JPH06325637A - Transparent conductive coating film forming application liquid and low reflecting transparent conductive film - Google Patents

Transparent conductive coating film forming application liquid and low reflecting transparent conductive film

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JPH06325637A
JPH06325637A JP11336093A JP11336093A JPH06325637A JP H06325637 A JPH06325637 A JP H06325637A JP 11336093 A JP11336093 A JP 11336093A JP 11336093 A JP11336093 A JP 11336093A JP H06325637 A JPH06325637 A JP H06325637A
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厚志 山中
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Tohoku Chemical Industries Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide an application liquid of low viscosity and excellent in conductivity and further to improve light transmissive and mechanical strength of a transparent conductive film using this application liquid by constituting it by containing an organic indium compound, organic tin and an organic solvent. CONSTITUTION:An organic indium compound of selecting at least one kind of acetylacetone indium and indium octilate and organic tin of selecting at least one kind of acetylacetone tin and octyl acid tin are used in a transparent conductive film forming application liquid. As an organic solvent, an acetylacetone solution or the like with dissolved alkylphenol and/or alkenyl phenol is used by selecting at least one kind of liquid diluted by alcohol. In this way, an application liquid excellent in transparency with low viscosity and good wettability to a glass substrate is obtained. By using this application liquid, since a transparent conductive film excellent in mechanical strength with low reflection can be formed, the film can be effectively used in an electric field shield of a CRT or the like and electrostatic prevention.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電界シールド用の透明
導電膜形成用塗布液、特にCRTなどのガラス面上に塗
布して透明な導電膜の形成に用いる透明導電性被膜形成
用塗布液及びこの塗布液を用いてガラス面上に形成した
低反射透明導電膜に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating liquid for forming a transparent conductive film for shielding an electric field, particularly a coating liquid for forming a transparent conductive film, which is used for forming a transparent conductive film by coating on a glass surface such as CRT. And a low-reflection transparent conductive film formed on a glass surface using this coating solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】ディスプレイ,テレビのブラウン管表面
の静電気帯電防止膜の形成用インクとしては、従来より
主としてATO(錫−アンチモン系酸化物)系のゾルゲ
ルインクが実用化されてきた。静電気対策用には表面抵
抗値で1011Ω/□程度が要求されるが、このレベル
は、ATOで十分に対応ができるレベルである。
2. Description of the Related Art As an ink for forming an antistatic film on the surface of a cathode ray tube of a display or a television, an ATO (tin-antimony oxide) sol-gel ink has been mainly put into practical use. A surface resistance value of about 10 11 Ω / □ is required for countermeasures against static electricity, but this level is a level that ATO can sufficiently cope with.

【0003】ところが、近年欧州を中心にCRTから発
生する電磁界の人体に対する影響について関心が高ま
り、スウェーデンをはじめ一部の国では既にガイドライ
ンができている。米国及びに本国内でも規制には至って
ないが、対応策が検討されている状況にある。漏洩磁界
は装置的な工夫で解決されると言われているが、電界に
ついては対応が一様でない。
In recent years, however, there has been growing interest in the influence of electromagnetic fields generated from CRTs on the human body, mainly in Europe, and guidelines have already been established in some countries including Sweden. Regulations have not been reached in the United States and Japan, but countermeasures are being considered. It is said that the leakage magnetic field can be solved by devising a device, but the correspondence to the electric field is not uniform.

【0004】CRT表面の電界をシールドする方法とし
て、CRTブラウン管ガラス表面にITO膜を蒸着又は
スパッター法で成膜したガラス、又はプラスチックパネ
ルをはめ込む方式等があり、限定された分野向けには実
用化されている。この方法は十分に低抵抗化できること
から、性能的には満足できるが、製造コストが高いこと
から広く一般的に実用化されるには至っていない。
As a method of shielding the electric field on the surface of the CRT, there is a method of fitting a glass on which an ITO film is formed on the glass surface of a CRT cathode ray tube by a vapor deposition or sputtering method, or a method of fitting a plastic panel, which is put into practical use for a limited field. Has been done. Since this method can sufficiently reduce the resistance, it is satisfactory in performance, but it has not been widely put into practical use due to the high manufacturing cost.

【0005】このような背景から塗布により導電膜を形
成する方法が検討されている。この方法は、例えば有機
金属化合物の溶液を基板に塗布したのち、加熱焼成する
ことにより導電膜を形成するものである。塗布法によれ
ば、大がかりな設備を必要とせず、大面積化や大量生産
が容易である利点を有している。
From such a background, a method of forming a conductive film by coating has been studied. In this method, for example, a solution of an organometallic compound is applied to a substrate and then heated and baked to form a conductive film. According to the coating method, there is an advantage that large-scale equipment and a large-scale production are easy without requiring large-scale equipment.

【0006】特公昭57−138108号公報には、イ
ンジウム化合物,錫化合物及び溶剤を含み、溶剤として
アルコール類,セロソルブ類,カルビトール類,グリコ
ール類が開示されている。
Japanese Patent Publication No. 57-138108 discloses an alcohol compound, a cellosolve compound, a carbitol compound, and a glycol compound, which contain an indium compound, a tin compound and a solvent.

