JPH06326471A - Multilayered wiring board - Google Patents

Multilayered wiring board

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JPH06326471A
JPH06326471A JP5139036A JP13903693A JPH06326471A JP H06326471 A JPH06326471 A JP H06326471A JP 5139036 A JP5139036 A JP 5139036A JP 13903693 A JP13903693 A JP 13903693A JP H06326471 A JPH06326471 A JP H06326471A
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JP
Japan
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via hole
pattern
layer
conductor pattern
wiring
Prior art date
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Application number
JP5139036A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Ishikawa
実 石川
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Sony Corp
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Sony Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide a multilayered wiring board wherein the whole surface of a board can be effectively used, large thermal conductivity is obtained, viaholes are devided into a plurality of layers without generating unevenness on the surface, and the cost is reduced. CONSTITUTION:In a multilayered wiring board having contacts 1, 5 for connecting wiring layers with one another which are separated to be at least two or more layers, a wide conductive pattern 3 which contains the enveloping region of viaholes 2, 4 formed between the wiring layers is formed on a halfway wiring layer through which the contacts pass. Patterns 2, 4 which do not overlap between adjacent wiring layers are formed by using the viaholes.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多層配線基板に関し、
特に熱放散のためのサーマルビアホールに関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring board,
In particular, it relates to a thermal via hole for heat dissipation.

【0002】[0002]

【従来の技術】シリコンウエハ基板あるいはプリント基
板等の多層配線基板表面には各種IC部品が実装され、
これらのIC部品から発生する熱を基板を介して放散さ
せるために基板のIC部品搭載部にサーマルビアホール
(Thermal Via Hole)が形成される。
2. Description of the Related Art Various IC parts are mounted on the surface of a multilayer wiring board such as a silicon wafer board or a printed board.
In order to dissipate heat generated from these IC components through the substrate, a thermal via hole is formed in the IC component mounting portion of the substrate.

【0003】従来のサーマルビアホールの一例を図4に
示す。基板13上に絶縁層12が設けられ内部に複数層
の配線パターン11が形成される。絶縁層12の表面に
はパッドパターン16が形成される。このパッドパター
ン16上に、図示しないIC部品のリード端子が半田接
合されたり、あるいはワイヤがボンディングされる。こ
のようなIC部品等からの熱を基板13を介して放散さ
せるためにビアホール10が形成される。
An example of a conventional thermal via hole is shown in FIG. An insulating layer 12 is provided on a substrate 13, and a plurality of wiring patterns 11 are formed inside. A pad pattern 16 is formed on the surface of the insulating layer 12. On the pad pattern 16, a lead terminal of an IC component (not shown) is soldered or a wire is bonded. The via hole 10 is formed in order to dissipate the heat from the IC component or the like through the substrate 13.

【0004】一方、従来の多層配線基板における別の放
熱方式として、図5に示すように、ICチップ14を基
板内に埋込む構造が用いられていた。この構造は、基板
13上の絶縁層12内に凹所15を形成しこの凹所15
内にICチップ14を埋設して熱を基板13側に伝達し
て放散させるものである。
On the other hand, as another heat dissipation method in the conventional multilayer wiring board, as shown in FIG. 5, a structure in which the IC chip 14 is embedded in the board has been used. This structure forms a recess 15 in the insulating layer 12 on the substrate 13
The IC chip 14 is embedded in the inside to transfer heat to the side of the substrate 13 to be dissipated.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記図
4に示す従来のサーマルビアホールにおいては、1本の
連続したビアホール10により上下を連通させていたた
め、このビアホール10内を熱伝達率の大きい金属で埋
める必要があり、コストが上昇するという問題があっ
た。この場合、単に複数の絶縁層ごとに径を変えて狭い
ビアホール部分を形成したのでは、各層ごとに順次金属
のパターニングを行ってビアホールを連通させた場合、
基板表面が平坦化されず凹凸を生じ部品実装上支障を来
すという問題を生ずる。
However, in the conventional thermal via hole shown in FIG. 4, since the upper and lower parts are communicated with each other by one continuous via hole 10, the inside of the via hole 10 is made of a metal having a large heat transfer coefficient. There was a problem that it was necessary to bury it and the cost increased. In this case, if the diameter is simply changed for each of the plurality of insulating layers to form a narrow via hole portion, when patterning the metal sequentially for each layer to connect the via holes,
This causes a problem that the surface of the substrate is not flattened and unevenness is caused, which hinders component mounting.

