JPH06333994A - Tape for tab and its manufacture - Google Patents

Tape for tab and its manufacture

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Publication number
JPH06333994A
JPH06333994A JP14304893A JP14304893A JPH06333994A JP H06333994 A JPH06333994 A JP H06333994A JP 14304893 A JP14304893 A JP 14304893A JP 14304893 A JP14304893 A JP 14304893A JP H06333994 A JPH06333994 A JP H06333994A
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JP
Japan
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diamine
film
tape
polyimide film
tab
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP14304893A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taku Ito
卓 伊藤
Hitoshi Nojiri
仁志 野尻
Masaru Nishinaka
賢 西中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP14304893A priority Critical patent/JPH06333994A/en
Publication of JPH06333994A publication Critical patent/JPH06333994A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make possible a tape for TAB using a base film which has high elasticity and low moisture absorption and specified property of thermal expansion coefficient by providing an adhesive layer and a protective layer on a specified polyimide film. CONSTITUTION:A tape for TAB is constituted of a polymide film expressed by the formula. An adhesive film layer and a protective film are provided on this polyimide film. Further, it is to be desired that the thermal expansion coefficient of the base film should be about 0.4-2.0X10<-5> deg.C-<1>. Among the formula, R1 is a linear diamine residual group, and R2 is a flexural diamine residual group, and n expresses the integer not less than 1. Since the tape for TAB is constituted with this polyimide film as a base film hereby, this does not cause any warp or any curl, and since the dimensional change in processing and mounting is small, this becomes a material suitable for a tape carrier package in multipin and high density pattern.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスの多ピ
ン化、小型化、高密度実装に対応できる技術として注目
されているTAB(Tape Automated Bonding)技術に用
いられる保護層、接着剤層及び有機絶縁フィルムの3層
構造からなるテープ(以下、TAB用テープという)と
その製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a protective layer, an adhesive layer, and a protective layer used in a TAB (Tape Automated Bonding) technique, which is attracting attention as a technique capable of accommodating multi-pins, miniaturization and high-density mounting of semiconductor devices. The present invention relates to a tape having a three-layer structure of an organic insulating film (hereinafter referred to as TAB tape) and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】TAB用
テープを加工してLSIを実装するまでの加工工程に
は、パンチングによるスプロケットホール、デバイス
ホールの形成、保護層を除去した後、銅箔のラミネー
ティング、接着剤の硬化、配線パターンの形成(レジ
ストの塗布、銅箔のエッチング、レジストの剥離)、
メッキ処理、LSIチップのインナーリードボンディ
ング、樹脂封止、パンチング、基板へのアウター
リードボンディング、の数種の工程があり、以上の加工
工程を経てLSIが基板に実装される。したがって、T
AB用テープ上にLSIを実装するためには、LSIを
支えるだけの「こし」、すなわち高弾性をベースフィル
ムが有する必要がある。
2. Description of the Related Art Processing steps for processing a TAB tape and mounting an LSI include the steps of forming sprocket holes and device holes by punching, removing a protective layer, and then removing a copper foil. Laminating, curing adhesive, forming wiring pattern (resist coating, copper foil etching, resist peeling),
There are several types of processes such as plating, inner lead bonding of LSI chips, resin sealing, punching, and outer lead bonding to a substrate, and the LSI is mounted on the substrate through the above processing steps. Therefore, T
In order to mount the LSI on the AB tape, the base film needs to have a “brush” that supports the LSI, that is, high elasticity.

【0003】また、これらの加工工程のうち、銅箔の
ラミネーティング、接着剤の硬化、インナーリードボ
ンディング、樹脂封止、アウターリードボンディン
グの各加工工程は、工程中、熱にさらされるため、TA
B用テープのベースフィルムの熱膨張係数とLSI、銅
箔、基板等の他材料の熱膨張係数との差が極端に大きい
と不都合が生じる。すなわち、インナーリードボンデ
ィングの加工工程では、ベースフィルムとLSIの熱膨
張の差によりインナーリードとLSIの接合位置にずれ
を生ずることになる。同様に、アウターリードボンデ
ィングの加工工程では、アウターリードと基板との接合
位置にずれを生じることになる。
Of these processing steps, the processing steps of copper foil laminating, adhesive curing, inner lead bonding, resin encapsulation, and outer lead bonding are exposed to heat during the process.
If the difference between the coefficient of thermal expansion of the base film of the tape for B and the coefficient of thermal expansion of other materials such as LSI, copper foil, and substrate is extremely large, inconvenience occurs. That is, in the processing step of inner lead bonding, a difference in thermal expansion between the base film and the LSI causes a shift in the bonding position between the inner lead and the LSI. Similarly, in the outer lead bonding processing step, a deviation occurs in the bonding position between the outer lead and the substrate.

【0004】更に、銅箔ラミネーティングの加工工程
では、TAB用テープは銅箔とともに加熱圧着されるの
で、TAB用テープのベースフィルムと銅箔の熱膨張係
数の差が極端に大きいと、ベースフィルムと銅箔がラミ
ネーティングされたフィルムに反りやカールが生ずる原
因となる。
Further, in the copper foil laminating process, the TAB tape is heat-pressed together with the copper foil. Therefore, if the difference in the coefficient of thermal expansion between the TAB tape base film and the copper foil is extremely large, The copper foil causes warping and curling of the laminated film.