【0007】また、特公昭61−26679号公報に
は、アセチルアセトン基などを含む有機インジウム化合
物,[Y]2Sn[X]2で示される有機錫化合物及び有
機溶剤を含み、有機溶剤としてメチルエチルケトン,酢
酸エチル,ベンゼンが開示されている。
In Japanese Patent Publication No. 61-26679, an organic indium compound containing an acetylacetone group, an organic tin compound represented by [Y] 2 Sn [X] 2 and an organic solvent are contained, and methyl ethyl ketone is used as an organic solvent. Ethyl acetate and benzene are disclosed.

【0008】また、特開平4−255768号公報に
は、硝酸インジウム,有機錫化合物,ヘキシレングリコ
ール並びに酢酸及び/又は無水酢酸を含有する塗布液が
開示されている。
Further, JP-A-4-255768 discloses a coating solution containing indium nitrate, an organic tin compound, hexylene glycol, and acetic acid and / or acetic anhydride.

【0009】また、特開昭57−36714号公報に
は、無機インジウム化合物,配位能を有する有機化合
物,錫化合物,セルロース類の如き粘性剤及び溶剤から
なり、配位能を有する有機化合物としてカルボン酸類,
カルボン酸エステル類,ヒドロキシ酸が開示されてい
る。
Further, JP-A-57-36714 discloses an organic compound having a coordination ability, which comprises an inorganic indium compound, an organic compound having a coordination ability, a tin compound, a viscous agent such as cellulose, and a solvent. Carboxylic acids,
Carboxylic acid esters and hydroxy acids are disclosed.

【0010】また、特開昭57−212268号公報に
は、インジウム化合物,錫化合物,有機溶剤及びセルロ
ース化合物からなるペースト状組成物が開示されてい
る。
Further, JP-A-57-212268 discloses a paste composition comprising an indium compound, a tin compound, an organic solvent and a cellulose compound.

【0011】また、特公昭63−25448号公報に
は、インジウム化合物,抵抗値調整用としてスズ化合
物,粘性剤としてニトロセルロースと溶剤としてセルソ
ルブ,カルビトール,ベンジルアセテート,ジメチルフ
タレートを含む組成物が開示されている。
Further, Japanese Patent Publication No. 63-25448 discloses a composition containing an indium compound, a tin compound for adjusting a resistance value, nitrocellulose as a viscous agent, and cellsolve, carbitol, benzyl acetate, dimethyl phthalate as a solvent. Has been done.

【0012】また、特公平2−20706号公報には、
トリアセトナートインジウム,ビスアセナルアセトナー
ト錫,セルロース化合物,高沸点アルコール類を含む組
成物が開示されている。
Further, Japanese Patent Publication No. 2-20706 discloses that
A composition containing indium triacetonate, tin bisacenalacetonate, a cellulose compound, and high boiling alcohols is disclosed.

【0013】また、特公昭63−19046号公報に
は、トリアセチルアセトナートインジウムなどのインジ
ウム化合物,ジメチルスズアセトーブなどの有機錫錯
体,粘性剤,有機溶剤からなるペーストに、モノアゾ系
有機化合物が加えられた組成物が開示されている。
In Japanese Patent Publication No. 63-19046, a paste containing an indium compound such as indium triacetylacetonate, an organotin complex such as dimethyltinacetove, a viscous agent, and an organic solvent is added with a monoazo organic compound. Disclosed compositions are disclosed.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】透明導電膜形成用塗布
液は、要するに導電性微粒子の有機物,無機物を有機溶
剤に添加して得られたペーストである。導電膜の成膜
性,導電性,透明性,機械的強度は、選定された導電性
微粒子の種類,性質,粒径,添加量,有機溶剤の性質に
よって左右され、導電性微粒子と、有機溶剤との相互作
用によって膜特性が決定されるため、その組合せの選定
は、トライアンドエラーの繰返しであったといえる。
The coating liquid for forming a transparent conductive film is, in short, a paste obtained by adding organic or inorganic conductive fine particles to an organic solvent. The film formability, conductivity, transparency, and mechanical strength of the conductive film depend on the selected conductive particles such as type, property, particle size, addition amount, and organic solvent property. It can be said that the selection of the combination was a repetition of trial and error, since the film characteristics are determined by the interaction with and.

【0015】また、塗布液の粘度は、有機溶剤中に含ま
れたセルロースの添加量によって増大するため、低粘度
が必要とされるスピンコートによる成膜に用いる塗布液
には、セルロースが添加されていない特公昭57−13
8108号,特公昭61−26679号に記載された組
成物を用いるのが望ましい。このような組成物を用いる
ことによって、スピンコート法により一応透明な導電性
薄膜を形成できるが、この組成物によって必ずしも十分
満足できる膜特性が保証されるわけではなく、改善の余
地は残されている。
Further, since the viscosity of the coating liquid increases with the amount of cellulose contained in the organic solvent, cellulose is added to the coating liquid used for film formation by spin coating, which requires low viscosity. Not yet Japanese public Sho 57-13
It is desirable to use the compositions described in JP-A-8108 and JP-B-61-26679. By using such a composition, a transparent conductive thin film can be formed by the spin coating method, but this composition does not always guarantee sufficiently satisfactory film characteristics, and there is room for improvement. There is.

