JP2007227978A - Film carrier tape for mounting electronic components - Google Patents

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秀俊 粟田
Yutaka Iguchi
裕 井口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a film carrier tape for mounting electronic components, which is small in initial warpage and does not increase its amount of warpage with time. <P>SOLUTION: The film carrier tape for mounting electronic components has a flexible insulating film, and a wiring pattern which is formed by etching metal foil laminated on one surface of the flexible insulating film. The film carrier tape for mounting electronic components is characterized that, when initial amount of warpage X (however, X is an amount more than 0) measured by the focus depth method is not more than 3% with respect to the tape width and an amount of warpage similarly measured after holding the film carrier tape for mounting electronic components for 120 Hrs under conditions of temperature 25°C and humidity 60% is Y, the amount of warp variation W represented by an equation W=(Y-X)/X is not more than 2.5. It becomes difficult to occur mounting defect of a device and tape conveying defect in mounting by using the film carrier tape. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は反り変形が生じにくい電子部品実装用フィルムキャリアテープ(TAB(Tape Automated Bonding)テープ、T-BGA(Tape Ball Grid Array)テープ、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)テープなど)およびこのテープを製造する方法に関する。   The present invention is a film carrier tape for mounting electronic components (TAB (Tape Automated Bonding) tape, T-BGA (Tape Ball Grid Array) tape, ASIC (Application Specific Integrated Circuit) tape, etc.)) and a tape that hardly warp and deform. On how to do.

半導体IC、LSIなどの電子部品を電子機器に組み込むために電子部品実装用のフィルムキャリアテープが使用されている。このような電子部品実装用フィルムキャリアテープは、長尺の絶縁性フィルムの表面に導電体箔を積層し、次いでこの導電体箔表面にフォトレジストを塗布し、このフォトレジストに所望の配線パターンを露光し、余剰のフォトレジストを除去した後、残存するフォトレジストをマスキング材として導電体箔をエッチングして絶縁性フィルムの表面に導電体箔からなる配線パターンを形成することにより製造されている。   In order to incorporate electronic components such as semiconductor ICs and LSIs into electronic devices, film carrier tapes for mounting electronic components are used. In such a film carrier tape for mounting electronic components, a conductor foil is laminated on the surface of a long insulating film, and then a photoresist is applied to the surface of the conductor foil, and a desired wiring pattern is applied to the photoresist. After the exposure and removal of excess photoresist, the conductive foil is etched using the remaining photoresist as a masking material to form a wiring pattern made of the conductive foil on the surface of the insulating film.

このような電子部品実装用フィルムキャリアテープには、電子部品の実装方法の差異などにより、TAB(Tape Automated Bonding)テープ、T-BGA(Tape Ball Grid Array)
テープなどがある。近時、電子部品の高集積化に伴って、こうした電子部品を実装するフィルムキャリアテープに形成される配線パターンも非常にファインピッチ化しており、従って、高集積化した電子部品のバンプとフィルムキャリアテープのリードとの位置合わせが非常に難しくなりつつある。例えば、フィルムキャリアテープに反り変形などが生じていると、リードの位置とバンプ位置とが一致せず、こうした場合には電子部品の実装不良となる。
Such film carrier tapes for mounting electronic components include TAB (Tape Automated Bonding) tape and T-BGA (Tape Ball Grid Array) due to differences in mounting methods of electronic components.
There are tapes. Recently, with the high integration of electronic components, the wiring pattern formed on the film carrier tape on which such electronic components are mounted has also become very fine pitch. Therefore, bumps and film carriers of highly integrated electronic components have been developed. Alignment with tape leads is becoming very difficult. For example, if warp deformation or the like occurs in the film carrier tape, the lead position and the bump position do not coincide with each other, and in such a case, mounting of an electronic component is defective.

ところで、電子部品実装用フィルムキャリアテープは、ポリイミドフィルムのような可撓性を有する絶縁性フィルムの表面に積層された銅箔などの導電体金属箔によって配線パターンが形成されてなり、さらにこうして形成された配線パターンの表面にはリード部を除いて通常この配線パターンを保護するようにソルダーレジスト層が形成されている。   By the way, a film carrier tape for mounting electronic components is formed by forming a wiring pattern with a conductive metal foil such as a copper foil laminated on the surface of a flexible insulating film such as a polyimide film. A solder resist layer is usually formed on the surface of the wiring pattern so as to protect the wiring pattern except for the lead portion.

このように電子部品実装用フィルムキャリアテープは、絶縁性フィルムと、導電体金属箔と、ソルダーレジストとが積層された構成を有しており、これらの物性は全く異なっているため、ソルダーレジストの反応収縮、テープの保存環境の温度および湿度などのわずかな環境の変化によって変形する。例えば、絶縁性フィルムがポリイミドフィルムであり、導電体金属箔が銅箔であるような電子部品実装用フィルムキャリアテープについてみると、ポリイミドは吸水性を有し、吸水により膨張するとの特性を有しているが、銅箔には吸水性はなく水分によっては寸法変化しない。従って、ポリイミド製可撓性絶縁性フィルムの表面に銅箔からなる配線パターンが形成された電子部品実装用フィルムキャリアテープは、室内に放置すると、ポリイミドフィルムが吸水膨張し、配線パターンが形成された側を内側にして幅方向に反り変形しやすい。また、ソルダーレジストには、硬化する際に反応収縮するものが多く、従って、ソルダーレジストを塗布した後、硬化させる際にソルダーレジスト塗布面側を内側にするように反り変形応力が生ずることがある。従来のように絶縁性フィルムの厚さが80〜150μm程度である場合には、この絶縁性フィルム自体が有する自己形態保持性が上記のような変形応力にある程度抗し得るように作用していた。しかしながら、昨今の電子製品には軽量化および小型化の要請が高く、こうした要請から使用される電子部品実装用フィルムキャリアテープも次第に薄くなっており、最近では可撓性絶縁性フィルムとして75μm以下の非常に薄い絶縁性フィルムが使用されつつある。そして、このような薄い絶縁性フィルムを使用することにより、電子部品実装用フィルムキャリアテープの反り変形は大きくなる傾向がある。   Thus, the electronic component mounting film carrier tape has a configuration in which an insulating film, a conductive metal foil, and a solder resist are laminated, and these physical properties are completely different. Deformation due to slight environmental changes such as reaction shrinkage, temperature and humidity of tape storage environment. For example, in the case of a film carrier tape for mounting electronic components in which the insulating film is a polyimide film and the conductive metal foil is a copper foil, the polyimide has a property of absorbing water and expanding due to water absorption. However, copper foil does not absorb water and does not change its dimensions depending on moisture. Therefore, when the film carrier tape for mounting electronic components in which the wiring pattern made of copper foil is formed on the surface of the flexible insulating film made of polyimide is left in the room, the polyimide film absorbs and expands and the wiring pattern is formed. It tends to warp and deform in the width direction with the side inside. In addition, many solder resists undergo reaction shrinkage when cured, and therefore, after applying the solder resist, warping deformation stress may occur so that the solder resist application surface side is inward when cured. . When the thickness of the insulating film is about 80 to 150 μm as in the prior art, the self-form retaining property of the insulating film itself has acted to resist the deformation stress to some extent. . However, there is a high demand for weight reduction and miniaturization in recent electronic products, and the film carrier tape for mounting electronic components used for such demand is gradually becoming thinner. Recently, it is 75 μm or less as a flexible insulating film. Very thin insulating films are being used. And by using such a thin insulating film, there exists a tendency for the curvature deformation of the film carrier tape for electronic component mounting to become large.

電子部品実装用フィルムキャリアテープでは、テープ製造直後において反り変形が少ないことが重要な特性であるが、電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造する工程と、このテープにデバイスなどを実装する工程とは、一般には全く別の工程であり、上述のような反り変形は、テープの製造工程ではなく、このテープにデバイスを実装する工程においてデバイスの実装不良として表在化する。   In film carrier tape for mounting electronic components, it is an important characteristic that there is little warping deformation immediately after the tape is manufactured, but what is the process of manufacturing a film carrier tape for mounting electronic components and the process of mounting devices etc. on this tape? In general, this is a completely different process, and the warp deformation as described above is manifested as a device mounting failure in the process of mounting the device on the tape, not in the tape manufacturing process.