【0006】また、図5に示すチップ埋設構造において
は、凹所15の部分に配線パターンを形成することがで
きず、基板の有効使用面積が減少するという問題があっ
た。
Further, in the chip burying structure shown in FIG. 5, there is a problem that the wiring pattern cannot be formed in the recess 15 and the effective use area of the substrate is reduced.

【0007】本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされ
たものであって、基板全面を有効に使用可能で大きな熱
伝達率が得られかつ表面に凹凸を生ずることなくビアホ
ールを複数層に分割し、コストの低減を図った多層配線
基板の提供を目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. It is possible to effectively use the entire surface of the substrate, obtain a large heat transfer coefficient, and divide the via hole into a plurality of layers without causing unevenness on the surface. An object of the present invention is to provide a multi-layer wiring board with reduced cost.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0008】前記目的を達成するため、本発明において
は、少なくとも2層以上離れた配線層間を接続するコン
タクトを有する多層配線基板において、コンタクトが通
過する途中の配線層には、配線層間に形成されるビアホ
ールの包絡域を含む広い導電パターンを形成するととも
に、該ビアホールは、隣接する配線層間で重複しないパ
ターンを形成させている。
In order to achieve the above-mentioned object, in the present invention, in a multilayer wiring board having a contact connecting wiring layers separated by at least two layers or more, a wiring layer formed in the middle of the contact is formed between wiring layers. In addition to forming a wide conductive pattern including the envelope area of the via hole, the via hole forms a pattern that does not overlap between adjacent wiring layers.

【0009】好ましい実施例においては、前記配線層間
に形成されるビアホールは、第1の配線層間では円形
状、第1の配線層間と隣接する配線層間では該円形部分
を除いた環状に形成される。。
In a preferred embodiment, the via hole formed between the wiring layers is formed in a circular shape between the first wiring layers and in a ring shape excluding the circular portion between the wiring layers adjacent to the first wiring layer. . .

【0010】別の好ましい実施例においては、前記配線
層間に形成されるビアホールは、第1の配線層間では市
松形状、第1の配線層間と隣接する配線層間では第1の
配線層間で形成した市松形状と相補の関係になる市松形
状に形成される。
In another preferred embodiment, the via holes formed between the wiring layers have a checkered shape between the first wiring layers and a checkerboard formed between the first wiring layers between the wiring layers adjacent to the first wiring layer. It is formed in a checkered shape that is complementary to the shape.

【0011】本発明に係る多層配線基板を製造する場
合、その製造プロセスは、基板上に絶縁層を形成するス
テップと、該絶縁層上に第1の導体パターンを形成する
ステップと、前記第1の導体パターン上でその領域内
に、熱伝導用ビアホールの外形範囲内の一部をパターニ
ングして形成するステップと、該ビアホールの一部のパ
ターン上に前記第1の導体パターンと同じ形状の第2の
導体パターンを形成するステップと、該第2の導体パタ
ーン上に前記ビアホールの外形範囲内の残りの部分をパ
ターニングして形成するステップと、該ビアホールの残
りの部分のパターン上に前記第1の導体パターンと同じ
形状の第3の導体パターンを形成するステップと、を含
んでいる。
When manufacturing the multilayer wiring board according to the present invention, the manufacturing process includes the steps of forming an insulating layer on the board, forming a first conductor pattern on the insulating layer, and the first step. Patterning and forming a part of the heat conduction via hole in the outer area of the conductor pattern in the region, and forming a part of the via hole on the pattern having the same shape as the first conductor pattern. Forming a second conductor pattern, patterning and forming a remaining portion within the outline of the via hole on the second conductor pattern, and forming the first portion on the pattern of the remaining portion of the via hole. Forming a third conductor pattern having the same shape as the conductor pattern of FIG.

【0012】[0012]

【作用】ビアホールの外形(包絡線)を含む広い導体パ
ターンを挟んでビアホールを分割して形成し、この中間
層の導体パターンを挟んで隣接するビアホールのパター
ン形状は相互に補い合う重複しない形状であって、最上
面に形成されるパッド用導体パターンのパターン表面は
平坦化される。
[Function] The via hole is formed by dividing a wide conductor pattern including the outer shape (envelope) of the via hole, and the pattern shapes of adjacent via holes sandwiching the conductor pattern of the intermediate layer are mutually non-overlapping shapes. Thus, the pattern surface of the pad conductor pattern formed on the uppermost surface is flattened.