【0016】さらに透明な導電膜をガラス基板上に形成
した場合の問題点として、塗布液を塗布し、これを加熱
して基板上に焼付けたのみでは、導電膜の光沢のため、
光を反射し、画面が見づらいという問題がある。一般に
は光沢をなくすため、低反射のオーバーコートを施す技
術があり、シリコンアルキシド液を含むコーティング液
(アルキルシリケートゾル液)のような低反射で高い光
透過性を有するコート液が知られているが、このような
コーティング液は、導電性塗布液に対するなじみが悪
く、前記各塗布液により形成された膜上にアルキルシリ
ケートゾル液をオーバーコートし、乾燥並びに焼成によ
って得られた膜は、面内でバラツキが生じて不均質とな
り、あるいはスジムラが生じて実用に供しうるものでは
ない。
As a problem in the case where a transparent conductive film is formed on a glass substrate, if the coating liquid is applied, heated and baked on the substrate, the conductive film has a gloss,
There is a problem that the screen is difficult to see because it reflects light. In general, there is a technology for applying a low-reflection overcoat in order to eliminate gloss, and a coating liquid with low reflection and high light transmittance, such as a coating liquid containing a silicon alkoxide liquid (alkyl silicate sol liquid), is known. However, such a coating liquid is poorly compatible with the conductive coating liquid, and the film obtained by overcoating the film formed by each of the above coating liquids with an alkyl silicate sol liquid and drying and baking the surface is It is not practical for practical use due to unevenness in the inside and unevenness, or uneven streaks.

【0017】本発明の目的は、低粘度で、導電性に優れ
た透明導電性被膜形成用塗布液並びにこの液を用いて光
透過性,機械的強度に優れた低反射の透明導電膜を提供
することにある。
An object of the present invention is to provide a coating liquid for forming a transparent conductive film having a low viscosity and excellent conductivity, and a low reflective transparent conductive film excellent in light transmittance and mechanical strength using this liquid. To do.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による透明導電性被膜形成用塗布液において
は、有機インジウム化合物と、有機錫と、有機溶剤とを
含む透明導電性被膜形成用塗布液であって、有機インジ
ウム化合物は、アセチルアセトンインジウム,オクチル
酸インジウムの内の少なくとも1種類が選択されたもの
であり、有機錫は、アセチルアセトン錫,オクチル酸錫
の内の少なくとも1種類が選択されたものであり、有機
溶剤は、アルキルフェノール及び/又はアルケニルフェ
ノールを溶解したアセチルアセトン溶液,アルキルフェ
ノール及び/又はアルケニルフェノールを溶解したアセ
チルアセトン溶液をアルコールで希釈した液の少なくと
も1種類が選択されたものである。
In order to achieve the above object, in the coating liquid for forming a transparent conductive film according to the present invention, a transparent conductive film containing an organic indium compound, an organic tin, and an organic solvent is formed. In the coating liquid, at least one of indium acetylacetone indium and indium octylate is selected as the organic indium compound, and at least one of acetylacetone tin and tin octylate is selected as the organic tin. The organic solvent is at least one selected from an acetylacetone solution in which an alkylphenol and / or an alkenylphenol is dissolved, and a solution in which an acetylacetone solution in which an alkylphenol and / or an alkenylphenol is dissolved are diluted with alcohol.

【0019】また、本発明による透明導電性被膜形成用
塗布液においては、ヒドロキシプロピルセルロースを含
む透明導電性被膜形成用塗布液であって、ヒドロキシプ
ロピルセルロースは、有機溶剤中に含まれた全アルキル
フェノール及び/又はアルケニルフェノール量の内の
1.0〜12.5重量%の等量を置換したものである。
The coating liquid for forming a transparent conductive film according to the present invention is a coating liquid for forming a transparent conductive film containing hydroxypropyl cellulose, wherein hydroxypropyl cellulose is all alkylphenol contained in an organic solvent. And / or an equivalent amount of 1.0 to 12.5% by weight of the alkenylphenol amount is substituted.

【0020】また、本発明による低反射透明導電膜にお
いては、透明導電性被膜とコーティング膜との積層から
なる低反射透明導電膜であって、透明導電性被膜は、前
記透明導電性被膜形成用塗布液の塗布により基板上に形
成された被膜であり、コーティング膜は、シリコンアル
コキシドを含むコーティング液を前記透明導電性被膜上
にオーバーコートしたものである。
The low reflective transparent conductive film according to the present invention is a low reflective transparent conductive film comprising a laminated layer of a transparent conductive film and a coating film, wherein the transparent conductive film is for forming the transparent conductive film. The coating film is formed on the substrate by applying the coating liquid, and the coating film is obtained by overcoating the coating liquid containing silicon alkoxide on the transparent conductive film.