従って、電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造した直後における反り変形量が小さくても、このテープにデバイスを実装するまでの間に反り変形量が増大すれば、テープを製造する際に行う反り取り処理は全く無意味になってしまう。こうした実情にも拘わらず、以下に示すように、電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造する際のテープの反りを取り除くことを改善の主眼点にして種々の提案がなされているが、テープを製造した後デバイスを実装するまでの間の反り変化量の低減という観点では改善されていない。   Therefore, even if the amount of warping deformation immediately after manufacturing the film carrier tape for mounting electronic components is small, if the amount of warping deformation increases before the device is mounted on this tape, the warping removal performed when manufacturing the tape is performed. Processing becomes completely meaningless. Despite these facts, as shown below, various proposals have been made with the main point of improvement being to remove the warp of the tape when manufacturing a film carrier tape for mounting electronic components. However, it has not been improved from the viewpoint of reducing the amount of change in warpage after the device is mounted.

例えば、特開平6-283576号公報(特許文献1)の請求項2には、樹脂を基材とするフィルム上にパターンを形成したフレキシブル回路基板製造において、回路保護の目的で塗布される熱硬化型ソルダーレジストを印刷後、ソルダーレジスト塗布側を外側にして巻き、コイルの状態で加熱硬化させることにより、反りの発生していない状態で実装できるフレキシブル回路基板製造方法の発明が開示されている。   For example, in claim 2 of JP-A-6-283576 (Patent Document 1), in the production of a flexible circuit board in which a pattern is formed on a resin-based film, thermosetting is applied for the purpose of circuit protection. An invention of a method for producing a flexible circuit board that can be mounted in a state in which no warpage occurs is disclosed by printing a mold solder resist, winding the solder resist coating side outward, and heating and curing in a coil state.

また、特開平11-111781号公報(特許文献2)には、半導体IC用フィルムキャリアテ
ープをその幅方向に逆反りを付与しながら加熱し、あるいは加熱しながらテープに幅方向の逆そりを付与するように拘束し、冷却後、前記逆反りを開放して該フィルムキャリアテープの幅方向の反りを低減する方法が開示されている。これらの公報に記載されている反り取り方法は、いずれもソルダーレジストが硬化する際の反応収縮によってフィルムキャリアテープに反りが生ずるので、ソルダーレジストが反応硬化する前、発生が予測される反りとは反対側にフィルムを変形させた状態でソルダーレジストを硬化させて、ソルダーレジストの硬化により生ずる反りと、テープに付与した逆反りとを相殺することにより、結果としてフィルムキャリアテープの反り量を低減する方法である。
Japanese Patent Laid-Open No. 11-111781 (Patent Document 2) discloses that a film carrier tape for semiconductor IC is heated while applying a reverse warp in the width direction, or a reverse warp in the width direction is applied to the tape while heating. A method of reducing the warp in the width direction of the film carrier tape by releasing the reverse warp after constraining and cooling is disclosed. In any of the warping removal methods described in these publications, warpage occurs in the film carrier tape due to reaction shrinkage when the solder resist is cured. Curing the solder resist with the film deformed on the opposite side cancels out the warpage caused by the hardening of the solder resist and the reverse warp applied to the tape, resulting in a reduction in the amount of warping of the film carrier tape. Is the method.

このようにソルダーレジストの硬化による反りと、付与した逆反りとを相殺することにより製造直後のフィルムキャリアテープの反り量は低減する。しかしながら、ソルダーレジストの硬化反応は硬化のための加熱時に完全に終了するわけではなく、加熱した後であってもわずかであるが進行する。そして、こうしたソルダーレジストの硬化反応の進行に伴って、わずかではあるがソルダーレジストは経時的に収縮し、従って、製造時に反り取りを行ったフィルムキャリアテープであっても、デバイスを実装するまでの間に新たな反り変形が生ずることがある。   Thus, the amount of warpage of the film carrier tape immediately after production is reduced by offsetting the warpage due to the hardening of the solder resist and the applied reverse warpage. However, the curing reaction of the solder resist is not completely completed at the time of heating for curing, but proceeds slightly after heating. As the solder resist curing reaction progresses, the solder resist shrinks with time, so even a film carrier tape that has been warped at the time of manufacture until the device is mounted. New warping deformation may occur in the meantime.

また、フィルムキャリアテープに生ずる反りの原因は、上記のようなソルダーレジストの硬化収縮だけではなく、こうしたフィルムキャリアテープの反りは、例えば、絶縁性フィルムとして広汎に使用されているポリイミドフィルムの吸湿膨張などによっても生じ、このような原因で生ずる反りは、従来の方法では解消されない。また、フィルム厚が50μm以下の場合には逆反りをかけるとソルダーレジストにクラックを生じるという新たな問題を生ずることがある。
特開平6-283576号公報 特開平11-111781号公報
In addition, the cause of the warp occurring in the film carrier tape is not only the cure shrinkage of the solder resist as described above, but the warp of the film carrier tape is, for example, the hygroscopic expansion of a polyimide film widely used as an insulating film. The warp caused by such a cause cannot be eliminated by the conventional method. Further, when the film thickness is 50 μm or less, a new problem that cracks occur in the solder resist may occur when the reverse warp is applied.
JP-A-6-283576 JP 11-111781 A

本発明は、初期の反りが少なく、しかも経時的にその反り量が増大しないような電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造する方法を提供することを目的としている。さらに本発明は、経時的に反り変化量の小さい電子部品実装用フィルムキャリアテープを提供することを目的としている。   An object of the present invention is to provide a method for producing a film carrier tape for mounting an electronic component in which the initial warpage is small and the warpage amount does not increase with time. A further object of the present invention is to provide a film carrier tape for mounting electronic components that has a small amount of warpage change over time.

本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、可撓性絶縁性フィルムと、該可撓性絶縁性フィルムの一方の面に積層された金属箔をエッチングして形成した配線パターンとを有する電子部品実装用フィルムキャリアテープであって、該電子部品実装用フィルムキャリアテープについて焦点深度法により測定した初期反り量X(ただし、Xは0を超え
る量である)が該テープの幅に対して3%以下であり、かつ該電子部品実装用フィルムキャリアテープを温度25℃、湿度60%の条件で120時間保持した後に同様にして測定した反り量をYとしたときに下記式で表される反り変化量Wが2.5以下であることを特徴している。
W=(Y−X)/X
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、可撓性絶縁性フィルムと、該可撓性絶縁性フィルムの一方の面に積層された金属箔をエッチングして形成した配線パターンとを有する電子部品実装用フィルムキャリアテープを、平坦な樹脂フィルム(フラットスペーサー)と共にリールに巻回し、該巻回された電子部品実装用フィルムキャリアテープを減圧下に保持することを特徴としている。
An electronic component mounting film carrier tape of the present invention includes a flexible insulating film and a wiring pattern formed by etching a metal foil laminated on one surface of the flexible insulating film. A film carrier tape for mounting, wherein the initial warpage amount X (where X is an amount exceeding 0) of the electronic component mounting film carrier tape measured by a depth of focus method is 3% with respect to the width of the tape The warpage change represented by the following formula when Y is the warpage amount measured in the same manner after the electronic component mounting film carrier tape is held for 120 hours at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60%: The quantity W is 2.5 or less.
W = (Y−X) / X
An electronic component mounting film carrier tape of the present invention includes a flexible insulating film and a wiring pattern formed by etching a metal foil laminated on one surface of the flexible insulating film. A film carrier tape for mounting is wound around a reel together with a flat resin film (flat spacer), and the wound film carrier tape for mounting an electronic component is held under reduced pressure.