【0005】したがって、インナーリードボンディン
グの加工工程においては、LSI(シリコンウエハー)
とベースフィルムの熱膨張係数が近いこと(LSIの熱
膨張係数0.4×10-5-1)が好ましく、また、ア
ウターリードボンディングの加工工程では、接合する基
板とベースフィルムの熱膨張係数が近いことが好まし
く、更に、銅箔ラミネーティングの加工工程では、銅
箔とベースフィルムの熱膨張係数(銅箔の熱膨張係数
1.6×10-5-1)が近いことが好ましい。
Therefore, in the process of inner lead bonding, LSI (silicon wafer) is used.
And the thermal expansion coefficient of the base film are close to each other (the thermal expansion coefficient of the LSI is 0.4 × 10 -5 ° C -1 ), and in the outer lead bonding processing step, the thermal expansion coefficient of the substrate to be joined and the base film is large. Are preferably close to each other, and in the processing step of copper foil laminating, the thermal expansion coefficients of the copper foil and the base film (the thermal expansion coefficient of the copper foil 1.6 × 10 −5 ° C. −1 ) are preferably close to each other.

【0006】また、ベースフィルムの吸湿率が高いと電
気特性の低下が生じたり、各工程でのベースフィルムの
吸湿量の違いが原因で各工程間で寸法変化を生じ、熱膨
張による寸法変化と同様に反り、カール、接合不良が生
じるため、ベースフィルムは低吸湿性であることが好ま
しい。
When the moisture absorption rate of the base film is high, the electrical characteristics are deteriorated, and the dimensional change occurs between the processes due to the difference in the moisture absorption amount of the base film in each process, and the dimensional change due to the thermal expansion is caused. Similarly, the base film preferably has low hygroscopicity because warpage, curling, and poor bonding occur.

【0007】このため、TAB用テープに用いられるベ
ースフィルムは、高弾性、低吸湿性を有し、熱膨張係数
が0.4〜2.0×10-5-1程度であることが望まし
く、これらの性質を有するベースフィルムを用いたTA
B用テープの出現が待ち望まれていた。
Therefore, it is desirable that the base film used for the TAB tape has high elasticity and low hygroscopicity, and has a coefficient of thermal expansion of about 0.4 to 2.0 × 10 -5 ° C -1. , TA using a base film having these properties
The advent of tapes for B has been awaited.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは従来のTA
B用テープにおける上記のような問題を解決したTAB
用テープを提供する事を目的に鋭意研究を重ねた結果、
所定のポリイミドフィルム上に、接着剤層および保護層
を設けてなるTAB用テープを見いだし、本発明に至っ
た。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have proposed a conventional TA
TAB which solved the above problems in B tape
As a result of repeated studies for the purpose of providing tapes for
The present invention has been accomplished by finding a TAB tape in which an adhesive layer and a protective layer are provided on a predetermined polyimide film.

【0009】本発明に係るTAB用テープの要旨とする
ところは、次式化4
The gist of the TAB tape according to the present invention is as follows:

【化4】 (式中、R1 は直線性ジアミン残基、R2 は屈曲性ジア
ミン残基であり、nは1以上の整数を表わす。)で表わ
されるポリイミドフィルムから構成されることにある。
[Chemical 4] (In the formula, R 1 is a linear diamine residue, R 2 is a flexible diamine residue, and n is an integer of 1 or more.).

【0010】かかるTAB用テープにおいて、前記ポリ
イミドフィルム上に、接着材層及び保護層を設けて成る
ことにある。
In the TAB tape, an adhesive layer and a protective layer are provided on the polyimide film.

【0011】次に、本発明に係るTAB用テープの製造
方法の要旨とするところは、少なくとも1種の直線性ジ
アミンに、4,4’−オキシジフタル酸無水物を加え、
次いで、少なくとも1種の屈曲性ジアミンを該4,4’
−オキシジフタル酸無水物のモル量と、ジアミン類の各
々の総モル量とが実質的に等モル量になるように添加し
て、次式化5
Next, the gist of the method for producing a TAB tape according to the present invention is to add 4,4'-oxydiphthalic anhydride to at least one linear diamine,
Then, at least one flexible diamine is added to the 4,4 '
-Added so that the molar amount of oxydiphthalic anhydride and the total molar amount of each diamine are substantially equimolar,

【化5】 (式中、R1 は直線性ジアミン残基、R2 は屈曲性ジア
ミン残基であり、nは1以上の整数を表わす。)で表わ
される構造単位を有するポリアミド酸共重合体を重合
し、更に該ポリアミド酸共重合体を脱水閉環して得られ
る化6
[Chemical 5] (In the formula, R 1 is a linear diamine residue, R 2 is a flexible diamine residue, and n is an integer of 1 or more.) A polyamic acid copolymer having a structural unit represented by the following formula is polymerized: Further, a compound obtained by dehydration ring closure of the polyamic acid copolymer

【化6】 (式中、R1 は直線性ジアミン残基、R2 は屈曲性ジア
ミン残基であり、nは1以上の整数を表わす。)で表わ
されるポリイミドフィルムを製造することにある。
[Chemical 6] (In the formula, R 1 is a linear diamine residue, R 2 is a flexible diamine residue, and n is an integer of 1 or more.).

【0012】かかるTAB用テープの製造方法におい
て、前記得られたポリイミドフィルム上に接着材層及び
保護層を積層することにある。
In the method for producing the TAB tape, an adhesive layer and a protective layer are laminated on the obtained polyimide film.

【0013】またかかるTAB用テープの製造方法にお
いて、前記直線性ジアミンが全ジアミン成分の50〜9
9 mol%、前記屈曲性ジアミンが全ジアミン成分の1〜
50mol%、より好ましくは直線性ジアミンが全ジアミ
ン成分の75〜95 mol%、屈曲性ジアミンが全ジアミ
ン成分の5〜25 mol%の比率にしたことにある。
Further, in the method for producing a tape for TAB, the linear diamine comprises 50 to 9 of all diamine components.
9 mol%, the flexible diamine is 1 to 1 of all diamine components.
It is in the ratio of 50 mol%, more preferably linear diamine in the ratio of 75 to 95 mol% of the total diamine component, and flexible diamine in the ratio of 5 to 25 mol% of the total diamine component.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明に係るTAB用テープ及びその
製造方法の実施例を詳細に説明する。
EXAMPLES Examples of the TAB tape and the method for producing the same according to the present invention will be described in detail below.