【0021】[0021]

【作用】本発明においては有機インジウムとして、イン
ジウムアセチルアセトナート(AcAcIn),オクチ
ル酸インジウム(OctIn)、実施例では、商品名ナ
ーセムインジウム(Metal Acetylacet
onate,In28%,日本化学産業(株)製),ホ
ープIn(In25%,ホープ製薬(株)製),有機錫
としてビスアセチルアセトナートジメチル錫(AcAc
Sn),オクチル酸錫(OctSn)、実施例では商品
名ナーセム錫(日本化学産業(株)製),ニッカオクチ
ック錫(Stannous Octoate,Sn28
%,日本化学産業(株)製)を使用した。
In the present invention, as organic indium, indium acetylacetonate (AcAcIn) and indium octylate (OctIn) are used. In the examples, the trade name is Nassem indium (Metal Acetylacet).
onate, In 28%, manufactured by Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd., Hope In (In 25%, manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd.), bisacetylacetonatodimethyltin (AcAc) as organic tin.
Sn), tin octylate (OctSn), in the examples, trade name Nasem tin (manufactured by Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.), Nikka octic tin (Stannous Octoate, Sn28)
%, Manufactured by Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd. were used.

【0022】アルキルフェノールとしては、パラターシ
ャリーブチルフェノール,オクチルフェノール,ノニル
フェノールなど、アルケニルフェノールとしては、3ペ
ンタデカデシルフェノールなどが使用できる。アルコー
ル類としては、メチル,エチル,プロピル,ブチルアル
ーコルのほかにもシクロヘキサノールなどが使用でき
る。勿論、エチルアルコールに上記のその他のアルコー
ル類を適宜添加してもよい。
Paratertiary butylphenol, octylphenol, nonylphenol and the like can be used as the alkylphenol, and 3 pentadecadecylphenol and the like can be used as the alkenylphenol. As alcohols, cyclohexanol and the like can be used in addition to methyl, ethyl, propyl and butyl alcohol. Of course, the above-mentioned other alcohols may be appropriately added to ethyl alcohol.

【0023】本発明の塗布液は、通常上記a)インジウ
ム化合物,b)錫化合物,c)アルキル及び/又はアル
ケニルフェノール,d)アセチルアセトン溶液及び/又
はアセチルアセトンとアルコールの混液を含む透明な溶
液又は、アルキル及び/又はアルケニルフェノールの
1.0〜12.5wt%をヒドロキシプロピルセルロー
スで置換した透明な溶液である。かかる溶液は、例えば
これらの成分を常温〜150℃の間に0.5〜12時間
撹拌することにより得られる。上記製造条件によって得
られた溶液粘度の例を示せば表1のとおりである。表1
の成分配合はwt%を示している。以下の表においても
同じである。
The coating solution of the present invention is usually a transparent solution containing the above a) indium compound, b) tin compound, c) alkyl and / or alkenylphenol, d) acetylacetone solution and / or a mixture of acetylacetone and alcohol, or It is a transparent solution in which 1.0 to 12.5 wt% of alkyl and / or alkenylphenol is replaced with hydroxypropyl cellulose. Such a solution is obtained, for example, by stirring these components at room temperature to 150 ° C. for 0.5 to 12 hours. An example of the solution viscosity obtained under the above manufacturing conditions is shown in Table 1. Table 1
The composition of the component indicates wt%. The same applies to the tables below.

【0024】[0024]

【表1】 [Table 1]

【0025】本発明の塗布液は、スピンコート,スプレ
ーコート,バーコート及びブレードコートにより成膜す
ることができる。
The coating liquid of the present invention can be formed into a film by spin coating, spray coating, bar coating and blade coating.

【0026】本発明の塗布液は、ガラス基板との濡れ性
も申し分なく、使用されている溶剤が中沸点及び/ある
いは中沸点と低沸点の混液であることから、塗布作業中
に適度に揮発し、揮発によって膜形成成分の基板への固
着とオーバーコートに対する耐性(粒の発生,帯状模様
の生成,白化がない)が得られ、また残留溶剤によって
レベリングを生じ、従って膜厚の面内バラツキが非常に
小さい導電膜が得られる。
The coating solution of the present invention has satisfactory wettability with a glass substrate, and since the solvent used is a medium boiling point and / or a mixed solution of a medium boiling point and a low boiling point, it is appropriately volatilized during the coating operation. However, the volatilization gives the film-forming component adhesion to the substrate and resistance to overcoat (no generation of grains, no band-shaped pattern, no whitening), and leveling is caused by the residual solvent. A conductive film having a very small value can be obtained.

【0027】a)AcAcIn(又はOctIn),
b)AcAcSn(又はOctSn),c)アルキル及
び/又はアルケニルフェノール,d)アセチルアセトン
及び/又はアセチルアセトンとエチルアルコール混液で
構成される本発明の塗布液は、塗布作業時の基板温度を
45〜60℃に設定して行う。45℃未満では塗布液が
基板上ではじきの現象を呈し、60℃を越えると、蒸発
速度が早く、表面張力が大きくなって、膜厚が不均一に
なる。
A) AcAcIn (or OctIn),
b) AcAcSn (or OctSn), c) alkyl and / or alkenylphenol, d) acetylacetone and / or a coating solution of acetylacetone and ethyl alcohol, the coating solution of the present invention has a substrate temperature of 45 to 60 ° C. during the coating operation. Set to. If the temperature is lower than 45 ° C., the coating solution exhibits a cissing phenomenon on the substrate, and if the temperature exceeds 60 ° C., the evaporation rate is high, the surface tension is large, and the film thickness is not uniform.