本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープには、通常は、形成された配線パターン上にリード部を残してソルダーレジスト層が塗設されている。本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、可撓性絶縁性フィルムの表面に配線パターンを形成した後、この配線パターンの上にリード部を残してソルダーレジストを塗布し、硬化させて形成されたフィルムキャリアテープを表裏面が平坦な樹脂フィルムからなるフラットスペーサーと共にリールに巻回して、このリールにフラットスペーサーと共に巻回されたフィルムキャリアテープを、減圧下に所定時間保持することにより製造される。こうして減圧下に保持された後、この電子部品実装用フィルムキャリアテープは、通常は、巻回状態のまま常圧に戻され使用に供される。こうした減圧下に保持した後に常圧に戻す過程においてこの電子部品実装用フィルムキャリアテープは、常湿環境に戻され、絶縁フィルムは吸湿するが、このような吸湿によっても、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープに反り変形は生じにくい。   The film carrier tape for mounting electronic components of the present invention is usually coated with a solder resist layer on the formed wiring pattern leaving the lead portion. The film carrier tape for mounting an electronic component of the present invention is formed by forming a wiring pattern on the surface of a flexible insulating film, and then applying a solder resist on the wiring pattern to leave a lead portion, followed by curing. The film carrier tape is wound around a reel together with a flat spacer made of a resin film having flat front and back surfaces, and the film carrier tape wound around the reel together with the flat spacer is held for a predetermined time under reduced pressure. . After being held under reduced pressure in this way, the film carrier tape for mounting electronic components is usually returned to normal pressure in a wound state and used. In the process of returning to normal pressure after being held under such reduced pressure, the electronic component mounting film carrier tape is returned to the normal humidity environment, and the insulating film absorbs moisture. The film carrier tape is less likely to warp and deform.

即ち、こうして製造された電子部品実装用フィルムキャリアテープについて焦点深度法により初期反り量を測定すると、テープ幅に対する初期反り量が小さく、しかもこの初期反り量に対する経時的な反り変化量が非常に小さい。   That is, when the initial warpage amount of the film carrier tape for electronic component mounting manufactured in this way is measured by the depth of focus method, the initial warpage amount with respect to the tape width is small, and the amount of warpage change with time with respect to the initial warpage amount is very small. .

次に本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープおよびその製造方法について図面を参照しながら具体的に説明する。   Next, the film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention and the manufacturing method thereof will be specifically described with reference to the drawings.

本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープ1は、図1および図2に示すように、可撓性絶縁性フィルム10と、この可撓性絶縁性フィルム10の一方の面に形成された配線パターン14を有しており、さらにこの配線パターン14の表面にはデバイスなどと接続されるリード部を残してソルダーレジスト18が塗布されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, an electronic component mounting film carrier tape 1 according to the present invention includes a flexible insulating film 10 and a wiring pattern formed on one surface of the flexible insulating film 10. Further, a solder resist 18 is applied to the surface of the wiring pattern 14 leaving a lead portion connected to a device or the like.

本発明で使用される可撓性絶縁性フィルム10は可撓性を有する絶縁性の樹脂フィルム
からなる。また、この可撓性絶縁性フィルム10は、エッチングする際に酸などと接触することからこうした薬品に侵されない耐薬品性、および、ボンディングする際の加熱によっても変質しないような耐熱性を有している。このような可撓性樹脂フィルムを形成する素材の例としては、ポリエステル、ポリアミドおよびポリイミドなどを挙げることができる。特に本発明ではポリイミドからなるフィルムを用いることが好ましい。
The flexible insulating film 10 used in the present invention is made of an insulating resin film having flexibility. In addition, the flexible insulating film 10 has a chemical resistance that is not affected by such chemicals because it comes into contact with an acid during etching, and a heat resistance that does not deteriorate due to heating during bonding. ing. Examples of the material for forming such a flexible resin film include polyester, polyamide, and polyimide. In particular, in the present invention, it is preferable to use a film made of polyimide.

可撓性絶縁性フィルム10を構成するポリイミドフィルムの例としては、ピロメリット酸2無水物と芳香族ジアミンとから合成される全芳香族ポリイミド、ビフェニルテトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミンとから合成されるビフェニル骨格を有する全芳香族ポリイミドを挙げることができる。特に本発明ではビフェニル骨格を有する全芳香族ポリイミド(例;商品名:ユーピレックス、宇部興産(株)製)が好ましく使用される。このような可撓性絶縁性フィルム10の厚さは、通常は25〜125μm、好ましくは75μm
以下、特に好ましくは25〜75μmの範囲内、さらに好ましくは50μm以下である。
このような可撓性絶縁性フィルムとしてポリイミドを使用する場合、このポリイミドは3%程度以下ではあるが、吸水性を有しており、ポリイミドは吸水することにより膨張するとの特性を有している。
Examples of the polyimide film constituting the flexible insulating film 10 include wholly aromatic polyimide synthesized from pyromellitic dianhydride and aromatic diamine, biphenyltetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine. Examples include wholly aromatic polyimides having a biphenyl skeleton to be synthesized. In particular, in the present invention, a wholly aromatic polyimide having a biphenyl skeleton (eg, trade name: Upilex, manufactured by Ube Industries, Ltd.) is preferably used. The thickness of the flexible insulating film 10 is usually 25 to 125 μm, preferably 75 μm.
Hereinafter, it is particularly preferably in the range of 25 to 75 μm, and more preferably 50 μm or less.
When polyimide is used as such a flexible insulating film, this polyimide is less than about 3%, but has a water absorption property, and the polyimide has the property of expanding when absorbed. .

本発明で使用する可撓性絶縁性フィルム10には、デバイスホール20、スプロケットホール21、アウターリードホール22、さらに屈曲部を有する場合には、屈曲位置にフレックススリット(図示なし)等がパンチングにより形成されている。配線パターン14は、上記のような所定の穴20、21、22・・・が形成された可撓性絶縁性フィルム10の少なくとも一方の面に積層された金属箔をエッチングすることにより形成される。金属箔は、接着剤を用いて或いは用いることなく可撓性絶縁性フィルム10の少なくとも一方の面に積層される。ここで接着剤を用いて金属箔を貼着する場合には、絶縁性の接着剤を使用して接着剤層12を形成する。   When the flexible insulating film 10 used in the present invention has a device hole 20, a sprocket hole 21, an outer lead hole 22, and a bent portion, a flex slit (not shown) or the like is punched at the bent position. Is formed. The wiring pattern 14 is formed by etching a metal foil laminated on at least one surface of the flexible insulating film 10 in which the predetermined holes 20, 21, 22,. . The metal foil is laminated on at least one surface of the flexible insulating film 10 with or without an adhesive. Here, when the metal foil is stuck using an adhesive, the adhesive layer 12 is formed using an insulating adhesive.

ここで使用される接着剤には、耐熱性、耐薬品性、接着力、可撓性等の特性が必要になる。このような特性を有する接着剤の例としては、エポキシ系接着剤、ポリイミド系接着剤およびフェノール系接着剤を挙げることができる。このような接着剤は、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などで変性されていてもよく、またエポキシ樹脂自体がゴム変性されていてもよい。このような接着剤は通常は熱硬化性である。   The adhesive used here needs to have characteristics such as heat resistance, chemical resistance, adhesive strength, and flexibility. Examples of adhesives having such properties include epoxy adhesives, polyimide adhesives, and phenolic adhesives. Such an adhesive may be modified with a urethane resin, a melamine resin, a polyvinyl acetal resin, or the like, or the epoxy resin itself may be rubber-modified. Such adhesives are usually thermosetting.

接着剤層12の厚さは、通常は8〜23μm、好ましくは10〜21μmの範囲内にある。接着剤を使用する場合、接着剤層12は、可撓性絶縁性フィルム10の表面に接着剤を塗布して設けても良いし、また金属箔の表面に接着剤を塗布して設けても良い。   The thickness of the adhesive layer 12 is usually 8 to 23 μm, preferably 10 to 21 μm. When an adhesive is used, the adhesive layer 12 may be provided by applying an adhesive on the surface of the flexible insulating film 10, or may be provided by applying an adhesive on the surface of the metal foil. good.

本発明において、撓性絶縁性フィルム10に金属箔を積層する際に、接着剤を用いることなく積層することもできる。また、上記のような金属箔を用いる方法とは別に、例えば蒸着法あるいはメッキ法等によっても金属層を形成することができる。さらに、このような蒸着法あるいはメッキ法などにより金属層を形成する場合に、予め極薄金属箔を用いて極薄金属層を形成し、この極薄金属層上に、上記蒸着法あるいはメッキ法などにより金属を析出させて所望の厚さの金属層を形成しても良い。   In this invention, when laminating | stacking metal foil on the flexible insulating film 10, it can also laminate | stack without using an adhesive agent. In addition to the method using the metal foil as described above, the metal layer can be formed by, for example, vapor deposition or plating. Furthermore, when forming a metal layer by such a vapor deposition method or a plating method, an ultrathin metal layer is formed in advance using an ultrathin metal foil, and the vapor deposition method or the plating method is formed on the ultrathin metal layer. A metal layer having a desired thickness may be formed by depositing a metal.