【0015】本発明に係るTAB用テープは所定のポリ
イミドフィルムに接着剤層と保護層が設けられて構成さ
れている。そして、この所定のポリイミドフィルムは化
The TAB tape according to the present invention comprises a predetermined polyimide film provided with an adhesive layer and a protective layer. And this predetermined polyimide film is

【化7】 (式中、R1 は直線性ジアミン残基、R2 は屈曲性ジア
ミン残基であり、nは1以上の整数を表わす。)で表さ
れるポリアミド酸共重合体を脱水閉環して得られる。
[Chemical 7] (In the formula, R 1 is a linear diamine residue, R 2 is a flexible diamine residue, and n is an integer of 1 or more.) Obtained by dehydrating and ring-closing a polyamic acid copolymer. .

【0016】ここで、本発明の中で用いる直線性ジアミ
ンとは、エーテル基、メチレン基、プロパギル基、ヘキ
サフルオロプロパギル基、カルボニル基などの屈曲基を
主鎖中に含まず、2個のアミノ基の窒素原子とそれらが
結合している炭素原子が一直線に並ぶ構造を持つジアミ
ン化合物をさす。例えば、化8
Here, the linear diamine used in the present invention does not include a bending group such as an ether group, a methylene group, a propargyl group, a hexafluoropropargyl group, and a carbonyl group in the main chain, and is composed of two linear diamines. A diamine compound having a structure in which the nitrogen atom of an amino group and the carbon atom to which they are bound are aligned. For example,

【化8】 (ただし、式中、XはF,Cl,Br,CH3 ,CH3
O,CF3 を示す。)に示すジアミンなどを例示するこ
とができる。
[Chemical 8] (However, in the formula, X is F, Cl, Br, CH 3 , CH 3
O and CF 3 are shown. The diamine etc. which are shown to these can be illustrated.

【0017】一方、屈曲性ジアミンとは、エーテル基、
メチレン基、プロパギル基、ヘキサフルオロプロパギル
基、カルボニル基などの屈曲基を主鎖中に含むジアミ
ン、又は、屈曲基を含まない場合は、2個のアミノ基の
窒素原子とそれらと結合する炭素原子が一直線に並ばな
い構造を持つジアミン化合物をさす。例えば、化9、化
10及び化11
On the other hand, the flexible diamine is an ether group,
A diamine containing a bending group such as a methylene group, a propargyl group, a hexafluoropropargyl group, and a carbonyl group in the main chain, or, in the case of not containing a bending group, nitrogen atoms of two amino groups and carbons bonded to them. A diamine compound having a structure in which the atoms are not aligned. For example, chemical formula 9, chemical formula 10, and chemical formula 11

【化9】 [Chemical 9]

【化10】 [Chemical 10]

【化11】 (ただし、式中、XはH,F,Cl,Br,CH3 ,C
3 O,CFを示す。)に示すジアミンなどを例示する
ことができる。
[Chemical 11] (However, in the formula, X is H, F, Cl, Br, CH 3 , C
H 3 O and CF are shown. The diamine etc. which are shown to these can be illustrated.

【0018】本発明のTAB用テープに用いられるポリ
イミドフィルムは上述の化5に示すその前駆体であるポ
リアミド酸共重合体溶液から得られ、このポリアミド酸
共重合体溶液は酸二無水物成分とジアミン成分を実質等
モル使用し、有機極性溶媒中で重合して得られる。
The polyimide film used in the TAB tape of the present invention is obtained from the polyamic acid copolymer solution which is the precursor thereof shown in the above chemical formula 5, and the polyamic acid copolymer solution contains the acid dianhydride component. It is obtained by polymerizing in a polar organic solvent, using substantially equimolar amounts of the diamine component.

【0019】ここで、酸二無水物としては4,4’−オ
キシジフタル酸無水物が用いられる。この酸二無水物を
用いることにより、得られるポリイミドフィルムの吸水
率を低く抑えることができる。これは、4,4’−オキ
シジフタル酸無水物残基に含まれる電子供与性のエーテ
ル基がイミド基の分極率を低く抑え、その結果、水分子
のイミド基への吸着量が少なくなることが原因であると
考えられる。
Here, 4,4'-oxydiphthalic anhydride is used as the acid dianhydride. By using this acid dianhydride, the water absorption of the obtained polyimide film can be suppressed low. This is because the electron-donating ether group contained in the 4,4′-oxydiphthalic anhydride residue suppresses the polarizability of the imide group to a low level, and as a result, the amount of water molecules adsorbed on the imide group may be reduced. Probably the cause.

【0020】また、ジアミン成分としては、1種以上の
直線性ジアミンと1種以上の屈曲性ジアミンを任意の比
で組み合わせて用いることができるが、好ましくは直線
性ジアミンが全ジアミン成分の50〜99 mol%、屈曲
性ジアミンが全ジアミン成分の1〜50 mol%、より好
ましくは直線性ジアミンが全ジアミン成分の75〜95
mol%、屈曲性ジアミンが全ジアミン成分の5〜25 m
ol%の比率で用いる。直線性ジアミンの比率がこれより
大きいと、ポリイミドフィルムとしたときに脆くなり、
また線膨張係数が低くなりすぎる。一方、屈曲性ジアミ
ンの比率がこれより大きいと、弾性率が小さくなる。
As the diamine component, one or more kinds of linear diamines and one or more kinds of flexible diamines can be used in combination at an arbitrary ratio, and preferably the linear diamine is 50 to 50% of all diamine components. 99 mol%, flexible diamine is 1 to 50 mol% of all diamine components, and more preferably linear diamine is 75 to 95 of all diamine components.
mol%, flexible diamine is 5 to 25 m of all diamine components
Used in the ratio of ol%. When the ratio of the linear diamine is larger than this, the polyimide film becomes brittle,
Further, the coefficient of linear expansion becomes too low. On the other hand, if the ratio of the flexible diamine is larger than this, the elastic modulus becomes small.