【0013】[0013]

【実施例】図1は本発明の実施例に係る多層配線基板の
サーマルビアホール部分の断面図である。例えばシリコ
ンウエハ又はアルミニウム又はセラミックからなる基板
9上にポリイミドからなる第1の絶縁層8を設け、その
上に同じくポリイミドからなる第2の絶縁層7および第
3の絶縁層6が積層される。第1の絶縁層8上にはアル
ミニウム、銅等の金属からなる第1の導体パターン5が
形成される。この第1の導体パターン5は、サーマルビ
アホールの外形包絡線を含む広いパターンである。この
第1の導体パターン5上に同じ金属からなる第1層目の
ビアホール4が形成され、その上に順次第2の導体パタ
ーン3、第2層目のビアホール2および第3の導体パタ
ーン1が積層される。第1、第2および第3の導体パタ
ーン5,3,1は同一形状のパターンである。また第2
の導体パターン3を挟んで積層される第1層目および第
2層目のビアホール2,4は、それぞれ相互に補い合う
重複しない形状のパターンである。即ち、ビアホール全
体の外形内の一部を第1層目のビアホール4が構成し、
残りの部分を第2層目のビアホール2が構成する。
1 is a sectional view of a thermal via hole portion of a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention. For example, a first insulating layer 8 made of polyimide is provided on a substrate 9 made of, for example, a silicon wafer or aluminum, and a second insulating layer 7 and a third insulating layer 6 also made of polyimide are laminated thereon. A first conductor pattern 5 made of a metal such as aluminum or copper is formed on the first insulating layer 8. The first conductor pattern 5 is a wide pattern including the outer shape envelope of the thermal via hole. A first-layer via hole 4 made of the same metal is formed on the first conductor pattern 5, and a second conductor pattern 3, a second-layer via hole 2 and a third conductor pattern 1 are sequentially formed thereon. Stacked. The first, second and third conductor patterns 5, 3, 1 have the same shape. The second
The via holes 2 and 4 of the first layer and the second layer, which are stacked with the conductor pattern 3 sandwiched therebetween, have mutually non-overlapping patterns. That is, the first layer via hole 4 constitutes a part of the outer shape of the entire via hole,
The remaining portion constitutes the second-layer via hole 2.

【0014】図2は、上記構成の多層配線基板のビアホ
ール部分の各層のパターン形状を示す平面図である。こ
の例では、第1、第2、第3の導体パターン5,3,1
は、それぞれ(A)(C)(E)図に示すように、正方
形である。また、第1層目のビアホール4は、(D)図
に示すように、4つの小さい正方形からなる市松模様形
状であり、第2層目のビアホール2は、(B)図に示す
ように、1層目のビアホール4の市松模様に対応した市
松模様形状であって、白黒部分が逆転したパターンであ
る。このようなパターン形状を用いることにより、中間
層におけるビアホール部分(第2の導体パターン3の表
面)にはその下側のビアホール4の形状に応じて凹凸が
形成されるが、この凹凸はその上側のビアホール2の相
補形状により打ち消され、最上表面の第3の導体パター
ン1は平坦化される。
FIG. 2 is a plan view showing the pattern shape of each layer in the via hole portion of the multilayer wiring board having the above structure. In this example, the first, second and third conductor patterns 5, 3, 1
Are squares, as shown in FIGS. Further, the via hole 4 of the first layer has a checkered pattern composed of four small squares as shown in FIG. 7D, and the via hole 2 of the second layer has, as shown in FIG. The checkerboard pattern has a checkerboard pattern corresponding to the checkerboard pattern of the first-layer via hole 4, and the black and white portions are reversed. By using such a pattern shape, unevenness is formed in the via hole portion (surface of the second conductor pattern 3) in the intermediate layer according to the shape of the lower via hole 4, but this unevenness is formed on the upper side. Is canceled by the complementary shape of the via hole 2 and the third conductor pattern 1 on the uppermost surface is flattened.

【0015】上記構成の多層配線基板において、最上層
の導体パターン1上にIC部品(図示しない)のリード
端子が半田接合され、中間層あるいは最下層の導体パタ
ーン3,5を介して配線パターン(図示しない)に接続
され所定の回路を構成する。また、IC部品等の基板表
面に搭載された電子部品から発生した熱は熱伝導率の大
きい金属からなる導体パターン1,3.5およびビアホ
ール2,4を介して基板9側に熱伝達され外部に放散さ
れる。
In the multilayer wiring board having the above structure, the lead terminals of the IC component (not shown) are solder-bonded onto the uppermost conductor pattern 1 and the wiring pattern (via the intermediate or lowermost conductor patterns 3 and 5) (Not shown) to form a predetermined circuit. Further, the heat generated from the electronic components mounted on the surface of the substrate such as IC components is transferred to the substrate 9 side through the conductor patterns 1 and 3.5 and the via holes 2 and 4 which are made of metal having a high thermal conductivity, and are transferred to the outside. Be dissipated in.