本発明で使用される金属箔は導電性を有する金属からなり、このような金属箔としては、銅箔およびアルミニウム箔を挙げることができる。特に本発明では金属箔として銅箔を使用することが好ましい。銅箔には、電解銅箔および圧延銅箔があり、本発明ではいずれの銅箔を使用することも可能であるが、ファインピッチの電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造するに際しては、金属箔として電解銅箔を使用することが好ましい。   The metal foil used in the present invention is made of a conductive metal, and examples of such a metal foil include a copper foil and an aluminum foil. In the present invention, it is particularly preferable to use a copper foil as the metal foil. The copper foil includes an electrolytic copper foil and a rolled copper foil. In the present invention, any copper foil can be used. However, when manufacturing a film carrier tape for mounting a fine pitch electronic component, the metal foil It is preferable to use an electrolytic copper foil.

ここで使用される電解銅箔としては電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造に通
常使用されている厚さの電解銅箔を使用することができるが、ファインピッチの電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造するためには、平均厚さが通常は6〜150μm、好ましくは6〜75μmの範囲内、特に好ましく8〜75μm、さらに好ましくは8〜5
0μmの範囲内にある電解銅箔を使用する。このような平均厚さを有する電解銅箔を使用することにより、狭ピッチ幅のインナーリードを容易に形成することができる。
As the electrolytic copper foil used here, an electrolytic copper foil having a thickness usually used for manufacturing a film carrier tape for mounting electronic components can be used. For production, the average thickness is usually in the range of 6 to 150 μm, preferably 6 to 75 μm, particularly preferably 8 to 75 μm, more preferably 8 to 5 μm.
An electrolytic copper foil in the range of 0 μm is used. By using the electrolytic copper foil having such an average thickness, an inner lead having a narrow pitch width can be easily formed.

本発明では、上記のような可撓性絶縁性フィルムに金属からなる層(金属箔層、金属メッキ層、金属蒸着層あるいはこれらの複合金属層など)を積層してベースフィルムを製造する。次いで、このベースフィルムの金属層表面にフォトレジストを塗布し、このフォトレジストに所定の配線パターンを焼き付けて、不要のフォトレジストを除去してベースフィルムの金属層表面に所定のパターンを形成し、このパターンをマスキング材として、金属層をエッチングする。   In the present invention, a base film is manufactured by laminating a layer made of metal (a metal foil layer, a metal plating layer, a metal vapor deposition layer, or a composite metal layer thereof) on the flexible insulating film as described above. Next, a photoresist is applied to the metal layer surface of the base film, a predetermined wiring pattern is baked on the photoresist, an unnecessary photoresist is removed to form a predetermined pattern on the metal layer surface of the base film, The metal layer is etched using this pattern as a masking material.

即ち、ベースフィルムの金属層表面に、フィトレジストを塗布し、所定の配線パターンを露光して焼き付けして、水性媒体に可溶な部分と不溶な部分とを形成し、可溶部を水性媒体などで除去することにより、不溶性フォトレジストからなるマスキング材を金属層表面に形成することができる。なお、ここで不溶性フォトレジストからなるマスキング材は、露光することにより硬化するフォトレジストから形成されていてもよいし、また、逆に、露光することにより水性媒体などの特定の溶媒に溶解可能となるフォトレジストを用いて露光した後、特定の溶媒により可溶化された部分のフォトレジストを除去することによって形成することもできる。   That is, a photoresist is applied to the surface of the metal layer of the base film, and a predetermined wiring pattern is exposed and baked to form a soluble part and an insoluble part in the aqueous medium. For example, a masking material made of an insoluble photoresist can be formed on the surface of the metal layer. Here, the masking material made of an insoluble photoresist may be formed from a photoresist that is cured by exposure, and conversely, it can be dissolved in a specific solvent such as an aqueous medium by exposure. It can also form by removing the photoresist of the part solubilized with the specific solvent, after exposing using the photoresist which becomes.

こうしてフォトレジストによりマスキングされたベースフィルムを、エッチング液と接触させることにより、マスキングされていない部分の金属は溶出して、マスキングされた部分の金属が可撓性絶縁性フィルム上に残り、可撓性絶縁性フィルム上に溶出しなかった金属箔(あるいは金属層)からなる配線パターンが形成される。ここで使用されるエッチング液としては通常使用されている酸性のエッチング液を用いることができる。   When the base film thus masked with the photoresist is brought into contact with the etching solution, the unmasked portion of the metal elutes and the masked portion of the metal remains on the flexible insulating film. A wiring pattern made of a metal foil (or metal layer) that has not been eluted is formed on the conductive insulating film. As the etching solution used here, a commonly used acidic etching solution can be used.

こうして形成される配線パターンにおいて、インナーリードの各ピッチ幅は、通常は20〜500μm、好ましくは25〜100μmであり、本発明は、特に30〜80μmのファインピッチの電子部品実装用フィルムキャリアテープに対して有用性が高い。なお、このようにしてエッチングした後のマスキング材(不溶性フォトレジスト)は、例えばアルカリ洗浄液で洗浄することにより除去することができる。   In the wiring pattern thus formed, each pitch width of the inner leads is usually 20 to 500 μm, preferably 25 to 100 μm. The present invention is particularly applicable to a film carrier tape for mounting electronic components having a fine pitch of 30 to 80 μm. It is highly useful. In addition, the masking material (insoluble photoresist) after etching in this way can be removed by washing with, for example, an alkaline washing solution.

本発明では、通常は、このように所定の配線パターンを形成した後、次の工程でメッキするインナーリード15の先端部およびアウターリード16の先端部を除いてソルダーレジスト18を塗布する。本発明で使用されるソルダーレジスト塗布液は、硬化性樹脂が有機溶媒に溶解若しくは分散された比較的高粘度の塗布液である。   In the present invention, usually, after a predetermined wiring pattern is formed in this way, the solder resist 18 is applied except for the tip of the inner lead 15 and the tip of the outer lead 16 to be plated in the next step. The solder resist coating solution used in the present invention is a coating solution having a relatively high viscosity in which a curable resin is dissolved or dispersed in an organic solvent.

このようなソルダーレジスト塗布液中に含有される硬化性樹脂は、エポキシ系樹脂、エポキシ系樹脂のエラストマー変性物、ウレタン樹脂、ウレタン樹脂のエラストマー変性物、ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂のエラストマー変性物およびアクリル樹脂よりなる群から選ばれる少なくとも一種類の樹脂成分を含有するものであることが好ましい。特にエラストマー変性物を使用することが好ましい。   The curable resin contained in such a solder resist coating liquid is an epoxy resin, an elastomer modified product of an epoxy resin, a urethane resin, an elastomer modified product of a urethane resin, a polyimide resin, an elastomer modified product of a polyimide resin, and an acrylic resin. It is preferable to contain at least one resin component selected from the group consisting of resins. It is particularly preferable to use a modified elastomer.

また、本発明において、ソルダーレジスト塗布液中には、上記のような樹脂成分の他に、硬化促進剤、充填剤、添加剤、チキソ剤および溶剤等、通常ソルダーレジスト塗布液に添加される物質を添加することができる。さらに、ソルダーレジスト層の可撓性等の特性を向上させるために、ゴム微粒子のような弾性を有する微粒子などを配合することも可能である。   In the present invention, in addition to the resin components as described above, the solder resist coating solution includes substances such as curing accelerators, fillers, additives, thixotropic agents and solvents that are usually added to the solder resist coating solution. Can be added. Furthermore, in order to improve the characteristics such as flexibility of the solder resist layer, it is possible to blend fine particles having elasticity such as rubber fine particles.