【0021】ジアミン成分のうち、直線性ジアミンとし
ては、パラフェニレンジアミンを用いることがより好ま
しい。パラフェニレンジアミンは脂肪族の置換基などを
有さず、したがって耐熱性に優れている。また、屈曲性
ジアミンとしては、4,4’−ジアミノジフェニルエー
テルを用いることがより好ましい。4,4’−ジアミノ
ジフェニルエーテルは屈曲性ジアミンの中では比較的耐
熱性が高く、化学的安定性に優れている。
Of the diamine components, paraphenylenediamine is more preferably used as the linear diamine. Paraphenylenediamine does not have an aliphatic substituent, and therefore has excellent heat resistance. Further, it is more preferable to use 4,4′-diaminodiphenyl ether as the flexible diamine. Among the flexible diamines, 4,4′-diaminodiphenyl ether has relatively high heat resistance and excellent chemical stability.

【0022】次に、ポリアミド酸共重合体の生成反応に
使用される有機極性溶媒としては、例えば、ジメチルス
ルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド
系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエ
チルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−
ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド
などのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリド
ン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶
媒、フェノール、o−、m−、又はp−クレゾール、キ
シレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどの
フェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミ
ド、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができる。こ
れらを単独又は混合物として用いるのが好ましいが、更
にはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の一部
使用も可能である。
Next, examples of the organic polar solvent used in the reaction for producing the polyamic acid copolymer include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide. Formamide solvents such as N, N-
Acetamide solvents such as dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m-, or p-cresol, xylenol , Halogenated phenols, phenolic solvents such as catechol, hexamethylphosphoramide, γ-butyrolactone, and the like. It is preferable to use these singly or as a mixture, but it is also possible to partially use an aromatic hydrocarbon such as xylene or toluene.

【0023】このように酸二無水物成分とジアミン成分
とを実質等モル使用して有機極性溶媒中で重合して得ら
れたポリアミド酸共重合体溶液は脱水閉環させられて、
ポリイミドに変換される。このポリイミドの平均分子量
は10000 〜1000000 であることが望ましい。平均分子量
が10000 未満ではできあがったフィルムが脆くなり、一
方、1000000 を越えるとポリイミド前駆体であるポリア
ミド酸ワニスの粘度が高くなりすぎ、取扱いが難しくな
って好ましくない。
The polyamic acid copolymer solution obtained by polymerizing the acid dianhydride component and the diamine component in substantially equimolar amounts in an organic polar solvent in this way is dehydrated and ring-closed.
Converted to polyimide. The average molecular weight of this polyimide is preferably 10,000 to 1,000,000. If the average molecular weight is less than 10,000, the resulting film becomes brittle, while if it exceeds 1,000,000, the viscosity of the polyamic acid varnish, which is the polyimide precursor, becomes too high, which is not preferable because it is difficult to handle.

【0024】また、このポリイミドフィルムに各種の有
機添加剤、あるいは無機のフィラー類、あるいは各種の
強化材を複合することも可能である。
It is also possible to compound various organic additives or inorganic fillers or various reinforcing materials with this polyimide film.

【0025】次に、具体的にポリアミド酸共重合体溶液
の合成法を示す。まず容器に有機極性溶媒と1種以上の
直線性ジアミンをとり、冷却攪拌する。次いで、直線性
ジアミンのモル量よりも過剰量の4,4’−オキシジフ
タル酸無水物を上記反応溶液に加え、好ましくは20分
以上冷却攪拌する。その後、4,4’−オキシジフタル
酸無水物のモル量と全ジアミン成分のモル量が等しくな
るように、不足分のジアミン成分として1種以上の屈曲
性ジアミンを徐々に冷却攪拌しながら加えて、上記化学
式で表されるポリアミド酸共重合体溶液を得るのであ
る。
Next, a method for synthesizing a polyamic acid copolymer solution will be specifically shown. First, an organic polar solvent and at least one linear diamine are placed in a container, and the mixture is cooled and stirred. Next, an excess amount of 4,4′-oxydiphthalic anhydride, which is in excess of the molar amount of the linear diamine, is added to the above reaction solution, and the mixture is cooled and stirred for preferably 20 minutes or more. Then, one or more kinds of flexible diamines are gradually added as a shortage diamine component while cooling and stirring so that the molar amount of 4,4′-oxydiphthalic anhydride and the molar amount of all diamine components become equal, Thus, a polyamic acid copolymer solution represented by the above chemical formula is obtained.

【0026】なお、得られたポリアミド酸共重合体は各
々前記の有機極性溶媒中に5〜40重量%、好ましくは
10〜30重量%溶解されているのが取扱いの面からも
望ましい。
The obtained polyamic acid copolymer is preferably dissolved in the organic polar solvent in an amount of 5 to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight, from the viewpoint of handling.

【0027】この前記化7で示される芳香族ポリアミド
酸共重合体溶液から本発明に係る化12
From the aromatic polyamic acid copolymer solution represented by the chemical formula 7, the chemical formula 12 according to the present invention can be obtained.

【化12】 (式中、R1 は直線性ジアミン残基、R2 は屈曲性ジア
ミン残基であり、nは1以上の整数を表わす。)で示さ
れるポリイミドフィルムを得るためには熱的に脱水する
熱的方法、脱水剤を用いる化学的方法のいずれを用いて
もよいが、化学的方法によると生成するポリイミドフィ
ルムの伸びや引張強度等の機械特性が優れたものになる
ので好ましい。
[Chemical 12] (In the formula, R 1 is a linear diamine residue, R 2 is a flexible diamine residue, and n is an integer of 1 or more.) A chemical method or a chemical method using a dehydrating agent may be used, but the chemical method is preferable because the resulting polyimide film has excellent mechanical properties such as elongation and tensile strength.