【0028】基板温度を45〜60℃に設定した場合、
塗布液中のAcAcIn(又はOctIn)+AcAc
Sn(又はOctSn)が5wt%を越えると、アルキ
ルシリケートゾル液をオーバーコートすることなく乾
燥,焼成して得られた膜には、亀裂が発生していた。反
対に、5wt%未満であると塗布作業時にはじきを生じ
た。しかし、5wt%の塗布液によって得られた膜は、
はじきや亀裂などの不都合もなく、表面抵抗値に6KΩ
/□が示された。
When the substrate temperature is set to 45 to 60 ° C.,
AcAcIn (or OctIn) + AcAc in coating liquid
When Sn (or OctSn) exceeded 5 wt%, cracks occurred in the film obtained by drying and baking without overcoating the alkyl silicate sol liquid. On the other hand, if it is less than 5 wt%, cissing occurs during the coating operation. However, the film obtained by the 5 wt% coating solution is
There is no inconvenience such as cissing or cracking, and the surface resistance value is 6 KΩ
// was shown.

【0029】塗布液中のAcAcIn(又はOctI
n)+AcAcSn(又はOctSn)が5wt%ない
しそれ以上の塗布液を、45〜60℃に設定された基板
上に塗布し、数分後にシリコンアルドキシドを含むコー
ティング液をオーバーコートし、次いで乾燥,焼成して
得た膜は、亀裂などの不都合のない光透過性,機械的速
度に優れたものであった。
AcAcIn (or OctI in the coating liquid)
n) + AcAcSn (or OctSn) of 5 wt% or more is applied onto a substrate set at 45 to 60 ° C., and after a few minutes, a coating solution containing silicon aldoxide is overcoated and then dried, The film obtained by firing was excellent in light transmittance and mechanical speed without inconvenience such as cracks.

【0030】これは導電層の焼成に伴う収縮をオーバー
コート層が吸収することによるものと思われる。かくし
て1層目の導電層はInとSnの含有量が多いことから
導電性が良好な膜として形成される。
It is considered that this is because the overcoat layer absorbs shrinkage due to firing of the conductive layer. Thus, the first conductive layer contains a large amount of In and Sn, and thus is formed as a film having good conductivity.

【0031】上記本発明の塗布液において、アルキル及
び/又はアルケニルフェノールの1.0〜12.5wt
%をヒドロキシプロピルセルローズで置き換えた塗布液
は、塗布作業時の基板温度が室温〜60℃の間で均一に
塗布することができる。ヒドロキシプロピルセルローズ
の代替量が1.0wt%未満では塗布時にはじきの現象
が、また12.5%を越えると、焼成膜にスジムラの不
都合が生じることが分かった。
In the coating solution of the present invention, 1.0 to 12.5 wt% of alkyl and / or alkenylphenol is used.
The coating solution in which% is replaced with hydroxypropyl cellulose can be applied uniformly when the substrate temperature during the coating operation is from room temperature to 60 ° C. It was found that when the substitution amount of hydroxypropyl cellulose was less than 1.0 wt%, the flicker phenomenon occurred during coating, and when it exceeded 12.5%, the fired film had a problem of uneven streaks.

【0032】図1に、AcAcIn+AcAcSn=1
5wt%(In/Sn=92/8),パラターシャリー
ブチルフェノール+ヒドロキシプロピルセルロース=1
5wt%(フェノール/セルロース=95/5)及びア
セチルアセトン70wt%で構成される塗布液を調整
し、これをエチルアルコールで希釈してAcAcIn+
AcAcSnが12.5wt%,8wt%,5wt%及
び2.5wt%とし、各々についてスピンコートにより
成膜,乾燥,焼成して得た膜のシート抵抗値を示した。
いずれの膜も亀裂など不都合のない、光透過性,機械的
強度に優れ、面内バラツキの非常に小さいものであっ
た。
In FIG. 1, AcAcIn + AcAcSn = 1
5 wt% (In / Sn = 92/8), paratertiary butylphenol + hydroxypropyl cellulose = 1
A coating solution composed of 5 wt% (phenol / cellulose = 95/5) and 70 wt% of acetylacetone was prepared and diluted with ethyl alcohol to prepare AcAcIn +.
AcAcSn was set to 12.5 wt%, 8 wt%, 5 wt% and 2.5 wt%, and the sheet resistance values of the films obtained by spin-coating, drying and firing are shown.
All the films had no inconvenience such as cracks, were excellent in light transmission and mechanical strength, and had very small in-plane variation.