このようなソルダーレジスト塗布液は、スクリーン印刷技術を利用して塗布することができる。ソルダーレジスト塗布液は、インナーリード部およびアウターリード部など、次の工程で通常メッキ処理される部分を除いて塗布される。このようなソルダーレジスト18の塗布平均厚さは、通常は1〜80μm、好ましくは5〜50μmの範囲内にある。   Such a solder resist coating solution can be applied using screen printing technology. The solder resist coating solution is applied except for portions that are normally plated in the next step, such as the inner lead portion and the outer lead portion. The average coating thickness of the solder resist 18 is usually in the range of 1 to 80 μm, preferably 5 to 50 μm.

こうしてソルダーレジストを塗布した後、通常は加熱することによりソルダーレジストは硬化し、この硬化反応に伴って通常は収縮する。こうしてリード部を残してソルダーレジストを塗布した後、ソルダーレジストから露出しているリード部などにメッキ処理をする。このようなメッキ処理には、スズメッキ処理、金メッキ処理、ニッケル下地金メッキ処理、ニッケルメッキ処理、銀メッキ処理、半田メッキ処理などがあり、本発明ではこれらの処理を単独であるいは組み合わせて採用することができる。特に本発明では、スズメッキ処理が好ましい。こうして形成されるメッキ層の平均厚さは、0.01〜0.6μmの範囲内にあることが好ましい。   After the solder resist is applied in this manner, the solder resist is usually cured by heating, and usually shrinks with this curing reaction. After applying the solder resist while leaving the lead portion in this way, the lead portion exposed from the solder resist is plated. Such plating processes include tin plating process, gold plating process, nickel base gold plating process, nickel plating process, silver plating process, and solder plating process. In the present invention, these processes can be used alone or in combination. it can. In the present invention, tin plating is particularly preferable. The average thickness of the plating layer thus formed is preferably in the range of 0.01 to 0.6 μm.

上記のようにして製造された電子部品実装用フィルムキャリアテープは、ソルダーレジストの反応硬化に伴う収縮、および/または、可撓性絶縁性フィルムの吸水による膨張などの種々の要因によって、図2に矢印で示したように、ソルダーレジスト18塗布面を内側にして反り変形する。本発明ではこうして製造された電子部品実装用フィルムキャリアテープをフラットスペーサーと共にリールに巻回して減圧条件下で所定時間保持する。   The film carrier tape for mounting electronic components manufactured as described above is shown in FIG. 2 due to various factors such as shrinkage due to reaction hardening of the solder resist and / or expansion due to water absorption of the flexible insulating film. As indicated by the arrows, the warp deformation occurs with the solder resist 18 application surface facing inward. In the present invention, the film carrier tape for mounting electronic components thus manufactured is wound around a reel together with a flat spacer and held under a reduced pressure condition for a predetermined time.

本発明で使用するフラットスペーサーは、通常は樹脂フィルムなどから形成されている。ここでフラットスペーサーを形成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)およびポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル:ポリエチレン、ポリプロピレンおよびLLDPE等のポリオレフィン;ポリアミド、ポリイミド、フッ素樹脂(テフロン(登録商標)TM)含浸ガラスクロスおよびフッ素樹脂(テフロン(登録商標)TM)含浸紙などを挙げることができる。このような樹脂で形成されるフラットスペーサーの厚さは、通常は50μm以上であり、好ましくは50〜200μm、特に好ましくは75〜150μmの範囲内にある。このような厚さのフラットスペーサーを使用することにより、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープの初期反り量が小さくなると共に、経時的な反り量変化(反り変化量)も小さくなる。このようなフラットスペーサーとしては、巻回される電子部品実装用フィルムキャリアテープの幅と同等あるいはこのテープ幅に対して±4mmの幅のテープ幅を有する樹脂フィルムが好ましく使用される。電子部品実装用フィルムキャリアテープは、30〜120mmの幅を有しており、通常は35mm、48mm、70mmのような規格で形成されており、例えば、70mmの電子部品実装用フィルムキャリアテープと共に巻回されるフラットスペーサーとしては66〜74mmの範囲内のテープ幅を有する樹脂フィルムを使用することができる。   The flat spacer used in the present invention is usually formed from a resin film or the like. Here, as the resin forming the flat spacer, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN): polyolefins such as polyethylene, polypropylene and LLDPE; polyamides, polyimides, fluororesins (Teflon (registered trademark) TM) Examples thereof include impregnated glass cloth and fluororesin (Teflon (registered trademark) TM) impregnated paper. The thickness of the flat spacer formed of such a resin is usually 50 μm or more, preferably 50 to 200 μm, particularly preferably 75 to 150 μm. By using the flat spacer having such a thickness, the initial warpage amount of the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention is reduced, and the change in warpage amount (warpage change amount) with time is also reduced. As such a flat spacer, a resin film having a tape width equal to or equal to the width of the wound electronic component mounting film carrier tape or ± 4 mm of the tape width is preferably used. The film carrier tape for mounting electronic components has a width of 30 to 120 mm, and is usually formed according to standards such as 35 mm, 48 mm, and 70 mm. For example, it is wound together with a film carrier tape for mounting electronic components of 70 mm. As the flat spacer to be rotated, a resin film having a tape width in the range of 66 to 74 mm can be used.

このようなフラットスペーサーは、平坦な表裏面を有しており、従来から電子部品実装用フィルムキャリアテープをリールに巻回する際に使用されていた側縁部に凹凸を有するスペーサーとは異なるものである。本発明で上記のようなフラットスペーサーおよび電子部品実装用フィルムキャリアテープは、リール、好ましくは金属リールに巻回され、この金属リールにフラットスペーサーを介して巻回された状態で減圧下に保持される。この場合、電子部品実装用フィルムキャリアテープの配線パターンが形成された面がリールのコア側を向くように内側にしてフラットスペーサーと共に巻回することもできるし、配線パターンが形成された側を外側を向くようにして巻回することもできる。   Such a flat spacer has a flat front and back surface, and is different from a spacer having unevenness on the side edge part conventionally used when winding a film carrier tape for mounting electronic components on a reel. It is. In the present invention, the flat spacer and the electronic component mounting film carrier tape as described above are wound around a reel, preferably a metal reel, and are held under reduced pressure while being wound around the metal reel via the flat spacer. The In this case, the film carrier tape for mounting electronic components can be wound with a flat spacer so that the surface on which the wiring pattern is formed faces the core side of the reel, and the side on which the wiring pattern is formed is outside. It can also be wound so that it faces.

上記のように金属リールにフラットスペーサーと共に巻回された電子部品実装用フィルムキャリアテープを、通常は0.0001〜0.8気圧、好ましくは0.005〜0.5気圧の減圧下に、通常は0.1〜100時間、好ましくは0.5〜48時間保持する。上
記のように金属リールにフラットスペーサーと共に巻回された電子部品実装用フィルムキャリアテープは、通常はデシケーター(減圧庫)内に所定時間保持される。このようなデシケーターは、内部を上記のような減圧下に保持できるものであればよいが、このデシケーターが加温あるいは加熱手段などを有していてもよい。
The film carrier tape for mounting electronic components wound on a metal reel with a flat spacer as described above is usually 0.0001 to 0.8 atm, preferably 0.005 to 0.5 atm, under reduced pressure. Is held for 0.1 to 100 hours, preferably 0.5 to 48 hours. The electronic component mounting film carrier tape wound around the metal reel with the flat spacer as described above is usually held in a desiccator (decompression chamber) for a predetermined time. Such a desiccator is not particularly limited as long as the inside can be maintained under a reduced pressure as described above, but the desiccator may have a heating or heating means.

上記のようにして所定時間減圧下に保持して製造された本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープについて焦点深度法により測定した反り量(初期反り量X)は、テープ幅に対して3%以下、好ましくは0を超え1%以下の範囲内にある。即ち、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは製造直後の反りが非常に少ない。ただし、通常製造されている電子部品実装用フィルムキャリアテープにおいて減圧下に保存し、その後巻回状態のまま常圧まで復帰させた時のテープの反り量(初期反り量)は0よりも幾分大きい値を示す。   The warp amount (initial warp amount X) measured by the depth of focus method for the film carrier tape for mounting an electronic component of the present invention produced by holding the product under reduced pressure for a predetermined time as described above is 3% with respect to the tape width. Hereinafter, it is preferably in the range of more than 0 and 1% or less. That is, the film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention has very little warping immediately after production. However, the amount of warpage (initial warpage) of the tape when the film carrier tape for electronic component mounting that is normally manufactured is stored under reduced pressure and then returned to normal pressure in a wound state is somewhat less than zero. Indicates a large value.