【0028】以下にポリイミドフィルムの作製方法につ
いての例を説明する。上記ポリアミド酸共重合体又はそ
の溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量の第3級アミン
を加えた溶液をドラムあるいはエンドレスベルトなどの
支持体上に流延又は塗布して膜状とし、その膜を150
℃以下の温度で約5〜90分間乾燥させ、自己支持性の
ポリアミド酸の膜を得る。次いで、これを支持体より引
き剥がし端部を固定する。その後、約100〜500℃
まで徐々に加熱することによりイミド化し、冷却後これ
より取り外し本発明のTAB用テープに用いられるポリ
イミドフィルムを得る。
An example of a method for producing a polyimide film will be described below. A solution prepared by adding a stoichiometric or more stoichiometric dehydrating agent and a catalytic amount of a tertiary amine to the polyamic acid copolymer or a solution thereof is cast or coated on a support such as a drum or an endless belt to form a film, The film 150
The film is dried at a temperature of ℃ or less for about 5 to 90 minutes to obtain a self-supporting polyamic acid film. Then, this is peeled off from the support and the end is fixed. After that, about 100-500 ℃
It is imidized by gradually heating to, and after cooling it is removed to obtain a polyimide film used for the TAB tape of the present invention.

【0029】ここで、脱水剤としては、例えば無水酢酸
などの脂肪族酸無水物、無水安息香酸などの芳香族酸無
水物などが挙げられる。また触媒としては、例えばトリ
エチルアミンなどの脂肪族第3級アミン類、ジメチルア
ニリンなどの芳香族第3級アミン類、ピリジン、ピコリ
ン、イソキノリンなどの複素環式第3級アミン類などが
挙げられる。
Examples of the dehydrating agent include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and aromatic acid anhydrides such as benzoic anhydride. Examples of the catalyst include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline, and isoquinoline.

【0030】また、本発明のTAB用テープには厚み2
5μm〜180μm程度のポリイミドフィルムが用いら
れるが、取扱い上の利便性、フィルム強度、小型化対応
のための薄肉化要求などのバランスから50μm〜12
5μmがより好ましい。
The TAB tape of the present invention has a thickness of 2
A polyimide film having a thickness of about 5 μm to 180 μm is used, but 50 μm to 12 from the balance of convenience in handling, film strength, thinning requirement for downsizing, and the like.
5 μm is more preferable.

【0031】次に、本発明のTAB用テープに用いられ
る接着剤としては、例えばエポキシ樹脂、ポリアミド樹
脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、
ゴム系樹脂などを単独又は種々の割合で溶剤とともに混
合したものを用い、更に、必要に応じて硬化剤や硬化促
進剤などの添加剤を添加したものを用いることができ
る。
Next, as the adhesive used in the TAB tape of the present invention, for example, epoxy resin, polyamide resin, phenol resin, acrylic resin, polyimide resin,
A rubber-based resin or the like may be used alone or mixed in various proportions with a solvent, and may further contain additives such as a curing agent and a curing accelerator, if necessary.

【0032】また、接着剤層の保護層となる保護フィル
ムとしては、接着剤の乾燥時に軟化・変質を起こさない
程度の耐熱性を有していればどのようなものでも良い
が、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルフ
ィルム、あるいはポリプロピレンなどのポリオレフィン
フィルムが好ましい。
As the protective film to be the protective layer of the adhesive layer, any film may be used as long as it has heat resistance to the extent that it does not soften or deteriorate when the adhesive is dried, but polyethylene terephthalate, etc. The polyester film or polyolefin film such as polypropylene is preferable.

【0033】本発明に係わるTAB用テープは上述の所
定のポリイミドフィルムに接着剤層と保護層となる保護
フィルムを設けて製造される。より具体的には、先ず、
保護フィルム上に所定の配合の接着剤を、最終膜厚とし
て8〜40μm、好ましくは10〜30μmになるよう
均一に塗布する。ついで接着剤溶液を乾燥させ、接着剤
層を半硬化状態(B−ステージ化状態)にする。その
後、保護フィルム上の接着剤層にポリイミドフィルムを
重ね合わせ、20〜180℃で0.1kg/cm2 以上の条
件で圧着し、TAB用テープが得られる。
The TAB tape according to the present invention is manufactured by providing the above-mentioned predetermined polyimide film with an adhesive layer and a protective film serving as a protective layer. More specifically, first,
An adhesive having a predetermined composition is uniformly applied onto the protective film so as to have a final film thickness of 8 to 40 μm, preferably 10 to 30 μm. Then, the adhesive solution is dried to bring the adhesive layer into a semi-cured state (B-staged state). After that, a polyimide film is overlaid on the adhesive layer on the protective film and pressure-bonded at 20 to 180 ° C. under a condition of 0.1 kg / cm 2 or more to obtain a TAB tape.

【0034】なお、得られたTAB用テープを用いてT
ABテープを製造するには、既述したように通常、TA
B用テープに所定のパンチングを施し、保護フィルムを
剥離した後、銅箔を熱圧着し、接着剤を硬化させ、更
に、その銅箔をエッチングして回路を形成し、TABテ
ープが製造されるのである。
The obtained TAB tape was used for T
As mentioned above, in order to manufacture the AB tape, the TA is usually used.
The tape for B is subjected to predetermined punching, the protective film is peeled off, the copper foil is thermocompression-bonded, the adhesive is cured, and the copper foil is etched to form a circuit, whereby the TAB tape is manufactured. Of.