【0033】図2に、AcAcInの代りにOctIn
を、AcAcSnの代りにOctSnを用いたほかは、
図1と全く同様の方法で行った結果を示した。図2に明
らかなとおり、OctInとOctSnとの組合せによ
るときには、AcAcIn,AcAcSnの組合せによ
るものより、表面抵抗値が高い。したがって、AcAc
In,AcAcSnと、OctIn,OctSnとの任
意の組合せでは、表面抵抗値が、図1,図2の特性の間
に納まるものと考えられる。ヒドロキシプロピルセルロ
ースを含まない塗布液を用いて成膜,乾燥,焼成して得
た膜にコーティング液を塗布した二層の表面抵抗値につ
いても、同程度の表面抵抗値を有しているものと考えら
れる。
In FIG. 2, OctIn is used instead of AcAcIn.
Except that OctSn was used instead of AcAcSn,
The results obtained by the same method as in FIG. 1 are shown. As is apparent from FIG. 2, the surface resistance value when the combination of OctIn and OctSn is higher than that when the combination of AcAcIn and AcAcSn. Therefore, AcAc
It is considered that the surface resistance value falls between the characteristics of FIGS. 1 and 2 in an arbitrary combination of In, AcAcSn and OctIn, OctSn. Regarding the surface resistance values of the two layers obtained by applying the coating solution to the film obtained by film formation, drying and baking using a coating solution containing no hydroxypropyl cellulose, it is assumed that they have similar surface resistance values. Conceivable.

【0034】[0034]

【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail with reference to the following examples.

【0035】オーバーコートに使用するシリコンアルキ
シドを含むコーティング液は次のようにして調整した。
すなわち、5grのエチルシリケート40(多摩化学
(株)製)に1grの5%塩酸を加えよく振盤する。こ
れを冷却して9grの水を加え良く撹拌しながら薄めた
後、110grのエチルアルコールを加えて4wt%溶
液に調整した。
The coating liquid containing silicon alkoxide used for the overcoat was prepared as follows.
That is, 1 gr of 5% hydrochloric acid is added to 5 gr of ethyl silicate 40 (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) and shaken well. This was cooled and diluted with 9 gr of water with good stirring, and then 110 gr of ethyl alcohol was added to prepare a 4 wt% solution.

【0036】(実施例1〜3)撹拌棒,温度計と還流冷
却管を付した3つ口フラスコ中に150grのアセチル
アセトンと25grのハラターシャリーブチルフェノー
ルを加え、120〜135℃で0.5時間撹拌しながら
溶解した。次いで23grのAcAcInと2grのA
cAcSnを加え、同温度で3時間溶解した。冷時1μ
mの濾紙を用いて濾過し、透明導電性被膜形成用塗布液
を調整した。
(Examples 1 to 3) 150 gr of acetylacetone and 25 gr of tert-butylphenol were added to a three-necked flask equipped with a stir bar, a thermometer and a reflux condenser, and the mixture was heated at 120 to 135 ° C for 0.5 hour. It dissolved with stirring. Then 23gr AcAcIn and 2gr A
cAcSn was added and dissolved at the same temperature for 3 hours. 1μ when cold
m was used for filtration to prepare a coating liquid for forming a transparent conductive film.

【0037】得られた塗布液の半分を分取してこれを実
施例1の試料とし、残りの半分をエタノールで希釈して
AcAcIn+AcAcSnが8wt%(実施例2)及
び5wt%(実施例3)の塗布液とした。150mm×
200mm×9mmの青板硝子基板を50℃の熱風乾燥
炉に20分間入れて加温した後、スピンナーにセット
し、前記塗布液10grを150rpmの回転速度で2
分間塗布、次いで4wt%のアルキルシリケートゾル液
10grを1分間塗布した。120℃の熱風乾燥炉で1
0分間乾燥した後、焼成炉に入れ、常温〜450℃まで
1時間掛けて昇温し、450℃に達してから30分間焼
成した。200℃以下で取り出して得られた膜の特性
は、表2に示したとおりである。
Half of the obtained coating liquid was sampled and used as a sample of Example 1, and the other half was diluted with ethanol to obtain AcAcIn + AcAcSn of 8 wt% (Example 2) and 5 wt% (Example 3). Was used as the coating liquid. 150 mm x
A 200 mm × 9 mm blue plate glass substrate was placed in a hot air drying oven at 50 ° C. for 20 minutes to be heated and then set on a spinner, and 10 gr of the coating solution was rotated at a rotation speed of 150 rpm for 2 minutes.
Application was performed for 1 minute, and then 10 gr of a 4 wt% alkyl silicate sol liquid was applied for 1 minute. 1 in a 120 ° C hot air drying oven
After drying for 0 minutes, it was put in a firing furnace, heated from room temperature to 450 ° C. over 1 hour, heated to 450 ° C., and then fired for 30 minutes. The characteristics of the film obtained by taking out at 200 ° C. or lower are as shown in Table 2.

【0038】[0038]

【表2】 青板硝子基板 LT 85.9% H 0.0%[Table 2] Blue plate Glass substrate LT 85.9% H 0.0%

【0039】(実施例4〜6)AcAcSnの代りにO
ctSnを用いたほかは実施例1〜3と全く同様の材料
構成及び製造方法で行った結果を表3に示した。
(Examples 4 to 6) O was used instead of AcAcSn.
Table 3 shows the results obtained by using the same material structure and manufacturing method as in Examples 1 to 3 except that ctSn was used.