そして、この電子部品実装用フィルムキャリアテープを温度25℃、湿度60%の条件に120時間保持した後に同様にして測定した反り量をYとしたときに上記初期反り量Xと、このYとの関係(W=(Y−X)/X)で表される反り変化量Wが、2.5以下、好ましくは2.0以下、特に好ましくは1以下である。電子部品実装用フィルムキャリアテー
プは、製造した直後の反り量が小さくても、このテープにデバイスを実装する際の反り量が大きいと、デバイスを実装することができない。従って、電子部品実装用フィルムキャリアテープにおいて実際に問題になるのは、製造直後の反り量ではなく、実装時の反り量である。そして、本発明の電子部品実装フィルムキャリアテープは、初期反り量が非常に小さいだけでなく、経時的にこの小さい反り量が増大しにくいので、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープを用いることにより、デバイスを実装する際に、デバイスのバンプ電極の位置とリードの位置とが一致し、実装不良が生じにくい。また、実装時のテープ搬送不良が起きにくい。図3にテープ幅が70mmである電子部品実装用フィルムキャリアテープの経時的な反り変化量の例を示す。図3に示すように、フラットスペーサーと共に金属リールに巻回して減圧下に保持することにより、初期反り量が小さいと共にこの反り量が経時的に変化しにくく、温度25℃、湿度60%の条件、即ち電子部品実装用フィルムキャリアテープが保持される通常の条件に非常に近い条件で120時間保持しても、その反り量が非常に小さい。
Then, when the warpage amount measured in the same manner after holding the electronic component mounting film carrier tape at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% for 120 hours is Y, The warpage change amount W represented by the relationship (W = (Y−X) / X) is 2.5 or less, preferably 2.0 or less, and particularly preferably 1 or less. Even if the film carrier tape for mounting electronic parts has a small amount of warping immediately after production, the device cannot be mounted if the amount of warping when the device is mounted on the tape is large. Therefore, what actually becomes a problem in the film carrier tape for mounting electronic components is not the amount of warping immediately after manufacturing but the amount of warping during mounting. And the electronic component mounting film carrier tape of the present invention not only has a very small initial warpage amount, but the small warpage amount hardly increases with time, so the electronic component mounting film carrier tape of the present invention should be used. Therefore, when the device is mounted, the position of the bump electrode of the device and the position of the lead coincide with each other, so that mounting failure is unlikely to occur. In addition, poor tape conveyance during mounting is unlikely to occur. FIG. 3 shows an example of the amount of warp change over time of a film carrier tape for mounting electronic components having a tape width of 70 mm. As shown in FIG. 3, by winding on a metal reel together with a flat spacer and holding under reduced pressure, the initial warpage amount is small and the warpage amount hardly changes with time, and the temperature is 25 ° C. and the humidity is 60%. That is, even when held for 120 hours under conditions very close to normal conditions for holding a film carrier tape for mounting electronic components, the amount of warping is very small.

なお、本発明において、反り量を測定する焦点深度法とは、図4に示すように、焦点距離を測定可能な顕微鏡を備えた装置に、電子部品実装用フィルムキャリアテープの両側縁が接触するように載置し、電子部品実装用フィルムキャリアテープの最も高い位置の焦点距離(a)を測定し、この焦点距離(a)と測定基板上面に対する焦点距離(b)との差(b−a)を求め、この値を電子部品実装用フィルムキャリアテープの反り量(b−a)とする方法である。   In the present invention, the depth-of-focus method for measuring the amount of warping refers to an apparatus equipped with a microscope capable of measuring a focal length, as shown in FIG. The focal length (a) of the highest position of the film carrier tape for mounting electronic components is measured, and the difference (b−a) between this focal length (a) and the focal length (b) with respect to the upper surface of the measurement substrate is measured. ), And this value is used as the warpage amount (ba) of the film carrier tape for mounting electronic components.

そして、初期反り量とは、上述のようにフラットスペーサーと共に金属リールに巻回して減圧下に所定時間保持し、その後巻回状態のまま常圧まで復帰させた直後の電子部品実装用フィルムキャリアテープの反り量である(この初期反り量をXとする)。通常の場合、反り量の測定には、減圧庫から常圧の室内にリールを取り出す操作を経て採取された測定試料が使用されるが、これに要する時間は数分以下であり、この測定試料採取の際に反り量は殆ど変化しない。   The initial warping amount is a film carrier tape for mounting an electronic component immediately after being wound around a metal reel together with a flat spacer as described above, held under a reduced pressure for a predetermined time, and then returned to normal pressure while being wound. (This initial warp amount is assumed to be X). Normally, the measurement of the amount of warpage uses a measurement sample collected through the operation of taking out the reel from the decompression chamber into the room at normal pressure, but this requires a few minutes or less. The amount of warping hardly changes during collection.

こうして減圧庫から取り出され、リールに巻回された状態で室内に保持されることにより、この電子部品実装用フィルムキャリアテープは常圧常湿条件に復帰する。従って、上記のようにして減圧下に所定時間保持し、減圧庫から取り出した直後に測定した反り量が最も小さい反り量となる。ただし、この電子部品実装用フィルムキャリアテープは可撓性絶縁性フィルム、配線パターン、ソルダーレジストなど多数の素材が積層された積層体で
あり、こうした積層体の一般的な特性上、初期反り量が全くない状態には極めてなりにくい(即ち、下記式においてXが0にはならない)。
Thus, the film carrier tape for mounting electronic components is returned to the normal pressure and humidity condition by being taken out from the decompression chamber and held in the room while being wound around the reel. Therefore, the amount of warpage measured immediately after being held for a predetermined time under reduced pressure as described above and taken out from the decompression chamber becomes the smallest amount of warpage. However, this electronic component mounting film carrier tape is a laminated body in which a large number of materials such as a flexible insulating film, a wiring pattern, and a solder resist are laminated. It is very unlikely that there will be no state at all (that is, X will not be 0 in the following equation).

そして、本発明で規定する反り変化量は、こうして減圧庫から取り出した電子部品実装用フィルムキャリアテープを温度25℃、湿度60%の条件で120時間保持した後に上記と同様にして反り量を測定し(この反り量をYとする)、下記式によって求めた反りの経時的な変化量(W)である。
W=(Y−X)/X
そして、本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、上記Wが2.5以下、好ましくは2.0以下、特に好ましくは0を超え1以下の範囲内にある。
The warpage change amount defined in the present invention is measured in the same manner as described above after the electronic component mounting film carrier tape thus taken out from the decompression chamber is held at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% for 120 hours. (This amount of warpage is assumed to be Y), and is the amount of change (W) over time of the warpage obtained by the following equation.
W = (Y−X) / X
In the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention, the W is 2.5 or less, preferably 2.0 or less, particularly preferably more than 0 and 1 or less.

これに対してフラットスペーサーを使用せずに、従来の側縁に凹凸を有するスペーサーを介して巻回して同様に減圧下に保持した電子部品実装用フィルムキャリアテープの反り変化量Wは2.5を超え、多くの場合、4以上である。このように本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、反り量の経時変化が小さい。図3に示す反り変化量Wが2.5を大幅に超える電子部品実装用フィルムキャリアテープ(例えば、W=5)では、例えばテープ幅が70mm、インナーリードの累積ピッチ長さが10mm、インナーリードピッチ幅が50μmであるとすると、120時間経過後では、バンプ電極の位置とインナーリードの位置とが、最大で70μm程度ずれることになるので、このようなずれ幅はインナーリードのピッチ幅を上回り、こうしたずれを是正しながらデバイスを実装することは極めて困難である。これに対して図3に示す反り変化量Wが2.5以下である本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープでは、120時間経過後のバンプ電極の位置とインナーリードの位置とのずれが最大でも25μm程度であり、こうしたリードのずれは、デバイス実装の際に例えば機械的にテープを矯正することにより位置の是正が可能であり、良好にデバイスを実装することができる。   On the other hand, the amount of warp change W of the film carrier tape for mounting electronic parts, which is wound through a spacer having irregularities on the side edges and held under reduced pressure, without using a flat spacer, is 2.5. In many cases, it is 4 or more. Thus, the film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention has a small change in warpage over time. In the case of a film carrier tape (for example, W = 5) for mounting electronic parts whose warpage variation W greatly exceeds 2.5 shown in FIG. 3, for example, the tape width is 70 mm, the cumulative pitch length of the inner leads is 10 mm, the inner leads Assuming that the pitch width is 50 μm, the position of the bump electrode and the position of the inner lead will be displaced by about 70 μm at the maximum after 120 hours have elapsed, and such a deviation width exceeds the pitch width of the inner lead. Therefore, it is extremely difficult to implement a device while correcting this gap. On the other hand, in the film carrier tape for mounting electronic components according to the present invention in which the warpage variation W shown in FIG. 3 is 2.5 or less, the deviation between the position of the bump electrode and the position of the inner lead after 120 hours is maximum. However, the lead misalignment is about 25 μm. When the device is mounted, the position can be corrected by mechanically correcting the tape, for example, and the device can be mounted satisfactorily.