【0035】次に、本発明の実施例を詳述する。以下、
実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこ
れら実施例のみに限定されるものではなく、その他、本
発明はその趣旨を逸脱しない範囲内で、当業者の知識に
基づき種々なる改良、修正、変形を加えた態様で実施し
得るものである。
Next, examples of the present invention will be described in detail. Less than,
The present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples, and the present invention is variously changed based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. It can be implemented in a mode in which improvements, modifications and variations are added.

【0036】実施例中、ODAは4,4’−ジアミノジ
フェニルエーテル、p−PDAはパラフェニレンジアミ
ン、m−PDAはメタフェニレンジアミン、PMDAは
ピロメリット酸二無水物、ODPAは4,4’−オキシ
ジフタル酸無水物、DMFはN,N−ジメチルホルムア
ミドを表す。
In the examples, ODA is 4,4'-diaminodiphenyl ether, p-PDA is paraphenylenediamine, m-PDA is metaphenylenediamine, PMDA is pyromellitic dianhydride, and ODPA is 4,4'-oxydiphthalate. Acid anhydride and DMF represent N, N-dimethylformamide.

【0037】実施例 1 セパラブルフラスコにDMFとp−PDA3当量をと
り、ジアミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪
拌した後、氷で冷却した。次に、この溶液にODPA4
当量を加え、40分間冷却攪拌した。そして、ODA1
当量をDMFに溶かし、このODA溶液を反応溶液に徐
々に加え、このあと1時間冷却攪拌し、ポリアミド酸の
DMF溶液を得た。なお、DMFの使用量はジアミン類
および芳香族テトラカルボン酸二無水物類のモノマー仕
込濃度が、18重量%となるようにした。
Example 1 DMF and p-PDA (3 equivalents) were placed in a separable flask, well stirred at room temperature until the diamine compound was completely dissolved, and then cooled with ice. Then add ODPA4 to this solution.
An equivalent amount was added, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. And ODA1
An equivalent amount was dissolved in DMF, this ODA solution was gradually added to the reaction solution, and then the mixture was cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of polyamic acid. The amount of DMF used was such that the monomer charge concentration of diamines and aromatic tetracarboxylic dianhydrides was 18% by weight.

【0038】次に、得られたポリアミド酸溶液をガラス
板上に流延塗布し、約100℃で約30分間乾燥させた
後、ポリアミド酸塗膜をガラス板より剥す。そのポリア
ミド酸の塗膜を支持枠に固定し、その後、約100℃で
約30分間、約200℃で約60分間、約300℃で約
60分間それぞれ加熱して、脱水閉環させるとともに乾
燥させ、膜厚約75μmのポリイミドフィルムを得た。
Next, the polyamic acid solution thus obtained is cast-coated on a glass plate, dried at about 100 ° C. for about 30 minutes, and then the polyamic acid coating film is peeled off from the glass plate. The coating film of the polyamic acid is fixed to a support frame, and then heated at about 100 ° C. for about 30 minutes, about 200 ° C. for about 60 minutes, and about 300 ° C. for about 60 minutes to dehydrate and ring-close and dry, A polyimide film having a thickness of about 75 μm was obtained.

【0039】得られたポリイミドフィルムの物性を表1
に示す。
The physical properties of the obtained polyimide film are shown in Table 1.
Shown in.

【表1】 [Table 1]

【0040】次いで、表面に剥離剤処理を施した保護膜
用ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムにビ
スフェノールA型エポキシ樹脂(E1001/油化シェ
ルエポキシ社製)50部、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂(180H65/油化シェルエポキシ社製)1
0部、ポリアミド樹脂(M1276/日本リルサン社
製)40部、ジアミノジフェニルスルフォン7部、ジシ
アンジアミド2部、トルエン35部、イソプロピルアル
コール15部、からなる接着剤を乾燥後約20μmにな
るように塗布し、150℃で10分間乾燥させた。この
接着剤付きPETフィルムを27mm巾にスリットし、こ
のPETフィルムを35mm巾にスリットした上記ポリイ
ミドフィルムと40℃で圧着し、TAB用テープを得
た。
Then, 50 parts of a bisphenol A type epoxy resin (E1001 / made by Yuka Shell Epoxy Co.) on a polyethylene terephthalate (PET) film for a protective film having a surface treated with a release agent, and a cresol novolac type epoxy resin (180H65 / oil). Made by Epoxy Shell Epoxy Co., Ltd. 1
An adhesive consisting of 0 part, 40 parts of polyamide resin (M1276 / manufactured by Rilsan Japan), 7 parts of diaminodiphenylsulfone, 2 parts of dicyandiamide, 35 parts of toluene, and 15 parts of isopropyl alcohol was applied to a thickness of about 20 μm after drying. And dried at 150 ° C. for 10 minutes. This PET film with an adhesive was slit to a width of 27 mm, and this PET film was pressure-bonded to the above polyimide film slit to a width of 35 mm at 40 ° C. to obtain a TAB tape.

【0041】このTAB用テープからPETテープを取
り除いた後、接着剤面と銅箔(三井金属製Low-profile
電解銅箔VLP−3EC)を120℃にてラミネート
し、この状態で外観を観察した後、次の方法に従ってエ
ッチング後の寸法変化率を測定した。すなわち、ベース
のポリイミドフィルムに銅箔をラミネートし、加熱・キ
ュアを行なった後、寸法変化率測定用の2個のマーキン
グ孔a,bをMD方向(機械製造方向)にパンチングに
よって開け、このときのa−b間の初期値L1 を測定し
た。次に、銅箔を全面エッチングし、a−b間L2 を測
定した。そして、次の計算式に基づいて、エッチング前
後の寸法変化率を算出した。寸法変化率=(L1
2 )/L1 ×100%その結果を表1に示す。
After removing the PET tape from the TAB tape, the adhesive surface and the copper foil (Low-profile manufactured by Mitsui Metal Co., Ltd.
Electrolytic copper foil VLP-3EC) was laminated at 120 ° C., the appearance was observed in this state, and the dimensional change rate after etching was measured according to the following method. That is, after laminating a copper foil on a base polyimide film, heating and curing it, two marking holes a and b for measuring the dimensional change rate are punched in the MD direction (machine manufacturing direction). The initial value L 1 between a and b of was measured. Next, the entire surface of the copper foil was etched, and L 2 between a and b was measured. Then, the dimensional change rate before and after etching was calculated based on the following calculation formula. The dimensional change rate = (L 1 -
L 2 ) / L 1 × 100% The results are shown in Table 1.