【0040】[0040]

【表3】 青板硝子基板 LT 85.9% H 0.0%[Table 3] Blue plate Glass substrate LT 85.9% H 0.0%

【0041】(実施例7〜9)AcAcInの代りにO
ctInを用いたほかは実施例1〜3と全く同様の材料
構成及び製造方法で行った結果を表4に示した。
(Examples 7 to 9) O was used instead of AcAcIn.
Table 4 shows the results of the same material structure and manufacturing method as in Examples 1 to 3 except that ctIn was used.

【0042】[0042]

【表4】 青板硝子基板 LT 85.9% H 0.0%[Table 4] Blue plate Glass substrate LT 85.9% H 0.0%

【0043】(実施例10〜12)AcAcInの代り
にOctIn,AcAcSnの代りにOctSnを用い
たほかは実施例1〜3と全く同様の材料構成及び製造方
法で行った結果を表5に示した。
(Examples 10 to 12) Table 5 shows the results of the same material constitution and manufacturing method as in Examples 1 to 3 except that OctIn was used in place of AcAcIn and OctSn was used in place of AcAcSn. .

【0044】[0044]

【表5】 青板硝子基板 LT 85.9% H 0.0%[Table 5] Blue plate Glass substrate LT 85.9% H 0.0%

【0045】(実施例13〜22)撹拌棒,温度計及び
還流冷却管を付した3つ口フラスコ中にアセチルアセト
ンとパラターシャリーブチルフェノールを120〜13
5℃で0.5時間撹拌しながら溶解した。次いで計算量
のヒドロキシプロピルセルロースを徐々に加え、同温度
で1時間溶解した。AcAcIn(又はOctIn)を
23grとAcAcSn(又はOctSn)を2gr加
えて3時間撹拌溶解した後、1μmの濾紙を用いて濾過
し、透明導電性被膜形成用塗布液を調整した。得られた
塗布液を基板温度が室温[20℃]である以外は実施例
1〜3と全く同様の方法でスピンコートし、オーバーコ
ートをせずにそのまま乾燥,焼成して得た膜の特性を表
6,表7に示した。
(Examples 13 to 22) 120 to 13 of acetylacetone and para-tert-butylphenol were placed in a three-necked flask equipped with a stirring bar, a thermometer and a reflux condenser.
It dissolved while stirring at 5 ° C. for 0.5 hours. Then, a calculated amount of hydroxypropyl cellulose was gradually added and dissolved at the same temperature for 1 hour. 23 gr of AcAcIn (or OctIn) and 2 gr of AcAcSn (or OctSn) were added and dissolved by stirring for 3 hours, and then filtered using a 1 μm filter paper to prepare a coating liquid for forming a transparent conductive film. Characteristics of a film obtained by spin-coating the obtained coating solution by the same method as in Examples 1 to 3 except that the substrate temperature is room temperature [20 ° C.], followed by drying and firing without overcoating. Are shown in Tables 6 and 7.

【0046】[0046]

【表6】 [Table 6]

【0047】[0047]

【表7】 [Table 7]

【0048】(実施例23〜26)撹拌棒,温度計及び
還流冷却管を付した3つ口フラスコ中に150grのア
セチルアセトンと25[1−x]gr,ただし、xはヒ
ドロキシプロピルセルロースの代替率で0.125,
0.08,0.05及び0.10のパラターシャリーブ
チルフェノールを120〜135℃で0.5時間撹拌し
ながら溶解した。次いで計算量のヒドロキシプロピルセ
ルロースを徐々に加え、同温度で1時間溶解した。Ac
AcInを23grとAcAc2grを加えて3時間撹
拌溶解した後、1μmの濾紙を用いて濾過し、実施例2
3〜26の透明導電性被膜形成用塗布液を調整した。得
られた塗布液を基板温度が室温[20℃]である以外は
実施例1〜3と全く同様の方法でスピンコート,オーバ
ーコートし、そのまま乾燥,焼成して得た膜の特性を表
8に示した。
(Examples 23 to 26) 150 gr of acetylacetone and 25 [1-x] gr in a three-necked flask equipped with a stir bar, a thermometer and a reflux condenser, where x is a substitution ratio of hydroxypropyl cellulose. 0.125,
0.08, 0.05 and 0.10 paratertiary butylphenol were dissolved with stirring at 120-135 ° C. for 0.5 hours. Then, a calculated amount of hydroxypropyl cellulose was gradually added and dissolved at the same temperature for 1 hour. Ac
After adding 23 gr of AcIn and 2 gr of AcAc with stirring and dissolving for 3 hours, the mixture was filtered using a filter paper of 1 μm, and Example 2
3 to 26 coating solutions for forming a transparent conductive film were prepared. The characteristics of the film obtained by spin-coating and over-coating the coating solution thus obtained by spin coating and over-coating in the same manner as in Examples 1 to 3 except that the substrate temperature was room temperature [20 ° C.] and drying and baking the coating solution are shown in Table 8 below. It was shown to.