このように本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープが初期反り量が小さく、しかも経時的な反り変化量が小さくなる詳細な理由は不明であるが、フラットスペーサーを使用して電子部品実装用フィルムキャリアテープを巻回し、この状態で減圧下に所定時間保持することで可撓性絶縁フィルム中の水分が蒸散して可撓性絶縁性フィルムが収縮し、その後、巻回状態のまま常圧までもどしても、可撓性絶縁性フィルム中の水分の蒸散により可撓性絶縁性フィルムが収縮した状態が維持されること、および、そのままの状態でテープを常圧下に戻すことでフラットスペーサーを介して巻回された電子部品実装用フィルムキャリアテープが巻きしまり、初期反り量が小さくなると共に、この巻きしまりによる応力が電子部品実装用フィルムキャリアテープに残存して経時的な反りの発生を抑制していることによるものであると考えられる。   As described above, the detailed reason why the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention has a small initial warpage and a small amount of warpage change with time is unknown, but a film for mounting electronic components using a flat spacer is unknown. The carrier tape is wound, and in this state, the moisture in the flexible insulating film evaporates by holding it under reduced pressure for a predetermined time, and the flexible insulating film contracts. Even if it returns, the state that the flexible insulating film contracted due to the evaporation of moisture in the flexible insulating film is maintained, and the tape is returned to normal pressure as it is, through the flat spacer. Film carrier tape for electronic component mounting wound by winding is wound, the initial warpage amount is reduced, and the stress due to this winding is the film for mounting electronic component Remaining in Yariatepu believed to be due to suppresses the occurrence of over time warping.

本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、図1に示すような形態の電子部品実装用フィルムキャリアテープであるTABテープに限定されるものではなく、T-BAGテ
ープ、出力用アウターリードを有する例えば液晶用の電子部品実装用フィルムキャリアテープ、CSPテープ、ワイヤーボンディング用フィルムキャリアテープなどであってもよいことは勿論である。
The film carrier tape for mounting electronic components of the present invention is not limited to the TAB tape which is a film carrier tape for mounting electronic components as shown in FIG. 1, but has a T-BAG tape and an outer lead for output. For example, a film carrier tape for mounting electronic parts for liquid crystal, a CSP tape, a film carrier tape for wire bonding, and the like may be used.

本発明の方法により製造された電子部品実装用フィルムキャリアテープは、フラットスペーサーと共に電子部品実装用フィルムキャリアテープを巻回して減圧下に所定時間保持することにより、初期反り量が小さく、しかもこの小さい反り量が経時的に増大しにくい。従って、本発明の方法により製造された電子部品実装用フィルムキャリアテープを使用することにより、デバイスの実装不良及び実装時のテープ搬送不良が生じにくくなる。   The film carrier tape for mounting electronic components manufactured by the method of the present invention has a small initial warpage amount by winding the film carrier tape for mounting electronic components together with a flat spacer and holding it under a reduced pressure for a predetermined time. The amount of warpage hardly increases over time. Therefore, the use of the electronic component mounting film carrier tape manufactured by the method of the present invention makes it difficult to cause device mounting failure and tape transport failure during mounting.

次に本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープについて実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
〔実施例1〕
幅70mm、厚さ50μmのポリイミドフィルムに、パンチングにより、デバイスホール、スプロケットホール、アウターリードの切断スリットを形成した。次いで、このポリイミドフィルム表面に、エポキシ系接着剤を塗布し、厚さ18μmの電解銅箔を貼着した。
Next, although an Example is shown and the present invention is explained still in detail about the film carrier tape for electronic parts mounting of the present invention, the present invention is not limited by these.
[Example 1]
Device holes, sprocket holes, and outer lead cutting slits were formed on a polyimide film having a width of 70 mm and a thickness of 50 μm by punching. Next, an epoxy adhesive was applied to the polyimide film surface, and an electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm was adhered.

さらに、この銅箔上にフォトレジストを塗布し、このフォトレジストを露光し、さらにエッチングすることにより銅箔に配線パターンを形成した。形成した配線パターンにおけるリードのピッチ幅は50μmである。こうして形成された配線パターンにウレタン系ソルダーレジストを塗布した後、80〜140℃の温度に段階的に2.5時間かけて昇温し
て加熱してソルダーレジストを硬化させた。
Further, a photoresist was applied on the copper foil, the photoresist was exposed, and further etched to form a wiring pattern on the copper foil. The lead pitch width in the formed wiring pattern is 50 μm. After the urethane solder resist was applied to the wiring pattern thus formed, the solder resist was cured by heating to a temperature of 80 to 140 ° C. over a period of 2.5 hours.

こうしてソルダーレジスト層を形成した後、このフィルムを無電解スズメッキ槽に移してソルダーレジストが塗工されていない配線パターン(インナーリードおよびアウターリード)表面に0.2μmの厚さでスズメッキ層を形成した。これとは別に、厚さ125μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意した。このPETフィルムの幅はTABテープの幅と同じ70mmであり、その表面および裏面ともに平滑面である。   After forming the solder resist layer in this way, this film was transferred to an electroless tin plating tank, and a tin plating layer was formed with a thickness of 0.2 μm on the surface of the wiring pattern (inner lead and outer lead) not coated with the solder resist. . Separately, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 125 μm was prepared. The width of this PET film is 70 mm, the same as the width of the TAB tape, and both the front and back surfaces are smooth surfaces.

上記のようなPETフィルムとTABテープとを重ね合わせながら、TABテープの配線パターおよびソルダーレジスト塗布面が金属リールのコア側を向くようにして金属リールに巻回した。こうしてPETフィルムと共に金属リールに巻回したTABテープを、デシケーターに入れ、このデシケーター内を0.01気圧に減圧した。   The PET film and the TAB tape as described above were overlapped and wound around the metal reel so that the wiring pattern of the TAB tape and the solder resist coating surface faced the core side of the metal reel. The TAB tape wound around the metal reel together with the PET film was put in a desiccator, and the inside of the desiccator was depressurized to 0.01 atm.

このような減圧条件下で、TABテープを24時間保持した。24時間経過した後、TABテープをデシケーターから取り出し、一部を切り取り、この切り取ったサンプルを図4に示す装置の測定基板に配線パターンが測定基板面と対峙するように載置し、このTABテープの最も高い部分の焦点距離を測定したところ、この焦点距離は、2mmであった。なお、この装置における測定基板表面の焦点距離は、1mmであり、このTABテープの初期反り量(X)は1mmであり、この初期反り量は、テープ幅に対して1.4%に相当する。   Under such reduced pressure conditions, the TAB tape was held for 24 hours. After 24 hours, the TAB tape is taken out from the desiccator, a part thereof is cut out, and the cut sample is placed on the measurement board of the apparatus shown in FIG. 4 so that the wiring pattern faces the measurement board surface. When measuring the focal length of the highest portion of this, this focal length was 2 mm. The focal length of the measurement substrate surface in this apparatus is 1 mm, the initial warpage amount (X) of this TAB tape is 1 mm, and this initial warpage amount corresponds to 1.4% with respect to the tape width. .