【0042】実施例 2 セパラブルフラスコにDMFとp−PDA7当量をと
り、ジアミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪
拌した後、氷で冷却した。次に、その溶液にODPA8
当量を加え、40分間冷却攪拌した。そして、ODA1
当量をDMFに溶かし、そのODA溶液を反応溶液に徐
々に加え、このあと1時間冷却攪拌し、ポリアミド酸の
DMF溶液を得た。そして、実施例1と同様の方法で焼
成し、75μmのポリイミドフィルムを得た。
Example 2 DMF and p-PDA (7 equivalents) were placed in a separable flask, stirred well at room temperature until the diamine compound was completely dissolved, and then cooled with ice. Then add ODPA8 to the solution.
An equivalent amount was added, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. And ODA1
An equivalent amount was dissolved in DMF, the ODA solution was gradually added to the reaction solution, and then the mixture was cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of polyamic acid. And it baked by the method similar to Example 1, and obtained a 75-micrometer polyimide film.

【0043】得られたポリイミドフィルムの物性を表1
に示す。また、このポリイミドフィルムを使用し、実施
例1と同様の方法で、TAB用テープを得、銅箔とラミ
ネートして外観の観察と寸法変化の測定を行なった。結
果を表1に示す。
The physical properties of the obtained polyimide film are shown in Table 1.
Shown in. Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1, laminated with a copper foil, and the appearance was observed and the dimensional change was measured. The results are shown in Table 1.

【0044】実施例 3 セパラブルフラスコにDMFとp−PDA3当量をと
り、ジアミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪
拌した後、氷で冷却した。次に、その溶液にODPA4
当量を加え、40分間冷却攪拌した。そして、m−PD
A1当量をDMFに溶かし、そのm−PDA溶液を反応
溶液に徐々に加え、このあと1時間冷却攪拌し、ポリア
ミド酸のDMF溶液を得た。そして、実施例1と同様の
方法で焼成し、ポリイミドフィルムを得た。
Example 3 DMF and p-PDA (3 equivalents) were placed in a separable flask, stirred well at room temperature until the diamine compound was completely dissolved, and then cooled with ice. Then add ODPA4 to the solution.
An equivalent amount was added, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. And m-PD
A1 equivalent of A was dissolved in DMF, the m-PDA solution was gradually added to the reaction solution, and then the mixture was cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of polyamic acid. And it baked by the method similar to Example 1, and the polyimide film was obtained.

【0045】得られたポリイミドフィルムの物性を表1
に示す。また、このポリイミドフィルムを使用し、実施
例1と同様の方法で、TAB用テープを得、銅箔とラミ
ネートして外観の観察と寸法変化の測定を行なった。結
果を表1に示す。
The physical properties of the obtained polyimide film are shown in Table 1.
Shown in. Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1, laminated with a copper foil, and the appearance was observed and the dimensional change was measured. The results are shown in Table 1.

【0046】実施例4 セパラブルフラスコにDMFとp−PDA7当量をと
り、ジアミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪
拌した後、氷で冷却した。次に、その溶液にODPA8
当量を加え、40分間冷却攪拌した。そして、m−PD
A1当量をDMFに溶かし、このm−PDA溶液を反応
溶液に徐々に加え、このあと1時間冷却攪拌し、ポリア
ミド酸のDMF溶液を得た。そして、実施例1と同様の
方法で焼成し、ポリイミドフィルムを得た。
Example 4 DMF and p-PDA (7 equivalents) were placed in a separable flask, stirred well at room temperature until the diamine compound was completely dissolved, and then cooled with ice. Then add ODPA8 to the solution.
An equivalent amount was added, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. And m-PD
A1 equivalent of A was dissolved in DMF, this m-PDA solution was gradually added to the reaction solution, and then the mixture was cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of a polyamic acid. And it baked by the method similar to Example 1, and the polyimide film was obtained.

【0047】得られたポリイミドフィルムの物性を表1
に示す。また、このポリイミドフィルムを使用し、実施
例1と同様の方法で、TAB用テープを得、銅箔とラミ
ネートして外観の観察と寸法変化の測定を行なった。結
果を表1に示す。
The physical properties of the obtained polyimide film are shown in Table 1.
Shown in. Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1, laminated with a copper foil, and the appearance was observed and the dimensional change was measured. The results are shown in Table 1.

【0048】比較例1 先の実施例1と同様の方法により、PMDAとODAを
等モルずつ用いて、ポリイミドフィルムを得た。
Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1 above, a polyimide film was obtained using PMDA and ODA in equimolar amounts.

【0049】得られたポリイミドフィルムの物性を表1
に示す。このポリイミドフィルムを使用し、実施例1と
同様の方法で、TAB用テープを得、銅箔とラミネート
して外観の観察と寸法変化の測定を行なった。結果を表
1に示す。
The physical properties of the obtained polyimide film are shown in Table 1.
Shown in. Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1, laminated with a copper foil, and the appearance was observed and the dimensional change was measured. The results are shown in Table 1.