【0049】[0049]

【表8】 青板硝子基板 LT 85.9% H 0.0%[Table 8] Blue plate Glass substrate LT 85.9% H 0.0%

【0050】[0050]

【発明の効果】以上のように本発明の透明導電性被膜形
成用塗布液によれば、透明性に優れ、粘性が低く、ガラ
ス基板に対する濡れ性が良いため、スピンコート法,ス
プレーコート,バーコート法を用いて、ガラス基板上に
均一な透明な導電性薄膜を形成でき、しかも、一般に使
用されるシリコンアルコキジドを含むコーティング液に
対するなじみがよいため、表面にオーバーコートを施し
て、低反射で機械的強度に優れた透明導電膜を形成で
き、CRTなどの電界シールド,静電防止に優れた効果
が得られる。
As described above, the coating liquid for forming a transparent conductive film of the present invention has excellent transparency, low viscosity, and good wettability with respect to a glass substrate. Using the coating method, a uniform transparent conductive thin film can be formed on a glass substrate, and since it is well compatible with commonly used coating solutions containing silicon alkoxide, an overcoat is applied to the surface to reduce A transparent conductive film excellent in mechanical strength can be formed by reflection, and an excellent effect can be obtained in electric field shielding such as CRT and electrostatic prevention.

【0051】また、本発明において、特筆すべきは、塗
布液中のAcAcIn[又は、OctIn]とAcAc
Sn[又は、OctSn]との総量が5重量%であると
きに、低抵抗で亀裂やはじきの不都合のない導電膜が得
られたことである。したがって、成分配合量を特定する
ことにより、粘性剤の添加が不要となり、極めて粘度の
低い、したがって、スピンコートによる展延性に優れた
透明導電膜を形成することが可能である。
Further, in the present invention, it should be noted that AcAcIn [or OctIn] and AcAc in the coating solution are mixed.
That is, when the total amount of Sn [or OctSn] was 5% by weight, a conductive film having a low resistance and no inconvenience of cracking or repellency was obtained. Therefore, by specifying the component blending amounts, it is possible to form a transparent conductive film having an extremely low viscosity and therefore having excellent spreadability by spin coating, since it is not necessary to add a viscous agent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】AcAcInとAcAcSnとの添加量と、膜
の表面抵抗値との関係を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the amount of addition of AcAcIn and AcAcSn and the surface resistance value of a film.

【図2】OctInとOctSnとの添加量と、膜の表
面抵抗値との関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the added amount of OctIn and OctSn and the surface resistance value of the film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小泉 啓寿 東京都品川区西五反田7丁目9番4号 東 北化工株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Keiju Koizumi 7-9-4 Nishigotanda, Shinagawa-ku, Tokyo Tohoku Kako Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機インジウム化合物と、有機錫と、有
機溶剤とを含む透明導電性被膜形成用塗布液であって、 有機インジウム化合物は、アセチルアセトンインジウ
ム,オクチル酸インジウムの内の少なくとも1種類が選
択されたものであり、 有機錫は、アセチルアセトン錫,オクチル酸錫の内の少
なくとも1種類が選択されたものであり、 有機溶剤は、アルキルフェノール及び/又はアルケニル
フェノールを溶解したアセチルアセトン溶液,アルキル
フェノール及び/又はアルケニルフェノールを溶解した
アセチルアセトン溶液をアルコールで希釈した液の少な
くとも1種類が選択されたものであることを特徴とする
透明導電性被膜形成用塗布液。
1. A coating liquid for forming a transparent conductive film, comprising an organic indium compound, organic tin, and an organic solvent, wherein the organic indium compound is at least one selected from indium acetylacetone and indium octylate. The organic tin is selected from at least one of acetylacetone tin and tin octylate, and the organic solvent is acetylacetone solution in which alkylphenol and / or alkenylphenol is dissolved, alkylphenol and / or At least one kind of liquid obtained by diluting an acetylacetone solution in which alkenylphenol is dissolved with alcohol is selected, and a coating liquid for forming a transparent conductive film.
【請求項2】 ヒドロキシプロピルセルロースを含む透
明導電性被膜形成用塗布液であって、 ヒドロキシプロピルセルロースは、有機溶剤中に含まれ
た全アルキルフェノール及び/又はアルケニルフェノー
ル量の内の1.0〜12.5重量%の等量を置換したも
のであることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性
被膜形成用塗布液。
2. A coating liquid for forming a transparent conductive film containing hydroxypropyl cellulose, wherein the hydroxypropyl cellulose is 1.0 to 12 out of the total amount of alkylphenol and / or alkenylphenol contained in the organic solvent. The coating liquid for forming a transparent conductive coating film according to claim 1, wherein an equivalent amount of 0.5% by weight is substituted.
【請求項3】 透明導電性被膜とコーティング膜との積
層からなる低反射透明導電膜であって、 透明導電性被膜は、請求項1又は2に記載の透明導電性
被膜形成用塗布液の塗布により基板上に形成された被膜
であり、 コーティング膜は、シリコンアルコキシドを含むコーテ
ィング液を前記透明導電性被膜上にオーバーコートした
ものであることを特徴とする低反射透明導電膜。
3. A low-reflection transparent conductive film comprising a laminate of a transparent conductive film and a coating film, wherein the transparent conductive film is coated with the coating liquid for forming the transparent conductive film according to claim 1 or 2. A low-reflection transparent conductive film, characterized in that the coating film is formed on a substrate by means of, and the coating film is an overcoat of a coating liquid containing silicon alkoxide on the transparent conductive film.
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