装置に於ける空気清浄装置に関す るものである。

【０００２】

【従来の技術】

半導体製造装置に於いては極めて高度な清浄度が要求され、この清浄度が製品 品質、製品の歩留まりに大きく影響する。

【０００３】 従来の半導体製造装置の空気清浄装置について図２〜図４により説明する。

【０００４】 図２、図３は縦型拡散／ＣＶＤ装置の概略を示しており、図中１は半導体製造 装置の筐体、２は熱処理炉、３はウェーハ４を多段に保持するボート、５は該ボ ート３を該熱処理炉２に装入、引出す為のボートエレベータ、６はウェーハカセ ット７を所要列、所要段に格納するカセットストッカであり、８は該カセットス トッカ６と前記ボート３との間でウェーハ４を移載するウェーハ移載機、９は前 記筐体１の正面に設けられ、ウェーハカセット７を半導体製造装置に供給、排出 する為のカセット授受部であり、本半導体製造装置では空気清浄装置１０，１１ は前記筐体１の側面部と天井部に設けられ、前記筐体１の背面には排気用のファ ン１２が設けられている。

【０００５】 ここで、空気の流れについて略述すると、側面部の空気清浄装置１０より吸引 された空気は濾過清浄され、ボート３の周囲を流れて前記ファン１２より排気さ れ、又天井部より吸引された空気は空気清浄装置１１により濾過清浄されて、前 記カセットストッカ６の上方から下方に向かって降流し、筐体１の床面に沿って 流れて前記ファン１２より排気される。

【０００６】 斯かる空気の流れにパーティクルが混在し、前記ウェーハ４に付着した場合は 、製品品質、歩留まりに大きく影響する。従って、前記空気清浄装置１０，１１ は空気の吸入時にパーティクル等、ウェーハ処理に悪影響を及ぼすものを除去し ている。

【０００７】 従来の空気清浄装置の概念図を図４に於いて示す。

【０００８】 筐体１の外方から順次プレフィルタ１３、ファン１４、微粒子除去用フィルタ １５、フィン１６が配設されて空気清浄装置が構成されている。

【０００９】 前記ファン１４によって筐体１の外方から空気が吸引され、吸引された空気は 前記プレフィルタ１３、微粒子除去用フィルタ１５を通り、前記フィン１６で方 向付けされて筐体１内部を流れる。前記プレフィルタ１３、微粒子除去用フィル タ１５を通過する過程で、先ずプレフィルタ１３で大きな塵埃が除去され、更に 微粒子除去用フィルタ１５で微細な塵埃が除去されて清浄化される。

【００１０】

【考案が解決しようとする課題】

ところが、上述した空気清浄装置では、プレフィルタに使用されていてる素材 （ポリアミド樹脂）をハロゲン化有機燐エステルを使用し難燃性処理しており、 空気清浄の過程でハロゲン化有機燐エステルの燐が空気にのってウェーハを汚染 してしまうという問題があり、又吸引する空気に弗化水素、塩化水素が含まれて いる場合も、前記従来の空気清浄装置では除去することができず、弗化水素、塩 化水素によってウェーハが汚染されるという不具合があった。

【００１１】 本考案は斯かる実情に鑑み、燐或は弗化水素、塩化水素の除去も可能にした空 気清浄装置に関するものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】

本考案は、微粒子除去用フィルタの上流側にケミカルフィルタを配設したこと を特徴とするものである。

【００１３】

【作用】

ケミカルフィルタより大きな塵埃を除去すると共に燐或は弗化水素、塩化水素 を吸着し、更に微粒子除去用フィルタにより微細な塵埃を除去して空気を浄化す る。

【００１４】

【実施例】

以下、図面に基づき本考案の一実施例を説明する。

【００１５】 図１は本実施例の概念図を示しており、図中、図４中で示したものと同一のも のには同符号を付し、その説明を省略する。

【００１６】 筐体１の外方から順次、ファン１４、ケミカルフィルタ１７、微粒子除去用フ ィルタ１５、フィン１６を配設する。

【００１７】 前記ケミカルフィルタ１７は格子状、或はハニカム状の枠体に活性炭等の吸着 材を充填したものであり、該吸着材によって燐或は弗化水素、塩化水素を吸着可 能にする。

【００１８】 尚、上記概念図ではケミカルフィルタ１７と微粒子除去用フィルタ１５を分離 して配設しているが、該ケミカルフィルタ１７と微粒子除去用フィルタ１５を一 体構造にしてもよい。

【００１９】 而して、前記ファン１４によって筐体１の外方から空気が吸引され、吸引され た空気はケミカルフィルタ１７を通り、該ケミカルフィルタ１７で大きな塵埃が 除去され、又燐或は弗化水素、塩化水素が吸着除去され、更に空気は前記微粒子 除去用フィルタ１５を通り、該微粒子除去用フィルタ１５で微細な塵埃が除去さ れて清浄化され、前記フィン１６で方向付けされて筐体１内部を流れる。筐体１ 内を流通した空気は前記ファン１２より排気される。

【００２０】 尚、上記実施例ではケミカルフィルタ１７により大きな塵埃を除去したが、プ レフィルタ１３をファン１４の上流に更に設けて大きな塵埃を除去する様にして もよい。

【００２１】

【考案の効果】

以上述べた如く本考案によれば、微細な塵埃のみでなく空気中の燐或は弗化水 素、塩化水素等のウェーハ汚染原因をも除去することが可能であり、ウェーハの 品質、歩留りの向上に寄与することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を示す概念図である。

【図２】縦型拡散・ＣＶＤ装置の正面方向からの斜視図
である。

【図３】縦型拡散・ＣＶＤ装置の背面方向からの斜視図
である。

【図４】従来例の斜視図である。

【符号の説明】

１３ プレフィルタ １４ ファン １５ 微粒子除去用フィルタ １６ フィン １７ ケミカルフィルタ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 保坂 英二 東京都港区虎ノ門二丁目３番13号 国際電 気株式会社内 (72)考案者 鈴木 増雄 東京都港区虎ノ門二丁目３番13号 国際電 気株式会社内

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 微粒子除去用フィルタの上流側にケミカ
   ルフィルタを配設したことを特徴とする半導体製造装置
   の空気清浄装置。