【0050】比較例 2 セパラブルフラスコにDMFとp−PDA1当量をと
り、ジアミン化合物が完全に溶解するまで室温でよく攪
拌した後、氷で冷却した。次に、その溶液にPMDA2
当量を加え、40分間冷却攪拌した。そして、ODA1
当量をDMFに溶かし、このODA溶液を反応溶液に徐
々に加え、このあと1時間冷却攪拌し、ポリアミド酸の
DMF溶液を得た。そして、実施例1と同様の方法で焼
成し、ポリイミドフィルムを得た。
Comparative Example 2 DMF and 1 equivalent of p-PDA were placed in a separable flask, well stirred at room temperature until the diamine compound was completely dissolved, and then cooled with ice. Then add PMDA2 to the solution.
An equivalent amount was added, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. And ODA1
An equivalent amount was dissolved in DMF, this ODA solution was gradually added to the reaction solution, and then the mixture was cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of polyamic acid. And it baked by the method similar to Example 1, and the polyimide film was obtained.

【0051】得られたポリイミドフィルムの物性を表1
に示す。また、このポリイミドフィルムを使用し、実施
例1と同様の方法で、TAB用テープを得、銅箔とラミ
ネートして外観の観察と寸法変化の測定を行なった。結
果を表1に示す。
The physical properties of the obtained polyimide film are shown in Table 1.
Shown in. Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1, laminated with a copper foil, and the appearance was observed and the dimensional change was measured. The results are shown in Table 1.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上本発明に係るTAB用テープ及びそ
の製造方法は、4,4’−オキシジフタル酸無水物を直
線性ジアミンと屈曲性ジアミンとを共重合することによ
り、高弾性、適度な線膨張係数、適度な柔軟性、低吸湿
性を有するポリイミドフィルムを得ることができる。こ
のため、このポリイミドフィルムをベースフィルムとし
てTAB用テープを構成することにより、反りやカール
が生ずることなく、加工中及び実装中の寸法変化が小さ
いため、多ピン・高密度パターンのテープキャリアパッ
ケージに適した材料となる。
As described above, the tape for TAB and the method for producing the same according to the present invention have a high elasticity and a suitable line by copolymerizing 4,4'-oxydiphthalic anhydride with a linear diamine and a flexible diamine. It is possible to obtain a polyimide film having a coefficient of expansion, appropriate flexibility and low hygroscopicity. Therefore, by constructing a TAB tape using this polyimide film as a base film, warping and curling do not occur, and the dimensional change during processing and mounting is small, making it a tape carrier package with a multi-pin high-density pattern. It becomes a suitable material.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 次式化1 【化1】 (式中、R1 は直線性ジアミン残基、R2 は屈曲性ジア
ミン残基であり、nは1以上の整数を表わす。)で表わ
されるポリイミドフィルムからなることを特徴とするT
AB用テープ。
1. The following formula 1 (Wherein R 1 is a linear diamine residue, R 2 is a flexible diamine residue, and n is an integer of 1 or more).
AB tape.
【請求項2】 前記ポリイミドフィルム上に、接着材層
及び保護層を設けて成ることを特徴とする請求項1に記
載するTAB用テープ。
2. The tape for TAB according to claim 1, wherein an adhesive layer and a protective layer are provided on the polyimide film.
【請求項3】 少なくとも1種の直線性ジアミンに、
4,4’−オキシジフタル酸無水物を加え、次いで、少
なくとも1種の屈曲性ジアミンを該4,4’−オキシジ
フタル酸無水物のモル量と、ジアミン類の各々の総モル
量とが実質的に等モル量になるように添加して、次式化
2 【化2】 (式中、R1 は直線性ジアミン残基、R2 は屈曲性ジア
ミン残基であり、nは1以上の整数を表わす。)で表わ
される構造単位を有するポリアミド酸共重合体を重合
し、更に該ポリアミド酸共重合体を脱水閉環して得られ
る化3 【化3】 (式中、R1 は直線性ジアミン残基、R2 は屈曲性ジア
ミン残基であり、nは1以上の整数を表わす。)で表わ
されるポリイミドフィルムを製造することを特徴とする
TAB用テープの製造方法。
3. At least one linear diamine,
4,4'-oxydiphthalic anhydride is added, and then at least one flexible diamine is added such that the molar amount of the 4,4'-oxydiphthalic anhydride and the total molar amount of each diamine are substantially. Add the following formula 2 (In the formula, R 1 is a linear diamine residue, R 2 is a flexible diamine residue, and n is an integer of 1 or more.) A polyamic acid copolymer having a structural unit represented by the following formula is polymerized: Furthermore, the polyamic acid copolymer is obtained by dehydration ring closure. (Wherein R 1 is a linear diamine residue, R 2 is a flexible diamine residue, and n is an integer of 1 or more.), And a TAB tape is produced. Manufacturing method.
【請求項4】 前記得られたポリイミドフィルム上に接
着材層及び保護層を積層することを特徴とする請求項3
に記載するTAB用テープの製造方法。
4. An adhesive layer and a protective layer are laminated on the obtained polyimide film.
A method for manufacturing a TAB tape according to item 1.
【請求項5】 前記直線性ジアミンが全ジアミン成分の
50〜99 mol%、前記屈曲性ジアミンが全ジアミン成
分の1〜50 mol%、より好ましくは直線性ジアミンが
全ジアミン成分の75〜95 mol%、屈曲性ジアミンが
全ジアミン成分の5〜25 mol%の比率であることを特
徴とする請求項3又は請求項4に記載するTAB用テー
プの製造方法。
5. The linear diamine is 50 to 99 mol% of the total diamine component, the flexible diamine is 1 to 50 mol% of the total diamine component, and more preferably the linear diamine is 75 to 95 mol% of the total diamine component. %, And the flexible diamine is a ratio of 5 to 25 mol% of the total diamine component, The method for producing a TAB tape according to claim 3 or 4, wherein
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