このTABテープのサンプルを25℃、湿度60%に調節された室内に放置して所定時間毎の反り量を測定し、この反り量を図3に示す。そして、120時間放置した後の反り量(Y)は3mmであり、これらの値から次式によって求めた反り変化量(W)は2であった。
W=(Y−X)/X
〔参考例1〕
実施例1において、PETフィルム製のフラットスペーサーの変わりに、縁部に凹凸をつけた従来のスペーサー(エンボススペーサー)を介して金属リールに巻回した以外は同様にしてTABテープを製造した。このTABテープを実施例1と同様にしてデシケーターに入れ、このデシケーター内を上記実施例1と同様に0.01気圧に減圧した。
The TAB tape sample was left in a room adjusted to 25 ° C. and 60% humidity, and the amount of warpage was measured every predetermined time. The amount of warpage is shown in FIG. The warpage amount (Y) after standing for 120 hours was 3 mm, and the warpage change amount (W) obtained from these values by the following equation was 2.
W = (Y−X) / X
[Reference Example 1]
In Example 1, a TAB tape was produced in the same manner except that it was wound around a metal reel through a conventional spacer (embossed spacer) having irregularities on the edge instead of a flat spacer made of PET film. This TAB tape was put into a desiccator in the same manner as in Example 1, and the inside of this desiccator was decompressed to 0.01 atm in the same manner as in Example 1 above.

このような減圧条件下で、TABテープを24時間保持した。24時間経過後、TABテープをデシケーターから取り出し、実施例1と同様にして初期反り量(X)および実施例1と同様の条件(25℃、湿度60%に調節された室内)に放置し、このTABテープの経時的な反り量を測定した。このTABテープの初期反り量(X)は、1.0mmであり、この初期反り量はテープ幅に対して1.4%に相当し、上記実施例1で製造したTABテープとほぼ同等であった。   Under such reduced pressure conditions, the TAB tape was held for 24 hours. After 24 hours, the TAB tape was taken out from the desiccator and left in the same manner as in Example 1 in the amount of initial warp (X) and in the same conditions as in Example 1 (25 ° C, adjusted to 60% humidity), The amount of warpage of the TAB tape with time was measured. The initial warpage amount (X) of this TAB tape is 1.0 mm, and this initial warpage amount corresponds to 1.4% with respect to the tape width, which is almost equivalent to the TAB tape manufactured in Example 1 above. It was.

また、上記のようにして測定した経時的な反り量を測定し、この結果を図3に併せて記載する。この測定結果から、このTABテープについて実施例1と同等の条件(25℃、湿度60%に調節された室内)で120時間経過後の反り量(Y)は8mmであった。これらの値から120時間後の反り変化量(W)を求めたところ、Wは、7であった。   Moreover, the amount of warpage with time measured as described above was measured, and the results are also shown in FIG. From this measurement result, the amount of warpage (Y) after lapse of 120 hours under the same conditions as in Example 1 (25 ° C., room adjusted to 60% humidity) was 8 mm. When the amount of change in warp (W) after 120 hours was determined from these values, W was 7.

このようにフラットスペーサーを使用せずに、縁部に凹凸を有する従来のスペーサーを使用した以外は実施例1と同様にして製造したTABテープは、120時間経過後の反り変化量(W)が大きい。即ち、この参考例1と上記実施例1とで得られたTABテープを比較すると、フラットスペーサーを介してTABテープを巻回して減圧下に保持し、その後巻回状態のまま常圧まで復帰させることにより、初期反り量にはそれほど差はないが、経時的な反り変化量には大きな差が生ずることがわかる。
〔比較例1〕
実施例1に示すTABテープの製造の際に特開平11-11178号公報の実施例1で使用した樽ロールを有する反り取り装置を用いて逆反りをかけてTABテープを製造した。このようにしてタルロールを有する反り取り装置を用いて逆反りをしたTABテープを詳細に観察したところ、硬化したソルダーレジスト層にクラックが生じていた。また、ここで製造したTABテープのリード幅は25μmであり、このような細線化されたリードを有するTABテープに樽ロールを用いて逆反りをかけて反り取りを行ったため、上記のように細線化されたインナーリードの変形が多数発生した。
Thus, the TAB tape manufactured in the same manner as in Example 1 except that a conventional spacer having irregularities at the edges was used without using a flat spacer, the amount of warpage change (W) after 120 hours had elapsed. large. That is, when the TAB tape obtained in Reference Example 1 and Example 1 is compared, the TAB tape is wound through a flat spacer and held under reduced pressure, and then returned to normal pressure in the wound state. This shows that there is not much difference in the initial warpage amount, but there is a great difference in the warpage change amount with time.
[Comparative Example 1]
When manufacturing the TAB tape shown in Example 1, the TAB tape was manufactured by applying a reverse warp using the warp removing device having a barrel roll used in Example 1 of JP-A-11-11178. Thus, when the TAB tape which carried out the reverse curvature using the curvature removal apparatus which has a tal roll was observed in detail, the crack had arisen in the hardened soldering resist layer. Moreover, the lead width of the TAB tape manufactured here is 25 μm, and the TAB tape having such a thinned lead is subjected to warp removal using a barrel roll, so that the thin wire as described above. Many deformed inner leads were generated.

図1は、電子部品実装用フィルムキャリアテープの一例を示す図である。FIG. 1 is a view showing an example of a film carrier tape for mounting electronic components. 図2は、図1の電子部品実装用フィルムキャリアテープにおけるX−X断面図である。2 is an XX cross-sectional view of the electronic component mounting film carrier tape of FIG. 1. 図3は、実施例1で製造した本発明のTABテープおよび参考例1で製造したTABテープの反り量を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing the amount of warpage of the TAB tape of the present invention manufactured in Example 1 and the TAB tape manufactured in Reference Example 1. 図4は、本発明において採用されている反り量測定方法である焦点深度測定法についての説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a focal depth measurement method that is a warp amount measurement method employed in the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・可撓性絶縁性フィルム
12・・・接着剤
14・・・配線パターン
15・・・インナーリード
16・・・アウターリード
18・・・ソルダーレジスト
20・・・デバイスホール
22・・・アウターリードホール
21・・・スプロケットホール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Flexible insulating film 12 ... Adhesive 14 ... Wiring pattern 15 ... Inner lead 16 ... Outer lead 18 ... Solder resist 20 ... Device hole 22 ... Outer lead hole 21 ... Sprocket hole

Claims (4)

可撓性絶縁性フィルムと、該可撓性絶縁性フィルムの一方の面に積層された金属箔をエッチングして形成した配線パターンとを有する電子部品実装用フィルムキャリアテープであって、該電子部品実装用フィルムキャリアテープについて焦点深度法により測定した初期反り量X(ただし、Xは0を超える量である)が該テープの幅に対して3%以下であり、かつ該電子部品実装用フィルムキャリアテープを温度25℃、湿度60%の条件で120時間保持した後に同様にして測定した反り量をYとしたときに下記式で表される反り変化量Wが2.5以下であることを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテープ。
W=(Y−X)/X
An electronic component mounting film carrier tape comprising: a flexible insulating film; and a wiring pattern formed by etching a metal foil laminated on one surface of the flexible insulating film, the electronic component The initial warpage amount X (where X is an amount exceeding 0) measured by the depth of focus method for the mounting film carrier tape is 3% or less with respect to the width of the tape, and the electronic component mounting film carrier The warpage change amount W represented by the following formula is 2.5 or less when the warpage amount measured in the same manner after holding the tape at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% for 120 hours is Y or less. Film carrier tape for mounting electronic components.
W = (Y−X) / X
上記配線パターンの上に、リード部を残してソルダーレジスト層が塗設されていることを特徴とする請求項第1項記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープ。   2. The film carrier tape for mounting electronic parts according to claim 1, wherein a solder resist layer is coated on the wiring pattern leaving a lead portion. 上記可撓性絶縁性フィルムが、幅30〜120mmのポリイミドフィルムであることを特徴とする請求項第1項または第2項記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープ。   3. The film carrier tape for mounting electronic parts according to claim 1, wherein the flexible insulating film is a polyimide film having a width of 30 to 120 mm. 上記可撓性絶縁性フィルムであるポリイミドフィルムの平均厚さが75μm以下であることを特徴とする請求項第3項記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープ。   4. The film carrier tape for mounting electronic parts according to claim 3, wherein an average thickness of the polyimide film as the flexible insulating film is 75 [mu] m or less.
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