【0016】このような構成の多層配線基板を製造する
場合のプロセスは以下のとおりである。まず、基板9上
に感光性ポリイミドを用いて第1の絶縁層8を形成す
る。次にアルミニウムあるいは銅等の金属を絶縁層8上
に全面蒸着し、マスクを用いたフォトリソグラフィによ
り矩形の第1の導体パターン5をエッチング形成する。
次に第2の絶縁層7をポリイミドのスピンコートにより
形成し、マスクを用いてフォトリソグラフィにより第1
層目のビアホール4を開口する。その後、金属の全面蒸
着を行い、これを前記第1の導体パターン5と同じマス
クを用いてエッチング処理を行い第2の導体パターン3
を形成する。次に、ポリイミドのスピンコートにより第
3の絶縁層6を形成し、これをフォトリソグラフィによ
りエッチング処理して第2層目のビアホール2を開口す
る。次に、金属の全面蒸着を行い、これを前記第1の導
体パターン5と同じマスクを用いてエッチング処理を行
い第1の導体パターン1を形成する。これにより、図1
で示す積層構造が得られる。同様のプロセスを繰り返せ
ば、さらに上側に導体パターンを積層することができ
る。
The process for manufacturing a multilayer wiring board having such a structure is as follows. First, the first insulating layer 8 is formed on the substrate 9 using photosensitive polyimide. Next, a metal such as aluminum or copper is vapor-deposited on the entire surface of the insulating layer 8, and a rectangular first conductor pattern 5 is formed by etching by photolithography using a mask.
Next, the second insulating layer 7 is formed by spin coating of polyimide, and the first is formed by photolithography using a mask.
The via hole 4 of the layer is opened. After that, metal is vapor-deposited on the entire surface, and this is etched using the same mask as the first conductor pattern 5 to form the second conductor pattern 3.
To form. Next, the third insulating layer 6 is formed by spin coating of polyimide, and this is etched by photolithography to open the via hole 2 of the second layer. Next, metal is vapor-deposited on the entire surface, and this is etched using the same mask as the first conductor pattern 5 to form the first conductor pattern 1. As a result,
A laminated structure shown by is obtained. By repeating the same process, the conductor pattern can be further laminated on the upper side.

【0017】図3は、本発明の別の実施例に係る多層の
サーマルビアホールの各層の平面図である。図3の
(A)〜(E)で示す各層のパターンは、図2の(A)
〜(E)の各層にそれぞれ対応している。図3の例にお
いては、第1層目のビアホール4が円形であり、第2層
目のビアホール2が、この円形に対応した内孔を有する
環状に形成された構成である。このような円形およびこ
れと相補形状の環状のビアホールパターンを積層するこ
とによっても、前述の実施例と同様に最上層の導体パタ
ーン1の平坦化が図られる。その他の構成、および作用
効果については、前記図2の例と同様である。
FIG. 3 is a plan view of each layer of a multilayer thermal via hole according to another embodiment of the present invention. The patterns of the respective layers shown in FIGS. 3A to 3E are shown in FIG.
To (E). In the example of FIG. 3, the first-layer via hole 4 is circular, and the second-layer via hole 2 is formed in an annular shape having an inner hole corresponding to the circle. By stacking such circular and complementary annular via hole patterns, a flattening of the uppermost conductor pattern 1 can be achieved as in the above-described embodiment. Other configurations and operational effects are the same as in the example of FIG.

【0018】なお、ビアホールの形状は、前記矩形の市
松模様や円形に限定されず相互に重複しない各種形状と
することができる。また分割する層の数も2層に限定さ
れず、重複しない3層またはそれ以上の層に分割して全
体として1つのサーマルビアホールの外形を形成させて
もよい。
The shape of the via hole is not limited to the rectangular checkered pattern or the circular shape described above, and various shapes that do not overlap each other can be used. Also, the number of layers to be divided is not limited to two, and the outer shape of one thermal via hole may be formed as a whole by dividing into three or more layers that do not overlap.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、表面層の平坦性を損なうことなくサーマルビアホー
ルを分割して多層構造にし、新たなプロセスを追加する
ことなくコストの低減を図りまた製造プロセスの信頼性
を高めることができる。また、上下の層において金属同
士が必ず接触して熱抵抗の増加が抑えられ、熱放散が効
率良く行われる。
As described above, in the present invention, the thermal via hole is divided into a multi-layer structure without impairing the flatness of the surface layer to reduce the cost without adding a new process and to manufacture. The reliability of the process can be increased. In addition, the metals in the upper and lower layers are always in contact with each other to suppress an increase in thermal resistance, and heat is efficiently dissipated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施例に係る多層配線基板のサーマ
ルビアホール部分を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a thermal via hole portion of a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施例に係る多層配線基板のサーマ
ルビアホールの各層のパターン形状を示す平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view showing a pattern shape of each layer of a thermal via hole of a multilayer wiring board according to an example of the present invention.

【図3】 本発明の別の実施例に係る多層配線基板のサ
ーマルビアホールの各層のパターン形状を示す平面図で
ある。
FIG. 3 is a plan view showing a pattern shape of each layer of a thermal via hole of a multilayer wiring board according to another embodiment of the present invention.

【図4】 従来の多層配線基板の一例の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of an example of a conventional multilayer wiring board.

【図5】 従来の多層配線基板の別の例の断面図であ
る。
FIG. 5 is a cross-sectional view of another example of a conventional multilayer wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:第3の導体パターン、 2:第2層目のビアホー
ル、 3:第2の導体パターン、 4:第1層目のビア
ホール、 5:第1の導体パターン、 6:第3の絶縁
層、 7:第2の絶縁層、 8:第1の絶縁層、 9:
基板。
1: Third conductor pattern, 2: Second layer via hole, 3: Second conductor pattern, 4: First layer via hole, 5: First conductor pattern, 6: Third insulating layer 7: second insulating layer, 8: first insulating layer, 9:
substrate.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも2層以上離れた配線層間を接
続するコンタクトを有する多層配線基板において、コン
タクトが通過する途中の配線層には、配線層間に形成さ
れるビアホールの包絡域を含む広い導電パターンを形成
するとともに、該ビアホールは、隣接する配線層間で略
重複しないパターンを形成させることを特徴とする多層
配線基板。
1. A multi-layer wiring board having contacts connecting wiring layers separated by at least two layers, wherein a wiring layer in the middle of passing the contacts has a wide conductive pattern including an envelope region of a via hole formed between the wiring layers. And a via hole is formed in a pattern that does not substantially overlap between adjacent wiring layers.
【請求項2】 前記配線層間に形成されるビアホール
は、第1の配線層間では円形状、第1の配線層間と隣接
する配線層間では該円形部分を除いた環状に形成するこ
とを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板。
2. The via hole formed between the wiring layers is formed in a circular shape between the first wiring layers and in a ring shape excluding the circular portion between the wiring layers adjacent to the first wiring layer. The multilayer wiring board according to claim 1.
【請求項3】 前記配線層間に形成されるビアホール
は、第1の配線層間では市松形状、第1の配線層間と隣
接する配線層間では第1の配線層間で形成した市松形状
と相補の関係になる市松形状に形成することを特徴とす
る請求項1に記載の多層配線基板。
3. The via hole formed between the wiring layers has a checkered shape between the first wiring layers and a checkerboard shape formed between the first wiring layers between the wiring layers adjacent to the first wiring layer. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the multilayer wiring board is formed in a checkerboard pattern.
【請求項4】 基板上に絶縁層を形成するステップと、 該絶縁層上に第1の導体パターンを形成するステップ
と、 前記第1の導体パターン上でその領域内に、熱伝導用ビ
アホールの外形範囲内の一部をパターニングして形成す
るステップと、 該ビアホールの一部のパターン上に前記第1の導体パタ
ーンと同じ形状の第2の導体パターンを形成するステッ
プと、 該第2の導体パターン上に前記ビアホールの外形範囲内
の残りの部分をパターニングして形成するステップと、 該ビアホールの残りの部分のパターン上に前記第1の導
体パターンと同じ形状の第3の導体パターンを形成する
ステップと、を含むことを特徴とする多層配線基板の製
造方法。
4. A step of forming an insulating layer on a substrate, a step of forming a first conductor pattern on the insulating layer, and a step of forming a via hole for heat conduction in the region on the first conductor pattern. Patterning and forming a part within the outer shape range, forming a second conductor pattern having the same shape as the first conductor pattern on a part of the pattern of the via hole, and the second conductor Patterning and forming the remaining portion of the via hole in the outer shape range of the via hole; and forming a third conductor pattern of the same shape as the first conductor pattern on the pattern of the remaining portion of the via hole. A method of manufacturing a multilayer wiring board, comprising:
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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